JP2007096297A - 放電発生器を備えたリソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の素子を洗浄する方法 - Google Patents
放電発生器を備えたリソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の素子を洗浄する方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置の例えば集光鏡といった光学素子などの素子を洗浄する方法であって、窒素を含むガスを供給するステップと、当該ガスの少なくとも一部から窒素ラジカルを生成することにより、ラジカル含有ガスを形成するステップと、当該ラジカル含有ガスの少なくとも一部をリソグラフィ装置の1つ以上の素子に供給するステップとを備える。リソグラフィ装置は、ソースと、光学素子と、無線周波数放電を発生するように配置された放電発生器とを備える。
【選択図】図3
Description
1. ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射線ビームに付けられたパターン全体を一度に(すなわち、単一静止露光)ターゲット部分C上に投影する。基板テーブルWTは、つぎにXおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cが照射されることが可能になる。ステップモードにおいては、露光領域の最大サイズよって、単一静止露光時に投影されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
2. スキャンモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射線ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および画像反転特性によって決めるとよい。スキャンモードにおいては、露光領域の最大サイズよって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3. 別のモードにおいては、プログラマブルパターン形成体を保持しつつ、マスクテーブルMTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かし、すなわちスキャンする一方で、放射線ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射線源が採用されており、さらにプログラマブルパターン形成体は、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射線パルスと放射線パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターン形成体を利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
上述の使用モードの組合せおよび/または変形物、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。
放電を発生するために使用できる、配置されたコイルまたはプレートまたは棒などのために使用してもよい集光鏡50内のその他の物体、またはそれ自体が放電(当該物体に電圧が印加された時)を発生するために使用してもよい物体を、「スパイダーホイール」(“spider wheels”)といい、これらはミラー142、143、146を支持するための支持体である。
よって、一実施形態において、熱いWワイヤを用いることによってではなく、RF誘導放電または容量放電を適用することによって、H2からHラジカルが発生される。これによって、W蒸発(および/またはその他のワイヤ素材)の可能性、よってミラーまたはその他の光学素子の損傷の可能性をなくす。一実施形態において、RF放電は集光鏡50の中で発生される。この場合、リフレクタ(シェル)(142、143、146など)は一実施形態において、互いに交互に分離され、かつそれぞれのリフレクタ(シェル)の間でRF放電が発生され得る。H2またはN2、またはH2とN2の両方がシェルの中に流入され、よってシェル(142、143、146など)の各場所で局所的にHまたはN、またはHとNの両方が生成されることになる。そして、さらにハロゲン洗浄するためのSnOx(酸化錫)の還元と、Hによる直接Sn洗浄との両方に、Hを使用することができ、また炭素析出の除去または酸素の除去(例えばシステム中に残った酸素の除去)のために、Hを使用することもできる。後者の2つのプロセスについては、窒素も使用することができる。なぜならば、窒素ラジカルは、揮発性窒化物を形成する炭素析出(carbon deposition forming volatile nitrides)と、かつ酸化窒素化合物を形成する酸素(oxygen forming nitrogen oxide compounds)と反応できるからである。上記のような局所的生成によって、集光鏡においてより低くかつ均一なH濃度が提供され、よってHミラー損傷(H mirror damage)の可能性が低下する。
原子水素とは対照的に、原子窒素は、例えばEUVミラー(EUVリソグラフィ装置内の集光鏡50など)のRuキャップ層を実質的に通過できないので、EUVミラーに損傷を与えることはできない。さらに、原子窒素は、水素よりも、炭素のみならず酸素と共に安定したガス状物質を形成できる化学ポテンシャルおよび可能性がより高いために、MLミラーなどのEUVチャンバの洗浄においてより大きい化学効率(chemical efficiency)を有すると考えられている。その結果、洗浄率(cleaning rate)がより高くなり得る。Nの可能濃度(possible concentration)が高くなると(Ruキャップ層内への拡散がないため)、洗浄率も高くなり得る。
上記の説明は、制限ではなく例示を目的とし、したがって、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えることもできる。
Claims (31)
- リソグラフィ装置の素子を洗浄する方法であって、
窒素を含むガスを供給するステップと、
当該ガスの少なくとも一部から窒素ラジカルを生成することにより、ラジカル含有ガスを形成するステップと、
当該ラジカル含有ガスの少なくとも一部をリソグラフィ装置の1つ以上の素子に供給するステップと
を備える方法。 - 前記リソグラフィ装置がEUVリソグラフィ装置を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記ガスがN2を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ガスがH2をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ラジカルが放電を用いて前記ガスから生成される、請求項1に記載の方法。
- 前記ラジカルが無線周波数放電を用いて前記ガスから生成される、請求項1に記載の方法。
- 前記放電が誘導放電または容量放電を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置の素子が、ミラー、回折格子、レチクル、センサ、支持部材、リソグラフィ装置チャンバ、およびリソグラフィ装置壁からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記ガスがハロゲンをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 水素ラジカル含有ガスを前記1つ以上の素子に供給し、続いて窒素ラジカル含有ガスを前記素子に供給することにより、前記素子を洗浄する、請求項1に記載の方法。
- ラジカル含有ガスを前記素子に供給し、続いてハロゲン含有ガスを前記素子に供給することにより、前記素子を洗浄する、請求項1に記載の方法。
- リソグラフィ装置の素子を洗浄する方法であって、
窒素と水素からなる群から選択される1つ以上を含むガスを供給するステップと、
前記ガスの少なくとも一部から窒素ラジカルおよび/または水素ラジカルを生成することによって、ラジカル含有ガスを形成するステップと、
前記ラジカル含有ガスの少なくとも一部をリソグラフィ装置の前記素子に供給するステップと
を備える方法。 - 前記リソグラフィ装置がEUVリソグラフィ装置を備える、請求項12に記載の方法。
- 前記ガスがN2を含む、請求項12に記載の方法。
- 前記ガスがH2を含む、請求項12に記載の方法。
- 前記ラジカルが放電を用いて前記ガスから生成される、請求項12に記載の方法。
- 前記ラジカルが無線周波数放電を用いて前記ガスから生成される、請求項12に記載の方法。
- 前記放電が誘導放電または容量放電を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置の素子が、ミラー、回折格子、レチクル、センサ、支持部材、リソグラフィ装置チャンバ、およびリソグラフィ装置壁からなる群から選択される、請求項12に記載の方法。
- 前記ガスがハロゲンをさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 水素ラジカル含有ガスを前記1つ以上の素子に供給し、続いて窒素ラジカル含有ガスを前記1つ以上の素子に供給することにより、前記素子を洗浄する、請求項12に記載の方法。
- 水素ラジカルと窒素ラジカルからなる群から選択されたラジカルを含むラジカル含有ガスを前記1つ以上の素子に供給し、続いてハロゲン含有ガスを前記1つ以上の素子に供給することにより、前記素子を洗浄する、請求項12に記載の方法。
- ソースと、
光学素子と、
無線周波数放電を発生するように構成された放電発生器と
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記放電発生器が誘導放電または容量放電を発生するように配置されている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置がEUVリソグラフィ装置である、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放電発生器が集光鏡と一体化されている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 集光鏡をさらに備えており、当該集光鏡は多くのリフレクタを備え、前記放電発生器は当該集光鏡と一体化されかつ2つのリフレクタの間に放電を発生するように構成されている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 集光鏡をさらに備えており、当該集光鏡は1つ以上の電導コイルを備えている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 集光鏡をさらに備えており、当該集光鏡は複数のリフレクタを備え、当該リフレクタは複数の導電板を備え、1つのリフレクタ上の導電板とその隣接するリフレクタ上の導電板とは互いに分離されている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 集光鏡をさらに備えており、当該集光鏡は複数のリフレクタを備え、当該リフレクタは光軸に対して回転対称に入れ子状になっており、
中心構造体をさらに備えており、少なくとも当該中心構造体の一部は当該中心構造体とその隣接するリフレクタとの間で容量放電を発生するように構成されている、
請求項23に記載のリソグラフィ装置。 - 前記放電発生器は1〜1000MHzの無線周波数放電を発生するように構成されている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
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