JP4814922B2 - リソグラフィ装置の光エレメントの保護方法、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
a.ステップモードにおいては、パターニングデバイスサポートMTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度に(すなわち、単一静止露光)ターゲット部分C上に投影する。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静止露光時に結像されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
b.スキャンモードにおいては、パターニングデバイスサポートMTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。パターニングデバイスサポートMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズよって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
c.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、パターニングデバイスサポートMTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
a.SnH4を含む堆積ガスを光エレメントの表面に供給して、光エレメントの表面上にSnキャップ層を堆積させることを含む堆積プロセス(a)、
b.デバイス製造プロセス(b)におけるリソグラフィ装置の使用、および
c.オプションとして、キャップ層の少なくとも一部が、リソグラフィ装置の使用の後に、水素ラジカルおよび/またはSnH4を含む修理ガスに晒される、修理プロセス(c)を含む方法を提供する。
プロセス(b)および(c)は複数回繰り返すことができる。すなわち、使用後または使用中に、修理プロセス(c)を実行し、そして処理をそれぞれ再開するかまたは継続することができる。レーザ生成プラズマ(LPP)EUV源は主にイオンデブリを生み出すので、前記方法は、修理ガスがSnH4を含む場合に有用であるかもしれない。LPP源を含むリソグラフィ装置の場合は、リソグラフィ装置の操作の間であっても層の修理を繰り返し続けることができるので、洗浄プロセス(d)および(再)堆積プロセス(a’)(以下に説明する)をもはや必要とさえしないかもしれない。
a.SnH4を含む堆積ガス115を光エレメント100の表面150に供給して、光エレメント100の表面150上にSnキャップ層102を堆積させることを含む、堆積プロセス(a)、
b.デバイス製造プロセス(b)におけるリソグラフィ装置1の使用、
c.オプションとして、キャップ層102の少なくとも一部が、リソグラフィ装置1の使用の後に、水素ラジカルおよび/またはSnH4を含む修理ガス125に晒される、修理プロセス(c)、
d.キャップ層102の少なくとも一部を洗浄ガス145に晒し、Snキャップ層102の少なくとも一部を洗浄ガス145によって除去することを含む、洗浄プロセス(d)、および
e.プロセス(a)に従った堆積プロセス(a’)を含む。
プロセス(b)および(c)は、プロセス(d)および(a’)を実行する前に複数回繰り返すことができる(図3も参照)。前記方法のこの実施形態は、放電生成プラズマ源を備えたリソグラフィ装置に有用であるかもしれない。なぜならば、このような放電生成プラズマ源は、LPP源よりもキャップ層102に対して悪影響を与える傾向があるかもしれないからである。しかし、前記方法のこの実施形態は、LPP源を使用するリソグラフィ装置にも適用することができる。
実験
Claims (15)
- リソグラフィ装置の光エレメントの保護方法であって、当該光エレメントは表面を有しており、リソグラフィ装置の内部でSnH4を含む堆積ガスを前記光エレメントの前記表面上に供給して、前記光エレメントの前記表面上にSnキャップ層を堆積させる、方法。
- 前記リソグラフィ装置が、EUV放射を生成する放射源を含み、当該放射源がSnプラズマ源である、請求項1に記載の方法。
- 前記キャップ層の平均層厚さが0.05〜1.5nmの範囲内である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置を使用し、その後、前記キャップ層の少なくとも一部を、水素ラジカルを含む修理ガスに晒すことをさらに含む、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置の内部で前記Snキャップ層が前記修理ガスに晒される、請求項4に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置を使用し、その後、前記キャップ層の少なくとも一部を、SnH4を含む修理ガスに晒すことをさらに含む、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置の内部で前記Snキャップ層が前記修理ガスに晒される、請求項6に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置を使用しかつその後前記キャップ層の少なくとも一部を洗浄ガスに晒し、当該洗浄ガスを使用して前記Snキャップ層の少なくとも一部を除去し、そしてSnH4を含む前記堆積ガスを前記表面に供給して、新鮮なSnキャップ層を前記光エレメントの前記表面上に堆積させることをさらに含む、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 実質的に完全な前記Snキャップ層が前記洗浄ガスによって除去され、前記洗浄ガスがハロゲンを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置の内部で前記Snキャップ層が前記洗浄ガスによって除去される、請求項8に記載の方法。
- 前記光エレメントが集光ミラーであり、前記表面が当該集光ミラーの反射面である、請求項1〜10のいずれかに記載の方法。
- a.デバイス製造プロセス(a)におけるリソグラフィ装置の使用、および
b.前記リソグラフィ装置の使用の後で、前記キャップ層の少なくとも一部が、水素ラジカルまたはSnH4を含む修理ガスに晒される修理プロセス(b)を含み、
プロセス(a)および(b)が複数回繰り返される、請求項1に記載の方法。 - a.デバイス製造プロセス(a)におけるリソグラフィ装置の使用、
b.前記リソグラフィ装置の使用の後で、前記キャップ層の少なくとも一部が、水素ラジカルまたはSnH4を含む修理ガスに晒される修理プロセス(b)、
c.前記キャップ層の少なくとも一部を洗浄ガスに晒し、前記Snキャップ層の少なくとも一部を前記洗浄ガスによって除去することを含む洗浄プロセス(c)、および
d.洗浄プロセス(c)の後で、SnH4を含む堆積ガスを前記光エレメントの前記表面に供給して、前記光エレメントの前記表面上に新鮮なSnキャップ層を堆積させることを含む堆積プロセス(d)を含み、
プロセス(c)および(d)を実行する前に、プロセス(a)および(b)が複数回繰り返される、請求項1に記載の方法。 - 表面を有する光エレメントと、
リソグラフィ装置の内部でSnH4を含むガスを供給し、かつ当該ガスの流れを前記光エレメントの表面へと誘導するガス源と、
ハロゲンを含む洗浄ガスを供給し、かつ洗浄ガスの流れを前記光エレメントの前記表面上のSnキャップ層へと誘導する洗浄ガス源と、
を有するリソグラフィ装置。 - Snキャップ層を備えた表面を有する光エレメントを含むリソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、前記リソグラフィ装置の内部で前記光エレメントの前記表面上に前記Snキャップ層を堆積させるために、SnH 4 を含む堆積ガスを前記表面に供給することによって前記Snキャップ層が設けられる、デバイス製造方法。
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