JP2007183587A - カラーフィルタ、カラーフィルタ用ブラックマトリックス、及びカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタ、カラーフィルタ用ブラックマトリックス、及びカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】ピクセル間におけるインクの混色を防止でき、色再現率と明暗比とを向上させることができるカラーフィルタ、カラーフィルタ用ブラックマトリックス、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１００上に形成されて複数のピクセル領域を定義するカラーフィルタ用ブラックマトリックス１２０において、ナノサイズの溝１３０が形成されて撥インク性を有する上面１２０ａと、親インク性を有する側面１２０ｂと、を備えることを特徴とする、カラーフィルタ用ブラックマトリックス１２０が提供される。かかる構成によれば、ピクセル間におけるインクの混色を防止することができ、不均一なインクによる光漏れ現象を防ぐことができる。したがって、カラーフィルタの色再現率と明暗比とを向上することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、カラーフィルタ用ブラックマトリックスに関し、特にカラーフィルタのピクセルの間にインク混色を防止でき、色再現率と明暗比とを向上させるカラーフィルタ、カラーフィルタ用ブラックマトリックス、及びカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法に関する。
従来、ＴＶとコンピュータとの情報をディスプレイするためにＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）モニターが主に使われてきたが、最近、画面のサイズが大きくなるにつれて液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ：ＬＥＤ）、及び、電界放出ディスプレイ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＦＥＤ）のような平板ディスプレイ装置が使われている。かかる平板ディスプレイ装置のうち、消費電力が少なくてコンピュータモニター、ノート型コンピュータなどに主に使われるＬＣＤが脚光を浴びている。
一般的に、ＬＣＤには、液晶層により変調された白色光を通過させて、所望の色相の画像を形成するカラーフィルタが備えられている。かかるカラーフィルタを製作するためには、まず、透明基板上にブラックマトリックスを所定の形態に形成した後、このブラックマトリックスにより区画されたピクセル領域のそれぞれに所定色相、例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）のインクを、例えばインクジェット方式で注入して、各色相のピクセルを形成する。
しかし、かかるカラーフィルタの製作において、ブラックマトリックスの上面及び側面がいずれも親インク性（インクとの親和性が高い性質）を有する場合には、各ピクセル領域に注入されるインクが、ブラックマトリックスの上面をオーバーフローして、ピクセル間においてインクの混色が発生するという問題があった。一方、ブラックマトリックスの上面及び側面がいずれも撥インク性（インクとの親和性が低く、インクをはじく性質）を有する場合には、ピクセル間のインク混色は防止できるが、ブラックマトリックスの側面もインクをはじいてしまうので、当該側面のインクに対するウェッティングが不足する。よって、当該側面近傍にインクが塗布され難く、各ピクセル領域内にインクを均一な厚さに塗布できなくなる。これにより、ブラックマトリックスの側面付近では、光が漏る現象（光漏れ現象）が発生し、その結果、カラーフィルタの色再現率と明暗比とが低下するという問題があった。
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ピクセル間におけるインクの混色を防止でき、色再現率と明暗比とを向上させることが可能な、新規かつ改良されたカラーフィルタ、カラーフィルタ用ブラックマトリックス、及びカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、基板上に形成されて複数のピクセル領域を定義するカラーフィルタ用ブラックマトリックスにおいて、ナノサイズの溝が形成されて撥インク性を有する上面と、親インク性を有する側面と、を備えることを特徴とする、カラーフィルタ用ブラックマトリックスが提供される。
かかる構成によれば、ブラックマトリックスの上面が撥インク性を有するため、上面に漏れでたインクをはじくことができるので、ブラックマトリックスの上面の介してインクが伝達し、隣接したピクセル領域に到達し、インクが混入してしまうのを防ぐことができる。また、ブラックマトリックスの側面が親インク性を有するため、インクをピクセル領域内に均一に充填することができる。
また、ブラックマトリックスは、親インク性物質からなってもよい。
また、ブラックマトリックスは、ポリマー系の有機樹脂からなってもよい。
また、溝それぞれのサイズは、２０〜２００ｎｍであってもよい。
また、溝それぞれの断面積は、１０００〜１００，０００ｎｍ２であってもよい。
また、溝は、ブラックマトリックスの上面の２０〜５０％を占めてもよい。
また、溝の深さは、５０〜２００ｎｍであってもよい。
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、基板と、基板上に形成されて複数のピクセル領域を定義するブラックマトリックスと、ピクセル領域それぞれに充填される所定色相のインクと、を備え、ブラックマトリックスは、ナノサイズの溝が形成されて撥インク性を有する上面と、親インク性を有する側面と、を備えることを特徴とする、カラーフィルタが提供される。
また、ブラックマトリックスは、親インク性物質からなってもよい。
また、溝それぞれのサイズは、２０〜２００ｎｍであってもよい。
また、溝それぞれの断面積は、１０００〜１００，０００ｎｍ２であってもよい。
また、溝は、ブラックマトリックスの上面の２０〜５０％を占めてもよい。
また、溝の深さは、５０〜２００ｎｍであってもよい。
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、基板上に親インク性物質からなる遮光層を形成する工程と、遮光層をパターニングして基板上に複数のピクセル領域を定義する工程と、ナノインプリント工程を利用してパターニングされた遮光層の上面にナノサイズの溝を形成することによって、ブラックマトリックスを形成する工程と、を含むことを特徴とする、カラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法が提供される。
また、遮光層は、ポリマー系の有機樹脂からなってもよい。
また、遮光層を形成する工程は、基板上に親インク性物質を塗布する工程と、親インク性物質をソフトベーキングする工程と、を含んでもよい。
また、ソフトベーキング工程は、８０〜１２０℃で行われてもよい。
また、遮光層をパターニングした後、パターニングされた遮光層をハードベーキングする工程をさらに含んでもよい。
また、ハードベーキング工程は、２００〜２３０℃で行われてもよい。
また、ナノインプリント工程は、パターニングされた遮光層をハードベーキングする過程で行われてもよい。
また、ナノインプリント工程を利用して溝を形成する工程は、ナノサイズの突起部が下面に形成されたスタンプをパターニングされた遮光層の上部に設ける工程と、スタンプでパターニングされた遮光層の上面を押して、遮光層の上面に突起部に対応する形状の溝を形成する工程と、スタンプを遮光層から取り離す工程と、を含んでもよい。
また、スタンプは、ガラス、石英、シリコン及びポリ（ジメチルシロキサン）からなる群より選択された１つの物質からなってもよい。
また、溝は、それぞれ２０〜２００ｎｍのサイズに形成されてもよい。
また、溝は、それぞれ１０００〜１００，０００ｎｍ２の断面積を有するように形成されてもよい。
また、溝は、ブラックマトリックスの上面の２０〜５０％を占めるように形成されてもよい。
また、溝は、５０〜２００ｎｍの深さに形成されてもよい。
以上説明したように本発明によれば、ピクセル間におけるインクの混色を防止でき、色再現率と明暗比とを向上させることができる。
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
（カラーフィルタ用ブラックマトリックスの構成）
まず、図１及び図２を参照して、本発明の実施形態に係るカラーフィルタ用ブラックマトリックスの構成について説明する。図１は、本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの斜視図であり、図２は、図１に示したカラーフィルタ用ブラックマトリックスを示す断面図である。
図１及び図２に示すように、基板１００上に本発明の実施形態によるブラックマトリックス１２０が所定形態に形成される。かかるブラックマトリックス１２０により、基板１００上には、複数のピクセル領域１４０が形成される。ここで、ピクセル領域１４０それぞれに所定色相のインクが充填されて、カラーフィルタの各ピクセルが形成される。
基板１００は、透明な基板であって、例えば、ガラス基板又はプラスチック基板で形成されうる。ブラックマトリックス１２０は、例えば、親インク性物質で形成される。ブラックマトリックス１２０は、例えば、ポリマー系の有機樹脂で形成されてもよい。ここで、ブラックマトリックス１２０は、その高さが、例えば約１．５μｍとなり、その幅は、例えば約３０μｍとなりうる。
ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａは、凹凸構造を有している。具体的に、ブラックマトリックス１２０の上面１０２ａには、ナノサイズの溝１３０が形成されている。図１には、この溝１３０が円形の断面形状を有する場合を示すが、本発明はこれに限定されず、この溝１３０は、多様な断面形状を有しうる。
本実施形態において、この溝１３０は、例えば、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａの２０〜５０％を占めるように形成されうる。すなわち、溝１３０の断面積の総和は、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａの面積のうち、２０〜５０％を占めるように形成されてもよい。そして、溝１３０それぞれのサイズは、約２０〜２００ｎｍとなり、溝１３０それぞれの断面積は、例えば、約１０００〜１００，０００ｎｍ２、望ましくは、約５０００〜１０，０００ｎｍ２となりうる。ここで、この溝１３０のサイズは、溝１３０の直径や溝１３０の内壁間の最大距離を意味する。すなわち、ここでいうサイズとは、溝１３０の最大幅の長さを意味する。溝１３０の深さは、例えば、約５０〜２００ｎｍとなりうる。
このように、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａにナノサイズの溝１３０が形成されれば、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａは、撥インク性を有する。親インク性物質からなるブラックマトリックス１２０の上面１２０ａが、撥インク性を有する理由は、ロータス効果（自浄効果）に起因する。
具体的に、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａにナノサイズの溝１３０が形成されれば、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａは、ブラックマトリックス１２０を形成する物質の表面と、この溝１３０に充填される空気とによって表面を形成される。したがって、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａにナノサイズの溝１３０が形成された場合には、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａに凹凸構造が形成されていない場合より、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａでインクと接触する面積は、減少する。これにより、溝１３０が形成されたブラックマトリックス１２０の上面１２０ａでのインクに対する接触角は、増加する。その結果、溝１３０が形成されたブラックマトリックス１２０の上面１２０ａは、撥インク性を有する。
例えば、ある物質の平坦な上面でのインクに対する接触角が１０度ならば、この物質の表面の３０％が空気となるようにナノサイズの溝が前記物質の表面に形成された場合には、インクに対する接触角が約６７度まで増加する。
以上のように、ブラックマトリックス１２０の成分を変化させ、又は、化学的表面処理をすることなく、物理的な方法を利用してブラックマトリックス１２０の上面に凹凸構造を形成することによって、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａは、撥インク性を有することができる。
一方、親インク性物質で形成されたブラックマトリックス１２０の側面１２０ｂは、親インク性をそのまま有する。
（カラーフィルタの構成）
次に、図３を参照して、本発明の実施形態に係るブラックマトリックスを使用して、製作されたカラーフィルタの構成について説明する。図３は、本発明の実施形態によるブラックマトリックス１２０を利用して製作されたカラーフィルタを示す断面図である。
図３に示すように、カラーフィルタは、基板１００と、基板１００上に形成されてピクセル領域を定義するブラックマトリックス１２０と、ピクセル領域それぞれに充填される所定色相、例えば、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のインクと、を備える。
ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａには、前述したようにナノサイズの溝１３０が形成されている。よって、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａは、撥インク性を有する。したがって、ピクセル領域に、例えば、インクジェット方式を利用してインクを注入してピクセルを形成する場合、ピクセル間におけるインクの混色を防止できる。一方、ブラックマトリックス１２０の側面１２０ｂは、親インク性を有するので、ピクセル領域の内部には、インクが均一な厚さに充填されうる。よって、カラーフィルタの色再現率と明暗比とを向上することができる。
（カラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法）
以下では、図４Ａ〜図４Ｄを参照して、本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明する。図４Ａ〜図４Ｄは、本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
まず、図４Ａに示すように、基板１００上に親インク性物質からなる遮光層１１０が形成される。この遮光層１１０は、基板１００上に親インク性物質を所定厚さに塗布した後、これをソフトベーキング（低温による加熱処理）することによって形成されうる。基板１００は、透明な基板であって、例えば、ガラス基板又はプラスチック基板で形成されうる。この親インク性物質は、例えば、ポリマー系の有機樹脂からなりうる。この親インク性物質は、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、ディップコーティングのような方法により基板上に塗布されうる。そして、ソフトベーキング工程は、例えば、約８０〜１２０℃の温度で約３０秒〜２分間行われうる。
次に、図４Ｂに示すように、遮光層１１０が所定形態にパターニングされる。このようにパターニングされた遮光層１２０’により、基板１００上に複数のピクセル領域１４０が形成される。遮光層１１０が感光性物質からなる場合には、遮光層１１０のパターニングは、所定のパターンが形成されたフォトマスク（図示せず）を利用して遮光層１１０を露光現像することによって行われる。一方、前記遮光層１１０が非感光性物質からなる場合には、遮光層１１０の表面にフォトレジスト（図示せず）を塗布し、これをリソグラフィ工程によりパターニングする。そして、このようにパターニングされたフォトレジストをエッチングマスクとして利用して、遮光層１１０をエッチングする。パターニングされた遮光層１２０’は、その高さが、例えば約１．５μｍとなり、その幅は、例えば約３０μｍとなりうる。
次いで、パターニングされた遮光層１２０’がハードベーキング（高温による加熱処理）される。ここで、このハードベーキング工程は、例えば、約２００〜２３０℃で約２０分〜４０分間行われうる。このようにパターニングされた遮光層１２０’をハードベーキングする過程で、ナノインプリント工程を利用してパターニングされた遮光層１２０’の上面にナノサイズの溝（図４Ｄの１３０）が形成されうる。
具体的に、図４Ｃに示すように、まず、スタンプ１５０をパターニングされた遮光層１２０’の上部に配置する。ここで、スタンプ１５０の下面には、ナノサイズの突起部１６０が形成されている。かかるスタンプ１５０は、例えば、ガラス、石英、シリコン（Ｓｉ）及びポリ（ジメチルシロキサン）（ＰＤＭＳ）からなる群より選択された１つの物質で形成されうる。
次いで、スタンプ１５０をパターニングされた遮光層１２０’の上面に接触させて押せば（押圧すれば）、スタンプ１５０の下面に形成された突起部１６０が、パターニングされた遮光層１２０’の上面に入る（食い込む）。これにより、パターニングされた遮光層１２０’の上面には、突起部１６０に対応する形状の溝（図４Ｄの１３０）が形成される。この過程で、パターニングされた遮光層１２０’は、ハードベーキング工程により、ある程度軟化した状態を維持しているので、スタンプ１５０の突起部１６０は、パターニングされた遮光層１２０’の上面に容易に入りうる。
次いで、スタンプ１５０を取り離し、遮光層１２０’の上面から離隔すれば、本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックス１２０が完成される。かかるナノインプリント工程により前記ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａに形成された溝は、そのサイズが、例えば、約２０〜２００ｎｍとなり、その断面積は、例えば、約１０００〜１００，０００ｎｍ２、望ましくは、約５０００〜１０，０００ｎｍ２となりうる。
ここで、この溝１３０は、例えば、ブラックマトリックスの上面１２０ａの２０〜５０％を占めるように形成されうる。そして、溝１３０の深さは、例えば、約５０〜２００ｎｍとなりうる。このように、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａにナノサイズの溝１３０を形成すれば、前述したようにブラックマトリックス１２０の上面１２０ａは、撥インク性を有することができ、ブラックマトリックス１２０の側面１２０ｂは、親インク性を有することができる。
以上、詳しく説明したように、本発明の実施形態によれば、物理的な方法によりブラックマトリックス１２０の上面１２０ａに凹凸構造（溝１３０）を形成することによって、ブラックマトリックス１２０の上面１２０ａを撥インク性に変化させることができる。したがって、かかるブラックマトリックス１２０を利用してカラーフィルタを製作すれば、カラーフィルタのピクセル間におけるインクの混色を防止することができる。そして、ブラックマトリックス１２０の側面１２０ｂは、親インク性を維持するので、ピクセル領域の内部には、インクが均一な厚さに充填されうるので、不均一なインクによる光漏れ現象を防ぐことができる。したがって、カラーフィルタの色再現率と明暗比とを向上することができる。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、上記実施形態では、本発明は、ＬＣＤ分野に主に使われるカラーフィルタ用ブラックマトリックス及びその製造方法に適用されたが、本発明はかかる例に限定されない。例えば、本発明は、有機ＥＬに使われるバンクにも同様に適用されててもよい。
本発明は、カラーフィルタ、カラーフィルタ用ブラックマトリックス、及びカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法に適用可能であり、特にＬＣＤ関連の技術分野、及び有機ＥＬ関連の技術分野に適用可能である。
本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスを示す斜視図である。 図１に示したカラーフィルタ用ブラックマトリックスを示す断面図である。 本発明の実施形態によるブラックマトリックスを利用して製作されたカラーフィルタを示す断面図である。 本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。 本発明の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
符号の説明
１００ 基板
１１０ 遮光層
１２０ ブラックマトリックス
１３０ 溝
１４０ ピクセル領域
１５０ スタンプ
１６０ 突起部

Claims (26)

  1. 基板上に形成されて複数のピクセル領域を定義するカラーフィルタ用ブラックマトリックスにおいて、
    ナノサイズの溝が形成されて撥インク性を有する上面と、
    親インク性を有する側面と、
    を備えることを特徴とする、カラーフィルタ用ブラックマトリックス。
  2. 前記ブラックマトリックスは、親インク性物質からなることを特徴とする、請求項１に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックス。
  3. 前記ブラックマトリックスは、ポリマー系の有機樹脂からなることを特徴とする、請求項２に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックス。
  4. 前記溝それぞれのサイズは、２０〜２００ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックス。
  5. 前記溝それぞれの断面積は、１０００〜１００，０００ｎｍ２であることを特徴とする、請求項４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックス。
  6. 前記溝は、前記ブラックマトリックスの上面の２０〜５０％を占めることを特徴とする、請求項４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックス。
  7. 前記溝の深さは、５０〜２００ｎｍであることを特徴とする、請求項４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックス。
  8. 基板と、
    基板上に形成されて複数のピクセル領域を定義するブラックマトリックスと、
    前記ピクセル領域それぞれに充填される所定色相のインクと、
    を備え、
    前記ブラックマトリックスは、
    ナノサイズの溝が形成されて撥インク性を有する上面と、
    親インク性を有する側面と、
    を備えることを特徴とする、カラーフィルタ。
  9. 前記ブラックマトリックスは、親インク性物質からなることを特徴とする、請求項８に記載のカラーフィルタ。
  10. 前記溝それぞれのサイズは、２０〜２００ｎｍであることを特徴とする、請求項８に記載のカラーフィルタ。
  11. 前記溝それぞれの断面積は、１０００〜１００，０００ｎｍ２であることを特徴とする、請求項１０に記載のカラーフィルタ。
  12. 前記溝は、前記ブラックマトリックスの上面の２０〜５０％を占めることを特徴とする、請求項１０に記載のカラーフィルタ。
  13. 前記溝の深さは、５０〜２００ｎｍであることを特徴とする、請求項１０に記載のカラーフィルタ。
  14. 基板上に親インク性物質からなる遮光層を形成する工程と、
    前記遮光層をパターニングして前記基板上に複数のピクセル領域を定義する工程と、
    ナノインプリント工程を利用して前記パターニングされた遮光層の上面にナノサイズの溝を形成することによって、ブラックマトリックスを形成する工程と、
    を含むことを特徴とする、カラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  15. 前記遮光層は、ポリマー系の有機樹脂からなることを特徴とする、請求項１４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  16. 前記遮光層を形成する工程は、
    前記基板上に前記親インク性物質を塗布する工程と、
    前記親インク性物質をソフトベーキングする工程と、
    を含むことを特徴とする、請求項１４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  17. 前記ソフトベーキング工程は、８０〜１２０℃で行われることを特徴とする、請求項１６に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  18. 前記遮光層をパターニングした後、前記パターニングされた遮光層をハードベーキングする工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  19. 前記ハードベーキング工程は、２００〜２３０℃で行われることを特徴とする、請求項１８に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  20. 前記ナノインプリント工程は、前記パターニングされた遮光層を前記ハードベーキングする過程で行われることを特徴とする、請求項１８に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  21. 前記ナノインプリント工程を利用して前記溝を形成する工程は、
    ナノサイズの突起部が下面に形成されたスタンプを前記パターニングされた遮光層の上部に設ける工程と、
    前記スタンプで前記パターニングされた遮光層の上面を押して、前記遮光層の上面に前記突起部に対応する形状の溝を形成する工程と、
    前記スタンプを前記遮光層から取り離す工程と、
    を含むことを特徴とする、請求項１４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  22. 前記スタンプは、ガラス、石英、シリコン及びポリ（ジメチルシロキサン）からなる群より選択された１つの物質からなることを特徴とする、請求項２１に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  23. 前記溝は、それぞれ２０〜２００ｎｍのサイズに形成されることを特徴とする、請求項１４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  24. 前記溝は、それぞれ１０００〜１００，０００ｎｍ２の断面積を有するように形成されることを特徴とする、請求項２３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  25. 前記溝は、前記ブラックマトリックスの上面の２０〜５０％を占めるように形成されることを特徴とする、請求項２３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  26. 前記溝は、５０〜２００ｎｍの深さに形成されることを特徴とする、請求項２３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
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