JP2007136332A - Apparatus and method for applying paste - Google Patents

Apparatus and method for applying paste Download PDF

Info

Publication number
JP2007136332A
JP2007136332A JP2005333196A JP2005333196A JP2007136332A JP 2007136332 A JP2007136332 A JP 2007136332A JP 2005333196 A JP2005333196 A JP 2005333196A JP 2005333196 A JP2005333196 A JP 2005333196A JP 2007136332 A JP2007136332 A JP 2007136332A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
inclination
paste
detection device
detected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005333196A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4832861B2 (en
Inventor
Junichi Kojima
純一 小嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Mechatronics Corp filed Critical Shibaura Mechatronics Corp
Priority to JP2005333196A priority Critical patent/JP4832861B2/en
Publication of JP2007136332A publication Critical patent/JP2007136332A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4832861B2 publication Critical patent/JP4832861B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for applying a paste capable of preventing variation of the applied amount of paste from occurring by detecting the tilt of its nozzle. <P>SOLUTION: The apparatus 10 for applying paste ejected from its nozzle 26 onto a substrate 16 to draw a linear pattern 33 thereon is characterized by comprising a detection apparatus 43 for detecting the tilt of the nozzle 26. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置及びペーストの塗布方法に関する。   The present invention relates to a paste coating apparatus and a paste coating method for discharging a paste from a nozzle to coat and draw a linear pattern on a substrate.

液晶表示パネルの製造工程で用いられるペースト塗布装置では、ペーストとしてのシール剤を基板上に矩形枠状のパターンを塗布描画する。シール剤の塗布はシリンジの先端のノズルからシール剤を基板上に塗布することにより行なわれ、ノズルの先端と基板上面との間隔(ギャップ)が常時一定となるように制御(ギャップ制御)される。   In a paste coating apparatus used in a manufacturing process of a liquid crystal display panel, a rectangular frame pattern is applied and drawn on a substrate with a sealing agent as a paste. The sealant is applied by applying the sealant onto the substrate from the nozzle at the tip of the syringe, and is controlled (gap control) so that the gap (gap) between the tip of the nozzle and the top surface of the substrate is always constant. .

ペースト塗布装置には、一定容量のシール剤を充填したシリンジが交換可能に取付けられ、シリンジの先端部には着脱式のノズルがセットされている。シール剤の消費が進み、シリンジ内のシール剤の残量が少なくなると、シリンジを交換する必要がある。その際には、作業者がシリンジをペースト塗布装置の保持具に対して着脱するのであるが、操作を誤ってノズルの先端を周囲の装置にぶつけて曲げてしまうことが多々ある。一般的にシール剤の塗布は幅0.3mm程度の微細な線であり、ノズルの先端もこれに比例して細長い形状であるので、強い衝撃を与えると、容易に曲がり変形が生じる。   A syringe filled with a fixed amount of sealing agent is replaceably attached to the paste application device, and a detachable nozzle is set at the tip of the syringe. When the consumption of the sealing agent progresses and the remaining amount of the sealing agent in the syringe decreases, it is necessary to replace the syringe. At that time, the operator attaches and detaches the syringe with respect to the holder of the paste application device, but the operation often mistakes the operation to bend the tip of the nozzle against the surrounding device. In general, the application of the sealing agent is a fine line having a width of about 0.3 mm, and the tip of the nozzle has an elongated shape in proportion thereto. Therefore, when a strong impact is applied, bending deformation easily occurs.

ペースト塗布装置は、ノズルの先端と基板上面とのギャップを、常時一定となるように制御する必要があるので、ノズルに傾きが生じると、塗布精度を維持することができない。   Since the paste coating apparatus needs to control the gap between the tip of the nozzle and the upper surface of the substrate so that it is always constant, the coating accuracy cannot be maintained if the nozzle is tilted.

また、ギャップが同一でもノズルが傾いていると、ノズルからのシール剤の出やすさが変わることによって塗布量にバラツキが生じる。図15(A)に示すように、基板116に対して垂直なノズル126の基準中心軸に対して、ノズル126に傾きがない正常位置にある場合には、ノズル126が図中右方向に移動するときも左方向に移動するときも、ノズル126からのペーストLの出やすさは同じである。従って、左右どちらに移動しても、同じ塗布量でペーストLを塗布することができる。   In addition, if the nozzle is inclined even if the gap is the same, the coating amount varies due to the change in the ease with which the sealant is discharged from the nozzle. As shown in FIG. 15A, when the nozzle 126 is in a normal position with no inclination with respect to the reference central axis of the nozzle 126 perpendicular to the substrate 116, the nozzle 126 moves to the right in the figure. The ease with which the paste L comes out from the nozzle 126 is the same when moving to the left. Therefore, it is possible to apply the paste L with the same application amount regardless of whether it moves left or right.

しかしながら、図15(B)に示すように、基板116に対してノズル126が左に傾いていると、同一のギャップでも塗布量が変わる。図15(C)に示すように、基板116に対してノズル126が左に傾いている状態で、ノズル126を図中の右方向に移動させながらペーストLを塗布する場合、ペーストLはノズル126の移動方向の前方側に向けて吐出される。そのため、ノズル126は吐出されたペーストLに向けて移動することとなるので、ノズル126の吐出口は基板116に塗布されたペーストLによって塞がれる状態になり、吐出抵抗が大きくなる。これに対し、図15(B)に示すように、ノズル126を図中の左方向に移動させながらペーストLを塗布する場合、ペーストLは、ノズル126の移動方向の後方側に向けて吐出されるので、吐出抵抗が大きくなることはない。従って、ノズル126を図中右方向に移動させながらペーストLを塗布する場合、塗布量が必要量よりも少なくなってしまう。   However, as shown in FIG. 15B, when the nozzle 126 is tilted to the left with respect to the substrate 116, the coating amount changes even in the same gap. As shown in FIG. 15C, when the paste L is applied while moving the nozzle 126 in the right direction in the drawing in a state where the nozzle 126 is inclined to the left with respect to the substrate 116, the paste L is applied to the nozzle 126. It is discharged toward the front side in the moving direction. Therefore, since the nozzle 126 moves toward the discharged paste L, the discharge port of the nozzle 126 is blocked by the paste L applied to the substrate 116, and the discharge resistance increases. On the other hand, as shown in FIG. 15B, when applying the paste L while moving the nozzle 126 in the left direction in the figure, the paste L is discharged toward the rear side in the moving direction of the nozzle 126. Therefore, the discharge resistance does not increase. Therefore, when applying the paste L while moving the nozzle 126 in the right direction in the figure, the application amount becomes smaller than the required amount.

上述のようなペースト塗布装置で基板上に矩形枠状のパターンを塗布描画する場合、ノズルが傾いていると、対向する辺のうち一方の辺の塗布量が必要量よりも少なくなってしまうことがある。   When applying and drawing a rectangular frame pattern on a substrate with the paste application device as described above, if the nozzle is inclined, the application amount on one of the opposing sides will be less than the required amount. There is.

このような状態で、2枚の基板をシール剤を介して貼り合わせたときに、2枚の基板間の間隙が、シール剤の塗布量が少ない辺に対応する部分で他の辺に対応する部分よりも小さくなってしまう。その結果、2枚の基板とシール剤とによって囲まれる空間内に封入される液晶の厚みが、間隙が小さくなった部分で薄くなる。液晶の厚みが薄い部分があると、その部分で表示ムラが発生し、表示品質を損ねることになるという問題がある。   In such a state, when the two substrates are bonded together via the sealant, the gap between the two substrates corresponds to the other side at the portion corresponding to the side where the amount of the sealant applied is small. It will be smaller than the part. As a result, the thickness of the liquid crystal sealed in the space surrounded by the two substrates and the sealant is reduced at the portion where the gap is reduced. If there is a portion where the liquid crystal is thin, there is a problem that display unevenness occurs in that portion and the display quality is impaired.

上述の不具合を防止するために、作業者がノズルの外観検査を定期的に行なっているが、これは生産に直接寄与しない時間であるから、ペースト塗布装置に使用するノズルの本数が増えると作業効率の低下を招く。   In order to prevent the above-mentioned problems, the worker regularly inspects the appearance of the nozzles, but this is a time that does not directly contribute to production, so the work will increase as the number of nozzles used in the paste applicator increases. It causes a decrease in efficiency.

また、傾きや曲がりは三次元的であるから、簡易計測が困難であり、専ら作業者の目視に頼るものとなり、良否判断が主観的となりバラツキが大きいものとなっていた。
従って、上述のような不具合を防止するために、ノズルの傾きの有無を知る必要がある。
In addition, since the tilt and bend are three-dimensional, simple measurement is difficult, relying solely on the visual observation of the operator, and the pass / fail judgment is subjective and the variation is large.
Therefore, in order to prevent the above-described problems, it is necessary to know whether the nozzle is tilted.

特許文献1には、基準位置に対するノズルの位置ずれ量を位置ずれ検出装置で検出し、予め設定されたティーチングデータから位置ずれ検出装置で求められた位置ずれ量を加算若しくは減算することにより、予め設定されたティーチングデータを補正し、正しい位置に材料が塗布されるように修正する材料塗布装置が開示されている。   In Patent Document 1, a positional deviation amount of a nozzle with respect to a reference position is detected by a positional deviation detection device, and a positional deviation amount obtained by a positional deviation detection device is added or subtracted from preset teaching data in advance. There is disclosed a material application apparatus that corrects teaching data that has been set and corrects the material to be applied at a correct position.

しかしながら、特許文献1に開示のものには、ノズルの傾きを検出すること、及び、ノズルが例えば許容値以上傾いているか否かを判別して許容値以上傾いている場合には、ペーストを良好に塗布できないものとして取り替えたり又はその旨を知らせたりする等の技術についての開示がない。
特開2003-145004
However, in the one disclosed in Patent Document 1, it is possible to detect the tilt of the nozzle, and to determine whether the nozzle is tilted more than the allowable value, for example, by determining whether the nozzle is tilted more than the allowable value. There is no disclosure of technology such as replacing or notifying that it cannot be applied.
JP2003-145004

本発明の課題は、ノズルの傾きを検出することにより、塗布量にバラツキが生じることを防止することのできるペースト塗布装置及びペーストの塗布方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a paste coating apparatus and a paste coating method capable of preventing variation in the coating amount by detecting the inclination of a nozzle.

請求項1の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、前記ノズルの傾きを検出する検出装置を有するようにしたものである。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a paste application apparatus for applying and drawing a linear pattern on a substrate by discharging a paste from a nozzle, and having a detection device for detecting the inclination of the nozzle.

請求項2の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、該検出装置によって検出した前記ノズルの傾きに基づいて、ペースト塗布の実行可否を判別する制御装置を備えるようにしたものである。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a paste coating apparatus that applies and draws a linear pattern on a substrate by discharging a paste from a nozzle, a detection device that detects the inclination of the nozzle, and a nozzle that is detected by the detection device. A control device for determining whether or not paste application can be performed based on the inclination is provided.

請求項3の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、該検出装置によって検出したノズルの傾きに基づいて、ペーストの吐出条件を変更する制御装置を備えるようにしたものである。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a paste coating apparatus that applies and draws a linear pattern on a substrate by ejecting paste from a nozzle, a detection apparatus that detects the inclination of the nozzle, and the inclination of the nozzle detected by the detection apparatus. And a control device for changing the discharge condition of the paste.

請求項4の発明は、請求項1〜3のいずれかの発明において更に、前記検出装置は、前記ノズルの先端を撮像する撮像装置を有し、該撮像装置によるノズル先端の撮像画像に基づいてノズルの傾きを検出するようにしたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the detection device further includes an image pickup device that picks up an image of the tip of the nozzle, and is based on a captured image of the tip of the nozzle by the image pickup device. The inclination of the nozzle is detected.

請求項5の発明は、請求項1〜3のいずれかの発明において更に、前記検出装置は、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて、前記ノズルの中心軸に沿う方向の複数個所で前記ノズルの位置を検出するセンサを有し、それぞれの方向における複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。   According to a fifth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the detection device is provided at a plurality of locations in a direction along the central axis of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane. A sensor for detecting the position of the nozzle is provided, and the inclination of the nozzle is obtained based on detection values at a plurality of positions in each direction.

請求項6の発明は、請求項1〜3のいずれかの発明において更に、前記検出装置は、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて前記ノズルの位置を検出するセンサを有し、それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。   According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the detection device further includes a sensor that detects the position of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane, The inclination of the nozzle is obtained by comparing the detected value from the direction and the reference value.

請求項7の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペーストの塗布方法において、前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペースト塗布の実行可否を判別するようにしたものである。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a paste application method in which a paste is ejected from a nozzle and a linear pattern is applied and drawn on a substrate, the inclination of the nozzle is detected, and the paste is applied based on the detected inclination of the nozzle. Whether or not to execute is determined.

請求項8の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペーストの塗布方法において、前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペーストの吐出条件を変更するようにしたものである。   According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a paste application method in which a paste is ejected from a nozzle so as to apply and draw a linear pattern on a substrate. The inclination of the nozzle is detected, and the paste is detected based on the detected inclination of the nozzle. The discharge conditions are changed.

請求項9の発明は、請求項7又は8の発明において更に、前記ノズルの先端に対向する方向から撮像した画像に基づいて、前記ノズルの傾きを検出するようにしたものである。   According to a ninth aspect of the present invention, in the seventh or eighth aspect of the present invention, the inclination of the nozzle is detected based on an image picked up from a direction facing the tip of the nozzle.

請求項10の発明は、請求項7又は8の発明において更に、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて、前記ノズルの中心軸に沿う方向の複数個所で前記ノズルの位置を検出し、それぞれの方向の複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。   The invention of claim 10 further detects the position of the nozzle at a plurality of locations along the central axis of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane in the invention of claim 7 or 8. The inclination of the nozzle is obtained based on detection values at a plurality of positions in each direction.

請求項11の発明は、請求項7又は8の発明において更に、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて前記ノズルの位置を検出し、それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。   The invention of claim 11 further detects the position of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane in the invention of claim 7 or 8, and compares the detected value from each direction with a reference value. Thus, the inclination of the nozzle is obtained.

本発明によれば、ペースト塗布装置は、ノズルの傾きを検出する検出装置を有するので、ノズルの傾きに起因する塗布不良を未然に防止することができ、塗布品質を向上させることができる。   According to the present invention, since the paste application device has the detection device that detects the inclination of the nozzle, it is possible to prevent an application failure due to the inclination of the nozzle, and to improve the application quality.

図1はペースト塗布装置を示す斜視図、図2は第1実施例における図1のステージの拡大図、図3は第1実施例の検出装置の要部を示す模式図、図4は図3の検出装置にて撮像したノズルの先端の処理画像を示す模式図、図5は第2実施例における検出装置の要部を示す模式図、図6は図5の検出装置にて撮像したノズルの側面の処理画像を示す模式図、図7はノズルの傾きを求めるための説明図、図8は第3実施例におけるステージの拡大図、図9は第3実施例の検出装置の要部を示す模式図、図10は図9の検出装置にて検出したX軸方向とY軸方向のノズルの直径を合成して作成した画像を示す模式図、図11は第4実施例におけるステージの拡大図、図12は第4実施例の検出装置の要部を示す斜視図、図13は図11の検出装置にて測定したノズルのX軸方向における断面を示す模式図、図14は、図12、図13のノズルの中心軸を含む水平面における断面図、図15はノズルの傾きと塗布量の関係を示す模式図で、(A)は、ノズルが傾いていない正常な状態、(B)はノズルの傾きと塗布方向が同一の場合、(C)はノズルの傾きと塗布方向が反対の場合の模式図である。   1 is a perspective view showing a paste application device, FIG. 2 is an enlarged view of the stage of FIG. 1 in the first embodiment, FIG. 3 is a schematic view showing the main part of the detection device of the first embodiment, and FIG. FIG. 5 is a schematic diagram showing the main part of the detection device in the second embodiment, and FIG. 6 is a schematic view of the nozzle imaged by the detection device of FIG. FIG. 7 is an explanatory diagram for obtaining the inclination of the nozzle, FIG. 8 is an enlarged view of the stage in the third embodiment, and FIG. 9 shows the main part of the detection device of the third embodiment. Schematic diagram, FIG. 10 is a schematic diagram showing an image created by combining the nozzle diameters in the X-axis direction and the Y-axis direction detected by the detection device of FIG. 9, and FIG. 11 is an enlarged view of the stage in the fourth embodiment. FIG. 12 is a perspective view showing a main part of the detection device of the fourth embodiment, and FIG. 13 shows the detection device of FIG. FIG. 14 is a schematic view showing a cross section of the measured nozzle in the X-axis direction, FIG. 14 is a cross-sectional view in a horizontal plane including the central axis of the nozzle in FIGS. 12 and 13, and FIG. 15 is a schematic view showing the relationship between the inclination of the nozzle and the coating amount. (A) is a normal state where the nozzle is not tilted, (B) is a schematic diagram when the nozzle tilt and the application direction are the same, and (C) is a schematic diagram when the nozzle tilt and the application direction are opposite. .

(第1実施例)
以下、図面を参照しながらこの発明の第1実施例を説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

最初に、図1中、X軸とY軸は互いに直交しそれぞれ水平方向に延び、Z軸はX軸とY軸に対して垂直方向に延びる。   First, in FIG. 1, the X axis and the Y axis are orthogonal to each other and extend in the horizontal direction, and the Z axis extends in a direction perpendicular to the X axis and the Y axis.

図1はペースト塗布装置10の概略的構成を示す斜視図であって、ペースト塗布装置10は直方体状のベース11を備える。ベース11の上面に、図1に示すように、Yテーブル12がY軸方向(図1中、ペースト塗布装置10の前後方向)に沿って移動可能に設けられ、Yテーブル12は不図示のボールねじとナット及びボールねじを回動するサーボモータ13からなる駆動手段によって駆動される。Yテーブル12の上面にθ回転機構14を介してステージ15が設けられる。ステージ15はθ回転機構14によって、図1に示すように、Z軸(図1中、ペースト塗布装置10の上下方向)回りに水平面内で回転可能となっている。ステージ15の上面には、例えば液晶表示パネルに用いられるガラス製の矩形の基板16が載置され、不図示の真空吸着等の手段によって吸着保持される。   FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a paste coating apparatus 10, and the paste coating apparatus 10 includes a rectangular parallelepiped base 11. As shown in FIG. 1, a Y table 12 is provided on the upper surface of the base 11 so as to be movable along the Y-axis direction (the front-rear direction of the paste applying device 10 in FIG. 1). It is driven by a driving means comprising a servo motor 13 that rotates a screw, a nut and a ball screw. A stage 15 is provided on the upper surface of the Y table 12 via a θ rotation mechanism 14. As shown in FIG. 1, the stage 15 can be rotated around the Z axis (in FIG. 1, the vertical direction of the paste application device 10) in a horizontal plane by the θ rotation mechanism 14. On the upper surface of the stage 15, for example, a glass rectangular substrate 16 used for a liquid crystal display panel is mounted and held by suction by means such as vacuum suction (not shown).

ベース11の上面には、Yテーブル12を跨ぐ状態で門型の支持体20が設けられる。この支持体20の水平な梁部の前面にY軸方向に直交するX軸方向(図1中、塗布装置の左右方向)に沿ってガイドレール21が固定される。ガイドレール21上に2つのXテーブル22がX軸方向に移動可能に設けられ、2つのXテーブル22は不図示のリニアモータからなる駆動手段によって駆動される。リニアモータはガイドレール21上に設けられたマグネットとXテーブル22に設けられたコイルからなる。   A gate-shaped support body 20 is provided on the upper surface of the base 11 so as to straddle the Y table 12. A guide rail 21 is fixed to the front surface of the horizontal beam portion of the support 20 along the X-axis direction (the left-right direction of the coating apparatus in FIG. 1) orthogonal to the Y-axis direction. Two X tables 22 are provided on the guide rail 21 so as to be movable in the X-axis direction, and the two X tables 22 are driven by a driving means including a linear motor (not shown). The linear motor includes a magnet provided on the guide rail 21 and a coil provided on the X table 22.

Xテーブル22上にZテーブル23がそれぞれZ軸方向(上下方向)に移動可能に設けられ、Zテーブル23はボールねじとナット及びボールねじを回動するサーボモータ24からなる駆動手段によって駆動される。   A Z table 23 is provided on the X table 22 so as to be movable in the Z-axis direction (vertical direction). The Z table 23 is driven by a driving means including a ball screw, a nut, and a servo motor 24 that rotates the ball screw. .

2つのZテーブル23上に、シール剤を吐出するための吐出装置25がそれぞれ設けられる。吐出装置25は、先端部に円筒状のノズル26を着脱自在に取付けたシリンジ27を備え、ノズル26はステンレス合金からなる。ノズル26を取付けたシリンジ27はZテーブル23上に固定して設けられた保持具29に着脱自在に取付けられる。シリンジ27内にはペーストとしてのシール剤が充填され、シリンジ27はそれぞれ管路30を介して不図示の加圧気体源に接続され、シリンジ27と加圧気体源との間にはそれぞれ電磁開閉弁31と、電磁開閉弁31の下流側に電空レギュレータ32が介装される。シリンジ27内に充填されたシール剤は加圧気体源からの加圧気体により加圧されて、シリンジ27先端のノズル26から吐出される。   Discharge devices 25 for discharging the sealant are provided on the two Z tables 23, respectively. The discharge device 25 includes a syringe 27 in which a cylindrical nozzle 26 is detachably attached to the tip, and the nozzle 26 is made of a stainless alloy. The syringe 27 to which the nozzle 26 is attached is detachably attached to a holder 29 that is fixed on the Z table 23. The syringe 27 is filled with a sealing agent as a paste, and each syringe 27 is connected to a pressurized gas source (not shown) via a pipe line 30, and electromagnetic opening and closing is provided between the syringe 27 and the pressurized gas source. An electropneumatic regulator 32 is interposed downstream of the valve 31 and the electromagnetic on-off valve 31. The sealing agent filled in the syringe 27 is pressurized by the pressurized gas from the pressurized gas source and is discharged from the nozzle 26 at the tip of the syringe 27.

Zテーブル23上には、レーザ変位計28からなる距離検出器がシリンジ27と一体的に取付け固定され、レーザ変位計28は基板16上面までの距離を測定する。   On the Z table 23, a distance detector comprising a laser displacement meter 28 is integrally attached and fixed to the syringe 27, and the laser displacement meter 28 measures the distance to the upper surface of the substrate 16.

上記塗布装置のベース11の一側には制御装置36が設けられる。制御装置36はYテーブル12を駆動するサーボモータ13、Xテーブル22を駆動する不図示のリニアモータ、吐出装置25のZテーブル23を駆動するサーボモータ24をそれぞれ制御する。   A control device 36 is provided on one side of the base 11 of the coating apparatus. The control device 36 controls the servo motor 13 that drives the Y table 12, the linear motor (not shown) that drives the X table 22, and the servo motor 24 that drives the Z table 23 of the discharge device 25.

また、制御装置36はシリンジ27と加圧気体源との間の管路30に介装された電磁開閉弁31と電空レギュレータ32を制御する。   Moreover, the control apparatus 36 controls the electromagnetic on-off valve 31 and the electropneumatic regulator 32 which were interposed by the pipe line 30 between the syringe 27 and a pressurized gas source.

また、2つのZテーブル23上に、それぞれステージ15上に載置された基板16の位置を検出するためのCCDカメラ37からなる撮像装置が設けられる。
制御装置36にはモニタ用のディスプレイ38と入力用のキーボード39が接続される。
Further, on the two Z tables 23, an imaging device including a CCD camera 37 for detecting the position of the substrate 16 placed on the stage 15 is provided.
A monitor display 38 and an input keyboard 39 are connected to the control device 36.

次に、上記構成のペースト塗布装置10によって基板16上にシール剤を塗布する動作について説明する。   Next, the operation of applying the sealing agent on the substrate 16 by the paste applying apparatus 10 having the above configuration will be described.

まず、ステージ15の上面に、不図示のロボット等によって基板16が供給載置されると、基板16の四隅に付された不図示のアライメントマークがCCDカメラ37によって撮像され、撮像信号が制御装置36に入力される。制御装置36は、撮像された画像から画像認識により予め設定された位置との間の位置ずれを検出し、そのずれが零となるようにXテーブル22、Yテーブル12、θ回転機構14を制御する。   First, when the substrate 16 is supplied and placed on the upper surface of the stage 15 by a robot (not shown) or the like, alignment marks (not shown) attached to the four corners of the substrate 16 are imaged by the CCD camera 37, and the imaging signal is controlled by the control device. 36. The control device 36 detects a positional deviation from a position set in advance by image recognition from the captured image, and controls the X table 22, the Y table 12, and the θ rotation mechanism 14 so that the deviation becomes zero. To do.

ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22のリニアモータとYテーブル12のサーボモータ12を駆動してXテーブル22とYテーブル12を水平方向に移動させ、Zテーブル23のサーボモータ24を駆動してZテーブル23を上下方向に移動させ、吐出装置25のシリンジ27の先端のノズル26からシール剤を吐出させて、基板16上に矩形枠状のパターン33を塗布描画する。2つの吐出装置25は、X軸方向に並んだ2つのパターン33を同時に塗布描画する。   The control device 36 of the paste applying apparatus 10 drives the linear motor of the X table 22 and the servo motor 12 of the Y table 12 to move the X table 22 and the Y table 12 in the horizontal direction, and the servo motor 24 of the Z table 23 is moved. By driving, the Z table 23 is moved in the vertical direction, the sealing agent is discharged from the nozzle 26 at the tip of the syringe 27 of the discharge device 25, and a rectangular frame-shaped pattern 33 is applied and drawn on the substrate 16. The two ejection devices 25 simultaneously apply and draw two patterns 33 arranged in the X-axis direction.

レーザ変位計28は基板16上面までの距離を測定し、制御装置36は、レーザ変位計28の測定値に基づきノズルの先端と基板16上面との間隔(以下、ギャップと言う)が常時一定となるようにサーボモータ24を駆動してZテーブル23を移動制御(以下、ギャップ制御と言う)して、均一な幅及び厚さのパターン33を基板16上に塗布描画する。   The laser displacement meter 28 measures the distance to the upper surface of the substrate 16, and the controller 36 determines that the distance between the nozzle tip and the upper surface of the substrate 16 (hereinafter referred to as a gap) is always constant based on the measurement value of the laser displacement meter 28. The servo motor 24 is driven to control the movement of the Z table 23 (hereinafter referred to as gap control), and a pattern 33 having a uniform width and thickness is applied and drawn on the substrate 16.

ペースト塗布装置10の制御装置36は、配管30に設けられた電磁開閉弁31の開閉をオンオフ制御してシール剤の吐出、停止を制御し、また、電空レギュレータ32を制御して電空レギュレータ32の下流側の気体の圧力を調整してシール剤の吐出圧を調整する。   The control device 36 of the paste coating apparatus 10 controls on / off control of the electromagnetic on-off valve 31 provided in the pipe 30 to control discharge and stop of the sealing agent, and also controls the electro-pneumatic regulator 32 to control the electro-pneumatic regulator. The pressure of the gas on the downstream side of 32 is adjusted to adjust the discharge pressure of the sealing agent.

このようにして4つの矩形枠状のパターン33が基板16上に塗布描画されるが、シリンジ27の交換時や一定の周期でシリンジ27の先端のノズル26の傾きの検査が行なわれる。   In this way, four rectangular frame-shaped patterns 33 are applied and drawn on the substrate 16, and the inclination of the nozzle 26 at the tip of the syringe 27 is inspected when the syringe 27 is replaced or at a constant cycle.

ノズル26の傾きを検査するために、図2、図3に示すように、ペースト塗布装置10は検出装置43を有する。検出装置43はステージ15の前部中央に上部を開口して形成された断面円形の測定穴44を有する。ノズル26の傾きの検出時には、測定穴44の上方の測定位置にノズル26が位置する。また、検出装置43は、測定穴44の底部に上向きに設けられたCCDカメラ45からなる撮像装置とCCDカメラ45の外周の測定穴44の底部上に設けられたリング照明46を有する。   In order to inspect the inclination of the nozzle 26, the paste application device 10 has a detection device 43 as shown in FIGS. 2 and 3. The detection device 43 has a measurement hole 44 having a circular cross section formed in the center of the front portion of the stage 15 with an upper opening. When detecting the inclination of the nozzle 26, the nozzle 26 is positioned at the measurement position above the measurement hole 44. In addition, the detection device 43 includes an imaging device including a CCD camera 45 provided upward at the bottom of the measurement hole 44 and a ring illumination 46 provided on the bottom of the measurement hole 44 on the outer periphery of the CCD camera 45.

ノズル26の傾きの検出は、予め設定された測定穴44の上方の測定位置で行なわれる。CCDカメラ45は、ノズル26がペースト塗布装置10のZテーブル23上に位置ずれ及びステージ15に対する傾きのない基準位置(以下、明細書中において、単に「基準位置」と言う)に取付けられているとき、ノズル26の中心線Cの延長上に、図4に示すように、CCDカメラ45の画像の中心Oが位置するように取付けられる。 The detection of the inclination of the nozzle 26 is performed at a measurement position above the preset measurement hole 44. The CCD camera 45 is attached to a reference position (hereinafter, simply referred to as “reference position” in the specification) in which the nozzle 26 is not displaced on the Z table 23 of the paste coating apparatus 10 and is not inclined with respect to the stage 15. At this time, the nozzle 26 is attached so that the center O of the image of the CCD camera 45 is positioned on the extension of the center line C 0 of the nozzle 26 as shown in FIG.

リング照明46はノズル26の先端部にスポット光を照射する。
検出装置43は、不図示の画像処理装置を有し、CCDカメラ45が撮像したノズル26の先端部の画像を画像処理装置にて画像処理する。
The ring illumination 46 irradiates the tip of the nozzle 26 with spot light.
The detection device 43 includes an image processing device (not shown), and performs image processing on the image of the tip of the nozzle 26 captured by the CCD camera 45 by the image processing device.

次に、上記構成の検出装置43によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。   Next, an operation of detecting the inclination of the nozzle 26 by the detection device 43 having the above configuration will be described.

ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ水平方向に移動させ、更にZテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下降させて、ノズル26をステージ15の前部中央の測定穴44上方の予め設定された測定位置に位置決めする。   The control device 36 of the paste applying apparatus 10 moves the X table 22 and the Y table 12 in the horizontal direction by a preset distance from the origin position, and further lowers the Z table 23 by a preset distance from the origin position. The nozzle 26 is positioned at a predetermined measurement position above the measurement hole 44 at the center of the front portion of the stage 15.

次いで、CCDカメラ45は、ノズル26の先端を下から撮像し、撮像された画像は画像処理装置にて画像処理される。図4は、CCDカメラ45で撮像された画像の処理画像47を示し、CCDカメラ45の撮像視野の中心と処理画像47の中心とは、一致しているものとする。また、処理画像47において左右方向がX軸方向、上下方向がY軸方向である。ノズル26が傾いていないときには、処理画像47におけるノズル26先端の処理画像Pの中心Oが処理画像47上の中心(座標)Oに位置し、ノズル26先端の処理画像Pは真円状を呈する。ノズル26が傾いているときには、ノズル26先端の処理画像P1に示す如く、その中心O1が処理画像47上の中心Oからずれたところに位置し、ノズル26先端の処理画像P1は楕円状を呈する。 Next, the CCD camera 45 images the tip of the nozzle 26 from below, and the captured image is subjected to image processing by an image processing device. FIG. 4 shows a processed image 47 of an image captured by the CCD camera 45, and it is assumed that the center of the imaging field of view of the CCD camera 45 coincides with the center of the processed image 47. In the processed image 47, the left-right direction is the X-axis direction, and the up-down direction is the Y-axis direction. When the nozzle 26 is not inclined, the center O 0 of the processed image P 0 at the tip of the nozzle 26 in the processed image 47 is positioned at the center (coordinate) O on the processed image 47, and the processed image P 0 at the tip of the nozzle 26 is a perfect circle. Present. When the nozzle 26 is inclined, the center O1 is located at a position shifted from the center O on the processing image 47 as shown in the processing image P1 at the tip of the nozzle 26, and the processing image P1 at the tip of the nozzle 26 has an elliptical shape. .

画像処理装置にて、ノズル26が傾いていないときの処理画像Pの中心Oと、ノズル26が傾いているときの処理画像P1の中心O1の位置ずれ量L1を求め、位置ずれ量L1とノズル26の長さLn(既知の値)から、図3に示すように、ノズル26が傾いているときの中心線C1のノズル26が傾いていないときの中心線Cに対する傾き角度θをsinθ=L1/Lnにより算出する。 In the image processing apparatus, a positional deviation amount L1 between the center O 0 of the processed image P 0 when the nozzle 26 is not inclined and the center O 1 of the processed image P 1 when the nozzle 26 is inclined is obtained, and the positional deviation amount L 1 is obtained. and the length Ln of the nozzle 26 (known value), as shown in FIG. 3, the inclination angle θ with respect to the center line C 0 when the nozzle 26 is not inclined in the center line C1 of when the nozzle 26 is tilted Calculated by sin θ = L1 / Ln.

また、図4に示すように、ノズル26の処理画像P1の中心O1が、処理画像47のX−Y座標上のどの象限のどの位置にあるかによってノズル26の傾きの方向と位置を知ることができる。   Further, as shown in FIG. 4, the direction and position of the inclination of the nozzle 26 are known depending on which position in which quadrant on the XY coordinate of the processed image 47 the center O 1 of the processed image P 1 of the nozzle 26 is. Can do.

尚、ここで、ノズル26を測定位置に位置付けるときに、Xテーブル22及びYテーブル12による位置決め誤差が生じることが考えられる。しかしながら、例えば、本実施例のような液晶表示パネルの製造に用いられるペースト塗布装置10では、Xテーブル22及びYテーブル12の繰り返し位置決め精度が±数μmである。これに対し、傾きによるノズル26の位置ずれ量L1は数十μm以上である。従って、Xテーブル22及びYテーブル12による位置決め誤差は、ノズル26の位置ずれ量L1の許容値内に含まれる程度に小さいので、上述の測定精度に影響することはない。   Here, when the nozzle 26 is positioned at the measurement position, a positioning error due to the X table 22 and the Y table 12 may occur. However, for example, in the paste coating apparatus 10 used for manufacturing the liquid crystal display panel as in this embodiment, the repeated positioning accuracy of the X table 22 and the Y table 12 is ± several μm. On the other hand, the positional deviation amount L1 of the nozzle 26 due to the inclination is several tens of μm or more. Accordingly, the positioning error due to the X table 22 and the Y table 12 is small enough to be included within the allowable value of the positional deviation amount L1 of the nozzle 26, and thus does not affect the measurement accuracy described above.

また、ノズル26の傾きθが予め設定された基準値を超える場合には、ディスプレイ38上に表示したり警報を鳴らしたりして作業者に知らせるようにすることにより、作業者は検出されたノズル26の傾きに基づいてシール剤の塗布の実行可否を判別する。   Further, when the inclination θ of the nozzle 26 exceeds a preset reference value, the operator can notify the worker by displaying it on the display 38 or sounding an alarm so that the worker can detect the detected nozzle. Based on the inclination of 26, it is determined whether or not the application of the sealant is feasible.

また、単に、位置ずれ量L1を予め設定された基準値と比較して、位置ずれ量L1が予め設定された基準値を超えるか否かにより、シール剤の塗布の実行可否を判別するようにすることもできる。   Further, the position deviation amount L1 is simply compared with a preset reference value, and whether or not the sealant application can be performed is determined based on whether or not the position deviation amount L1 exceeds a preset reference value. You can also

また、ノズル26が傾いている場合には、ノズル26先端の処理画像P1は楕円状を呈するので、その長辺aと短辺bの比を求め、楕円であるか真円であるかを判断することによって、ノズル26の傾きを判断することもできる。また、これらのノズル26の先端の位置ずれ量L1と楕円であるか真円であるかの2つの条件によってノズル26の傾きを判断することもできる。   Further, when the nozzle 26 is inclined, the processed image P1 at the tip of the nozzle 26 has an elliptical shape. Therefore, the ratio of the long side a to the short side b is obtained to determine whether it is an ellipse or a perfect circle. By doing so, the inclination of the nozzle 26 can also be determined. Further, the inclination of the nozzle 26 can be determined based on two conditions, that is, the positional deviation amount L1 of the tip of the nozzle 26 and whether it is an ellipse or a perfect circle.

また、ノズル26の先端部の周囲の輪郭の形状によってノズル26表面の欠け等の欠陥を検出することもできる。   Further, a defect such as a chip on the surface of the nozzle 26 can be detected by the shape of the contour around the tip of the nozzle 26.

また、シール剤をノズル26から吐出させて基板16上に矩形枠状のパターンを塗布描画する場合、従来技術のところで述べたように、ノズル26が傾いていると、同一のギャップでも移動する方向によって塗布量が変わる。   Further, when a rectangular frame pattern is applied and drawn on the substrate 16 by discharging the sealing agent from the nozzle 26, as described in the prior art, if the nozzle 26 is inclined, the direction of movement is the same gap. The coating amount varies depending on.

ノズル26の移動方向が変わっても塗布量を一定にするために、ペースト塗布装置10は、上述の検出装置43によって検出したノズル26の傾きに基づいて、シール剤の吐出条件を変更する制御装置36を備える。即ち、制御装置36内のプログラムは、検出装置43にて測定したノズル26の傾きのデータを読み込み、制御装置36は、予め定められたノズル26の傾き及び傾きの方向のデータと基板16に塗布されるシール剤の塗布量との関係に基づいて、シール剤の吐出条件を変更する。即ち、制御装置36は、吐出装置25の電空レギュレータ32を制御してシリンジ27内のシール剤を加圧する気体の圧力(吐出圧力)を変更したり、Xテーブル22、Yテーブル12の駆動手段を制御したりしてXテーブル22、Yテーブル12の移動速度(塗布速度)を変更する。   In order to make the coating amount constant even if the moving direction of the nozzle 26 changes, the paste coating apparatus 10 changes the discharge condition of the sealing agent based on the inclination of the nozzle 26 detected by the detection device 43 described above. 36. That is, the program in the control device 36 reads the tilt data of the nozzles 26 measured by the detection device 43, and the control device 36 applies the data on the predetermined tilt and tilt directions of the nozzles 26 to the substrate 16. The discharge condition of the sealing agent is changed based on the relationship with the applied amount of the sealing agent. That is, the control device 36 controls the electropneumatic regulator 32 of the discharge device 25 to change the gas pressure (discharge pressure) for pressurizing the sealing agent in the syringe 27 or to drive the X table 22 and the Y table 12. Or the movement speed (application speed) of the X table 22 and the Y table 12 is changed.

例えば、ノズルの傾き及び傾きの方向のデータと基板16に塗布されるシール剤の塗布量との関係は、次のようにして得ることができる。   For example, the relationship between nozzle tilt and tilt direction data and the amount of sealant applied to the substrate 16 can be obtained as follows.

即ち、ノズルの傾き角度、ノズルの移動方向に対するノズルの傾きの方向、及び、塗布速度を一定とした条件で、吐出圧力と塗布量との関係を調べる。この関係を、ノズルの傾き角度、或いはノズルの傾きの方向の条件を順次変更し、条件毎に取得する。このようにすることにより、種々のノズルの傾き及びノズルの傾きの方向に対する吐出圧力とシール剤の塗布量との関係を知ることができる。   That is, the relationship between the discharge pressure and the coating amount is examined under the condition that the nozzle tilt angle, the nozzle tilt direction with respect to the nozzle moving direction, and the coating speed are constant. This relationship is acquired for each condition by sequentially changing the nozzle tilt angle or the condition of the nozzle tilt direction. By doing so, it is possible to know the relationship between the discharge pressure and the coating amount of the sealant with respect to various nozzle inclinations and nozzle inclination directions.

第1実施例によれば以下の作用効果を奏する。
(a)ペースト塗布装置10の検出装置43がノズル26の傾きを検出するので、ノズル26の傾きに起因する塗布不良を未然に防止することができ、塗布品質を向上させることができる。
According to 1st Example, there exist the following effects.
(a) Since the detection device 43 of the paste application device 10 detects the inclination of the nozzle 26, application failure due to the inclination of the nozzle 26 can be prevented in advance, and the application quality can be improved.

(b)ノズル26の傾きを検出し、検出したノズル26の傾きに基づいてシール剤の塗布の実行可否を判別するので、ノズル26が傾いているとき、例えば、許容値以上傾いているときには塗布を行なわないようにして、ノズル26の傾きに起因する塗布不良を未然に防止することができる。その結果、塗布品質を向上させることができる。   (b) Since the inclination of the nozzle 26 is detected and whether or not the sealant can be applied is determined based on the detected inclination of the nozzle 26, the application is performed when the nozzle 26 is inclined, for example, when it is inclined more than an allowable value. Thus, application failure due to the inclination of the nozzle 26 can be prevented in advance. As a result, the coating quality can be improved.

(c)ノズル26の傾き及び傾きの方向を検出し、検出されたノズル26の傾きと傾きの方向に基づいてシール剤の吐出条件を変更するので、例えば、基板16上に矩形枠状のパターン33を塗布描画する場合、ノズル26と基板16との相対移動方向に対してノズル26が傾いている方向及び角度と基板16に塗布されるシール剤の塗布量との関係を調べておいて、ノズル26と基板16との相対移動方向毎に、即ちX軸方向とY軸方向の別及びそれぞれの方向における往動方向と復動方向の別にノズル26からのシール剤の吐出圧力や塗布速度等のシール剤の吐出条件を変えることで、塗布パターン33全体での塗布量を均一にすることができる。その結果、塗布品質を向上させることができる。   (c) Since the inclination of the nozzle 26 and the direction of the inclination are detected, and the discharge condition of the sealant is changed based on the detected inclination and the direction of inclination of the nozzle 26, for example, a rectangular frame-like pattern on the substrate 16 When coating and drawing 33, the relationship between the direction and angle in which the nozzle 26 is inclined with respect to the relative movement direction of the nozzle 26 and the substrate 16 and the coating amount of the sealant applied to the substrate 16 is checked. For each relative movement direction of the nozzle 26 and the substrate 16, that is, in the X-axis direction and the Y-axis direction, and in each of the forward movement direction and the backward movement direction, the discharge pressure and application speed of the sealing agent from the nozzle 26, etc. By changing the discharge condition of the sealing agent, the coating amount in the entire coating pattern 33 can be made uniform. As a result, the coating quality can be improved.

(d)検出装置43は、ノズル26の軸線方向においてノズル26の先端に対向する方向から撮像した画像に基づいて、ノズル26の傾きを検出する。即ち、予め設定された測定位置でノズル26先端を撮像するのみの簡単な操作で、ノズル26の傾きを検出することができる。その結果、効率的にノズル26の検査を行なうことができる。   (d) The detection device 43 detects the inclination of the nozzle 26 based on an image captured from the direction facing the tip of the nozzle 26 in the axial direction of the nozzle 26. That is, it is possible to detect the inclination of the nozzle 26 by a simple operation by simply imaging the tip of the nozzle 26 at a preset measurement position. As a result, the nozzle 26 can be inspected efficiently.

また、撮像した画像に基づいてノズル26の傾きを検出するので、作業者の主観が介在することがなく安定した検出精度を得ることができる。   In addition, since the inclination of the nozzle 26 is detected based on the captured image, stable detection accuracy can be obtained without involving the subjectivity of the operator.

また、ステージ15の前部に上部を開口する測定穴44を設け、この測定穴44内にCCDカメラ45からなる撮像装置を収納した、即ち、撮像装置は基板16を載置するテーブルの上面より下に収納されるので、検出装置43がノズル26やステージ15の移動の妨げとなることを防止できる。また、ノズル26が検出装置43に衝突するようなことを防止することができ、ノズル26の損傷による損害を未然に防止できる。   Further, a measurement hole 44 having an upper opening is provided in the front portion of the stage 15, and an image pickup device including a CCD camera 45 is accommodated in the measurement hole 44. That is, the image pickup device is located on the upper surface of the table on which the substrate 16 is placed. Since it is stored below, it can prevent that the detection apparatus 43 obstructs the movement of the nozzle 26 or the stage 15. Further, it is possible to prevent the nozzle 26 from colliding with the detection device 43, and it is possible to prevent damage due to damage to the nozzle 26.

(第2実施例)
第2実施例は、図5に示すように、ステージ15内に収納したCCDカメラ45にてノズル26の側面の画像を撮像することができるようにしたものである。検出装置55は、ステージ15の前部のコーナ部に上部を開口するZ軸方向の孔50Aと、この孔50Aと交差するX軸方向(Y軸方向でも良い)の孔50Bからなる測定穴50を有し、X軸方向の孔50BにCCDカメラ45を収納する。検出装置55は、更に、Z軸方向の孔50Aの上方にノズル26の側面に対向してシリンジ27側の取付部材51に取付けた反射板52と、Z軸方向の孔50Aの底部に設けた反射板53を有し、取付部材51の反射板52と反対側の位置に背景板54を有する。
(Second embodiment)
In the second embodiment, as shown in FIG. 5, an image of the side surface of the nozzle 26 can be taken by the CCD camera 45 housed in the stage 15. The detection device 55 includes a measurement hole 50 including a Z-axis direction hole 50A that opens at the upper corner portion of the stage 15 and an X-axis direction (Y-axis direction) hole 50B that intersects the hole 50A. The CCD camera 45 is accommodated in the hole 50B in the X-axis direction. The detection device 55 is further provided above the Z-axis direction hole 50A, on the bottom of the Z-axis direction hole 50A, and the reflector 52 attached to the attachment member 51 on the syringe 27 side facing the side surface of the nozzle 26. A reflection plate 53 is provided, and a background plate 54 is provided at a position opposite to the reflection plate 52 of the mounting member 51.

尚、ノズル26は、その中心を通る鉛直軸を中心として、取付部材51に対して独立して回動可能に設けられている。また、取付部材51は、不図示のエアシリンダ等の駆動手段によりノズル26に対して昇降可能に設けられている。これにより、取付部材51は、図5に示したノズル26の撮像位置と、この位置よりも上方に設定されたノズル26による塗布動作を妨げることのない退避位置とに位置付けることが可能とされる。   The nozzle 26 is provided so as to be independently rotatable with respect to the mounting member 51 about a vertical axis passing through the center thereof. The attachment member 51 is provided so as to be movable up and down with respect to the nozzle 26 by driving means such as an air cylinder (not shown). Thereby, the attachment member 51 can be positioned at the imaging position of the nozzle 26 shown in FIG. 5 and the retracted position that does not hinder the application operation by the nozzle 26 set above this position. .

ノズル26の傾きの検出は予め設定された測定位置で行なわれる。CCDカメラ45は、ノズル26が基準位置にあるときにおけるノズル26の中心線Cが、図6に示すように、CCDカメラ45の処理画像57の中心線Zに位置するようにステージ15の孔50B内に取付けられる。尚、この実施例において、CCDカメラ45の撮像視野のZ軸方向(上下方向)の中心線と処理画像57の中心線Zとは一致しているものとする。 The detection of the inclination of the nozzle 26 is performed at a preset measurement position. The CCD camera 45 has a hole in the stage 15 so that the center line C 0 of the nozzle 26 when the nozzle 26 is at the reference position is positioned at the center line Z of the processed image 57 of the CCD camera 45 as shown in FIG. Mounted in 50B. In this embodiment, it is assumed that the center line in the Z-axis direction (vertical direction) of the imaging field of view of the CCD camera 45 coincides with the center line Z of the processed image 57.

CCDカメラ45は照明装置48を有し、照明装置48の光が反射板53と反射板52で反射されノズル26の側面を照射し、CCDカメラ45は照射されたノズル26の側面の画像を撮像する。
背景板54はノズル26の輪郭画像を鮮明に撮像するために使用することができる。
The CCD camera 45 has an illuminating device 48. The light from the illuminating device 48 is reflected by the reflecting plate 53 and the reflecting plate 52 and irradiates the side surface of the nozzle 26. The CCD camera 45 takes an image of the irradiated side surface of the nozzle 26. To do.
The background plate 54 can be used to clearly capture the contour image of the nozzle 26.

次に、上記構成の検出装置55によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。   Next, an operation of detecting the inclination of the nozzle 26 by the detection device 55 having the above configuration will be described.

ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ水平方向に移動させ、更にZテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下降させて、ノズル26をステージ15の前部のコーナ部に設けられた測定穴50の上方の予め設定された測定位置に位置決めする。   The control device 36 of the paste applying apparatus 10 moves the X table 22 and the Y table 12 in the horizontal direction by a preset distance from the origin position, and further lowers the Z table 23 by a preset distance from the origin position. The nozzle 26 is positioned at a predetermined measurement position above the measurement hole 50 provided in the front corner portion of the stage 15.

CCDカメラ45にてノズル26のX軸方向の側面の画像を撮像し、撮像したX軸方向の側面の画像を画像処理装置にて画像処理して、図6に示すように、X軸方向の側面の処理画像57を得る。得られた処理画像57におけるノズル26の処理画像P1先端の中心O1とノズル26が基準位置にあるときにおける処理画像57の中心線ZとのX軸方向のずれ量ΔXを画像処理装置にて求める。   An image of the side surface in the X-axis direction of the nozzle 26 is captured by the CCD camera 45, and the captured image of the side surface in the X-axis direction is image-processed by an image processing device, as shown in FIG. A side processed image 57 is obtained. In the obtained processed image 57, the image processing device obtains the amount of deviation ΔX in the X-axis direction between the center O1 of the tip of the processed image P1 of the nozzle 26 and the center line Z of the processed image 57 when the nozzle 26 is at the reference position. .

次いで、ノズル26を90度回転させ、Y軸方向の側面の画像を撮像し、X軸方向の場合と同様に、得られた処理画像におけるノズル26の処理画像の先端の中心とノズル26が基準位置にあるときにおける処理画像57の中心線ZとのY軸方向のずれ量ΔYを画像処理装置にて求める。   Next, the nozzle 26 is rotated 90 degrees, and an image of the side surface in the Y-axis direction is taken. As in the case of the X-axis direction, the center of the tip of the processed image of the nozzle 26 in the obtained processed image and the nozzle 26 are the reference. A deviation amount ΔY in the Y-axis direction with respect to the center line Z of the processed image 57 at the position is obtained by the image processing apparatus.

次いでX軸方向のずれ量ΔXとY軸方向のずれ量ΔYから、図7に示すように、L1=ΔX+ΔYの関係に基づき、ノズル26が基準位置にあるときのノズル26の中心Oからのずれ量L1を算出する。次いで、実施例1の場合と同様に、ずれ量L1とノズルの長さ(既知の値)からノズルの傾きθを求める。
以上のようにして、ノズル26の傾きの角度θと方向を求めることができる。
Next, as shown in FIG. 7, based on the relationship of L1 2 = ΔX 2 + ΔY 2 from the deviation amount ΔX in the X-axis direction and the deviation amount ΔY in the Y-axis direction, the center of the nozzle 26 when the nozzle 26 is at the reference position A deviation amount L1 from O is calculated. Next, as in the case of the first embodiment, the nozzle inclination θ is obtained from the shift amount L1 and the nozzle length (known value).
As described above, the inclination angle θ and the direction of the nozzle 26 can be obtained.

第2実施例によれば、第1実施例の作用効果(a)〜(d)と同様の作用効果を奏する。
尚、この第2実施例において、次のようにして、ノズル26の中心Oからのずれ量L1を求めるようにしても良い。
According to 2nd Example, there exists an effect similar to the effect (a)-(d) of 1st Example.
In the second embodiment, the deviation L1 from the center O of the nozzle 26 may be obtained as follows.

即ち、図5に示す状態から、ノズル26を、その中心を通る鉛直軸を中心に1回転させる。そして、この1回転中、所定の角度毎、例えば、10度毎にノズル26の画像を撮像する。撮像した画像毎にノズル26の中心Oからのずれ量を求める。求めたずれ量のうち、最大のずれ量をノズル26の中心Oからのずれ量L1とする。   That is, from the state shown in FIG. 5, the nozzle 26 is rotated once about a vertical axis passing through the center thereof. Then, during this one rotation, an image of the nozzle 26 is taken every predetermined angle, for example, every 10 degrees. A deviation amount from the center O of the nozzle 26 is obtained for each captured image. Among the obtained deviation amounts, the largest deviation amount is defined as a deviation amount L1 from the center O of the nozzle 26.

(第3実施例)
第3実施例の検出装置60は、図8、図9に示すように、ステージ15の前部中央に上部を開口して形成された断面円形の測定穴61を有し、測定穴61の外周に同一の水平面内で直交するX軸方向とY軸方向のそれぞれに一対ずつ設けたレーザ式の測長器62、63からなる2次元センサを有する。一対の測長器62、63は投光器62A、63Aと受光器62B、63Bからなり、投光器62A、63Aからレーザ光が平行光として送り出され、平行光は受光器62B、63Bに内蔵されているイメージセンサによって受光される。ノズル26が平行光を遮るとノズル26の大きさに比例した影が生ずるので、この影の大きさや位置を受光器62B、63Bの不図示のイメージセンサが走査、演算してノズル26の直径、位置として測定する。
(Third embodiment)
As shown in FIGS. 8 and 9, the detection device 60 of the third embodiment has a measurement hole 61 having a circular cross section formed in the center of the front portion of the stage 15 with an opening at the top, and the outer periphery of the measurement hole 61. Are provided with a two-dimensional sensor composed of laser-type length measuring devices 62 and 63 provided in pairs in the X-axis direction and Y-axis direction orthogonal to each other in the same horizontal plane. The pair of length measuring devices 62 and 63 includes projectors 62A and 63A and light receivers 62B and 63B. Laser light is sent out from the projectors 62A and 63A as parallel light, and the parallel light is incorporated in the light receivers 62B and 63B. Light is received by the sensor. When the nozzle 26 blocks parallel light, a shadow proportional to the size of the nozzle 26 is generated. The size and position of this shadow are scanned and calculated by the image sensors (not shown) of the light receivers 62B and 63B to calculate the diameter of the nozzle 26, Measure as position.

次に、上記構成の検出装置60によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。   Next, an operation of detecting the inclination of the nozzle 26 by the detection device 60 having the above configuration will be described.

ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ水平方向に移動させ、更にZテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下降させて測定穴61内にノズル26を挿入し、ステージ15の測定穴61内の予め設定された測定位置に位置決めする。   The control device 36 of the paste applying apparatus 10 moves the X table 22 and the Y table 12 in the horizontal direction by a preset distance from the origin position, and further lowers the Z table 23 by a preset distance from the origin position. The nozzle 26 is inserted into the measurement hole 61 and positioned at a predetermined measurement position in the measurement hole 61 of the stage 15.

検出装置60は、X軸方向とY軸方向に配置された測長器62、63により、それぞれX軸方向とY軸方向からノズル26の直径とその位置を測定した後、ノズル26をZ軸方向に順次等間隔で下降させ、ノズル26が基準位置にあるときのノズル26の中心軸Zに沿う方向の複数個所Z1、Z2・・・Z6でX軸方向とY軸方向からノズル26の直径とその位置を検出する。   The detector 60 measures the diameter and position of the nozzle 26 from the X-axis direction and the Y-axis direction by length measuring devices 62 and 63 arranged in the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively. The diameter of the nozzle 26 from the X-axis direction and the Y-axis direction at a plurality of locations Z1, Z2,... Z6 in the direction along the central axis Z of the nozzle 26 when the nozzle 26 is at the reference position. And its position is detected.

図10は、X軸方向から検出したノズル26の直径とその位置とY軸方向から検出したノズル26の直径とその位置から作成した合成画像64で、横軸にX−Y軸方向(水平方向)の位置を示し、縦軸にZ軸方向の位置を示す。ノズル26が基準位置にあるときには、ノズル26の中心線は、図10に示すZ軸に一致する。   FIG. 10 is a composite image 64 created from the diameter and position of the nozzle 26 detected from the X-axis direction and the diameter and position of the nozzle 26 detected from the Y-axis direction. The horizontal axis represents the X-Y axis direction (horizontal direction). ), And the vertical axis indicates the position in the Z-axis direction. When the nozzle 26 is at the reference position, the center line of the nozzle 26 coincides with the Z axis shown in FIG.

複数個所Z1、Z2・・・Z6におけるノズル26の各直径D1x・D1y、D2x・D2y・・・D6x・D6yの中心O1、O2・・・O6を結ぶことにより、ノズル26の中心線C1を得ることができ、各直径D1x・D1y、D2x・D2y・・・D6x・D6yを結ぶことにより、ノズル26の外形線を得ることができる。図10中の各楕円は、ノズル26の各直径D1x・D1y、D2x・D2y・・・D6x・D6yに基づいてノズル26のX−Y軸方向(水平方向)の断面を模式的に表したものである。 By connecting the centers O1, O2,... O6 of the diameters D1 x , D1 y , D2 x , D2 y, D6 x , D6 y of the nozzle 26 at a plurality of locations Z1, Z2,. The center line C1 of the nozzle 26 can be obtained by connecting the diameters D1 x · D1 y , D2 x · D2 y ... D6 x · D6 y . Each ellipse in FIG. 10 represents a cross section in the XY axis direction (horizontal direction) of the nozzle 26 based on the diameters D1 x · D1 y , D2 x · D2 y ... D6 x · D6 y of the nozzle 26. This is a schematic representation.

このようにして求めたノズル26の中心線C1より、ノズル26の基準位置に対する傾きの角度とその方向を求める。   From the center line C1 of the nozzle 26 thus obtained, the angle of inclination and the direction of the nozzle 26 with respect to the reference position are obtained.

第3実施例によれば、第1実施例の(a)〜(c)の作用効果と同様の作用効果を奏するとともに、更に、以下の作用効果を奏する。   According to the third embodiment, the same operational effects as the effects (a) to (c) of the first embodiment are exhibited, and the following operational effects are further exhibited.

ノズル26をZ軸方向に移動させてノズル26のZ軸方向の複数個所のデータからノズル26の傾きを検査するので、傾き以外にノズル26の曲がりも検出できる。例えば、ノズル26が「C」の字状や「く」の字状に曲がっている場合等である。このように、ノズル26の曲がりが検出された場合には、その旨をディスプレイ38に表示する等して作業者に報知する。これにより、作業者は、このノズル26により良好な塗布が行なえるか否かを判断することができるので、不適切なノズル26が使用されることによる塗布不良を未然に防ぐことができ、塗布品質を向上させることができる。   Since the nozzle 26 is moved in the Z-axis direction and the inclination of the nozzle 26 is inspected from data at a plurality of locations in the Z-axis direction of the nozzle 26, the bending of the nozzle 26 can be detected in addition to the inclination. For example, this is the case where the nozzle 26 is bent in a “C” shape or a “<” shape. Thus, when the bending of the nozzle 26 is detected, the fact is displayed on the display 38 to notify the operator. Thus, the operator can determine whether or not the nozzle 26 can perform good application, and therefore, it is possible to prevent application failure due to use of an inappropriate nozzle 26 in advance. Quality can be improved.

尚、ノズル26に曲がりが生じている場合には、曲がりのない正常なノズル26と同じ吐出条件を与えても、必要な塗布量が得られないことが考えられる。そこで、ノズル26の曲がりが検出されたときには、制御装置36により塗布を行なわないように処理するようにしても良い。   When the nozzle 26 is bent, it is conceivable that the required application amount cannot be obtained even when the same discharge conditions as those of the normal nozzle 26 without the bending are given. Therefore, when the bending of the nozzle 26 is detected, the control device 36 may perform processing so as not to apply.

また、検出装置60は、予め設定された測定位置でノズル26先端を検出するのみの簡単な操作で、ノズル26の傾きを検出することができる。その結果、効率的にノズル26の検査を行なうことができる。   The detection device 60 can detect the inclination of the nozzle 26 by a simple operation that only detects the tip of the nozzle 26 at a preset measurement position. As a result, the nozzle 26 can be inspected efficiently.

また、測長器62,63の測定値に基づいてノズル26の傾きを検出するので、作業者の主観が介在することなく安定した検出精度を得ることができる。   Moreover, since the inclination of the nozzle 26 is detected based on the measured values of the length measuring devices 62 and 63, stable detection accuracy can be obtained without intervention of the operator's subjectivity.

また、ステージ15の前部に上部を開口する測定穴61を設け、この測定穴61内に測長器62、63を配置したので、検出装置60がノズル26やステージ15の移動の妨げとなることを防止できる。また、ノズル26が検出装置60に衝突するようなことを防止することができ、ノズル26の損傷による損害を未然に防止できる。   Further, since the measurement hole 61 having an upper opening is provided in the front portion of the stage 15 and the length measuring devices 62 and 63 are disposed in the measurement hole 61, the detection device 60 obstructs the movement of the nozzle 26 and the stage 15. Can be prevented. Further, it is possible to prevent the nozzle 26 from colliding with the detection device 60, and it is possible to prevent damage due to damage to the nozzle 26.

(第4実施例)
第4実施例の検出装置70は、図11〜図14に示すように、ステージ15の前部中央に上部を開口して形成された断面正四角形の測定穴71を有し、測定穴71のX軸方向に沿う一辺とY軸方向に沿う一辺の各中央部に円筒状の渦電流センサ72、73からなる近接センサを有する。図13、図14に示すように、渦電流センサ72、73の各中心軸の延長上のX軸とY軸は同一の水平面内で直交(交点O)し、各センサ72、73は交点Oから等距離に位置する。
(Fourth embodiment)
As shown in FIGS. 11 to 14, the detection device 70 of the fourth embodiment has a measurement hole 71 having a regular square cross section formed by opening the upper part in the center of the front portion of the stage 15. Proximity sensors including cylindrical eddy current sensors 72 and 73 are provided at the central portions of one side along the X-axis direction and one side along the Y-axis direction. As shown in FIGS. 13 and 14, the X-axis and Y-axis on the extension of each central axis of the eddy current sensors 72 and 73 are orthogonal (intersection O) in the same horizontal plane, and the sensors 72 and 73 are at the intersection O. Located equidistant from

次に、上記構成の検出装置70によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。   Next, an operation of detecting the inclination of the nozzle 26 by the detection device 70 having the above configuration will be described.

Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ移動させて、測定穴71の上方にノズル26を移動させ、更に、Zテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下方に移動させて、ノズル26の先端部を測定穴71内の測定位置に位置決めする。   The X table 22 and the Y table 12 are moved from the origin position by a preset distance, the nozzle 26 is moved above the measurement hole 71, and the Z table 23 is further lowered from the origin position by a preset distance. The tip end of the nozzle 26 is positioned at the measurement position in the measurement hole 71 by being moved.

ノズル26の傾きの検出は、ノズル26の先端部の側面が各センサ72、73に対向するZ軸方向の位置で行なわれ、ノズル26が基準位置にあるときには、図14に2点鎖線で示すように、ノズル26の中心線Cは、測定穴内のX軸とY軸が交わる交点O上に位置する。この交点Oを中心にしてX軸方向の左右とY軸方向の左右にそれぞれノズル26を移動させることにより、X軸方向とY軸方向のそれぞれについて渦電流センサ72、73からノズル26までの最短距離L2、L3を検出して、X軸方向とY軸方向のノズル26の傾きを検出する。 The detection of the inclination of the nozzle 26 is performed at a position in the Z-axis direction where the side surface of the tip of the nozzle 26 faces the sensors 72 and 73. When the nozzle 26 is at the reference position, it is indicated by a two-dot chain line in FIG. As described above, the center line C 0 of the nozzle 26 is located on the intersection point O where the X axis and the Y axis in the measurement hole intersect. By moving the nozzle 26 left and right in the X-axis direction and left and right in the Y-axis direction around the intersection point O, the shortest distance from the eddy current sensors 72 and 73 to the nozzle 26 in the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively. The distances L2 and L3 are detected, and the inclination of the nozzle 26 in the X-axis direction and the Y-axis direction is detected.

図13、図14の2点鎖線はノズル26が傾いていない基準位置にあるときの測定穴71内におけるノズル26の位置を示す。   The two-dot chain line in FIGS. 13 and 14 indicates the position of the nozzle 26 in the measurement hole 71 when the nozzle 26 is at a reference position that is not inclined.

ノズル26が傾いていると、図14に実線で示すように、ノズル26が基準位置にあるときの基準値(最短距離)Lと比較して検出値(最短距離)L2、L3にそれぞれのずれΔY、ΔXが生じる。基準値Lと検出値L2、L3とのそれぞれのずれΔY、ΔXを計算することで、ノズル26の傾きの角度とその方向を求めることができる。 When the nozzle 26 is tilted, as shown by the solid line in FIG. 14, the reference value when the nozzle 26 is in the reference position (the shortest distance) L 0 and the detected values compared (shortest distance) L2, L3 to the respective Deviations ΔY and ΔX occur. By calculating the respective deviations ΔY and ΔX between the reference value L 0 and the detection values L 2 and L 3, the inclination angle and direction of the nozzle 26 can be obtained.

例えば、第2実施例において図7を用いて説明した方法と同様にしてノズル26の中心からのずれ量L1とその方向を求め、第1実施例にて説明した式sinθ=L1/Lnを用いてノズル26の傾きを求める。但し、この実施例では、Lnはノズル26の基部から渦電流センサ72、73による測定位置までの距離Ln′とする。   For example, the amount L1 of deviation from the center of the nozzle 26 and its direction are obtained in the same manner as the method described with reference to FIG. 7 in the second embodiment, and the equation sin θ = L1 / Ln described in the first embodiment is used. Thus, the inclination of the nozzle 26 is obtained. However, in this embodiment, Ln is the distance Ln ′ from the base of the nozzle 26 to the measurement position by the eddy current sensors 72 and 73.

尚、図12に示すように、測定穴71の底部にZ軸方向のずれを検出する近接センサ74を設けることもできる。この場合には、渦電流型のセンサ74を使用して、近接センサ74からノズル26の先端面との最短距離を検出する。Z軸方向の近接センサ74を設けることによりノズル26の傾きをより正確に測定することができる。   As shown in FIG. 12, a proximity sensor 74 that detects a shift in the Z-axis direction can be provided at the bottom of the measurement hole 71. In this case, an eddy current sensor 74 is used to detect the shortest distance from the proximity sensor 74 to the tip surface of the nozzle 26. By providing the proximity sensor 74 in the Z-axis direction, the inclination of the nozzle 26 can be measured more accurately.

即ち、近接センサ74を用いてノズル26の先端のZ軸方向における位置を測定し、Z軸方向における基準位置に対するノズル26先端の位置の位置ずれΔZを求める。そして、sinθ=L1/Ln′を、Z軸方向の位置ずれΔZを加味したsinθ=L1/(Ln′−ΔZ)とする。つまり、ノズル26がZ軸方向に位置ずれした分ΔZだけ、ノズル26の基部から渦電流センサ72、73による測定位置までの距離Ln′が増減するので、この増減分ΔZを距離Ln′に加える。これにより、ノズル26の傾きの角度を、増減分(ΔZ)を加えないで求める場合よりも正確に求めることができる。   That is, the position of the tip of the nozzle 26 in the Z-axis direction is measured using the proximity sensor 74, and the positional deviation ΔZ of the position of the tip of the nozzle 26 with respect to the reference position in the Z-axis direction is obtained. Then, sin θ = L1 / Ln ′ is set to sin θ = L1 / (Ln′−ΔZ) in consideration of the positional deviation ΔZ in the Z-axis direction. That is, since the distance Ln ′ from the base of the nozzle 26 to the measurement position by the eddy current sensors 72 and 73 increases or decreases by the amount ΔZ that the nozzle 26 is displaced in the Z-axis direction, this increase / decrease ΔZ is added to the distance Ln ′. . As a result, the angle of inclination of the nozzle 26 can be determined more accurately than when the increase / decrease (ΔZ) is not added.

また、上述の近接センサ72、73に代えて、不図示の限定反射型の光学式センサを使用することもできる。限定反射型のセンサを使用した場合には、受光部は正反射光のみ受光するので、ノズル26の基準位置からのずれ量を精度良く測定することができる。   Further, in place of the proximity sensors 72 and 73 described above, a limited reflection type optical sensor (not shown) may be used. When the limited reflection type sensor is used, the light receiving unit receives only the regular reflection light, so that the deviation amount of the nozzle 26 from the reference position can be measured with high accuracy.

第4実施例によれば、第1実施例の(a)〜(c)の作用効果と同様の作用効果を奏するとともに、更に、以下の作用効果を奏する。   According to the fourth embodiment, the same operational effects as the effects (a) to (c) of the first embodiment are exhibited, and the following operational effects are further achieved.

X軸方向とY軸方向の2つの渦電流センサ72、73からなる検出装置70は、画像処理装置等の比較的コストの高い装置を必要としないので、コストアップを招くことがなく、また、比較的簡単にノズル26の傾きを計測できる。   The detection device 70 composed of the two eddy current sensors 72 and 73 in the X-axis direction and the Y-axis direction does not require a relatively expensive device such as an image processing device, so that the cost is not increased. The inclination of the nozzle 26 can be measured relatively easily.

また、検出装置70は、予め設定された測定位置でノズル26先端を検出するのみの簡単な操作で、ノズル26の傾きを検出することができる。その結果、効率的にノズル26の検査を行なうことができる。   In addition, the detection device 70 can detect the inclination of the nozzle 26 by a simple operation that only detects the tip of the nozzle 26 at a preset measurement position. As a result, the nozzle 26 can be inspected efficiently.

また、渦電流センサ72、73の測定値に基づいてノズル26の傾きを検出するので、作業者の主観が介在することなく安定した検出精度を得ることができる。   Moreover, since the inclination of the nozzle 26 is detected based on the measured values of the eddy current sensors 72 and 73, stable detection accuracy can be obtained without intervention of the operator's subjectivity.

また、ステージ15の前部に上部を開口する測定穴61を設け、この測定穴61内に渦電流センサ72、73を配置したので、検出装置70がノズル26やステージ15の移動の妨げとなることを防止できる。また、ノズル26が検出装置70に衝突するようなことを防止でき、ノズル26の損傷による損害を未然に防止できる。   In addition, since the measurement hole 61 having an upper opening is provided in the front portion of the stage 15 and the eddy current sensors 72 and 73 are disposed in the measurement hole 61, the detection device 70 hinders the movement of the nozzle 26 and the stage 15. Can be prevented. Further, it is possible to prevent the nozzle 26 from colliding with the detection device 70, and damage due to damage of the nozzle 26 can be prevented.

以上、本発明の実施例を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。例えば、ノズルの傾きは直線的な傾きのみならず、曲がりも含むことは言うまでもない。   The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration of the present invention is not limited to this embodiment, and even if there is a design change or the like without departing from the gist of the present invention. It is included in the present invention. For example, it goes without saying that the inclination of the nozzle includes not only a linear inclination but also a bend.

また、実施例では、ステージ15の前部の中央又はコーナ部にノズルの傾きを検出する検出装置を設けたが、ステージ15の後部又は側部であっても良い。   Further, in the embodiment, the detection device that detects the inclination of the nozzle is provided at the center of the front portion of the stage 15 or the corner portion, but it may be the rear portion or the side portion of the stage 15.

また、枠状のパターンは矩形に限らず、多角形や円形の枠であっても良い。要するにノズルの移動方向が往動と復動とで変わるものであれば良い。   Further, the frame-shaped pattern is not limited to a rectangle, and may be a polygonal or circular frame. In short, it is sufficient if the moving direction of the nozzle changes between forward movement and backward movement.

また、パターンは、枠状に限らず直線状やL字状、或いはコ字状等でも良く、要するに線状のパターンであれば良い。   Further, the pattern is not limited to the frame shape, and may be a linear shape, an L shape, a U shape, or the like.

また、ノズルの傾きや曲がりが大きくなるとノズルが撮像装置の焦点深度内から外れたり、センサの測定範囲内から外れたりして、検出エラーとなることが考えられる。そこで、検出エラーが生じたときは、ノズルに傾きや曲がりが生じているとして、ディスプレイ上にその旨を表示する等して作業者に報知するようにしても良い。   Further, when the inclination or bending of the nozzle increases, it is conceivable that the nozzle moves out of the depth of focus of the imaging apparatus or out of the measurement range of the sensor, resulting in a detection error. Therefore, when a detection error occurs, it is possible to notify the operator that the nozzle has been tilted or bent and that effect is displayed on the display.

図1はペースト塗布装置を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a paste coating apparatus. 図2は第1実施例における図1のステージの拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of the stage of FIG. 1 in the first embodiment. 図3は第1実施例の検出装置の要部を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing the main part of the detection apparatus of the first embodiment. 図4は図3の検出装置にて撮像したノズルの先端の処理画像を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a processed image of the tip of the nozzle imaged by the detection apparatus of FIG. 図5は第2実施例における検出装置の要部を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing the main part of the detection apparatus in the second embodiment. 図6は図5の検出装置にて撮像したノズルの側面の処理画像を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing a processed image of the side surface of the nozzle imaged by the detection apparatus of FIG. 図7はノズルの傾きを求めるための説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram for obtaining the inclination of the nozzle. 図8は第3実施例におけるステージの拡大図である。FIG. 8 is an enlarged view of the stage in the third embodiment. 図9は第3実施例の検出装置の要部を示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing the main part of the detection apparatus of the third embodiment. 図10は図9の検出装置にて検出したX軸方向とY軸方向のノズルの直径を合成して作成した画像を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing an image created by combining the diameters of the nozzles in the X-axis direction and the Y-axis direction detected by the detection apparatus of FIG. 図11は第4実施例におけるステージの拡大図である。FIG. 11 is an enlarged view of the stage in the fourth embodiment. 図12は第4実施例の検出装置の要部を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing a main part of the detection apparatus of the fourth embodiment. 図13は図11の検出装置にて測定したノズルのX軸方向における断面を示す模式図である。FIG. 13 is a schematic diagram showing a cross section in the X-axis direction of the nozzle measured by the detection apparatus of FIG. 図14は、図12、図13のノズルの中心軸を含む水平面における断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view in a horizontal plane including the central axis of the nozzles of FIGS. 12 and 13. 図15はノズルの傾きと塗布量の関係を示す模式図で、(A)は、ノズルが傾いていない正常な状態、(B)はノズルの傾きと塗布方向が同一の場合、(C)はノズルの傾きと塗布方向が反対の場合の模式図である。15A and 15B are schematic diagrams showing the relationship between the inclination of the nozzle and the application amount. FIG. 15A is a normal state where the nozzle is not inclined, FIG. 15B is the case where the inclination of the nozzle and the application direction are the same, and FIG. It is a schematic diagram in case the inclination of a nozzle and the application direction are opposite.

符号の説明Explanation of symbols

10 ペースト塗布装置
16 基板
26 ノズル
33 パターン
36 制御装置
43、55、60、70 検出装置
45 CCDカメラ(撮像装置)
44、50、61、71 測定穴
62、63、72、73 センサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Paste coating device 16 Substrate 26 Nozzle 33 Pattern 36 Control device 43, 55, 60, 70 Detection device 45 CCD camera (imaging device)
44, 50, 61, 71 Measuring hole 62, 63, 72, 73 Sensor

Claims (11)

ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、
前記ノズルの傾きを検出する検出装置を有することを特徴とするペースト塗布装置。
In a paste application apparatus that discharges a paste from a nozzle to apply and draw a linear pattern on a substrate,
A paste coating apparatus having a detection device for detecting the inclination of the nozzle.
ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、
前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、
該検出装置によって検出した前記ノズルの傾きに基づいて、ペースト塗布の実行可否を判別する制御装置を備えることを特徴とするペースト塗布装置。
In a paste application apparatus that discharges a paste from a nozzle to apply and draw a linear pattern on a substrate,
A detection device for detecting the inclination of the nozzle;
A paste coating apparatus comprising: a control device that determines whether or not paste coating can be performed based on the inclination of the nozzle detected by the detection device.
ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、
前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、
該検出装置によって検出したノズルの傾きに基づいて、ペーストの吐出条件を変更する制御装置を備えることを特徴とするペースト塗布装置。
In a paste application apparatus that discharges a paste from a nozzle to apply and draw a linear pattern on a substrate,
A detection device for detecting the inclination of the nozzle;
A paste coating apparatus comprising: a control device that changes a paste discharge condition based on a nozzle inclination detected by the detection device.
前記検出装置は、前記ノズルの先端を撮像する撮像装置を有し、該撮像装置によるノズル先端の撮像画像に基づいてノズルの傾きを検出する請求項1〜3のいずれかに記載のペースト塗布装置。   The paste application device according to claim 1, wherein the detection device includes an imaging device that images the tip of the nozzle, and detects the inclination of the nozzle based on a captured image of the nozzle tip by the imaging device. . 前記検出装置は、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて、前記ノズルの中心軸に沿う方向の複数個所で前記ノズルの位置を検出するセンサを有し、
それぞれの方向における複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求める請求項1〜3のいずれかに記載のペースト塗布装置。
The detection device has a sensor that detects the position of the nozzle at a plurality of locations in a direction along the central axis of the nozzle for each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane,
The paste coating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein an inclination of the nozzle is obtained based on detection values at a plurality of positions in each direction.
前記検出装置は、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて前記ノズルの位置を検出するセンサを有し、
それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求める請求項1〜3のいずれかに記載のペースト塗布装置。
The detection device includes a sensor that detects the position of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane,
The paste coating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the inclination of the nozzle is obtained by comparing a detected value from each direction with a reference value.
ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペーストの塗布方法において、
前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペースト塗布の実行可否を判別することを特徴とするペーストの塗布方法。
In the paste application method of discharging a paste from a nozzle and applying and drawing a linear pattern on the substrate,
A paste application method comprising: detecting an inclination of the nozzle and determining whether or not the paste application can be performed based on the detected inclination of the nozzle.
ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペーストの塗布方法において、
前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペーストの吐出条件を変更することを特徴とするペーストの塗布方法。
In the paste application method of discharging a paste from a nozzle and applying and drawing a linear pattern on the substrate,
A paste application method comprising: detecting an inclination of the nozzle and changing a paste discharge condition based on the detected inclination of the nozzle.
前記ノズルの先端に対向する方向から撮像した画像に基づいて、前記ノズルの傾きを検出する請求項7又は8に記載のペーストの塗布方法。   The paste application method according to claim 7 or 8, wherein an inclination of the nozzle is detected based on an image taken from a direction facing the tip of the nozzle. 同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて、前記ノズルの中心軸に沿う方向の複数個所で前記ノズルの位置を検出し、
それぞれの方向の複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求める請求項7又は8に記載のペーストの塗布方法。
For each of the two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane, the position of the nozzle is detected at a plurality of locations along the central axis of the nozzle,
The paste application method according to claim 7 or 8, wherein the inclination of the nozzle is obtained based on detection values at a plurality of locations in each direction.
同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて前記ノズルの位置を検出し、
それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求める請求項7又は8に記載のペーストの塗布方法。
Detecting the position of the nozzle in each of two directions orthogonal within the same horizontal plane;
The paste application method according to claim 7 or 8, wherein the inclination of the nozzle is obtained by comparing a detected value from each direction with a reference value.
JP2005333196A 2005-11-17 2005-11-17 Paste coating apparatus and paste coating method. Active JP4832861B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005333196A JP4832861B2 (en) 2005-11-17 2005-11-17 Paste coating apparatus and paste coating method.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005333196A JP4832861B2 (en) 2005-11-17 2005-11-17 Paste coating apparatus and paste coating method.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007136332A true JP2007136332A (en) 2007-06-07
JP4832861B2 JP4832861B2 (en) 2011-12-07

Family

ID=38199825

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005333196A Active JP4832861B2 (en) 2005-11-17 2005-11-17 Paste coating apparatus and paste coating method.

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4832861B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120071487A (en) * 2010-12-23 2012-07-03 주식회사 케이씨텍 System of cleaning slit nozzle used for substrate coater apparatus and cleaning method using same
JP2020054933A (en) * 2018-09-28 2020-04-09 セイコーエプソン株式会社 Control device, robot system and robot

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0445598A (en) * 1990-06-13 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic part mounting method
JPH04286200A (en) * 1991-03-15 1992-10-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Mounting method for electronic part
JPH06246214A (en) * 1993-02-25 1994-09-06 Sony Corp Apparatus and method for feeding liquid
JPH11262714A (en) * 1998-01-06 1999-09-28 Toray Ind Inc Coating method and apparatus for applying coating liquid to uneven substrate and method and apparatus for manufacturing member for plasma display
JPH11277726A (en) * 1998-03-31 1999-10-12 Canon Inc Ink jet recording device
JP2003039000A (en) * 2001-07-27 2003-02-12 Hitachi Industries Co Ltd Paste applicator
JP2003178677A (en) * 2001-12-10 2003-06-27 Tatsumo Kk Phosphor filling device for plasma display panel
JP2003284991A (en) * 2002-03-28 2003-10-07 Taiyo Yuden Co Ltd Coating apparatus
JP2003341031A (en) * 2003-07-02 2003-12-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Inkjet printer
JP2004167432A (en) * 2002-11-21 2004-06-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd Adhesive coater and adhesive coating method
JP2005007393A (en) * 2003-06-20 2005-01-13 Top Engineering Co Ltd Paste applicator, and control method therefor
JP2005043908A (en) * 2004-09-03 2005-02-17 Fujitsu Display Technologies Corp Method for manufacturing liquid crystal display device
JP2005131498A (en) * 2003-10-29 2005-05-26 Seiko Epson Corp Liquid drop applying method, liquid drop applying apparatus, device, and electronic equipment
JP2006326560A (en) * 2005-05-30 2006-12-07 Toyota Motor Corp Surface treatment device, surface treatment method, and surface-treated substrate
JP2007117922A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Seiko Epson Corp Pattern formation method and liquid droplet discharge apparatus

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0445598A (en) * 1990-06-13 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic part mounting method
JPH04286200A (en) * 1991-03-15 1992-10-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Mounting method for electronic part
JPH06246214A (en) * 1993-02-25 1994-09-06 Sony Corp Apparatus and method for feeding liquid
JPH11262714A (en) * 1998-01-06 1999-09-28 Toray Ind Inc Coating method and apparatus for applying coating liquid to uneven substrate and method and apparatus for manufacturing member for plasma display
JPH11277726A (en) * 1998-03-31 1999-10-12 Canon Inc Ink jet recording device
JP2003039000A (en) * 2001-07-27 2003-02-12 Hitachi Industries Co Ltd Paste applicator
JP2003178677A (en) * 2001-12-10 2003-06-27 Tatsumo Kk Phosphor filling device for plasma display panel
JP2003284991A (en) * 2002-03-28 2003-10-07 Taiyo Yuden Co Ltd Coating apparatus
JP2004167432A (en) * 2002-11-21 2004-06-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd Adhesive coater and adhesive coating method
JP2005007393A (en) * 2003-06-20 2005-01-13 Top Engineering Co Ltd Paste applicator, and control method therefor
JP2003341031A (en) * 2003-07-02 2003-12-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Inkjet printer
JP2005131498A (en) * 2003-10-29 2005-05-26 Seiko Epson Corp Liquid drop applying method, liquid drop applying apparatus, device, and electronic equipment
JP2005043908A (en) * 2004-09-03 2005-02-17 Fujitsu Display Technologies Corp Method for manufacturing liquid crystal display device
JP2006326560A (en) * 2005-05-30 2006-12-07 Toyota Motor Corp Surface treatment device, surface treatment method, and surface-treated substrate
JP2007117922A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Seiko Epson Corp Pattern formation method and liquid droplet discharge apparatus

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120071487A (en) * 2010-12-23 2012-07-03 주식회사 케이씨텍 System of cleaning slit nozzle used for substrate coater apparatus and cleaning method using same
KR101713098B1 (en) 2010-12-23 2017-03-07 주식회사 케이씨텍 System of cleaning slit nozzle used for substrate coater apparatus and cleaning method using same
JP2020054933A (en) * 2018-09-28 2020-04-09 セイコーエプソン株式会社 Control device, robot system and robot
JP7259247B2 (en) 2018-09-28 2023-04-18 セイコーエプソン株式会社 Controllers, robot systems, and robots

Also Published As

Publication number Publication date
JP4832861B2 (en) 2011-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6103800B2 (en) Component mounter
JP2011512539A (en) Vision inspection system and inspection method for inspection object using the same
JPH1133458A (en) Liquid body coating device
JP2007107945A (en) Inspection device of substrate
US6340109B2 (en) Solder bump measuring method and apparatus
JP5826472B2 (en) Paste coating apparatus and paste coating method
JP4841459B2 (en) Paste pattern inspection method
JP2018004378A (en) Automated imaging device
JP2007095881A (en) Alignment device and visual inspection equipment
JP4668023B2 (en) Paste coating apparatus and paste coating method
JP4832861B2 (en) Paste coating apparatus and paste coating method.
JP6144473B2 (en) Substrate working apparatus, substrate working method
JPH11316110A (en) Method for measuring solder bump
JP4866715B2 (en) Paste applicator
JP5171230B2 (en) Alignment mark detection apparatus and method
JP2010016090A (en) Substrate manufacturing apparatus
JP3811028B2 (en) Paste applicator and control method thereof
JP2003294419A (en) Measuring instrument for infinitesimal dimension
CN117169118A (en) Non-contact type in-hole surface appearance detection device and method
JP2008041758A (en) Method and apparatus for inspecting transferred state of flux
JP3501661B2 (en) Inspection method and inspection device for liquid crystal display panel
JP5866094B2 (en) Paste coating apparatus and paste coating method
JP4068821B2 (en) Coating drawing line measuring method and apparatus
JP2006187736A (en) Paste coating machine
KR101364661B1 (en) Apparatus for applying paste and method of applying paste

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100427

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100430

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100625

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110105

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110913

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110921

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4832861

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930

Year of fee payment: 3