JP2007114609A - 液浸顕微鏡装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 観察対象の基板10Aを支持する支持手段11〜13と、液浸系の対物レンズ14と、超純水の循環経路26から所定量の超純水を取り込み、該超純水を観察用の液体として対物レンズの先端と基板との間に供給する第1の供給手段15,16と、基板の観察後に、観察用の液体を除去する第1の除去手段20〜22と、循環経路26から所定量の超純水を取り込み、該超純水を用いて洗浄用の液体を生成し、該洗浄用の液体を基板のうち観察用の液体と接触していた領域に供給する第2の供給手段17〜19と、基板の洗浄後に、洗浄用の液体を除去する第2の除去手段20〜22とを備える。
【選択図】 図1
Description
本実施形態の液浸顕微鏡装置10には、図1に示す通り、観察対象の基板10Aを支持するステージ部(11〜13)と、液浸系の対物レンズ14と、観察用の液体を供給する機構(15,16)と、洗浄用の液体を供給する機構(17〜19)と、これらの液体を除去する機構(20〜22)と、各部を制御する制御部23とが設けられる。
基板10Aは、半導体ウエハや液晶基板などである。液浸顕微鏡装置10は、半導体回路素子や液晶表示素子などの製造工程において、基板10Aに形成された回路パターンの欠陥や異物などの液浸観察(外観検査)を行う装置である。回路パターンは、例えばレジストパターンである。
Zステージ12による鉛直方向の移動は、基板10Aの焦点合わせ時に行われる。焦点合わせ動作は、制御部23がオートフォーカス機構を用いて行う。XYステージ13による水平方向の移動は、基板10Aの予め定めた観察点を対物レンズ14の視野内に位置決めするときに行われる。XYステージ13のベース部材は液浸顕微鏡装置10の本体(鏡基24)の下部に固定されている。
また、吐出ノズル19を用いて洗浄用の液体を定量吐出するため、吐出ノズル19には加圧ポンプ18と洗浄液製造装置17とが接続され、この洗浄液製造装置17は超純水の循環経路26の分岐点6Bに接続される。洗浄液製造装置17と加圧ポンプ18と吐出ノズル19とで、洗浄用の液体を供給する機構(17〜19)が構成される。
循環経路26には、図3に示す通り、1次純水システム(31,32)で製造された純水が取り込まれる。1次純水システム(31,32)には、少なくとも高圧ポンプ31と逆浸透膜(R/O)装置32とが設けられる。高圧ポンプ31の入力側は工場水源30に接続される。工場水源30の水(市水)は高圧ポンプ31によって汲み上げられ、逆浸透膜(R/O)装置32を介して不純物が除去され、純水となる。
また、本実施形態の液浸顕微鏡装置10では、吐出ノズル16と吸引ノズル20を介して観察用の液体を局所的に供給/除去し、基板10Aの観察点とその近傍のみを液浸状態とする(つまり局所液浸の状態とする)。このため、基板10Aの表面における観察用の液体との接触部分を、液浸観察に必要な最小限の範囲に制限することができる。
洗浄液製造装置17で生成された洗浄液は、加圧ポンプ18に送られ、加圧ポンプ18から吐出ノズル19に送られ、吐出ノズル19の先端から基板10Aの表面(観察用の液体と接触していた領域)に供給される。このようにして洗浄液(例えばオゾン水など)を供給することにより、基板10Aの表面(液体と接触していた領域)を洗浄することができる。
さらに、本実施形態の液浸顕微鏡装置10では、基板10Aを洗浄する際に、観察用の液体と共通の循環経路26から超純水を取り込むため、この循環経路26が工場内に予め設置されている場合には、その工場の大型化を回避できる。また、液浸顕微鏡装置10に循環経路26を設けた場合には、循環経路26を観察用と洗浄用とで共通化することにより、液浸顕微鏡装置10の大型化を回避できる。
さらに、本実施形態の液浸顕微鏡装置10では、吐出ノズル19と吸引ノズル20とを介して局所的に洗浄液を供給/除去するため、基板10Aの観察点とその近傍のみ(観察用の液体と接触していた領域のみ)を効率よく洗浄することができる。
また、本実施形態の液浸顕微鏡装置10では、循環経路26から脱気後の超純水を取り込んで洗浄水を生成するため、オゾンや水素や窒素などの所定のガスを効率よく超純水に溶解させることができる。
なお、上記した実施形態では、オゾン水と水素水と窒素水のうち何れか1種類を洗浄液として生成する例を説明したが、本発明はこれに限定されない。オゾン水と水素水と窒素水のうち何れか2種類以上を洗浄液として生成してもよい。この場合、2種類以上の洗浄液を基板10Aの表面(観察用の液体が接触していた領域)に順に供給することが好ましい。つまり、第1の洗浄液を供給/除去した後、第2の洗浄液を供給/除去する、という繰り返しの手順で、異なる洗浄効果の洗浄液が混ざらないようにすることが好ましい。2種類以上の洗浄液を順に供給することにより、種類の異なる汚れ(酸化膜や輪染みなど)を順に除去することができ、検査後の基板10Aの品質をより高めることができる。
また、上記の脱気装置36を省略し、その代わりに、循環経路26の分岐点6Bと洗浄水製造装置17との間の配管上に同様の脱気装置を設けてもよい。この場合は、循環経路26から脱気前の超純水を取り込んで脱気を行い、得られた脱気後の超純水を用いて洗浄液を生成することになる。
さらに、対物レンズ14の周辺に対してクリーンな窒素を供給する手段を設けてもよい。この場合、対物レンズ14の先端と基板10Aとの間に供給された液体を窒素雰囲気中に保つことができ、液体への酸素の溶出を回避することができる。このため、酸化膜の形成を効果的に抑えることができる。
さらに、上記した実施形態では、局所液浸の状態で基板10Aを観察する例で説明したが、本発明はこれに限定されない。基板10Aの観察を全面液浸の状態で行う場合にも、本発明を適用して同様の効果を得ることができる。この場合、基板10Aの全面と対物レンズ14の先端とを水没させ得る構造のステージが必要となる。そして観察後、洗浄液も基板10Aの全面(つまり観察用の液体と接触していた領域)に供給する。
15,18加圧ポンプ ; 16,19吐出ノズル ; 17洗浄液製造装置 ;
20吸引ノズル ; 21排液タンク ; 22真空ポンプ ; 23制御部 ; 26循環経路 ;
6A,6B分岐点 ; 31〜32 1次純水システム ; 33〜36 2次超純水システム
Claims (4)
- 観察対象の基板を支持する支持手段と、
液浸系の対物レンズと、
超純水の循環経路から所定量の超純水を取り込み、該超純水を観察用の液体として前記対物レンズの先端と前記基板との間に供給する第1の供給手段と、
前記基板の観察後に、前記観察用の液体を除去する第1の除去手段と、
前記循環経路から所定量の超純水を取り込み、該超純水を用いて洗浄用の液体を生成し、該洗浄用の液体を前記基板のうち前記観察用の液体と接触していた領域に供給する第2の供給手段と、
前記基板の洗浄後に、前記洗浄用の液体を除去する第2の除去手段とを備えた
ことを特徴とする液浸顕微鏡装置。 - 請求項1に記載の液浸顕微鏡装置において、
前記第2の供給手段は、前記洗浄用の液体を生成するために、前記循環経路から脱気後の超純水を取り込み、または、前記循環経路から脱気前の超純水を取り込んで脱気を行い、得られた脱気後の超純水により1種類の前記洗浄用の液体を生成して前記基板の前記領域に供給し、
前記1種類の洗浄用の液体は、脱気後の超純水にオゾンを濃度1ppm以上となるまで溶解した液体と、脱気後の超純水に水素を濃度0.6ppm以上となるまで溶解した液体と、脱気後の超純水に窒素を溶解した液体と、の何れかである
ことを特徴とする液浸顕微鏡装置。 - 請求項1に記載の液浸顕微鏡装置において、
前記第2の供給手段は、前記洗浄用の液体を生成するために、前記循環経路から脱気後の超純水を取り込み、または、前記循環経路から脱気前の超純水を取り込んで脱気を行い、得られた脱気後の超純水により2種類以上の前記洗浄用の液体を生成して前記基板の前記領域に順に供給し、
前記2種類以上の洗浄用の液体は、脱気後の超純水にオゾンを濃度1ppm以上となるまで溶解した液体と、脱気後の超純水に水素を濃度0.6ppm以上となるまで溶解した液体と、脱気後の超純水に窒素を溶解した液体と、の何れかである
ことを特徴とする液浸顕微鏡装置。 - 請求項2または請求項3に記載の液浸顕微鏡装置において、
前記第2の供給手段が前記洗浄用の液体として前記水素を溶解した液体を供給する際、該水素を溶解した液体に向けて超音波を発振する発振手段を備えた
ことを特徴とする液浸顕微鏡装置。
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