JP2007087619A - 膜の製造方法、デバイスの製造方法、デバイス、電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 膜厚ムラを低減し、膜の均一性を向上することができる膜の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬディスプレイの素子形成領域１０に正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２を重ねて塗布し乾燥する。正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂとが非相溶性で、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８とが非相溶性で、電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とが非相溶性になるような溶液を選択する。重ねて塗布された各材料液は非相溶性の為、平坦な状態で乾燥され、膜が形成される。
【選択図】 図９

Description

本発明は、膜の製造方法、デバイスの製造方法、デバイス、電気光学装置及び電子機器に関するものである。

近年、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器に使用されるフラットパネルディスプレイは、高密度化、高画質化、高寿命化の要求が高まっている。
フラットパネルディスプレイとして、例えば有機ＥＬディスプレイ装置において画素を構成する素子の正孔注入層／輸送層、発光層、電子注入層の膜厚にムラができると、発光色ムラ、輝度ムラが発生し、さらに、部分的に電気の多く流れる個所ができ寿命も短くなる。そのため、高寿命、高画質にするには、膜厚を均一にすることが有効である
正孔注入層／輸送層、発光層、電子注入層の形成工程において、液滴を基板上に吐出する液滴吐出法を用いて高分子材料を塗布されることが多い。バンク内に機能液を塗布したあと、乾燥し膜を形成していた。その際、乾燥過程で液状体の流動が起きて膜厚の均一性が低下するという課題があった。
さらに、基板上の画素領域における端の部分と中央部分とでは、蒸発する溶媒の分子分圧の差が生じ乾燥速度にムラが生じる。画素上に塗布された液体の乾燥時間の差は、画素内での膜厚の均一性が低下する。特許文献１に示されるように、膜厚の均一性を向上する方法として、画素が配置されていない非表示領域に機能液を塗布して、基板上の画素領域における端の部分と中央の部分の蒸発溶媒の分子分圧差を近づけて、機能液の乾燥時間を制御する方法が紹介されている。

特開２００２−２２２６９５号公報（第６頁、図３）

しかしながら、特許文献１に示される方法では、液滴を吐出するための非表示領域を大きくする必要があり、基板の表示領域の面積が小さくなってしまう。また、特許文献１では、表示領域の端の部分の膜厚の均一性を向上できるが、表示領域全体の膜厚の均一性が低下するという課題は解決されない。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、膜厚の均一性を向上することができる膜の製造方法、デバイスの製造方法、デバイス、電気光学装置及び電子機器を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明の膜の製造方法は、複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、基板上に機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、第１の層及び第２の層を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする。

これによれば、液状である第１の機能液の上に液状である第２の機能液が配置される。第１の機能液と第２の機能液は、非相溶性であることから、第１の機能液と第２の機能液との境界面は表面張力により、平坦な状態となる。そしてこの状態で乾燥することで、膜厚が均一になる。従って、第１の層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明の膜の製造方法は、複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、基板上に機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、第２の機能液と非相溶性の第３の機能液を、第２の層の上に塗布し、第３の層を配置する第３の層配置工程と、第１の層、第２の層及び第３の層を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする。

これによれば、液状である第１の機能液の上に液状である第２の機能液が配置され、その第２の機能液の上に液状である第３の機能液が配置される。第１の機能液と第２の機能液は、非相溶性であり、第２の機能液と第３の機能液は、非相溶性であることから、第１の機能液と第２の機能液の境界面と、第２の機能液と第３の機能液の境界面は表面張力により、平坦な状態となる。そしてこの状態で乾燥することで、膜厚ムラが低減する。従って、第１の層と第２の層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明の膜の製造方法は、複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、基板上に機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、第２の機能液と非相溶性の溶媒を、第２の層の上に配置する溶媒配置工程と、第１の層、第２の層及び溶媒を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする。

これによれば、液状である第１の機能液の上に液状である第２の機能液が配置され、液状である第２の機能液の上に液状である溶媒が配置される。第１の機能液と第２の機能液は、非相溶性であり、第２の機能液と溶媒は、非相溶性であることから、第１の機能液と第２の機能液の境界面と、第２の機能液と溶媒の境界面は表面張力により、平坦な状態となる。そしてこの状態で乾燥することで、膜厚ムラが低減する。従って、第１の層と第２の層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明の膜の製造方法は、複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、基板上に機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、第２の機能液と非相溶性の第３の機能液を、第２の層の上に塗布し、第３の層を配置する第３の層配置工程と、第３の機能液と非相溶性の溶媒を、第３の層の上に配置する溶媒配置工程と、第１の層、第２の層、第３の層及び溶媒を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする。

これによれば、液状である第１の機能液の上に液状である第２の機能液が配置され、液状である第２の機能液の上に液状である第３の機能液が配置される。さらに、液状である第３の機能液の上に液状である溶媒が配置される。第１の機能液と第２の機能液は、非相溶性であり、第２の機能液と第３の機能液は非相溶性である。さらに、第３の機能液と溶媒は、非相溶性であることから、第１の機能液と第２の機能液の境界面と、第２の機能液と第３の機能液の境界面と、第３の機能液と溶媒の境界面は表面張力により、平坦な状態となる。そしてこの状態で乾燥することで、各膜の膜厚ムラが低減する。従って、第１の層と第２の層と第３の層の各層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明の膜の製造方法では、乾燥工程は、減圧乾燥法を用いて行ってもよい。
これによれば、層状に配置された液状の機能液や溶媒のうち、最も表面に配置された液体は、減圧乾燥法により液体流動の起きない粘度まで徐々に乾燥するので、最も表面に配置された液体は、真空乾燥法、加熱、エネルギー線照射により乾燥したときに比べて平坦な形態で乾燥する。従って、最も表面にある液状体の下に配置された液状体も液体流動できない為、真空乾燥法、加熱、エネルギー線照射により乾燥したときに比べて平坦な状態で乾燥される。その結果、配置された各層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明の膜の製造方法では、機能液または、溶媒を配置する方法は、液滴吐出法を用いて行なってもよい。
これによれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、機能液の消費に無駄がなく、基板上に配置する機能液の量や位置の制御を行ないやすい。

本発明のデバイスの製造方法は、前述の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、デバイスは、正孔注入層と発光層と電子注入層とを有し、第１の層は、正孔注入層であり、第２の層は発光層であってもよい。
これによれば、第１の層の膜厚の均一性を向上することができるので、正孔注入層の膜厚の均一性を向上することができる。さらに、溶媒配置工程を有する場合は、発光層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明のデバイスの製造方法は、前述の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、デバイスは、正孔注入層と発光層と電子注入層とを有し、第１の層は、発光層であり、第２の層は電子注入層であってもよい。
これによれば、第１の層の膜厚の均一性を向上することができるので、発光層の膜厚の均一性を向上することができる。さらに、溶媒配置工程を有する場合は、電子注入層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明のデバイスの製造方法は、前述の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、デバイスは、電子注入層と、発光層と、正孔注入層とを有し、第１の層は、電子注入層であり、第２の層は発光層であってもよい。
これによれば、第１の層の膜厚の均一性を向上することができるので、電子注入層の膜厚の均一性を向上することができる。さらに、溶媒配置工程を有する場合は、発光層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明のデバイスの製造方法は、前述の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、デバイスは、電子注入層と、発光層と、正孔注入層とを有し、第１の層は、発光層であり、第２の層は正孔注入層であってもよい。
これによれば、第１の層の膜厚の均一性を向上することができるので、発光層の膜厚の均一性を向上することができる。さらに、溶媒配置工程を有する場合は、正孔注入層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明のデバイスの製造方法は、前述の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、デバイスは、正孔注入層と発光層と電子注入層とを有し、第１の層は、正孔注入層であり、第２の層は発光層であり、第３の層は電子注入層であってもよい。
これによれば、第１と第２の層の膜厚の均一性を向上することができるので、正孔注入層と、発光層の膜厚の均一性を向上することができる。さらに、溶媒配置工程を有する場合は、電子注入層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明のデバイスの製造方法は、前述の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、デバイスは、電子注入層と、発光層と、正孔注入層とを有し、第１の層は電子注入層であり、第２の層は発光層であり、第３の層は正孔注入層であってもよい。
これによれば、第１と第２の層の膜厚の均一性を向上することができるので、電子注入層と、発光層の膜厚の均一性を向上することができる。さらに、溶媒配置工程を有する場合は、正孔注入層の膜厚の均一性を向上することができる。

本発明のデバイスは、前述のデバイス製造方法を用いて製造されている。
これによれば、このデバイスは、電子注入層と、発光層と、正孔注入層のうち少なくとも一つの層において、膜厚の均一性向上が可能な製造方法により製造されている。従って、膜厚の均一性が向上された層を有するデバイスとすることができる。

本発明の電気光学装置は、前述のデバイスを備えることを要旨とする。
これによれば、前述のデバイスは膜厚の均一性が向上した層を有するデバイスであることから、このデバイスを備えた電気光学装置は、輝度の均一性が向上された電気光学装置とすることができる。

本発明の電子機器は、前述の電気光学装置を表示部として備えたことを要旨とする。
これによれば、前述の電気光学装置は、輝度の均一性が向上された電気光学装置であることから、この電気光学装置を表示部として備えた電子機器は、輝度の均一性が向上された表示部を備えた電子機器とすることができる。

（第１の実施形態）
以下、本発明を具体化した有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」という）の第１の実施形態について図１〜図９に従って説明する。
図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイの平面的な概略回路配置図であり、図２は、その有機ＥＬディスプレイの図１中ａ−ａ線断面図である。

図１に示すように、電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ１は、ディスプレイ部２と、該ディスプレイ部２の下側部に接続されたフレキシブル回路基板３とから構成されている。

ディスプレイ部２は、基板４を備えている。基板４は、本実施形態では、ガラス板で構成されたものである。基板４は、図１及び図２に示すように、その略中央に略四角形状の表示領域５を備えている。表示領域５には、図１に示すように、ｍ×ｎ個の画素６がマトリクス状に形成されている。基板４上であって、表示領域５以外の領域（以下、非表示領域７という）には、一対の走査線駆動回路８及び検査回路９が形成されている。

表示領域５には、一行当りｎ個の画素６群がｍ行形成されている。赤色の光を出射するデバイスとしての赤色用有機ＥＬ素子１０Ｒと緑色の光を出射するデバイスとしての緑色用有機ＥＬ素子１０Ｇと青色の光を出射するデバイスとしての青色用有機ＥＬ素子１０Ｂとからなる１画素を構成単位として構成されている。そして、各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、図１中Ｘ方向（列方向）に沿って赤色用有機ＥＬ素子１０Ｒ、緑色用有機ＥＬ素子１０Ｇ、青色用有機ＥＬ素子１０Ｂの順に配置されている。

即ち、各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、図１中Ｘ方向に沿って、赤色用有機ＥＬ素子１０Ｒ、緑色用有機ＥＬ素子１０Ｇ、青色用有機ＥＬ素子１０Ｂ、赤色用有機ＥＬ素子１０Ｒ、緑色用有機ＥＬ素子１０Ｇ、…の順に繰り返して配置されている。また、図１中Ｙ方向（行方向）に沿っては、同色の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが配置されている。そして、各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、隣接する各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂと等間隔で配列されている。

図２に示すように、各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、基板４上に形成された回路形成層４ｂ上に形成されている。この回路形成層４ｂは、表示領域５に形成される前述の各画素６を駆動させるための薄膜トランジスタ１１等といった回路素子や、非表示領域７に形成される走査線駆動回路８または検査回路９を構成する回路素子が形成された層である。また、回路形成層４ｂ上の表示領域５に対応した領域には、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂをマトリクス状に区画するバンク１２が形成されている。

バンク１２は、その表面が撥液性を有している。このバンク１２は、撥液性を備えた材料、例えば、フッ素系樹脂で構成されたものでもよい。また、バンク１２は、撥液性を備えていない材料、例えば、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の樹脂を用いてパターン形成されたバンクに、ＣＦ₄プラズマ処理等により表面を撥液化されたものでもよい。

前述の回路形成層４ｂ上であって、バンク１２によって区画された凹状領域（以下、素子形成領域１０と称す）の各底部には画素電極１３が形成されている。各画素電極１３は、対応する薄膜トランジスタ１１とコンタクトホール１４を介して電気的に接続されている。各画素電極１３上には、第１の層としての正孔注入輸送層（以下、正孔注入層１５と称す）、第２の層としての発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ、第３の層としての電子注入輸送層（以下、電子注入層１７と称す）の順に膜としての層が積層されてなる機能層１８が形成されている。

正孔注入層１５は、画素電極１３の電圧を受けて正孔を生成し、伝播する機能を有しており、本発明の製造方法により、その層の膜厚が均一に形成されている。その形成材料として本実施形態では、正孔伝達材料であるポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（以下PEDOTと呼ぶ）と絶縁材料であるポリスチレンスルフォン酸（以下PSSと呼ぶ）を含有する材料を採用している。

発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、光を出射する有機発光材料で構成された層であり、本発明の製造方法により、その層の膜厚は均一に形成されている。赤色の発光層１６Ｒの形成材料として本実施形態では、ＭＥＨＰＰＶ（ポリ（３−メトキシ，６−（３−エチルヘキシル）パラフェニレンビニレン）を含有する材料を採用している。緑色の発光層１６Ｇの形成材料としてポリジオクチルフルオレンとＦ８ＢＴ（ジオクチルフルオレンとベンゾチアジアゾールの交互共重合体）の混合溶液を含有する材料を採用している。青色の発光層１６Ｂの形成材料としてポリジオクチルフルオレンを含有する材料を採用している。

電子注入層１７は、電子を発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂに伝送する機能を有しており、本発明の製造方法により、その層の膜厚が均一に形成されている。その層の形成材料として本実施形態ではビスアセチルアセトナト／カルシウム錯体（Ｃａ（ａｃａｃ）２）を含有する材料を採用している。

機能層１８及びバンク１２上全面に渡って陰極１９が形成され、電子注入層１７に電子を流動させている。また、陰極１９の一部は、非表示領域７上を覆うように形成されている。陰極１９は、光透過性を有する導電性材料で構成されている。本実施形態においては、陰極１９は、蒸着法にてアルミニウムの薄膜が形成されている。

そして、上述した画素電極１３、正孔注入層１５、発光層１６Ｒ、電子注入層１７及び陰極１９が積層されて赤色用有機ＥＬ素子１０Ｒが構成される。また、画素電極１３、正孔注入層１５、発光層１６Ｇ、電子注入層１７及び陰極１９が積層されて緑色用有機ＥＬ素子１０Ｇが構成される。同様に、画素電極１３、正孔注入層１５、発光層１６Ｂ、電子注入層１７及び陰極１９が積層されて青色用有機ＥＬ素子１０Ｂが構成される。

陰極１９全面を覆うように、光透過性を有した材料で構成された封止部２０が形成されている。また、図１に示すように、基板４上であって、前述の表示領域５を挟むように、非表示領域７には一対の走査線駆動回路８が配置されている。各走査線駆動回路８は、上述したｍ行の画素６群のうちの所望の１行の画素６群を選択する走査信号を出力する。さらに、図１に示すように、基板４上の表示領域５よりＹ矢印方向側の非表示領域７には、検査回路９が形成されている。検査回路９は、各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが正常に駆動するか否かを検査するための回路であり、出荷するまえに有機ＥＬディスプレイ１を駆動して検査している。

また、図１に示すように、フレキシブル回路基板３上にはデータ線駆動回路２１と制御回路２２とが形成されている。データ線駆動回路２１は、走査線駆動回路８が出力した走査線信号によって選択された行の画素６群に対して、その各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの駆動信号を出力する。この駆動信号によって、各色用有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光輝度が決定される。これにより、各画素６の色と発光輝度が決定される。

制御回路２２は、走査線駆動回路８及びデータ線駆動回路２１の駆動を統括制御するための回路であり、各種制御信号を生成し、その生成した制御信号を各走査線駆動回路８及びデータ線駆動回路２１にそれぞれ出力する。

このように構成された有機ＥＬディスプレイ１は、制御回路２２から出力される各種制御信号によって走査線駆動回路８及びデータ線駆動回路２１が制御駆動され、各画素６の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光輝度が制御される。その結果、表示領域５上に所望の画像が表示されるようになっている。

次に、有機ＥＬディスプレイ１の製造において、正孔注入層１５、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ及び電子注入層１７を液滴吐出法にて形成する液滴吐出装置３０について図３〜図５に従って説明する。図３は、液滴吐出装置の概略斜視図である。図４は液滴吐出装置のヘッド部の概略斜視図であり、図５は、そのヘッド部の要部断面図である。
液滴吐出装置に関しては様々な種類の装置があるが、インクジェット法を用いた装置が好ましい。インクジェット法は微小液滴の吐出が可能であるため、微細加工に適している。

図３は、液滴吐出装置３０の構成を示す斜視図である。液滴吐出装置３０により、正孔注入層１５を構成する第１の機能液としての正孔注入層の材料液２６と、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを構成する第２の機能液としての発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと、電子注入層１７を構成する第３の機能液としての電子注入層の材料液２８及び溶媒としての膜厚調整用溶媒液５２が吐出され塗布される。
図３に示すように、液滴吐出装置３０には、直方体形状に形成される基台３１が備えられている。本実施形態では、この基台３１の長手方向をＹ方向とし、同Ｙ方向と直交する方向をＸ方向とする。

基台３１の上面３１ａには、Ｙ方向に延びる一対の案内レール３２ａ，３２ｂが同Ｙ方向全幅にわたり凸設されている。その基台３１の上側には、一対の案内レール３２ａ，３２ｂに対応する図示しない直動機構を備えた走査手段を構成するステージ３３が取付けられている。そのステージ３３の直動機構は、例えば案内レール３２ａ，３２ｂに沿ってＹ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＹ軸モータ（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がＹ軸モータに入力されると、Ｙ軸モータが正転又は逆転して、ステージ３３が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ軸方向に沿って所定の速度で往動又は、復動する（Ｙ方向に走査する）ようになっている。

そのステージ３３の上面には、載置面３４が形成され、その載置面３４には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、載置面３４に基板４を載置すると、基板チャック機構によって、その基板４が載置面３４の所定位置に位置決め固定されるようになっている。

基台３１のＸ方向両側には、一対の支持台３５ａ，３５ｂが立設され、その一対の支持台３５ａ，３５ｂには、Ｘ方向に延びる案内部材３６が架設されている。案内部材３６は、その長手方向の幅がステージ３３のＸ方向よりも長く形成され、その一端が支持台３５ａ側に張り出すように配置されている。

案内部材３６の上側には、吐出する液体を供給可能に収容する収容タンク３７が配設されている。一方、その案内部材３６の下側には、Ｘ方向に延びる案内レール３８がＸ方向全幅にわたり凸設されている。

案内レール３８に沿って移動可能に配置されるキャリッジ３９は、略直方体形状に形成されている。そのキャリッジ３９の直動機構は、例えば案内レール３８に沿ってＸ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＸ軸モータ（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＸ軸モータに入力すると、Ｘ軸モータが正転又は逆転して、キャリッジ３９が同ステップ数に相当する分だけＸ方向に沿って往動又は復動する（Ｘ方向に走査する）。

また、図４に示すように、キャリッジ３９の下面（ステージ３３側の面：ヘッド配設面３９ａ）には、第１〜第６の液滴吐出ヘッド４５〜５０がＸ方向に互いに平行に凸設されている。第１〜第６の液滴吐出ヘッド４５〜５０の下面には、それぞれノズルプレートＰ１〜Ｐ６が備えられている。そのノズルプレートＰ１〜Ｐ６には、それぞれ複数のノズルＮ１〜Ｎ６がＸ方向に所定の間隔で配列されている。

図５は、第１〜第６の液滴吐出ヘッド４５〜５０の構造を説明するための要部断面図である。図５に示すように、ノズルプレートＰ１〜Ｐ６の上側であってノズルＮ１〜Ｎ６と相対する位置には、キャビティ５１が形成されている。そして、第１の液滴吐出ヘッド４５のキャビティ５１には、収容タンク３７に貯留されている正孔注入層の材料液２６が供給される。また、第２〜４の液滴吐出ヘッド４６，４７，４８のキャビティ５１には、収容タンク３７に貯留されている発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂが供給される。同様に、第５の液滴吐出ヘッド４９のキャビティ５１には、収容タンク３７に貯留されている電子注入層の材料液２８が供給され、第６の液滴吐出ヘッド５０のキャビティ５１には、収容タンク３７に貯留されている膜厚調整用溶媒液５２が供給される。
キャビティ５１の上側には、上下方向に振動して、キャビティ５１内の容積を拡大縮小する振動板５３と、上下方向に伸縮して振動板５３を振動させる圧電素子５４が配設されている。
圧電素子５４が上下方向に伸縮して振動板５３を振動し、振動板５３がキャビティ５１内の容積を拡大縮小する。それにより、キャビティ５１内に供給された機能層１８の材料液及び膜厚調整用溶媒液５２はノズルＮ１〜Ｎ６を通って吐出されるようになっている。

第１の液滴吐出ヘッド４５は、正孔注入層の材料液２６の液滴としての微小液滴５５を吐出する。同様に、第２の液滴吐出ヘッド４６は、発光層の材料液２７Ｒの微小液滴５６Ｒを吐出し、第３の液滴吐出ヘッド４７は、発光層の材料液２７Ｇの微小液滴５６Ｇを吐出し、第４の液滴吐出ヘッド４８は、発光層の材料液２７Ｂの微小液滴５６Ｂを吐出する。第５の液滴吐出ヘッド４９は、電子注入層の材料液２８の微小液滴５７を吐出し、第６の液滴吐出ヘッド５０は、電子注入層の材料液２８の溶媒と相溶性のない溶媒からなる膜厚調整用溶媒液５２の微小液滴５８を吐出する。

そして、第１〜第６の液滴吐出ヘッド４５〜５０が圧電素子５４を制御駆動するためのノズル駆動信号を受けると、圧電素子５４が伸張して、振動板５３がキャビティ５１内の容積を縮小する。その結果、第１の液滴吐出ヘッド４５のノズルＮ１からは、縮小した容積分の正孔注入層の材料液２６が微小液滴５５として吐出される。また、第２〜４の液滴吐出ヘッド４６，４７，４８のノズルＮ２，Ｎ３，Ｎ４からは、縮小した容積分の発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂが微小液滴５６Ｒ，５６Ｇ，５６Ｂとして吐出される。同様に、第５の液滴吐出ヘッド４９のノズルＮ５からは、縮小した容積分の電子注入層の材料液２８が微小液滴５７として吐出され、第６の液滴吐出ヘッド５０のノズルＮ６からは、縮小した容積分の膜厚調整用溶媒液５２が微小液滴５８として吐出される。

次に、上述した液滴吐出装置３０を使った正孔注入層１５、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ、電子注入層１７の製造方法について図６〜図９にて説明する。図６は、正孔注入層、発光層、電子注入層の製造方法のフローチチャートであり、図７〜図９は、液滴吐出装置の液滴吐出動作を説明する図である。
正孔注入層１５と発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと電子注入層１７以外の各層の形成は、公知の装置、方法によって形成されるので、その製造方法の説明は省略する。

まず、液滴吐出装置３０のステージ３３の移動と第１〜第６の液滴吐出ヘッド４５〜５０の動作について簡単に説明する。バンク１２が形成され、そのバンク１２内（素子形成領域１０）に画素電極１３が形成されている基板４を、ステージ３３の載置面３４に配置固定する。そして、キャリッジ３９（第１〜第６の液滴吐出ヘッド４５〜５０）を所定のＸ方向位置にセットした後、ステージ３３（基板４）をＹ方向に移動させる。そして、第１〜第６の液滴吐出ヘッド４５〜５０の直下をＹ方向に通過する基板４の素子形成領域１０に対して微小液滴５５，５６Ｒ，５６Ｇ，５６Ｂ，５７，５８を順次吐出する動作を行なう。

このとき、基板４に形成された赤色の素子形成領域１０には、最初に第１の液滴吐出ヘッド４５の直下を通過して微小液滴５５が塗布される。次に第２の液滴吐出ヘッド４６の直下を通過して微小液滴５６Ｒが塗布され、第５の液滴吐出ヘッド４９の直下を通過して微小液滴５７が塗布されるようになっている。さらに、第６の液滴吐出ヘッド５０の直下を通過して微小液滴５８が塗布されるようになっている。
尚、青色の素子形成領域１０では、第２の液滴吐出ヘッド４６でなく、第３の液滴吐出ヘッド４７から微小液滴５６Ｂが塗布さる。緑色の素子形成領域１０でも、第２の液滴吐出ヘッド４６でなく、第４の液滴吐出ヘッド４８から微小液滴５６Ｇが塗布される。

次に図６のフローチャートを用いて、デバイスの製造方法に相当する製造工程のステップを説明する。
図６において、ステップＳ１からステップＳ５までは、同一の液滴吐出装置３０によって製造するステップである。ステップＳ１は、第１の層の配置工程に相当し、基板４上の所定の素子形成領域１０に、第１の機能液である正孔注入層の材料液２６を塗布するステップである。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は、第２の層の配置工程に相当し、第２の機能液である発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂを塗布するステップである。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ３は、第３の層の配置工程に相当し、第３の機能液である電子注入層の材料液２８を塗布するステップである。次にステップＳ４に移行する。ステップＳ４は、溶媒配置工程に相当し、膜厚調整用溶媒液５２を塗布するステップである。次にステップＳ５に移行する。ステップＳ５にて、基板４上の塗布予定の全ての素子形成領域１０に、正孔注入層の材料液２６、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ、電子注入層の材料液２８及び膜厚調整用溶媒液５２が塗布されていなければステップＳ１に移行し、塗布されていれば、ステップＳ６に進む。ステップＳ６は、乾燥工程に相当し、正孔注入層の材料液２６、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ、電子注入層の材料液２８及び膜厚調整用溶媒液５２を乾燥し、機能層１８を形成するステップである。

次に、図７〜図９を用いて、図６に示したステップと対応させて、製造方法を詳細に説明する。
図７（ａ）、（ｂ）はステップＳ１に対応する図である。図７（ａ）に示すように、素子形成領域１０には、最初に第１の液滴吐出ヘッド４５のノズルＮ１から正孔注入層の材料液２６の微小液滴５５が吐出されて塗布される（ステップＳ１）。その結果、図７（ｂ）に示すように、素子形成領域１０内には正孔注入層の材料液２６が塗布される。
図７（ｃ）、図８（ａ）はステップＳ２に対応する図である。図７（ｃ）に示すように、第２の液滴吐出ヘッド４６のノズルＮ２から正孔注入層の材料液２６が塗布されている各素子形成領域１０へ、発光層の材料液２７Ｒの微小液滴５６Ｒが吐出されて塗布される（ステップＳ２）。その結果、図８（ａ）に示すように、各素子形成領域１０には、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒが重ねて塗布された液溜まりが形成される。

図８（ｂ）、（ｃ）はステップＳ３に対応する図である。図８（ｂ）に示すように、第５の液滴吐出ヘッド４９のノズルＮ５から発光層の材料液２７Ｒが塗布されている各素子形成領域１０へ、電子注入層の材料液２８の微小液滴５７が吐出されて塗布される（ステップＳ３）。その結果、図８（ｃ）に示すように、各素子形成領域１０には、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒと電子注入層の材料液２８が重ねて塗布された液溜まりが形成される。

図９（ａ）、（ｂ）はステップＳ４に対応する図である。図９（ａ）に示すように、第６の液滴吐出ヘッド５０のノズルＮ６から電子注入層の材料液２８が塗布されている素子形成領域１０へ、膜厚調整用溶媒液５２の微小液滴５８が吐出されて塗布される（ステップＳ４）。その結果、図８（ｂ）に示すように、各素子形成領域１０には、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２が重ねて塗布された液溜まりが形成される。

同様に、緑色と青色の素子形成領域１０においては、素子形成領域１０に、第１の液滴吐出ヘッド４５のノズルＮ１から正孔注入層の材料液２６の微小液滴５５が吐出されて塗布され（ステップＳ１）、正孔注入層の材料液２６が塗布される。次に緑色の素子形成領域１０においては、第３の液滴吐出ヘッド４７のノズルＮ３から、緑色の発光層の材料液２７Ｇの微小液滴５６Ｇが吐出されて塗布され（ステップＳ２）、素子形成領域１０には、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｇが重ねて塗布された液溜まりが形成される。青色の素子形成領域１０においては、第４の液滴吐出ヘッド４８のノズルＮ４から、青色の発光層の材料液２７Ｂの微小液滴５６Ｂが吐出されて塗布され（ステップＳ２）、各素子形成領域１０には、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｂが重ねて塗布された液溜まりが形成される。

続いて、発光層の材料液２７Ｇ，２７Ｂの上に第５の液滴吐出ヘッド４９のノズルＮ５から電子注入層の材料液２８の微小液滴５７が吐出されて塗布され（ステップＳ３）、電子注入層の材料液２８の上に第６の液滴吐出ヘッド５０のノズルＮ６から膜厚調整用溶媒液５２の微小液滴５８が吐出されて塗布される（ステップＳ４）。その結果、各素子形成領域１０には、正孔注入層の材料液２６、発光層の材料液２７Ｇ，２７Ｂ、電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とが重ねて塗布された液溜まりが形成される。
塗布する予定の全ての素子形成領域１０に各機能層の材料液を塗布したら、塗布を終了する（ステップＳ５）。

尚、正孔注入層の材料液２６と電子注入層の材料液２８との溶媒または分散媒として、本実施形態では、極性溶媒である水を採用している。一方、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと膜厚調整用溶媒液５２との溶媒または分散媒として、本実施形態では、非極性溶媒であるキシレンを採用している。
従って、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂとは相溶性がないので混じることがなく、その２液の境界面は、表面張力及び重力によりほぼ平坦な状態となる。同様に、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８との間の境界面及び、電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２との境界面もほぼ平坦な状態となる。

図９（ｃ）はステップＳ６に対応する図である。図９（ｃ）に示すように、乾燥工程において基板４を乾燥する（ステップＳ６）。本実施形態においては、真空中（１ｔｏｒｒ（１３３．３Ｐａ））、室温、２０分という条件で乾燥することとし、これにより、溶媒または分散媒が除去される。このとき、素子形成領域１０では、正孔注入層の材料液２６、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ及び電子注入層の材料液２８は固体化する。そして、画素電極１３上に正孔注入層１５、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ及び電子注入層１７からなる機能層１８が形成される。

次に、図２に示す断面と同様に、蒸着法によって、電子注入層１７上、バンク１２上及び回路形成層４ｂ上に渡ってアルミニウムを蒸着させ陰極１９を形成する。さらに、陰極１９の上に光透過性を有した材料で構成された封止部２０を形成する。これにより、ディスプレイ部２が製造される。

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、図６に示すステップに従って、基板４の表示領域５に形成された各素子形成領域１０において、画素電極１３上に正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とを順次塗布し、乾燥する。
また、正孔注入層の材料液２６と電子注入層の材料液２８の溶媒または分散媒は、極性溶媒である水を採用し、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと膜厚調整用溶媒液５２の溶媒または分散媒は、非極性溶媒であるキシレンを採用した。従って、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂとは非相溶性となり、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８とは非相溶性となる。さらに、電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とは非相溶性となる。
乾燥工程において、膜厚調整用溶媒液５２は、バンク１２に膜厚調整用溶媒液５２が移動しつつ真空中に蒸発する。電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とは非相溶性であるため、２液の境界面は分離し、表面張力及び重力により平坦な状態となっている。従って、膜厚調整用溶媒液５２を塗布しないときに比べて、膜厚調整用溶媒液５２を塗布したとき、電子注入層の材料液２８は、バンク１２に移動しずらい状態で乾燥し、電子注入層１７が形成される。その結果、電子注入層１７は膜厚の均一性を向上することができる。
同様に、電子注入層の材料液２８と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂとは非相溶性であり、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂの上に電子注入層の材料液２８を塗布しないで乾燥したときに比べて、膜厚の均一性を向上することができる。発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと正孔注入層の材料液２６とは、非相溶性であり、正孔注入層１５は、正孔注入層の材料液２６の上に発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂを塗布しないで乾燥したときに比べて、膜厚の均一性を向上することができる。

（２）本実施形態によれば、正孔注入層１５、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ、電子注入層１７の各層の膜は、各層の材料液を塗布後、各層毎に乾燥するときに比べて、平坦な膜厚とすることができることから、均一な膜厚とすることができる。従って、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに電圧を印加したとき、膜全体に同じ電流密度で電流が流れる。その結果、部分的に高い電流密度の電流が流れて劣化が早まる個所がないことから、寿命の長い有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとすることができる。

（３）本実施形態によれば、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに電圧を印加したとき、膜全体にほぼ同じ電流密度で電流が流れる。従って部分的に高い電流密度の電流が流れて他の個所に比べて高い輝度になる個所がないので、輝度のばらつきの少ない有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとすることができる。

（４）本実施形態によれば、第１の液滴吐出ヘッド４５のノズルＮ１が吐出する素子形成領域１０と同じ位置の素子形成領域１０に吐出する第２〜６の液滴吐出ヘッド４６〜５０のノズルＮ２〜Ｎ６とは、基板４を走査する方向の同一線上に配置されている。従って、一回の走査で、同一地点の素子形成領域１０に対して、第１〜６の液滴吐出ヘッド４５〜５０が吐出する事ができるので、生産性のよい装置とする事ができる。
（５）本実施形態によれば、液滴吐出法により機能液を塗布したことから、位置と吐出量を精度良く制御して塗布することができる。

（６）本実施形態によれば、非表示領域７に溶媒などの機能液を塗布しなくとも、電子注入層１７を平坦に形成できることから、非表示領域７を広くする必要がない。従って、非表示領域７の面積が狭い有機ＥＬディスプレイ１とすることができる。
（第２の実施形態）

次に、上述した第１の実施形態の有機ＥＬディスプレイ１を備えた電子機器について説明する。
図１０は、パーソナルコンピュータに有機ＥＬディスプレイ１を搭載した例を示す概略斜視図である。図１０に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピュータ１００の本体は情報を表示する表示部としての表示装置１０１を備えている。この表示装置１０１に、第１の実施形態により製造された有機ＥＬディスプレイ１が配設されている。パーソナルコンピュータ１００に配置されている表示装置１０１は、前述の実施形態により製造された、輝度のムラがない有機ＥＬディスプレイ１を搭載しているので、表示部の輝度のムラがないという効果を有する電子機器となる。

尚、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良などを加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）前記実施形態では、乾燥工程において真空乾燥方法を採用したが、減圧乾燥法で乾燥してもよい。図１１は、減圧乾燥装置の構造を示す側断面概略図である。
図１１に示すように、減圧乾燥装置２００は、液状体Ｌが塗布された基板Ｗをチャンバー２０１内に収容し、液状体Ｌの溶媒を減圧下で蒸発させ乾燥させる減圧乾燥法を行なう装置である。

チャンバー２０１は、図面上の上部側の第１室２０２と下部側の第２室２０３とを有し、第２室２０３の容積が第１室２０２の容積に比べて大きくなるようにチャンバー２０１内を仕切る隔壁部２０４を備えている。隔壁部２０４の第１室２０２側には、基板Ｗを載置する載置台２０５が設けられている。隔壁部２０４には、チャンバー２０１の第１室２０２と第２室２０３とが連通する連通口２０６が載置台２０５の辺部に沿って２箇所設けられている。２つの連通口２０６が開口している部分には、チャンバー２０１の外壁部に取り付けられたモータに回転軸２０７ａが繋がれた連通弁２０７がそれぞれ設けられている。

第１室２０２の上部中央付近には、接続孔２０８が設けられており、第１室２０２に不活性ガスである窒素（Ｎ₂）ガスを導入可能な配管２０９の一方が接続されている。また、第１室２０２の側壁部には、第１室２０２内の減圧状態を計測可能な真空計２１０が設けられている。第２室２０３の下部（底面）中央付近には、接続孔２１１が設けられており、配管２１２の一方が接続されている。配管２１２の他方は、真空バルブ２１３を介して第２室２０３を減圧可能な真空ポンプ２１４に接続されている。第２室２０３の側壁部には、第２室２０３内の減圧状態を計測可能な真空計２１５が設けられている。真空計２１５および真空ポンプ２１４も制御部に電気的に接続され、制御部は、真空計２１５の出力（圧力値）を検出して、真空ポンプ２１４の排気速度を制御可能となっている。

本変形例の減圧乾燥装置に液状体Ｌを塗布した基板Ｗを設置し、連通弁２０７を開き所定の気圧に減圧する。次に液状体Ｌが蒸発し第１室２０２の気圧が上がったとき、連通弁２０７を開き、第１室２０２の気圧を下げた後連通弁２０７を閉じる。その後真空ポンプ２１４を作動して第２室２０３の気圧を所定の気圧まで減圧する。
このようにして、基板Ｗの液状体Ｌの蒸発速度を制御することで、第１室２０２内部の蒸気圧の分布を均一にできるので、蒸気分圧の場所による圧力差の影響を受けずに乾燥をすることができる。従って、前記第１の実施形態において基板４の素子形成領域１０に塗布した正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とを本変形例の減圧乾燥装置にて乾燥すると、蒸気分圧の場所による圧力差の影響を受けずに乾燥をすることができることから、真空乾燥する場合に比べて、さらに膜厚が均一である機能層１８をもつ有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとすることができる。

（変形例２）前記第１の実施形態では、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とを液滴吐出装置３０にて連続吐出したが、各材料液を別の液滴吐出装置にて塗布しても良い。塗布した液を乾燥しないようにして、別の液滴吐出装置に移動し、次の層の液を塗布しても良い。

（変形例３）前記第１の実施形態では、各画素電極１３上に、正孔注入層１５、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ、電子注入層１７の順に積層して機能層１８を形成し、機能層１８上に陰極１９を形成したが、これに限らない。正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと膜厚調整用溶媒液５２を塗布して乾燥した後、電子注入層１７は、ビスアセチルアセトナト／カルシウム錯体（Ｃａ（ａｃａｃ）２）を含有する材料を、蒸着法により成膜しても良い。

（変形例４）前記第１の実施形態では、陰極１９は、蒸着法にてアルミニウムの薄膜を形成したが、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の薄膜をスパッタリングにて形成してもよい。

（変形例５）前記第１の実施形態では、発光層の材料は、ＭＥＨＰＰＶ（ポリ（３−メトキシ，６−（３−エチルヘキシル）パラフェニレンビニレン）、Ｆ８ＢＴ（ジオクチルフルオレンとベンゾチアジアゾールの交互共重合体）、ポリジオクチルフルオレンを採用したがこれに限定されない。
発光層の形成材料として、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などを採用してもよい。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
他に、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン系高分子誘導体、等を採用しても良い。

（変形例６）前記第１の実施形態では、各画素電極１３上に、正孔注入層１５、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ、電子注入層１７の順に積層して機能層１８を形成し、機能層１８上に陰極１９を形成したが、この積層順を逆にしても良い。各画素電極上に、電子注入層の材料液と発光層の材料液と正孔注入層の材料液と膜厚調整用溶媒液とをこの順に塗布し乾燥することで、電子注入層、発光層、正孔注入層、の順に積層した機能層を形成し、機能層上に陽極を形成しても良い。各画素電極が陰極になるように、各画素電極と陽極間に電圧をかけることで、発光可能な有機ＥＬ素子とすることができる。この場合においても、第１の実施形態と同様の効果が得られる。

（変形例７）前記第１の実施形態では、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと膜厚調整用溶媒液５２の溶媒または分散媒は、非極性溶媒であるキシレンを採用したが、トルエン、メシチレンなどの非極性溶媒を採用しても良い。

（変形例８）前記第１の実施形態では、乾燥は、真空乾燥により乾燥したが、熱処理あるいは窒素ガスフローにより溶媒を除去してもよい。

（変形例９）前記第１の実施形態では、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２とを塗布し乾燥して機能層１８を形成したが、これに限らない。正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと膜厚調整用溶媒液５２とを塗布し乾燥した後、電子注入層の材料液２８を塗布し乾燥して電子注入層１７を形成しても良い。

（変形例１０）前記第１の実施形態では、正孔注入層の材料液２６と発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２を塗布し乾燥して機能層１８を形成したが、これに限らない。正孔注入層の材料液２６を塗布し乾燥して正孔注入層１５を形成した後、発光層の材料液２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂと電子注入層の材料液２８と膜厚調整用溶媒液５２を塗布し乾燥して機能層１８を形成しても良い。

（変形例１１）前記変形例６では、各画素電極上に、電子注入層の材料液と発光層の材料液と正孔注入層の材料液と膜厚調整用溶媒液とをこの順に塗布し乾燥して機能層を形成したが、これに限らない。電子注入層の材料液と発光層の材料液と膜厚調整用溶媒液とをこの順に塗布し乾燥した後、正孔注入層の材料液と膜厚調整用溶媒液とをこの順に塗布し乾燥して機能層を形成しても良い。

（変形例１２）前記変形例６では、各画素電極上に、電子注入層の材料液と発光層の材料液と正孔注入層の材料液と膜厚調整用溶媒液とをこの順に塗布し乾燥して機能層を形成したが、これに限らない。電子注入層の材料液と膜厚調整用溶媒液とをこの順に塗布し乾燥した後、発光層の材料液と正孔注入層の材料液と膜厚調整用溶媒液とをこの順に塗布し乾燥して機能層を形成しても良い。

第１の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの正面図。 有機ＥＬディスプレイの断面図。 液滴吐出装置を示す斜視図。 液滴吐出ヘッドを示す斜視図。 液滴吐出ヘッドを示す断面図。 有機ＥＬディスプレイの製造工程を示すフローチャート。 （ａ）〜（ｃ）は、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。 （ａ）〜（ｃ）は、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。 （ａ）〜（ｃ）は、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。 第２の実施形態の電子機器を示す斜視図。 減圧乾燥装置を示す断面図。

符号の説明

１…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、４…基板、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…デバイスとしての有機ＥＬ素子、１５…第１の層としての正孔注入層、１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…第２の層としての発光層、１７…第３の層としての電子注入層、２６…第１の機能液としての正孔注入層の材料液、２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ…第２の機能液としての発光層の材料液、２８…第３の機能液としての電子注入層の材料液、５２…溶媒としての膜厚調整用溶媒液、１００…電子機器としてのパーソナルコンピュータ、１０１…表示部としての表示装置。

Claims (15)

1. 複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、
   前記基板上に前記機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、
   前記第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、前記第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、
   前記第１の層及び前記第２の層を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする膜の製造方法。
2. 複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、
   前記基板上に前記機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、
   前記第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、前記第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、
   前記第２の機能液と非相溶性の第３の機能液を、前記第２の層の上に塗布し、第３の層を配置する第３の層配置工程と、
   前記第１の層、前記第２の層及び前記第３の層を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする膜の製造方法。
3. 複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、
   前記基板上に前記機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、
   前記第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、前記第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、
   前記第２の機能液と非相溶性の溶媒を、前記第２の層の上に配置する溶媒配置工程と、
   前記第１の層、前記第２の層及び前記溶媒を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする膜の製造方法。
4. 複数の機能液を基板上に配置することにより複数の膜を積層して形成する膜の製造方法であって、
   前記基板上に前記機能液である第１の機能液を塗布し、第１の層を配置する第１の層配置工程と、
   前記第１の機能液と非相溶性の第２の機能液を、前記第１の層の上に塗布し、第２の層を配置する第２の層配置工程と、
   前記第２の機能液と非相溶性の第３の機能液を、前記第２の層の上に塗布し、第３の層を配置する第３の層配置工程と、
   前記第３の機能液と非相溶性の溶媒を、前記第３の層の上に配置する溶媒配置工程と、
   前記第１の層、前記第２の層、前記第３の層及び前記溶媒を乾燥する乾燥工程とを有することを特徴とする膜の製造方法。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜の製造方法であって、
   前記乾燥工程は、減圧乾燥法を用いて行うことを特徴とする膜の製造方法。
6. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜の製造方法であって、
   前記機能液、または前記溶媒を配置する方法は、液滴吐出法であることを特徴とする膜の製造方法。
7. 請求項１，３，５〜６のいずれか一項に記載の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、
   前記デバイスは、正孔注入層と発光層と電子注入層とを有し、
   前記第１の層は、前記正孔注入層であり、前記第２の層は前記発光層であることを特徴とするデバイスの製造方法。
8. 請求項１，３，５〜６のいずれか一項に記載の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、
   前記デバイスは、正孔注入層と発光層と電子注入層とを有し、
   前記第１の層は、前記発光層であり、前記第２の層は前記電子注入層であることを特徴とするデバイスの製造方法。
9. 請求項１，３，５〜６のいずれか一項に記載の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、
   前記デバイスは、電子注入層と発光層と正孔注入層とを有し、
   前記第１の層は、前記電子注入層であり、前記第２の層は前記発光層であることを特徴とするデバイスの製造方法。
10. 請求項１，３，５〜６のいずれか一項に記載の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、
    前記デバイスは、電子注入層と発光層と正孔注入層とを有し、
    前記第１の層は、前記発光層であり、前記第２の層は前記正孔注入層であることを特徴とするデバイスの製造方法。
11. 請求項２，４〜６のいずれか一項に記載の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、
    前記デバイスは、正孔注入層と発光層と電子注入層とを有し、
    前記第１の層は、前記正孔注入層であり、前記第２の層は前記発光層であり、前記第３の層は前記電子注入層であることを特徴とするデバイスの製造方法。
12. 請求項２，４〜６のいずれか一項に記載の膜の製造方法を使用したデバイスの製造方法であって、
    前記デバイスは、電子注入層と、発光層と、正孔注入層とを有し、
    前記第１の層は前記電子注入層であり、前記第２の層は前記発光層であり、前記第３の層は前記正孔注入層であることを特徴とするデバイスの製造方法。
13. 請求項７〜１２のいずれか一項に記載のデバイスの製造方法を用いて製造したことを特徴とするデバイス。
14. 請求項１３に記載のデバイスを備えることを特徴とする電気光学装置。
15. 請求項１４に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
    

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