JP2007118227A - Reflection reducing near infrared absorbing material and electronic image display device using it - Google Patents
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Description
本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の電子画像表示装置の表示画面上に設けられ、近赤外線吸収機能と減反射機能とを兼ね備えた減反射性近赤外線吸収材及びそれを用いた電子画像表示装置に関するものである。 The present invention relates to a low-reflective near-infrared absorbing material provided on a display screen of an electronic image display device such as a plasma display (PDP) or a liquid crystal display (LCD), and having both a near-infrared absorbing function and a low-reflecting function, and the same The present invention relates to an electronic image display device using the.
近年、電子画像表示装置（電子ディスプレイ）は、テレビジョン用やモニター用として広く普及している。中でもプラズマディスプレイは大画面フラットパネルディスプレイに最適であるとして多くの注目を浴びているが、薄型化や大型化に伴う視認性の向上及びその発光体より漏洩する近赤外線により、リモートコントロール操作型機器で誤動作を引き起こしたり、赤外線データ通信でノイズを生ずるという問題がある。そのため、電子画像表示装置から漏洩する近赤外線を吸収する技術が要求されている。 In recent years, electronic image display devices (electronic displays) are widely used for televisions and monitors. Among them, plasma displays are attracting a lot of attention as being optimal for large-screen flat panel displays. This causes problems such as malfunctions and noise in infrared data communication. Therefore, a technique for absorbing near infrared rays leaking from the electronic image display device is required.
そのような要求を満たすために、近赤外線吸収組成物を透明樹脂基材に塗工してなる近赤外線吸収フィルターが提案されている（例えば、特許文献１を参照）。その近赤外線吸収組成物は、吸水率０．１％以下の汎用ポリスチレン樹脂等とそれ以外の樹脂とを特定の割合で含有するとともに、近赤外線吸収剤と紫外線吸収剤とを含有している。
従来の特許文献１に記載された近赤外線吸収フィルターは、透明樹脂基材上に近赤外線吸収組成物が塗工されて形成されているため近赤外線は吸収されるが、透明樹脂基材の近赤外線吸収組成物が塗工されていない側において外部からの光の反射が見られる。従って、そのような近赤外線吸収フィルターを電子画像表示装置の表示画面上に配置した場合、近赤外線吸収フィルター表面での反射を抑えることができず、表示画面の視認性が悪いという問題があった。 Since the near-infrared absorption filter described in the conventional patent document 1 is formed by coating a near-infrared absorbing composition on a transparent resin base material, it absorbs near-infrared light, but is near the transparent resin base material. Reflection of light from the outside is observed on the side where the infrared absorbing composition is not applied. Therefore, when such a near-infrared absorption filter is disposed on the display screen of the electronic image display device, there is a problem that the reflection on the surface of the near-infrared absorption filter cannot be suppressed and the visibility of the display screen is poor. .
そこで、本発明の目的とするところは、近赤外線領域における透過率を抑え、可視光線領域における透過率を高く維持し、光や湿熱に対する耐久性を保持しつつ、光の反射を抑制して視認性を向上させることができる減反射性近赤外線吸収材及びそれを用いた電子画像表示装置を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to suppress the reflection in the light while suppressing the transmittance in the near infrared region, maintaining the transmittance in the visible light region high, and maintaining the durability against light and wet heat. Another object of the present invention is to provide a near-reflective near-infrared absorbing material capable of improving the properties and an electronic image display device using the same.
上記の目的を達成するために、本発明における第１の発明の減反射性近赤外線吸収材は、透明基材の一方の面には、ポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂と、それら以外の樹脂とを含む混合樹脂及び近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収層が設けられるとともに、他方の面には減反射層が設けられて構成されていることを特徴とするものである。 In order to achieve the above object, the reduced reflection near-infrared absorbing material of the first invention in the present invention has a polystyrene-based resin or a polyolefin-based resin and a resin other than those on one surface of the transparent substrate. And a near-infrared absorption layer containing a near-infrared absorber and a reduced reflection layer on the other surface.
第２の発明の減反射性近赤外線吸収材は、第１の発明において、前記近赤外線吸収剤は、下記に示す化学式（１）で表されるジチオール金属錯体系色素であることを特徴とするものである。 The reduced reflection near-infrared absorbing material of the second invention is characterized in that, in the first invention, the near-infrared absorbing agent is a dithiol metal complex dye represented by the following chemical formula (1). Is.
第３の発明の減反射性近赤外線吸収材は、第１又は第２の発明において、少なくとも透明基材と近赤外線吸収層との間には、光の干渉層が設けられていることを特徴とするものである。
The reduced reflection near-infrared absorbing material of the third invention is characterized in that, in the first or second invention, a light interference layer is provided at least between the transparent substrate and the near-infrared absorbing layer. It is what.
第４の発明の電子画像表示装置は、第１から第３のいずれかの発明の減反射性近赤外線吸収材の近赤外線吸収層側を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせてなることを特徴とするものである。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an electronic image display device in which the near-infrared absorbing layer side of the reduced reflection near-infrared absorbing material of any one of the first to third aspects is arranged directly on the display screen or in front of the display screen. It is characterized by being laminated on a transparent plate.
本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
第１の発明の減反射性近赤外線吸収材においては、透明基材の一方の面には近赤外線吸収層が設けられていることから、近赤外線が吸収され、可視光線は透過される。このため、近赤外線領域における透過率を抑えることができるとともに、可視光線領域における透過率を高く維持することができる。また、近赤外線吸収層が疎水性の高いポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂と、それら以外の樹脂とを含有する混合樹脂で形成されていることから、近赤外線吸収剤や樹脂の劣化が抑えられ、光や湿熱に対する耐久性を保持することができる。さらに、透明基材の他方の面には減反射層が設けられていることから、反射を抑制して視認性を向上させることができる。
According to the present invention, the following effects can be exhibited.
In the reduced reflection near-infrared absorbing material of the first invention, since the near-infrared absorbing layer is provided on one surface of the transparent substrate, the near-infrared is absorbed and visible light is transmitted. For this reason, the transmittance in the near-infrared region can be suppressed, and the transmittance in the visible light region can be kept high. In addition, since the near-infrared absorbing layer is formed of a mixed resin containing a highly hydrophobic polystyrene-based resin or polyolefin-based resin and other resins, deterioration of the near-infrared absorbing agent and the resin is suppressed, Durability against light and wet heat can be maintained. Furthermore, since the reduced reflection layer is provided on the other surface of the transparent substrate, reflection can be suppressed and visibility can be improved.
第２の発明の減反射性近赤外線吸収材においては、近赤外線吸収剤が前記化学式（１）で表されるジチオール金属錯体系色素であることから、第１の発明の効果に加えて、光に対する耐久性を向上させることができる。 In the reduced reflection near-infrared absorbing material of the second invention, since the near-infrared absorbing agent is a dithiol metal complex dye represented by the chemical formula (1), in addition to the effects of the first invention, light The durability with respect to can be improved.
第３の発明の減反射性近赤外線吸収材では、少なくとも透明基材と近赤外線吸収層との間には光の干渉層が設けられていることから、第１又は第２の発明の効果に加え、干渉光に起因する干渉むらを抑制することができる。 In the reduced reflection near-infrared absorbing material of the third invention, since the light interference layer is provided at least between the transparent base material and the near-infrared absorbing layer, the effect of the first or second invention is achieved. In addition, interference unevenness due to interference light can be suppressed.
第４の発明の電子画像表示装置では、第１から第３のいずれかの発明の減反射性近赤外線吸収材の近赤外線吸収層側を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせて構成されている。従って、電子画像表示装置の表示画面について第１から第３のいずれかの発明の効果を発揮させることができ、特にプラズマディスプレイにおいて、リモートコントロール機器等の周辺機器の誤動作を防ぎ、さらにディスプレイ前面の反射を低く抑えることで、鮮明な画像を得ることができる。 In the electronic image display device of the fourth invention, the near-infrared absorbing layer side of the reduced reflection near-infrared absorbing material of any one of the first to third inventions is arranged directly on the display screen or in front of the display screen. It is constructed by pasting on a transparent plate. Therefore, the effect of any one of the first to third inventions can be exerted on the display screen of the electronic image display device. In particular, in the plasma display, the malfunction of peripheral devices such as remote control devices can be prevented, and the front of the display can be prevented. By keeping reflection low, a clear image can be obtained.
以下、本発明の最良の形態と思われる実施形態について詳細に説明する。
図１（ａ）に示すように、本実施形態における減反射性近赤外線吸収材（以下、単に近赤外線吸収材ともいう）１０は、透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収層１２が設けられ、他方の面に減反射層１３が設けられて構成されている。まず透明基材１１について説明すると、透明基材１１は透明性を有しておれば特に限定されないが、反射を抑えるため、屈折率（ｎ）が１．５５〜１．７０の範囲内のものが好ましい。係る透明基材１１としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ｎ＝１．６５）、ポリカーボネート（ＰＣ、ｎ＝１．５９）、ポリアリレート（ＰＡＲ、ｎ＝１．６０）、及びポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ、ｎ＝１．６５）等が好ましい。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性、入手の容易性及びコストの点で好ましい。
Hereinafter, embodiments that are considered to be the best modes of the present invention will be described in detail.
As shown in FIG. 1A, the reduced reflection near-infrared absorbing material (hereinafter also simply referred to as a near-infrared absorbing material) 10 in the present embodiment has a near-infrared absorbing
また、透明基材１１の厚さは、好ましくは２５〜４００μｍ、さらに好ましくは５０〜２００μｍである。この厚さが２５μｍ未満又は４００μｍを越える場合には、近赤外線吸収材１０の製造時及び使用時における取扱い性が低下するため好ましくない。さらに、透明基材１１には、近赤外線吸収層１２に含まれる近赤外線吸収剤（色素）が紫外線によって劣化しないように保護するために、紫外線吸収剤を含むことが望ましい。紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤でよく、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物等が好ましく、これらのうちベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物又は環状イミノエステル系化合物が特に好ましい。
Moreover, the thickness of the
紫外線吸収剤の含有量は、光の波長３８０ｎｍ以下の光（紫外線）の光線透過率（本明細書では単に透過率ともいう）が５％以下になるように添加するのがよく、３％以下になるように添加するのがより好ましく、１％以下になるように添加するのが特に好ましい。光の波長３８０ｎｍ以下の透過率が５％を越える場合、近赤外線吸収剤を十分に保護することができないため好ましくない。 The content of the ultraviolet absorber is preferably added so that the light transmittance of light (ultraviolet rays) having a light wavelength of 380 nm or less (also simply referred to as transmittance in this specification) is 5% or less. It is more preferable to add so that it becomes, and it is especially preferable to add so that it may become 1% or less. When the transmittance of light having a wavelength of 380 nm or less exceeds 5%, it is not preferable because the near-infrared absorber cannot be sufficiently protected.
次に、透明基材１１の一方の面に設けられる近赤外線吸収層１２について説明する。この近赤外線吸収層１２は、疎水性のポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂と、それら以外の樹脂とを含有する混合樹脂及び近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収組成物により形成されている。ポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂の含有量は、混合樹脂中に０．５〜４０質量％であることが好ましい。その場合、過酷な光や湿熱状況下でも近赤外線吸収能が低下せず、密着性も低下しない。ポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂の含有量が０．５質量％より少ないと、近赤外線吸収層１２の光や湿熱に対する耐久性が低下し、４０質量％より多いと透明基材１１に対する近赤外線吸収層１２の密着性が低下する。
Next, the near-
ポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂はそれぞれ単独で又は２種類以上混合して使用することができる。ポリスチレン系樹脂としては、汎用ポリスチレン樹脂等が好適に用いられる。ポリオレフィン系樹脂としては、例えばポリ−４−メチルペンテン−１（三井化学（株）製の商品名ＴＰＸ）、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）製の商品名ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ））、（三井化学（株）製の商品名ＡＰＯ）等が挙げられる。これらのうち、汎用ポリスチレン樹脂が容易に入手できるので好適に用いられる。 Polystyrene resins or polyolefin resins can be used alone or in admixture of two or more. A general-purpose polystyrene resin or the like is preferably used as the polystyrene resin. Examples of the polyolefin resin include poly-4-methylpentene-1 (trade name TPX manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), cycloolefin resin (trade name ZEONEX manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), (Mitsui Chemical brand name APO) and the like. Of these, general-purpose polystyrene resins are readily available because they are readily available.
上記両樹脂以外の樹脂としては、従来から用いられている樹脂、例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等が用いられ、これらは単独で又は２種以上を混合して使用することができる。これらの樹脂のうち、アクリル樹脂は光学的性質や加工性が良好である点から好適である。これらの樹脂は、前記樹脂と混合して加熱する溶融混合や溶剤による溶解混合で混合することができるが、作業性等から溶剤による混合が好ましい。 As the resins other than the above two resins, conventionally used resins such as acrylic resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyurethane resins, etc. are used, and these are used alone or in combination of two or more. can do. Of these resins, acrylic resins are preferred because of their good optical properties and processability. These resins can be mixed by melt mixing with a resin and heating, or by melt mixing with a solvent, but mixing with a solvent is preferable from the viewpoint of workability and the like.
次に、近赤外線吸収剤としては、有機系又は無機系の近赤外線吸収剤を適宜選択して用いることができる。有機系近赤外線吸収剤としては、ジイモニウム系色素、フタロシアニン系色素、ジチオール金属錯体系色素、置換ベンゼンジチオール金属錯体系色素、シアニン系色素、スクアリウム系色素等が挙げられる。具体的には、ジイモニウム系色素としては、例えば、日本カーリット（株）製のＣＩＲ−１０８０、ＣＩＲ−１０８１、ＣＩＲ−１０８３、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ１１１７、日本化薬（株）製のＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０４０等が挙げられる。フタロシアニン系色素（錯体）として具体的には、下記の化学式（２）で表されるものが用いられ、例えば、Ａｖｅｃｉａ社製ＰＲＯＪＥＴの８００ＮＰ、８３０ＮＰ、９００ＮＰ、９２５ＮＰ、及び（株）日本触媒製イーエクスカラーのＩＲ−１０Ａ、ＩＲ−１２、ＩＲ−１４、９０６Ｂ、９１０Ｂ等が挙げられる。 Next, as the near infrared absorber, an organic or inorganic near infrared absorber can be appropriately selected and used. Examples of the organic near-infrared absorber include diimonium dyes, phthalocyanine dyes, dithiol metal complex dyes, substituted benzenedithiol metal complex dyes, cyanine dyes, squalium dyes, and the like. Specifically, as the diimonium dye, for example, CIR-1080, CIR-1081, CIR-1083 manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd., Epolight 1117 manufactured by Eporin, IRG-022 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., IRG-023, IRG-040 and the like. Specific examples of phthalocyanine dyes (complexes) include those represented by the following chemical formula (2). For example, 800 NP, 830 NP, 900 NP, and 925 NP of PROJET manufactured by Avecia, and EA manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. Excolor IR-10A, IR-12, IR-14, 906B, 910B and the like can be mentioned.
フタロシアニン系色素は、フタロシアニン系錯体より構成され、その錯体の中心金属としては、鉄、マグネシウム、ニッケル、コバルト、銅、パラジウム、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、スズ等が挙げられる。金属酸化物としては、チタニア、バナジル等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては、塩化アルミニウム、塩化インジウム、塩化ゲルマニウム、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、塩化珪素等が挙げられる。好ましくは、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物であり、具体的には、銅、亜鉛、コバルト、ニッケル、鉄、バナジル、チタニル、塩化インジウム、塩化スズ（ＩＩ）である。置換基を有するフェニル基としては、炭素原子数１〜４個のアルキル基で１〜３個置換されたフェニル基、炭素原子数１〜４個のアルコキシ基で１〜２個置換されたフェニル基、又は塩素、フッ素等のハロゲン原子で１〜５個置換されたフェニル基等が挙げられる。 The phthalocyanine dye is composed of a phthalocyanine complex, and examples of the central metal of the complex include iron, magnesium, nickel, cobalt, copper, palladium, zinc, vanadium, titanium, indium, and tin. Examples of the metal oxide include titania and vanadyl. Examples of the metal halide include aluminum chloride, indium chloride, germanium chloride, tin (II) chloride, tin (IV) chloride, and silicon chloride. Preferred are metals, metal oxides, and metal halides, specifically copper, zinc, cobalt, nickel, iron, vanadyl, titanyl, indium chloride, and tin (II) chloride. Examples of the phenyl group having a substituent include a phenyl group substituted by 1 to 3 alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and a phenyl group substituted by 1 to 2 alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms. Or a phenyl group substituted with 1 to 5 halogen atoms such as chlorine and fluorine.
ジチオール金属錯体系色素として具体的には、下記の化学式（３）で示されるものが挙げられ、その例としては、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ３０６３、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ４０１９、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ４１２１、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ４１２９、及び、みどり化学（株）製のＭＩＲ−１０１、ＭＩＲ−１１１、ＭＩＲ−１２１、ＭＩＲ−１０２、ＭＩＲ−１０５等が挙げられる。 Specific examples of the dithiol metal complex dye include those represented by the following chemical formula (3), and examples thereof include Epolight 3063, Epolight 4019, Epolight 4121, Epolight 4129, and Midori Chemical Co., Ltd. manufactured by Eporin. MIR-101, MIR-111, MIR-121, MIR-102, MIR-105, and the like.
ジチオール金属錯体系色素の中心のＭは、ニッケル、白金、パラジウム、銅、モリブデン等の金属を表す。置換基を有するフェニル基としては、炭素原子数１〜４個のアルキル基で１〜３個置換されたフェニル基、炭素原子数１〜４個のアルコキシ基で１〜２個置換されたフェニル基、又は塩素、フッ素等のハロゲン原子で１〜５個置換されたフェニル基等が挙げられる。ジチオール金属錯体系色素のＳはＳｅでも良く、ジセレノレン錯体を用いることもできる。化学式（３）で示されるジチオール金属錯体系色素は、一般的に、耐熱性に優れ、中心金属や置換基の種類により極大吸収波長を８００〜１１００ｎｍに有するものである。 M at the center of the dithiol metal complex dye represents a metal such as nickel, platinum, palladium, copper, and molybdenum. Examples of the phenyl group having a substituent include a phenyl group substituted by 1 to 3 alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and a phenyl group substituted by 1 to 2 alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms. Or a phenyl group substituted with 1 to 5 halogen atoms such as chlorine and fluorine. S in the dithiol metal complex dye may be Se, and a diselenolene complex can also be used. The dithiol metal complex dye represented by the chemical formula (3) is generally excellent in heat resistance and has a maximum absorption wavelength in the range of 800 to 1100 nm depending on the type of central metal and substituent.
さらに、下記化学式（１）で示されるジチオール金属錯体系色素を用いることができる。この化合物はアルコール溶媒中でジチオロン化合物と塩基を反応させてイオン化し、塩化ニッケル、塩化パラジウム等の金属イオン水溶液を添加して反応させたものであり、波長８５０〜１３００ｎｍに極大吸収を有する。この化合物は、長波長側に吸収特性が求められる電子機器、例えばプラズマディスプレーパネルに用いられるリモコンの誤作動防止用には効果的である。この化合物を単独で用いることもできるが、化学式（３）に示すジチオール金属錯体系色素に配合して用いることもできる。 Furthermore, a dithiol metal complex dye represented by the following chemical formula (1) can be used. This compound is ionized by reacting a dithiolone compound with a base in an alcohol solvent and reacting by adding an aqueous metal ion solution such as nickel chloride or palladium chloride, and has a maximum absorption at a wavelength of 850 to 1300 nm. This compound is effective for preventing malfunction of a remote controller used in an electronic device that requires absorption characteristics on the long wavelength side, for example, a plasma display panel. Although this compound can also be used independently, it can also be mix | blended and used for the dithiol metal complex type | system | group dye shown to Chemical formula (3).
これら近赤外線吸収剤の含有量は、透明基材１１上に形成される近赤外線吸収層１２の厚さによるが、前記混合樹脂に対して好ましくは０．１〜５０質量％、より好ましくは０．５〜３０質量％である。近赤外線吸収剤が０．１質量％より少ないと十分な近赤外線吸収効果が得られなくなる傾向があり、５０質量％より多いと近赤外線吸収効果は良好であるが、可視光線透過率が低下する傾向がある。
The content of these near-infrared absorbers depends on the thickness of the near-infrared
近赤外線吸収材１０としては、可視光線領域（光の波長４００〜７００ｎｍ）での平均透過率が高く、かつ近赤外線（光の波長８００〜１１００ｎｍ）を吸収することが好ましい。これに加えて、光に対する耐久性向上のため、紫外線領域（光の波長３８０ｎｍ以下、又は２００〜３８０ｎｍ）での平均透過率を５％以下とすべく紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
The near-infrared
紫外線吸収剤としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系等の化合物が挙げられる。具体的には、サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン等が挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２（２′−ヒドロキシ−５′−メタクリロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。これら紫外線吸収剤の含有量は、前記混合樹脂に対して好ましくは０．１〜３０質量％、より好ましくは０．３〜２０質量％である。 Examples of the ultraviolet absorber include salicylic acid-based compounds, benzophenone-based compounds, and benzotriazole-based compounds. Specifically, examples of the salicylic acid-based ultraviolet absorber include phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, and p-octylphenyl salicylate. Examples of benzophenone ultraviolet absorbers include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, and 2,2'-dihydroxy. Examples include -4,4'-dimethoxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone. Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2 ′ -Hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2- Tylene bis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2 (2'-hydroxy-5'-methacryloxyphenyl) -2H- Examples include benzotriazole. The content of these ultraviolet absorbers is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 0.3 to 20% by mass with respect to the mixed resin.
近赤外線吸収層１２を形成するための近赤外線吸収組成物の調製には、前記樹脂と各吸収剤とを有機溶剤を用いて混合することが好ましい。有機溶剤として具体的には、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独又は２種以上を混合して用いることができる。この際、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、レベリング剤等の各種添加剤を加えることもできる。
For the preparation of the near-infrared absorbing composition for forming the near-infrared
前記透明基材１１上に近赤外線吸収層１２を形成する方法は特に制限されるものではなく、均一に形成できる方法が好ましい。例えば、近赤外線吸収組成物の溶液をウェットコーティング法により形成する方法が挙げられる。近赤外線吸収層１２を形成する際には、前記の近赤外線吸収剤を溶解又は分散させるために前記混合樹脂を用いて行うことができる。近赤外線吸収組成物には、混合樹脂以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分は特に制限されず、例えば重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、表面改質剤、光安定剤等が用いられる。さらに、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる際には、任意の溶媒を添加することができる。
The method for forming the near-infrared
また、近赤外線吸収層１２の厚さは、２〜２０μｍであることが好ましい。この厚さが２μｍ未満の場合には、近赤外線吸収機能を十分に発現させることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが２０μｍを越える場合には、近赤外線吸収材１０について耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。近赤外線吸収層１２について近赤外線領域における透過率は、４０％以下が好ましく、３０％以下がさらに好ましい。この透過率が４０％を越えると、近赤外線が十分に吸収されず、リモートコントロール機器等の周辺機器に誤作動を及ぼしかねない。近赤外線吸収層１２には、ディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させるために、色調を補正する色素を含有させることが好ましい。そのような色調補正の色素としては、可視光線領域に所望の吸収波長を有する一般の染料でよく、例えばスクアリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、キサンテン系、アゾ系、テトラアザポルフィリン系、ピロメテン系等の市販されている色素を挙げることができる。
Moreover, it is preferable that the thickness of the near-
次に、図１（ｂ）に示すように、前記透明基材１１の他方の面には、ハードコート層１４を形成することが好ましい。ハードコート層１４を形成することにより、近赤外線吸収材１０に十分な表面強度を付与することができ、耐久性を向上させることができる。ハードコート層１４の厚さは、１〜２０μｍであることが好ましい。この厚さが１μｍ未満の場合には、近赤外線吸収材１０に十分な表面強度を持たせることが難しくなる。一方、厚さが２０μｍを越える場合には、近赤外線吸収材１０について耐屈曲性の低下等の問題が生じる。
Next, as shown in FIG. 1 (b), it is preferable to form a
ハードコート層１４を形成する材料は特に限定されず、例えば単官能（メタ）アクリレート（本明細書では（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの双方を意味する。）、多官能（メタ）アクリレート及びテトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物等の硬化物が挙げられる。これらのうち生産性及び硬度を両立させる観点より、紫外線硬化性多官能（メタ）アクリレートを含む組成物の重合硬化物であることが特に好ましい。そのような紫外線硬化性多官能（メタ）アクリレートを含む組成物としては特に限定されるものではない。例えば、公知の紫外線硬化性多官能（メタ）アクリレートを２種類以上混合したもの、紫外線硬化性ハードコート材として市販されているもの、或いはこれら以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分をさらに添加したものを用いることができる。
The material for forming the
紫外線硬化性多官能（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコールのアクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジアクリレート及びポリウレタンアクリレート等が挙げられる。 The ultraviolet curable polyfunctional (meth) acrylate is not particularly limited. For example, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, trimethylolpropanetri (meth) ) Acrylic derivatives of polyfunctional alcohols such as acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane, polyethylene glycol diacrylate, polyurethane acrylate, etc. It is done.
紫外線硬化性多官能（メタ）アクリレートを含む組成物に含まれるその他の成分としては、例えば無機又は有機の微粒子状充填剤、無機又は有機の微粒子状顔料及びそれ以外の無機又は有機微粒子、他の重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる場合には、任意の量の溶媒を添加することができる。また、ハードコート層１４の形成方法は特に限定されず、ロールコート法、ダイコート法等、一般的なウェットコート法等が採用される。形成された層は必要に応じて加熱や、紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射により硬化させることができる。
Examples of other components contained in the composition containing an ultraviolet curable polyfunctional (meth) acrylate include inorganic or organic fine particle fillers, inorganic or organic fine particle pigments and other inorganic or organic fine particles, and other components. Examples thereof include additives such as a polymer, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dispersant, a surfactant, a light stabilizer, and a leveling agent. In addition, when the film is dried after film formation in the wet coating method, an arbitrary amount of solvent can be added. Moreover, the formation method of the hard-
次に、減反射層１３は、外部からその表面に到る光を屈折させ、光の干渉作用によって反射率を低下させるための層である。係る減反射層１３は、単層構成又は多層構成とすることができる。単層構成の場合には、ハードコート層１４上に該ハードコート層１４よりも低い屈折率の層（低屈折率層）を１層形成する。また、多層構成の場合には、ハードコート層１４の上に屈折率の異なる層を多層積層形成するが、積層数は２〜７層程度である。多層構成とすることで、反射率をより効果的に下げることができる。具体的には、図１（ｂ）に示すように、減反射層１３は、ハードコート層１４側から見て順に高屈折率層１５及び低屈折率層１６からなる２層構成、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる３層構成、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる４層構成等で構成される。減反射効果の観点からは３層から７層が好ましく、生産性及び生産コストの観点からは単層又は２層が好ましい。
Next, the
減反射層１３の形成方法は特に限定されず、例えばドライコーティング法、ウェットコーティング法等の方法が採用される。これらの方法のうち、生産性及び生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法でよく、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法等が代表的な方法である。これらの中では、ロールコート法等、連続的に減反射層を形成できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。減反射層１３の機能を発現させるために、低屈折率層１６の屈折率としては、その直下の層よりも低屈折率であることを要件とし、その屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。屈折率が１．５５を越える場合にはウェットコーティング法では十分な減反射効果を得ることが難しく、１．２０未満の場合には十分に硬い層を形成することが困難となる傾向にある。
The method for forming the
さらに、２層構成とする場合には、高屈折率層１５は直上に形成される低屈折率層１６より屈折率を高くすることが必要であるため、その屈折率は１．６０〜１．９０であることが好ましい。屈折率が１．６０未満では十分な減反射効果を得ることが難しく、またウェットコーティング法で１．９０を越える層を形成するのは困難となる傾向にある。また、中屈折率層を設けた多層構成とする場合には、積層する高屈折率層より屈折率が低く、低屈折率層より屈折率が高い層であればよく、その屈折率は特に限定されない。
Further, in the case of a two-layer configuration, the refractive index of the high
減反射層１３の厚さは、透明基材１１の種類、形状、減反射層１３の構成によって異なるが、一層当たり可視光線の波長と同じ厚さ又はそれ以下の厚さが好ましい。可視光線に減反射効果を示すためには、高屈折率層１５の光学膜厚ｎＨ・ｄは５００≦４ｎＨ・ｄ（ｎｍ）≦７５０、及び低屈折率層１６の光学膜厚ｎＬ・ｄは、４００≦４ｎＬ・ｄ（ｎｍ）≦６５０を満たすように設計される。但し、ｎＨ及びｎＬはそれぞれ高屈折率層１５及び低屈折率層１６の屈折率、ｄは層の厚さを表す。
The thickness of the
高屈折率層１５を構成する材料としては特に限定されるものではなく、無機材料又は有機材料を用いることができる。無機材料としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫等の微粒子が挙げられる。特に、酸化インジウム錫等の導電性微粒子を用いた場合には表面抵抗値を下げることができ、帯電防止機能を付与することができる。また、導電性の面より酸化錫、酸化インジウム錫、屈折率の点より酸化チタン、酸化セリウム又は酸化亜鉛が好ましい。さらに、有機材料としては、例えば屈折率が１．６０〜１．８０のチオール基やフェニル基を含有する高屈折率の有機単量体や重合体を用いることができる。
The material constituting the high
前記の無機材料の微粒子を含む高屈折率層１５は、ウェットコーティング法により形成することができる。また、有機単量体や重合体をウェットコーティング時のバインダーとして用いることができる。無機材料の微粒子の平均粒子径は層の厚さを大きく越えないことが好ましく、特に０．１μｍ以下であることが好ましい。微粒子の平均粒子径が大きくなると、散乱が生じる等、高屈折率層１５の光学機能が低下するため好ましくない。また、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば有機置換された珪素化合物、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシドを含む有機酸塩等が挙げられる。
The high
低屈折率層１６を構成する材料としては、例えば中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム等の無機物や、含フッ素有機化合物（フッ素原子を含む有機化合物）の単体又は混合物を用いることができる。また、フッ素を含まない有機化合物（以下、非フッ素系有機化合物と略記する）の単体若しくは混合物又は重合体をバインダー樹脂として用いることができる。含フッ素有機化合物は特に限定されるものではないが、例えば含フッ素単官能（メタ）アクリレート、含フッ素多官能（メタ）アクリレート、含フッ素イタコン酸エステル、含フッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合物等の単量体及びそれらの重合体等が挙げられる。これらの中では、反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリレートが好ましく、特に含フッ素多官能（メタ）アクリレートが硬度及び屈折率の点から最も好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成することができる。
Examples of the material constituting the low
含フッ素単官能（メタ）アクリレートとしては、１-（メタ）アクリロイルオキシ-２-ヒドロキシ-４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３-へニコサフルオロトリデカンが挙げられる。含フッ素多官能（メタ）アクリレートとしては、含フッ素２官能（メタ）アクリレート、含フッ素３官能（メタ）アクリレート及び含フッ素４官能（メタ）アクリレートが好ましい。含フッ素２官能（メタ）アクリレートとしては、１，１０−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカン、２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル−２'，２'−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチル｝プロピオナート、１，１０-ジ（メタ）アクリロイルオキシ-２，９−ジヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン等が挙げられる。また、含フッ素４官能（メタ）アクリレートとしては１，２，９，１０−テトラ（メタ）アクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカンが挙げられる。以上の含フッ素（メタ）アクリレートは、いずれも単独又は混合物として用いることができる。 As the fluorine-containing monofunctional (meth) acrylate, 1- (meth) acryloyloxy-2-hydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10 , 11, 11, 12, 12, 13, 13, 13-nicosafluorotridecane. As the fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylate, fluorine-containing bifunctional (meth) acrylate, fluorine-containing trifunctional (meth) acrylate and fluorine-containing tetrafunctional (meth) acrylate are preferable. As the fluorine-containing bifunctional (meth) acrylate, 1,10-di (meth) acryloyloxy-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8, 9,9-hexadecafluorodecane, 2-hydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11-heptadecafluoro Undecyl-2 ′, 2′-bis {(meth) acryloyloxymethyl} propionate, 1,10-di (meth) acryloyloxy-2,9-dihydroxy-4,4,5,5,6,6,7 , 7-octafluorodecane and the like. Examples of the fluorine-containing tetrafunctional (meth) acrylate include 1,2,9,10-tetra (meth) acryloyloxy-4,4,5,5,6,6,7,7-octafluorodecane. Any of the above fluorine-containing (meth) acrylates can be used alone or as a mixture.
上記含フッ素有機化合物の重合体又はその他の含フッ素有機化合物の重合体としては、含フッ素有機化合物の単独重合体、共重合体、又は非フッ素系有機化合物との共重合体等の直鎖状重合体、鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環状重合体、櫛型重合体等が挙げられる。前記非フッ素系有機化合物としては、従来公知のものを用いることができ、例えば単官能又は多官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。 As the polymer of the above-mentioned fluorine-containing organic compound or the polymer of other fluorine-containing organic compounds, a linear polymer such as a homopolymer of a fluorine-containing organic compound, a copolymer, or a copolymer with a non-fluorine-based organic compound is used. Examples thereof include a polymer, a polymer containing a carbocyclic ring or a heterocyclic ring in the chain, a cyclic polymer, and a comb polymer. A conventionally well-known thing can be used as said non-fluorine-type organic compound, For example, monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate etc. are mentioned.
低屈折率層１６を形成する材料としては、従来公知の有機又は無機微粒子を用いることができる。例えば、中空酸化珪素微粒子、コロイダル酸化珪素微粒子、有機重合体微粒子等が挙げられる。これら微粒子の平均粒子径は、低屈折率層１６の厚さを大きく越えないことが好ましく、０．１μｍ以下であることが特に好ましい。平均粒子径が大きくなると、光の散乱が生じる等、低屈折率層１６の光学性能が低下するため好ましくない。さらに、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば有機置換された珪素化合物が挙げられる。珪素化合物は、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン等である。その他にも、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシドを含む有機酸塩等が挙げられる。特に、表面を（メタ）アクリロイル基等の反応性基で修飾することにより、硬度の高い減反射層１３を形成することができる。
As a material for forming the low
また、減反射層１３には上記化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分は特に限定されるものではなく、例えば無機又は有機顔料、他の重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤等が挙げられる。また、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる場合には、任意の量の溶媒を添加することができる。減反射層１３は例えばウェットコーティング法により成膜した後、必要に応じて熱や紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射により硬化反応を行うことによって形成される。活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。
Further, the
以上の減反射層１３について、可視光線領域における分光反射率（反射率）は、５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。減反射性（減反射効果）は、可視光線領域における反射率がそのような低反射率であることを意味する。反射率が５％を越える場合には、反射光が増えて十分な防眩性が得られなくなる。
Regarding the above-described
次に、図１（ｃ）に示すように、透明基材１１の一方の面又は他方の面には、光の干渉むらを低減させることができる第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８を設けることが好ましい。透明基材１１上にそれぞれ第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８を設けることにより、透明基材１１とその直上に設けられる層との間の干渉光に起因する干渉むらを抑えることができる。
Next, as shown in FIG.1 (c), the 1st interference layer 17 and the 2nd interference layer which can reduce the interference nonuniformity of light are provided in one surface or the other surface of the
第１の干渉層１７を設ける場合には、透明基材１１上に第１の干渉層１７、その上に近赤外線吸収層１２となる順に積層することが好ましい。近赤外線吸収層１２の屈折率は１．４５〜１．６５で、膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。また、透明基材１１と近赤外線吸収層１２の屈折率の関係は、｛（透明基材１１の屈折率）×（近赤外線吸収層１２の屈折率）｝１／２±０．０３の範囲内、好ましくは、｛（透明基材１１の屈折率）×（近赤外線吸収層１２の屈折率）｝１／２±０．０２の範囲内である。第１の干渉層１７は、光学膜厚が１２５〜１６５ｎｍであって、さらに各層の屈折率が透明基材１１の屈折率＞第１の干渉層１７の屈折率＞近赤外線吸収層１２の屈折率又は近赤外線吸収層１２の屈折率＞第１の干渉層１７の屈折率＞透明基材１１の屈折率の関係にあることが好ましい。ここで、光学膜厚とは、層の屈折率（ｎ）と層の厚さ（ｄ）の積で（ｎ×ｄ）を意味する。
When providing the 1st interference layer 17, it is preferable to laminate | stack in order that it becomes the 1st interference layer 17 on the
この場合、波長５００〜６５０ｎｍにおける反射率の振幅差の最大値が１％以下、即ち、近赤外線吸収材１０表面の反射スペクトルを測定した際の波長５００〜６５０ｎｍにおける近赤外線吸収層１２と透明基材１１間の干渉光に起因する振幅の最大値が１％以下の差になることが好ましい。振幅差の最大値は、さらに好ましくは０．５％以下である。振幅差の最大値が１％を越えると干渉むらが目立つため、好ましくない。第１の干渉層１７の屈折率及び光学膜厚が上記の範囲外である場合には、光の干渉むらの低減効果が低下するため好ましくない。また、近赤外線吸収層１２の屈折率が上記の範囲外である場合にも、同様の理由で好ましくない。
In this case, the maximum value of the amplitude difference in reflectance at a wavelength of 500 to 650 nm is 1% or less, that is, the near
第１の干渉層１７は屈折率及び光学膜厚が上記範囲内であればよく、第１の干渉層１７を形成する材料は特に限定されない。第１の干渉層１７を形成する材料としては、例えば有機物又は無機物の単独又は混合物を用いることができ、有機物としては（メタ）アクリレート等の反応性単量体や重合体が、無機物としては珪素化合物や金属、金属酸化物等が挙げられる。また、第１の干渉層１７の形成方法についても特に制限されず、常法に従って例えば蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等のドライコート法や、ディップコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等のウェットコート法が挙げられる。これらの方法のうち、特に厚さを正確に制御できる方法が好ましい。 The first interference layer 17 only needs to have a refractive index and an optical film thickness within the above ranges, and a material for forming the first interference layer 17 is not particularly limited. As a material for forming the first interference layer 17, for example, an organic substance or an inorganic substance can be used alone or as a mixture. As the organic substance, a reactive monomer or polymer such as (meth) acrylate is used, and as an inorganic substance, silicon is used. A compound, a metal, a metal oxide, etc. are mentioned. Further, the method for forming the first interference layer 17 is not particularly limited. For example, a dry coating method such as a vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a dip coating method, a roll coating method, Examples of the wet coating method include a gravure coating method and a die coating method. Among these methods, a method capable of controlling the thickness accurately is particularly preferable.
第１の干渉層１７には本発明の効果を損なわない限り、他の機能を付与することができる。そのような機能として例えば、透明基材１１と近赤外線吸収層１２との密着性の向上等が挙げられる。また、樹脂材料から透明基材１１を作製する際、同時に表面に第１の干渉層１７を形成させることができる。例えば、透明基材１１がポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、その上に積層する近赤外線吸収層１２との密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムの製造時にインラインでポリエチレンテレフタレートフィルム表面にポリエステル系の樹脂等からなる接着剤を塗布して易接着層を形成する。この易接着層の屈折率及び膜厚を第１の干渉層１７の条件に合わせることにより易接着層が第１の干渉層１７を兼ねることができる。
Other functions can be imparted to the first interference layer 17 as long as the effects of the present invention are not impaired. As such a function, for example, an improvement in adhesion between the
前記第２の干渉層１８を設ける場合には、図１（ｃ）に示すように透明基材１１側から、第２の干渉層１８、ハードコート層１４、減反射層１３の順に積層される。この場合、近赤外線吸収層１２側及び減反射層１３側に設けられるハードコート層１４の干渉むらを低減させることができるため、優れた視認性を得ることができ、かつ不要な近赤外線を吸収することができるとともに、光の反射を低減できる減反射機能を発揮することができる。
When the second interference layer 18 is provided, the second interference layer 18, the
上記ハードコート層１４の干渉むらを低減させるためには、ハードコート層１４は屈折率が１．４５〜１．６５で、光学膜厚が１〜２０μｍであることが好ましい。ハードコート層１４の屈折率が１．４５未満の場合には、入手が容易でなく、高価な低屈折率となる材料を添加しなければならなくなるため、コストが上昇する等の問題が生じてしまい、好ましくない。一方、屈折率が１．６５を越える場合には、透明基材１１との屈折率差が小さくなって減反射効果が弱くなるため好ましくない。
In order to reduce the interference unevenness of the
また、第２の干渉層１８は、屈折率が好ましくは｛（透明基材１１の屈折率）×（ハードコート層１４の屈折率）｝１／２±０．０３の範囲内、より好ましくは、｛（透明基材１１の屈折率）×（ハードコート層１４の屈折率）｝１／２±０．０２の範囲内で、光学膜厚が１２５〜１６５ｎｍである。さらに、各層の屈折率が透明基材１１の屈折率＞第２の干渉層１８の屈折率＞ハードコート層１４の屈折率の関係を満たすことが好ましい。第２の干渉層１８の屈折率及び光学膜厚が、上記の範囲外である場合には、光の干渉むらの低減効果が低下するため好ましくない。
Moreover, the refractive index of the second interference layer 18 is preferably {(refractive index of the transparent substrate 11) × (refractive index of the hard coat layer 14)} 1/2 ± 0.03, more preferably. , {(Refractive index of transparent substrate 11) × (Refractive index of hard coat layer 14)} 1/2 Within a range of ± 0.02, the optical film thickness is 125 to 165 nm. Furthermore, the refractive index of each layer preferably satisfies the relationship of the refractive index of the
第２の干渉層１８は屈折率及び光学膜厚が上記範囲内であればよく、第２の干渉層１８を形成する材料は特に限定されない。その材料としては例えば有機物又は無機物を用いることができ、有機物としては（メタ）アクリレート等の反応性単量体やその重合体が、無機物としては珪素化合物や金属、金属酸化物等が挙げられる。これらの有機物又は無機物は、単独又は混合物として用いることができる。また、第２の干渉層１８の形成方法においても特に制限されず、従来公知の方法が採用される。例えば蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等のドライコート法や、ディップコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等のウェットコート法が挙げられる。これらの方法のうち、特に厚さを正確に制御できる方法が好ましい。 The second interference layer 18 only needs to have a refractive index and an optical film thickness within the above ranges, and the material forming the second interference layer 18 is not particularly limited. As the material, for example, an organic substance or an inorganic substance can be used. Examples of the organic substance include a reactive monomer such as (meth) acrylate and a polymer thereof, and examples of the inorganic substance include a silicon compound, a metal, and a metal oxide. These organic substances or inorganic substances can be used alone or as a mixture. Also, the method for forming the second interference layer 18 is not particularly limited, and a conventionally known method is employed. Examples thereof include dry coating methods such as vapor deposition, sputtering, CVD, and ion plating, and wet coating methods such as dip coating, roll coating, gravure coating, and die coating. Among these methods, a method capable of controlling the thickness accurately is particularly preferable.
第２の干渉層１８には本発明の効果を損なわない限り、他の機能、例えば透明基材１１とハードコート層１４との密着性の向上機能等を付与することができる。また、樹脂材料から透明基材１１を作製する際、前記第１の干渉層１７と同様にして同時にその表面に第２の干渉層１８を形成させることができる。その場合、得られる易接着層の屈折率及び膜厚を第２の干渉層１８の条件に合わせることにより、易接着層が第２の干渉層１８を兼ねることができる。
As long as the effects of the present invention are not impaired, the second interference layer 18 can be provided with other functions such as a function of improving the adhesion between the
近赤外線吸収材１０の近赤外線吸収層１２が形成されている面には、接着層を設けることができる。係る接着層に用いられる材料は特に限定されるものではないが、例えばアクリル系粘着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤等を用いることができる。また、この接着層には特定波長域の光の吸収、コントラスト向上、色調補正等の機能を一種類以上付与することができる。例えば、近赤外線吸収材１０の透過光が黄色味を帯びている等、好ましくない場合には色素等を添加して色調補正することができる。
An adhesive layer can be provided on the surface of the near infrared absorbing
上記のようにして得られる近赤外線吸収材１０は、特に近赤外線吸収効果及び減反射効果、さらには干渉むら低減効果を必要とする用途、例えば電子画像表示装置の表面に使用することができる。電子画像表示装置としては、例えば、ブラウン管、プラズマディスプレイ、液晶表示装置等が挙げられるが、この中でも表示装置から不要な近赤外線が放出されるプラズマディスプレイに好適に使用することができる。近赤外線吸収材１０を表示画面上に配置する場合には、近赤外線吸収材１０の近赤外線吸収層１２側を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせることにより行われる。この場合、接着層等の層を介して行うこともできる。
The near-infrared
さて、本実施形態の作用について説明すると、近赤外線吸収材１０は透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収層１２が設けられるとともに、他方の面に減反射層１３が設けられて構成され、その近赤外線吸収層１２側が電子画像表示装置の表示画面上に貼り合わせて使用される。電子画像表示装置が駆動されると、電子画像表示装置からの光線が近赤外線吸収材１０の近赤外線吸収層１２を透過するとき、近赤外線領域の近赤外線が近赤外線吸収層１２中の近赤外線吸収剤に吸収されると同時に、可視光線は透過される。また、外部からの光線は、透明基材１１の外面側に設けられている減反射層１３で屈折され、干渉作用によって前方への反射が抑えられる。さらに、近赤外線吸収層１２は疎水性が高く、吸水性が低いポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂と、それら以外の樹脂とを含有する混合樹脂で形成されていることから、特に湿熱による近赤外線吸収剤や樹脂の劣化が抑えられる。
Now, the operation of the present embodiment will be described. The near-infrared
以上の実施形態によって発揮される効果について、以下にまとめて記載する。
・ 本実施形態の近赤外線吸収材１０においては、透明基材１１の一方の面に近赤外線吸収層１２が設けられていることから、近赤外線領域における透過率を抑えることができるとともに、可視光線領域における透過率を高く維持することができる。また、近赤外線吸収層１２が疎水性の高いポリスチレン系樹脂又はポリオレフィン系樹脂と、それら以外の樹脂とを含有する混合樹脂で形成されていることから、水分等に基づく近赤外線吸収剤や樹脂の劣化が抑えられ、光や湿熱に対する耐久性を保持することができる。さらに、透明基材１１の他方の面に減反射層１３が設けられていることから、反射を抑制して視認性を向上させることができる。
The effects exhibited by the above embodiment will be described collectively below.
-In the near-
・ また、近赤外線吸収剤が前記化学式（１）で表されるジチオール金属錯体系色素であることにより、光に対する耐久性を向上させることができる。
・ さらに、透明基材１１と近赤外線吸収層１２との間に第１の干渉層１７、及び透明基材１１とハードコート層１４との間に第２の干渉層１８を設けることにより、干渉光に起因する干渉むらを十分に抑制することができる。
-Moreover, when a near-infrared absorber is a dithiol metal complex type | system | group pigment | dye represented by the said Chemical formula (1), durability with respect to light can be improved.
Further, interference is provided by providing a first interference layer 17 between the
・ また、電子画像表示装置では、近赤外線吸収材１０の近赤外線吸収層１２側を表示画面上に直接、又は表示画面の前面に配置された透明プレート上に貼り合わせて構成されている。従って、電子画像表示装置の表示画面について近赤外線吸収材１０の効果を発揮させることができ、特にプラズマディスプレイにおいて、リモートコントロール機器等の周辺機器の誤動作を防ぎ、さらにディスプレイ前面の反射を低く抑えることで、鮮明な画像を得ることができる。
In the electronic image display device, the near-infrared
以下、前記実施形態を具体化した製造例及び実施例について説明する。なお、各例における部は質量部を表す。また、光線透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製のＵＶ−１６００ＰＣ）を用いて測定した。分光反射率（最小反射率）は、近赤外線吸収材１０の近赤外線吸収層１２をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを、分光光度計（日本分光（株）製のＵ−ｂｅｓｔ ５０）を用い、波長４００〜８００ｎｍにおける５°、−５°正反射スペクトルを測定することにより得た。
〔製造例１−１、近赤外線吸収組成物（ＮＩＲＡ−１）の調製〕
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）６０部に、アクリル樹脂（三菱レイヨン（株）製のアクリペット）９．９部、ポリスチレン樹脂（東洋スチレン（株）製のトーヨースチロール）０．１部、近赤外線吸収剤としてジチオール金属錯体色素（エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ３０６３）０．１部及びジイモニウム色素（日本カーリット（株）製のＣＩＲ−１０８０）０．３部、ＩＴＯ分散液（ＭＥＫで固形分濃度３０質量％に希釈したもの）３０部、紫外線吸収剤として２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン１部を混合し、溶解させて近赤外線吸収組成物（ＮＩＲＡ−１）を調製した。
〔製造例１−２、近赤外線吸収組成物（ＮＩＲＡ−２）の調製〕
ＭＥＫ６０部、トルエン３０部にアクリル樹脂（三菱レイヨン（株）製のアクリペット）８．０部、ポリスチレン樹脂（東洋スチレン（株）製のトーヨースチロール）２．０部、近赤外線吸収剤としてジチオール金属錯体色素（みどり化学（株）製のＭＩＲ−１０２）０．０５部と前記化学式（５）のジチオール金属錯体色素０．０５部及びジイモニウム色素（日本カーリット（株）製のＣＩＲ−１０８０）０．２３部の３種類、紫外線吸収剤として２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン０．５部を混合し、溶解させて近赤外線吸収組成物（ＮＩＲＡ−２）を調製した。
〔製造例２、ハードコート層用塗液（ＨＣ）の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０部、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン３０部、光重合開始剤（チバガイギー（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）４部、及びイソプロパノール１００部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ）を調製した。
〔製造例３、高屈折率層用塗液（Ｈ）の調製〕
平均粒径０．０７μｍのＩＴＯ微粒子８５部、テトラメチロールメタントリアクリレート１５部、光重合開始剤（日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５部、及びブチルアルコール９００部を混合し、高屈折率層用塗液（Ｈ）を調製した。
〔製造例４−１、低屈折率層用塗液（Ｌ−１）の調製〕
１，１０−ジアクリロイルオキシ−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカン７０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０部、シリカゲル微粒子分散液（日産化学（株）製のＸＢＡ−ＳＴ）６０部、及び光重合開始剤（日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５部を混合して低屈折率層用塗液（Ｌ−１）を調製した。
〔製造例４−２、低屈折率層用塗液（Ｌ−２）の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０部、シリカゲル微粒子分散液（日産化学（株）製のＸＢＡ−ＳＴ）９０部、ポリシロキサン樹脂（ビアノバレンジ（株）製のＶＸＬ−４９３０）４部、２−ヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘプタデカフルオロウンデシル−２'，２'−ビスアクリロイルオキシメチルプロピオナート２部、及び光重合開始剤（日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５部を混合して低屈折率層用塗液（Ｌ−２）を調製した。
〔製造例４−３、低屈折率層用塗液（Ｌ−３）の調製〕
１，１０-ジアクリロイルオキシ-２，９−ジヒドロキシ−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン７０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０部、シリカゲル微粒子分散液（日産化学（株）製のＸＢＡ−ＳＴ）６０部、及び光重合開始剤（日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５部を混合して低屈折率層用塗液（Ｌ−３）を調製した。
〔製造例５−１、干渉層用塗液（ＩＦ−１）の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０部、テトラメチロールメタントリアクリレート１０部、平均粒子径０．０５μｍの酸化錫微粒子７０部、及び光重合開始剤（チバスペシャルティケミカル（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）２部を２−ブタノール１０００部に分散して干渉層用塗液（ＩＦ−１）を調製した。
〔製造例５−２、干渉層用塗液（ＩＦ−２）の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３０部、テトラメチロールメタントリアクリレート２０部、平均粒子径０．０５μｍの酸化錫微粒子５０部、及び光重合開始剤（チバスペシャルティケミカル（株）製のＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）２部を２−ブタノール１０００部に分散して干渉層用塗液（ＩＦ−２）を調製した。
（実施例１）
透明基材１１として、厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人デュポンフィルム（株）製のＨＢ３）を用いた。その透明基材１１上にハードコート層用塗液ＨＣを、乾燥膜厚５μｍになるようにバーコーターを用いて塗布後、４００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層１４を形成した。次いで、ハードコート層１４上に高屈折率用塗液Ｈ及び低屈折率層塗液Ｌ−１を、光学膜厚がそれぞれ１１０〜１２５ｎｍになるようにスピンコーターを用いて塗布、乾燥後、窒素雰囲気下に４００ｍＪ／ｃｍ２の出力で紫外線を照射して硬化させ、ＰＥＴフィルムの他方の面に減反射層１３を形成した。続いて、ＰＥＴフィルムの一方の面に、近赤外線吸収組成物ＮＩＲＡ−１を、乾燥膜厚６．５μｍ程度になるようにバーコーターにより成膜した後、室温で１分間、１５０℃で１分間乾燥することにより、近赤外線吸収材１０を作製した。
Hereinafter, production examples and examples embodying the embodiment will be described. In addition, the part in each example represents a mass part. The light transmittance was measured using a spectrophotometer (UV-1600PC manufactured by Shimadzu Corporation). Spectral reflectance (minimum reflectance) is a spectrophotometer (U-best 50 manufactured by JASCO Corporation) obtained by roughening the near-infrared
[Production Example 1-1, Preparation of Near-Infrared Absorbing Composition (NIRA-1)]
60 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 9.9 parts of acrylic resin (Acrypet manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), 0.1 part of polystyrene resin (Toyostyrene manufactured by Toyo Styrene Co., Ltd.), dithiol as a near infrared absorber 0.1 part of metal complex dye (Epolight 3063 manufactured by Eporin) and 0.3 part of diimonium dye (CIR-1080 manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.), ITO dispersion (diluted to 30% by mass with MEK) ) 30 parts, 1 part of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone as an ultraviolet absorber was mixed and dissolved to prepare a near-infrared absorbing composition (NIRA-1).
[Production Example 1-2, Preparation of Near-Infrared Absorbing Composition (NIRA-2)]
60 parts of MEK, 30 parts of toluene, 8.0 parts of acrylic resin (Acrypet manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), 2.0 parts of polystyrene resin (Toyostyrene produced by Toyo Styrene Co., Ltd.), dithiol metal as a near infrared absorber 0.05 part of complex dye (MIR-102 manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), 0.05 part of dithiol metal complex dye of the above chemical formula (5) and diimonium dye (CIR-1080 manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) Three parts of 23 parts and 0.5 part of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone as an ultraviolet absorber were mixed and dissolved to prepare a near-infrared absorbing composition (NIRA-2).
[Production Example 2, Preparation of Hard Coat Layer Coating Liquid (HC)]
70 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 30 parts of 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane, 4 parts of photopolymerization initiator (IRGACURE184 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.), and 100 parts of isopropanol A hard coat layer coating solution (HC) was prepared by mixing.
[Production Example 3, Preparation of High Refractive Index Layer Coating Liquid (H)]
85 parts of ITO fine particles with an average particle size of 0.07 μm, 15 parts of tetramethylol methane triacrylate, 5 parts of photopolymerization initiator (KAYACURE BMS manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 900 parts of butyl alcohol are mixed and highly refractiond. A coating liquid for rate layer (H) was prepared.
[Production Example 4-1, Preparation of Coating Solution for Low Refractive Index Layer (L-1)]
1,10-Diacryloyloxy-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluorodecane, 70 parts of dipentaerythritol Low refractive index by mixing 10 parts of hexaacrylate, 60 parts of silica gel fine particle dispersion (XBA-ST manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) and 5 parts of photopolymerization initiator (KAYACURE BMS manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) A layer coating solution (L-1) was prepared.
[Production Example 4-2, Preparation of Coating Solution for Low Refractive Index Layer (L-2)]
10 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 90 parts of silica gel fine particle dispersion (XBA-ST, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), 4 parts of polysiloxane resin (VXL-4930, manufactured by Via Novarange), 2-hydroxy-4, 4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11-heptadecafluoroundecyl-2 ', 2'-bisacryloyloxymethylpropio A coating solution for low refractive index layer (L-2) was prepared by mixing 2 parts of natto and 5 parts of photopolymerization initiator (KAYACURE BMS manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
[Production Example 4-3, Preparation of Low Refractive Index Layer Coating Liquid (L-3)]
1,10-Diacryloyloxy-2,9-dihydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7-octafluorodecane, 10 parts dipentaerythritol hexaacrylate, silica gel fine particle dispersion (Nissan 60 parts of XBA-ST manufactured by Chemical Co., Ltd. and 5 parts of photopolymerization initiator (KAYACURE BMS manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) are mixed to prepare a coating solution for low refractive index layer (L-3). did.
[Production Example 5-1, Preparation of Interference Layer Coating Liquid (IF-1)]
20 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 10 parts of tetramethylolmethane triacrylate, 70 parts of tin oxide fine particles having an average particle diameter of 0.05 μm, and 2 parts of a photopolymerization initiator (IRGACURE907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) An interference layer coating solution (IF-1) was prepared by dispersing in 1000 parts of butanol.
[Production Example 5-2, Preparation of Interference Layer Coating Liquid (IF-2)]
30 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 20 parts of tetramethylolmethane triacrylate, 50 parts of tin oxide fine particles having an average particle diameter of 0.05 μm, and 2 parts of a photopolymerization initiator (IRGACURE907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) An interference layer coating solution (IF-2) was prepared by dispersing in 1000 parts of butanol.
Example 1
As the
得られた近赤外線吸収材１０の分光反射率は６００ｎｍで１．４％、５８０ｎｍで１．０％、５５０ｎｍで１．４％であった。また、光線透過率は１０００ｎｍで５．１％、９００ｎｍで５．９％、８００ｎｍで２３．７％、７００ｎｍで６２．６％、６５０ｎｍで７１．９％、６００ｎｍで７３．３％、５５０ｎｍで７２．７％、５００ｎｍで７１．０％、４５０ｎｍで６５．０％、３８０ｎｍで０．１％であった。この近赤外線吸収層を温度６０℃、湿度９０％雰囲気中に５００時間放置し再度分光特性を測定した。その結果、分光反射率は６００ｎｍで１．４％、５８０ｎｍで１．０％、５５０ｎｍで１．４％であった。光線透過率は１０００ｎｍで５．８％、９００ｎｍで６．５％、８００ｎｍで２４．２％、７００ｎｍで６３．２％、６５０ｎｍで７２．３％、６００ｎｍで７３．６％、５５０ｎｍで７３．２％、５００ｎｍで７１．４％、４５０ｎｍで６３．５％、３８０ｎｍで０．１％であり、分光特性に大きな変化は見られず安定な性能を示した。
（実施例２）
実施例１において、低屈折率用塗液Ｌ−１をＬ−２に代えた以外は実施例１と同様にして、近赤外線吸収材１０を作製した。得られた近赤外線吸収材１０の分光反射率は６００ｎｍで１．９％、５８０ｎｍで１．３％、５５０ｎｍで１．８％であった。また、光線透過率は１０００ｎｍで４．７％、９００ｎｍで５．５％、８００ｎｍで２３．１％、７００ｎｍで６２．１％、６５０ｎｍで７１．４％、６００ｎｍで７２．８％、５５０ｎｍで７２．２％、５００ｎｍで７０．４％、４５０ｎｍで６４．４％、３８０ｎｍで０．１％であった。
The spectral reflectance of the obtained near-infrared
(Example 2)
In Example 1, the near-
この近赤外線吸収層１２を温度６０℃、湿度９０％雰囲気中に５００時間放置し再度分光特性を測定したところ、分光反射率は６００ｎｍで１．９％、５８０ｎｍで１．３％、５５０ｎｍで１．８％であった。光線透過率は１０００ｎｍで５．４％、９００ｎｍで６．１％、８００ｎｍで２３．６％、７００ｎｍで６２．７％、６５０ｎｍで７１．８％、６００ｎｍで７３．１％、５５０ｎｍで７２．７％、５００ｎｍで７０．８％、４５０ｎｍで６２．９％、３８０ｎｍで０．１％であり、分光特性に大きな変化は見られず安定な性能を示した。
（実施例３）
透明基材１１として厚さが１００μｍの紫外線吸収剤入りポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人デュポンフィルム（株）製のＨＢ３）上に、第２の干渉層１８として干渉層用塗液ＩＦ−２を、光学膜厚が１１０〜１２５ｎｍとなるように、スピンコーターを用いて塗布した。乾燥後、窒素雰囲気下４００ｍＪ／ｃｍ２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、第２の干渉層１８を作製した。作製した第２の干渉層１８上に、ハードコート層用塗液ＨＣを、乾燥膜厚５μｍになるようにバーコーターを用いて塗布後、４００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層１４を形成した。次いで、ハードコート層１４上に高屈折率用塗液Ｈ及び低屈折率層塗液Ｌ−３を、光学膜厚がそれぞれ１１０〜１２５ｎｍになるようにスピンコーターを用いて塗布、乾燥後、窒素雰囲気下に４００ｍＪ／ｃｍ２の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、ＰＥＴフィルムの他方の面に減反射層１３を形成した。
When the near-infrared
(Example 3)
A coating liquid IF-2 for interference layer as a second interference layer 18 is formed on a polyethylene terephthalate (PET) film (HB3 manufactured by Teijin DuPont Films) with a UV absorber having a thickness of 100 μm as the
続いて、ＰＥＴフィルムの一方の面に第１の干渉層１７として干渉層用塗液ＩＦ−１を第２の干渉層１８と同様にして作製した。作製した第１の干渉層１７の上に、近赤外線吸収組成物ＮＩＲＡ−２を、乾燥膜厚６．５μｍになるようにバーコーターにより成膜した後、室温で１分間、１５０℃で１分間乾燥することにより、近赤外線吸収材１０を作製した。作製された近赤外線吸収材１０について、モニター１０人により目視評価したところ、第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８が設けられていることにより干渉むらが目立たず、実施例１及び２よりも優れた視認性を有していることが分かった。
Subsequently, an interference layer coating liquid IF-1 was prepared as the first interference layer 17 on the one surface of the PET film in the same manner as the second interference layer 18. A near-infrared absorbing composition NIRA-2 was formed on the first interference layer 17 by a bar coater so as to have a dry film thickness of 6.5 μm, and then at room temperature for 1 minute and at 150 ° C. for 1 minute. The near-
得られた近赤外線吸収材１０の分光反射率は６００ｎｍで１．６％、５８０ｎｍで１．１％、５５０ｎｍで１．６％であった。また、光線透過率は１０００ｎｍで４．９％、９００ｎｍで５．７％、８００ｎｍで２３．５％、７００ｎｍで６２．４％、６５０ｎｍで７１．７％、６００ｎｍで７３．１％、５５０ｎｍで７２．５％、５００ｎｍで７０．８％、４５０ｎｍで６４．８％、３８０ｎｍで０．１％であった。この近赤外線吸収層１２を温度６０℃、湿度９０％雰囲気中に５００時間放置して再度分光特性を測定したところ、分光反射率は６００ｎｍで１．６％、５８０ｎｍで１．１％、５５０ｎｍで１．６％であった。光線透過率は１０００ｎｍで５．６％、９００ｎｍで６．３％、８００ｎｍで２４．１％、７００ｎｍで６３．３％、６５０ｎｍで７２．１％、６００ｎｍで７３．４％、５５０ｎｍで７３．０％、５００ｎｍで７１．２％、４５０ｎｍで６３．３％、３８０ｎｍで０．１％であり、分光特性に大きな変化は見られず安定な性能を示した。
The spectral reflectance of the obtained near-infrared
実施例１、２及び３より減反射機能及び近赤外線吸収機能を併せ持つことにより、可視光線領域（光の波長４００ｎｍ〜６００ｎｍ）における透過率を高く維持することができるとともに、近赤外線領域（光の波長８００〜１０００ｎｍ）における光の透過を抑えることができた。従って、プラズマディスプレイ表示画面において鮮明な画像を映し出すことが可能となる最適な近赤外線吸収材１０を得ることができた。それと同時に、人が最も強く感じる視感度中心（光の波長５５０ｎｍ〜６００ｎｍ）の反射率を低く抑えることができ、視認性にも優れていることが明らかになった。さらに、高温、高湿下にて長時間放置しても分光特性が安定であることが確認された。
By having both a low reflection function and a near infrared absorption function from Examples 1, 2, and 3, the transmittance in the visible light region (light wavelength 400 nm to 600 nm) can be maintained high, and the near infrared region (light Transmission of light at a wavelength of 800 to 1000 nm) could be suppressed. Therefore, the optimum near-infrared
作製した近赤外線吸収材１０における近赤外線吸収層１２の表面に、アクリル系粘着シート（リンテック（株）製のノンキャリア）を、ハンドローラーを用いてそれぞれ均一に貼り合わせた。次いで、近赤外線吸収材１０を粘着シートを介してプラズマディスプレイ表面に直接貼り合わせることにより、電子画像表示装置を得た。得られた電子画像表示装置について、その画像を確認するためにモニター１０人により目視評価したところ、画像の鮮明度及び視認性が高いことが分かった。
An acrylic pressure-sensitive adhesive sheet (non-carrier manufactured by Lintec Co., Ltd.) was uniformly bonded to the surface of the near-infrared
なお、本実施形態は、次のように変更して実施することも可能である。
・ 減反射層１３、第１の干渉層１７及び第２の干渉層１８に紫外線吸収剤を配合し、近赤外線吸収剤を紫外線から保護するように構成することもできる。
It should be noted that the present embodiment can be implemented with the following modifications.
-An ultraviolet absorber may be mix | blended with the
・ 近赤外線吸収組成物を形成するポリスチレン系樹脂及びポリオレフィン系樹脂を組合せて用いることもできる。
さらに、前記実施形態より把握される技術的思想について以下に記載する。
-It is also possible to use a combination of a polystyrene-based resin and a polyolefin-based resin forming the near-infrared absorbing composition.
Furthermore, the technical idea grasped from the embodiment will be described below.
・ 前記透明基材が紫外線吸収剤を含有し、光の波長３８０ｎｍ以下の紫外線を光線透過率が５％以下になるようにカットすることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の減反射性近赤外線吸収材。このように構成した場合、請求項１から請求項３のいずれかに係る発明の効果に加えて、近赤外線吸収層に含まれる近赤外線吸収剤を紫外線から効果的に保護することができ、減反射性近赤外線吸収材の耐久性を向上させることができる。 The transparent substrate contains an ultraviolet absorber, and ultraviolet rays having a light wavelength of 380 nm or less are cut so as to have a light transmittance of 5% or less. The low-reflective near-infrared absorbing material according to Item. When constituted in this way, in addition to the effect of the invention according to any one of claims 1 to 3, the near-infrared absorbing agent contained in the near-infrared absorbing layer can be effectively protected from ultraviolet rays and reduced. The durability of the reflective near infrared ray absorbing material can be improved.
・ 前記透明基材と減反射層との間には、ハードコート層を設けることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の減反射性近赤外線吸収材。このように構成した場合、請求項１から請求項３のいずれかに係る発明の効果に加え、減反射性近赤外線吸収材の表面硬度を高めることができるとともに、耐久性を向上させることができる。 The reduced reflection near-infrared absorbing material according to any one of claims 1 to 3, wherein a hard coat layer is provided between the transparent substrate and the reduced reflection layer. When comprised in this way, in addition to the effect of the invention which concerns on any one of Claims 1-3, while being able to raise the surface hardness of a low reflective near-infrared absorber, durability can be improved. .
・ 前記透明基材と減反射層との間には、ハードコート層を設けるとともに、透明基材とハードコート層との間には、光の干渉層を設けることを特徴とする請求項３に記載の減反射性近赤外線吸収材。このように構成した場合、請求項３に係る発明の効果に加え、干渉光に起因する干渉むらを一層抑制することができる。 4. A hard coat layer is provided between the transparent base material and the anti-reflection layer, and a light interference layer is provided between the transparent base material and the hard coat layer. Described low-reflection near-infrared absorbing material. In this case, in addition to the effect of the invention according to claim 3, it is possible to further suppress the interference unevenness caused by the interference light.
１０…減反射性近赤外線吸収材、１１…透明基材、１２…近赤外線吸収層、１３…減反射層、１７…第１の干渉層、１８…第２の干渉層。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013168511A (en) * | 2012-02-15 | 2013-08-29 | Seiko Instruments Inc | Photodetection device and manufacturing method therefor |
| JP2013168512A (en) * | 2012-02-15 | 2013-08-29 | Seiko Instruments Inc | Photodetection device and manufacturing method therefor |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002006102A (en) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nof Corp | Near-infrared ray shielding and reflection reducing material and its use |
| JP2003177209A (en) * | 2001-09-28 | 2003-06-27 | Nof Corp | Reflection reducing film and electronic image display device |
| JP2005181966A (en) * | 2003-11-26 | 2005-07-07 | Seed Co Ltd | Near infrared ray absorbent composition and near infrared ray absorbent filter |
| JP2005189741A (en) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Toyobo Co Ltd | Near-infrared ray absorption filter |
-
2005
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002006102A (en) * | 2000-06-19 | 2002-01-09 | Nof Corp | Near-infrared ray shielding and reflection reducing material and its use |
| JP2003177209A (en) * | 2001-09-28 | 2003-06-27 | Nof Corp | Reflection reducing film and electronic image display device |
| JP2005181966A (en) * | 2003-11-26 | 2005-07-07 | Seed Co Ltd | Near infrared ray absorbent composition and near infrared ray absorbent filter |
| JP2005189741A (en) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Toyobo Co Ltd | Near-infrared ray absorption filter |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013168511A (en) * | 2012-02-15 | 2013-08-29 | Seiko Instruments Inc | Photodetection device and manufacturing method therefor |
| JP2013168512A (en) * | 2012-02-15 | 2013-08-29 | Seiko Instruments Inc | Photodetection device and manufacturing method therefor |
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