JP2007081311A - 枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007081311A JP2007081311A JP2005270559A JP2005270559A JP2007081311A JP 2007081311 A JP2007081311 A JP 2007081311A JP 2005270559 A JP2005270559 A JP 2005270559A JP 2005270559 A JP2005270559 A JP 2005270559A JP 2007081311 A JP2007081311 A JP 2007081311A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- pure water
- cleaning apparatus
- gas nozzle
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【課題】 乾燥後のウェハ上に筋状の水滴の痕が発生するのを防ぐことができる枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法を得る。
【解決手段】 ウェハを保持するスピンテーブルと、ウェハの中央上部から10L/min以下の流量で純水を供給し、ウェハ上に均一な液盛りを行う純水ノズルと、スピンテーブルによりウェハを50rpm以下の回転速度で回転させながら、ウェハの中央上部からウェハの中心に10L/min以下の流量でガスを供給するガスノズルとを備えている。
【選択図】 図1
【解決手段】 ウェハを保持するスピンテーブルと、ウェハの中央上部から10L/min以下の流量で純水を供給し、ウェハ上に均一な液盛りを行う純水ノズルと、スピンテーブルによりウェハを50rpm以下の回転速度で回転させながら、ウェハの中央上部からウェハの中心に10L/min以下の流量でガスを供給するガスノズルとを備えている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ウェハを一枚毎に洗浄する枚葉型ウェハ洗浄装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法に関するものである。
従来のスピン型枚葉洗浄装置を用いたウェハの洗浄について図8を参照しながら説明する。まず、ウェハ1をスピンテーブル2に載せ、ウェハチャックピン4でウェハ1の側壁を保持して、薬液処理、超音波洗浄又は二流体洗浄などの物理力による洗浄処理を行う。そして、純水ノズル6から純水5を供給してウェハ1を洗浄する。その後、ウェハ1を高速で回転させ、遠心力により水滴20をウェハ外に弾き飛ばして除去し、そして自然乾燥させる(例えば、特許文献1参照)。
90mmSOC以降の世代のCu配線層間膜には低誘電率kの低い膜(Low−k膜)が適用されている。このLow−k膜は、水に対する接触角が90°前後又はそれ以上の疎水性膜である。このような疎水性膜が露出したウェハ1をスピン型枚葉洗浄装置で洗浄すると、乾燥工程初期の低速回転時には、遠心力が小さいウェハ1中心部で微小な水滴20が残留し、回転速度が上がった時に水滴20がウェハ1外に弾き飛ばされる。これにより乾燥後のウェハ1上に筋状の水滴の痕23が発生し、乾燥後の検査で異物が検出されることがあった。
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は、乾燥後のウェハ上に筋状の水滴の痕が発生するのを防ぐことができる枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法を得るものである。
本発明に係る枚葉型ウェハ洗浄装置は、ウェハを保持するスピンテーブルと、ウェハの中央上部から10L/min以下の流量で純水を供給し、ウェハ上に均一な液盛りを行う純水ノズルと、スピンテーブルによりウェハを50rpm以下の回転速度で回転させながら、ウェハの中央上部からウェハの中心に10L/min以下の流量でガスを供給するガスノズルとを備えている。本発明のその他の特徴は以下に明らかにする。
本発明により、乾燥後のウェハ上に筋状の水滴の痕が発生するのを防ぐことができる。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る枚葉型ウェハ洗浄装置の正面図である。この枚葉型ウェハ洗浄装置は、ウェハ1を保持するスピンテーブル2と、スピンテーブル2を回転させるモーター3と、ウェハ1の側壁を保持するウェハチャックピン4と、ウェハ1上に純水5を供給する純水ノズル6と、純水ノズル6の位置を制御する可動アーム7と、純水5の流量を制御する純水流量コントロール8と、ウェハ1上にガス9を供給するガスノズル10と、ガスノズル10の位置を制御する可動アーム11と、ガス9の流量を制御するガス流量コントロール12とを備えている。なお、純水ノズルとガスノズルは、共通の可動アームに取り付けてもよい。
図1は、本発明の実施の形態1に係る枚葉型ウェハ洗浄装置の正面図である。この枚葉型ウェハ洗浄装置は、ウェハ1を保持するスピンテーブル2と、スピンテーブル2を回転させるモーター3と、ウェハ1の側壁を保持するウェハチャックピン4と、ウェハ1上に純水5を供給する純水ノズル6と、純水ノズル6の位置を制御する可動アーム7と、純水5の流量を制御する純水流量コントロール8と、ウェハ1上にガス9を供給するガスノズル10と、ガスノズル10の位置を制御する可動アーム11と、ガス9の流量を制御するガス流量コントロール12とを備えている。なお、純水ノズルとガスノズルは、共通の可動アームに取り付けてもよい。
上記の枚葉型ウェハ洗浄装置を用いた洗浄方法について説明する。まず、ウェハ1をスピンテーブル2に載せ、薬液処理、超音波洗浄又は二流体洗浄などの物理力による洗浄処理を行う。
次に、純水リンス工程を行うため、スピンテーブル2を制御してウェハ1を静止状態又は30rpm以下の低速回転状態にする。そして、可動アーム7により、純水ノズル6をウェハ1の中央上部に移動させ、純水ノズル6の位置をウェハ1の表面から50mm以下、好ましくは20mm以下の高さに制御する。そして、純水ノズル6により、ウェハ1の中央上部から10L/min以下、好ましくは5L/mmin以下の流量で純水5を供給し、ウェハ1上に均一な液盛りを行う。液盛りした液面が乱れるのを防ぐため、純水5の供給を停止する際は徐々に流量を少なくする。また、ウェハ1上の液盛りを維持するため、ウェハ1側壁を保持するウェハチャックピン4には疎水性の材質を用いるのが好ましい。
次に、可動アーム11により、ガスノズル10の位置をウェハ1の表面から5〜50mm、好ましくは5〜20mmの高さに制御する。そして、スピンテーブル2によりウェハ1を50rpm以下、好ましくは30rpm以下の回転速度で回転させながら、ガスノズル10によりウェハ1の中央上部からウェハ1の中心に0.1〜10L/min、好ましくは0.5〜5L/minの流量でガス9を供給し、液盛りした純水5に穴を開ける。ガス9を吹き付けた際に液盛りした液面が乱れるのを防ぐため、ガス9の流量を徐々に多くする。
そして、液盛りした純水5の中央に穴が開いたら、段階的にウェハ1の回転速度を上げて、遠心力の効果により純水5をウェハ1外周から外へ押し出すことにより、中心部の穴を徐々に大きくし、ウェハ1上から完全に純水5を除去する。そして、純水5が除去できたら回転速度を500rpm以上の高速回転で乾燥を行う。
ウェハ1表面が疎水性であるため、その上の純水5は強い表面張力の影響で一つの塊になろうとし、ゆっくりとウェハ1中央から穴を大きくすることで微小な液滴の残留なく一つの塊としてウェハ1外周まで純水5を除去することができる。
ガスノズル10として、通常のストレート型のものを用いてもよいが、図2に示すような先端がなめらかに凸状に湾曲した末広がり形状のコアンダ効果ガスノズル13を用いるのが好ましい。これにより、液盛りした純水5にガス9を吹き付ける際に、末広がりのノズル側壁に沿って流れるガス流がノズル先端で水平方向に射出されるため、液盛りした純水5に穴開けした後、コアンダ効果ガスノズル13をウェハ1に近づけるとより効果的に純水5を周辺に押しのけることができる。
また、ガスノズル10として、図3(a)(b)に示すような、ストレート型のガスノズル14と、ストレート型のガスノズル14の先端外側に上下方向に移動可能に接続されたコアンダ効果ガスノズル13とを備えた複合型ノズルを用いるのが更に好ましい。このガスノズルを用いることで、図3(a)に示すように最初は直進性の強いストレート型のガスノズル14よりガス9を噴きつけて純水5に穴を開け、その後、図3(b)に示すようにコアンダ効果ガスノズル13を延ばして水平方向へ噴出す作用でより効果的に純水5の穴を広げることができる。
実施の形態1に係る枚葉型ウェハ洗浄装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法により、水洗リンス後に疎水性ウェハ上に残留する微小な水滴を除去し、微小な水滴がウェハ上にない状態にしてから、回転を上げてスピン乾燥を行うため、乾燥後のウェハ上に筋状の水滴の痕が発生するのを防ぐことができる。
実施の形態2.
図4は、本発明の実施の形態2に係る枚葉型ウェハ洗浄装置の正面図であり、図5はその側面図である。この枚葉型ウェハ洗浄装置は、ウェハ1を保持するスピンテーブル2と、スピンテーブル2を回転させるモーター3と、ウェハ1の側壁を保持するウェハチャックピン4と、ウェハ1の下面を支えるウェハ押上げピン15と、スピンテーブル2上に保持したウェハ1の表面を非接触でスキャンする親水性洗浄棒16と、親水性洗浄棒16の動作を制御する親水性洗浄棒コントローラ17と、ウェハ1上に純水5を供給する純水吐出口18と、純水5の流量を制御する純水流量コントロール8を備えている。
図4は、本発明の実施の形態2に係る枚葉型ウェハ洗浄装置の正面図であり、図5はその側面図である。この枚葉型ウェハ洗浄装置は、ウェハ1を保持するスピンテーブル2と、スピンテーブル2を回転させるモーター3と、ウェハ1の側壁を保持するウェハチャックピン4と、ウェハ1の下面を支えるウェハ押上げピン15と、スピンテーブル2上に保持したウェハ1の表面を非接触でスキャンする親水性洗浄棒16と、親水性洗浄棒16の動作を制御する親水性洗浄棒コントローラ17と、ウェハ1上に純水5を供給する純水吐出口18と、純水5の流量を制御する純水流量コントロール8を備えている。
上記の枚葉型ウェハ洗浄装置を用いた洗浄方法について説明する。まず、ウェハ1をスピンテーブル2に載せ、ウェハチャックピン4でウェハ1の側壁を保持し、ウェハ押上げピン15でウェハ1の下面を支える。次に、薬液処理、超音波洗浄又は二流体洗浄などの物理力による洗浄処理を行う。
次に、実施の形態1と同様に純水リンス工程を行う。その後、ウェハ1上に純水5が残留した状態で回転を停止し、親水性洗浄棒16でウェハ1全面を一定方向に非接触でスキャンする。具体的には、親水性洗浄棒16は、静止したウェハ1の表面から0.5〜10mm、好ましくは1〜5mmの高さをスキャンする。また、親水性洗浄棒16のスキャン速度は1〜100mm/sec、好ましくは10〜50mm/secである。これにより、ウェハ1上の水滴20は、親水性洗浄棒16に吸い寄せられ、親水性洗浄棒16とウェハ1の間に保持された状態でウェハ1上を移動するため、スキャンした部分の水滴20は除去される。
ただし、親水性洗浄棒16とウェハ1の間は純水5で満たされている必要があるため、スキャンと同時にスキャン方向前方に純水5を供給する。このため、親水性洗浄棒16は、スキャン方向前方に純水5を供給するために1つ以上の純水吐出口18を有する。そして、スキャン方向前方に供給する純水5の流量を100ml/min以下、好ましくは1〜20ml/minで制御する。
スキャンの際に、親水性洗浄棒16が保持できる容量を越えた分の純水5は、ウェハ1端部からウェハ1外へ除去される。ウェハ1上をスキャンする機構を有するためスピンテーブル2は、バキュームチャック又はウェハ保持機構のウェハチャックピン4を開放して、下からウェハ押上げピン15で持ち上げて親水性洗浄棒16の動作に影響を与えないようにする。
そして、親水性洗浄棒16でウェハ1全面をスキャンした後は、回転速度を500rpm以上の高速回転で乾燥を行う。
実施の形態2に係る枚葉型ウェハ洗浄装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法により、実施の形態1と同様の効果を得ることができる。
実施の形態3.
図6は、本発明の実施の形態3に係る枚葉型ウェハ洗浄装置の正面図であり、図7はその側面図である。この枚葉型ウェハ洗浄装置は、親水性洗浄棒16のスキャン方向前方に純水5を供給するために、親水性洗浄棒16のスキャン動作に同調して動作する純水ノズル21と、純水ノズル21の位置を制御する可動アーム22と、純水5の流量を制御する純水流量コントロール8とを設けている。その他の構成は実施の形態2と同様である。
図6は、本発明の実施の形態3に係る枚葉型ウェハ洗浄装置の正面図であり、図7はその側面図である。この枚葉型ウェハ洗浄装置は、親水性洗浄棒16のスキャン方向前方に純水5を供給するために、親水性洗浄棒16のスキャン動作に同調して動作する純水ノズル21と、純水ノズル21の位置を制御する可動アーム22と、純水5の流量を制御する純水流量コントロール8とを設けている。その他の構成は実施の形態2と同様である。
実施の形態3に係る枚葉型ウェハ洗浄装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法により、実施の形態1及び2と同様の効果を得ることができる。
1 ウェハ
2 スピンテーブル
5 純水
6 純水ノズル
9 ガス
10 ガスノズル
13 コアンダ効果ガスノズル
14 ストレート型のガスノズル
16 親水性洗浄棒
18 純水吐出口
20 水滴
21 純水ノズル
2 スピンテーブル
5 純水
6 純水ノズル
9 ガス
10 ガスノズル
13 コアンダ効果ガスノズル
14 ストレート型のガスノズル
16 親水性洗浄棒
18 純水吐出口
20 水滴
21 純水ノズル
Claims (12)
- ウェハを保持するスピンテーブルと、
前記ウェハの中央上部から10L/min以下の流量で純水を供給し、前記ウェハ上に均一な液盛りを行う純水ノズルと、
前記スピンテーブルにより前記ウェハを50rpm以下の回転速度で回転させながら、前記ウェハの中央上部から前記ウェハの中心に10L/min以下の流量でガスを供給するガスノズルとを備えたことを特徴とする枚葉型ウェハ洗浄装置。 - 前記純水ノズルは前記ウェハの表面から50mm以下の高さに制御され、前記ガスノズルは前記ウェハの表面から5〜50mmの高さに制御されることを特徴とする請求項1に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 前記ガスノズルは、ガス流量を0.5〜5L/minの範囲で制御する機能を備えていることを特徴とする請求項1に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 前記ガスノズルは、先端がなめらかに凸状に湾曲した末広がり形状のコアンダ効果ガスノズルであることを特徴とする請求項1に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 前記ガスノズルは、ストレート型のガスノズルと、前記ストレート型のガスノズルの先端外側に上下方向に移動可能に接続され、先端がなめらかに凸状に湾曲した末広がり形状のコアンダ効果ガスノズルとを有することを特徴とする請求項1に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- ウェハを保持するスピンテーブルと、
前記スピンテーブル上に保持した前記ウェハの表面を非接触でスキャンする親水性洗浄棒とを備えたことを特徴とする枚葉型ウェハ洗浄装置。 - 前記親水性洗浄棒は、前記ウェハの表面から0.5〜10mmの高さをスキャンすることを特徴とする請求項6に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 前記親水性洗浄棒のスキャン速度は1〜100mm/secであることを特徴とする請求項6に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 前記親水性洗浄棒は、スキャン方向前方に純水を供給するための純水吐出口を有することを特徴とする請求項6に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 前記親水性洗浄棒のスキャン方向前方に純水を供給するために、スキャンに同調して動作する純水供給ノズルを更に備えたことを特徴とする請求項6に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 前記スキャン方向前方に供給する純水の流量を100ml/min以下で制御することを特徴とする請求項9又は10に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置。
- 請求項1〜11の何れか1項に記載の枚葉型ウェハ洗浄装置を用いた半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005270559A JP2007081311A (ja) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | 枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005270559A JP2007081311A (ja) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | 枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007081311A true JP2007081311A (ja) | 2007-03-29 |
Family
ID=37941256
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005270559A Pending JP2007081311A (ja) | 2005-09-16 | 2005-09-16 | 枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007081311A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009260034A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-05 | Sokudo Co Ltd | 基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理装置 |
JP2010093189A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2012142617A (ja) * | 2012-04-09 | 2012-07-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び記憶媒体 |
KR101250722B1 (ko) | 2010-07-07 | 2013-04-03 | 가부시키가이샤 소쿠도 | 기판세정방법 및 기판세정장치 |
JP2013172080A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2014075612A (ja) * | 2014-01-17 | 2014-04-24 | Sokudo Co Ltd | 基板乾燥装置、基板処理装置および基板乾燥方法 |
KR20140113330A (ko) * | 2013-03-15 | 2014-09-24 | 가부시키가이샤 소쿠도 | 기판 세정 건조 방법 및 기판 현상 방법 |
KR101493647B1 (ko) | 2008-04-03 | 2015-02-13 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치 |
JP2016149470A (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 |
US10964558B2 (en) | 2016-03-08 | 2021-03-30 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing device |
JP2023067271A (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-16 | 株式会社Sumco | シリコンウェーハの枚葉式スピン洗浄乾燥装置のスピンテーブル回転速度の決定方法及び当該決定方法を用いた枚葉式スピン洗浄乾燥方法 |
CN118086875A (zh) * | 2024-04-26 | 2024-05-28 | 上海谙邦半导体设备有限公司 | 进气装置及半导体处理设备 |
-
2005
- 2005-09-16 JP JP2005270559A patent/JP2007081311A/ja active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101493647B1 (ko) | 2008-04-03 | 2015-02-13 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치 |
US8980013B2 (en) | 2008-04-03 | 2015-03-17 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus |
JP2009260034A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-05 | Sokudo Co Ltd | 基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理装置 |
JP2010093189A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US9028621B2 (en) | 2010-07-07 | 2015-05-12 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Substrate cleaning method and substrate cleaning device |
KR101250722B1 (ko) | 2010-07-07 | 2013-04-03 | 가부시키가이샤 소쿠도 | 기판세정방법 및 기판세정장치 |
JP2013172080A (ja) * | 2012-02-22 | 2013-09-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2012142617A (ja) * | 2012-04-09 | 2012-07-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び記憶媒体 |
JP2014179510A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Sokudo Co Ltd | 基板洗浄乾燥方法および基板現像方法 |
KR20140113330A (ko) * | 2013-03-15 | 2014-09-24 | 가부시키가이샤 소쿠도 | 기판 세정 건조 방법 및 기판 현상 방법 |
KR101950047B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2019-02-19 | 가부시키가이샤 스크린 세미컨덕터 솔루션즈 | 기판 세정 건조 방법 및 기판 현상 방법 |
JP2014075612A (ja) * | 2014-01-17 | 2014-04-24 | Sokudo Co Ltd | 基板乾燥装置、基板処理装置および基板乾燥方法 |
JP2016149470A (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 |
US10964558B2 (en) | 2016-03-08 | 2021-03-30 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing device |
US11501985B2 (en) | 2016-03-08 | 2022-11-15 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing device |
JP2023067271A (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-16 | 株式会社Sumco | シリコンウェーハの枚葉式スピン洗浄乾燥装置のスピンテーブル回転速度の決定方法及び当該決定方法を用いた枚葉式スピン洗浄乾燥方法 |
JP7351331B2 (ja) | 2021-10-29 | 2023-09-27 | 株式会社Sumco | シリコンウェーハの枚葉式スピン洗浄乾燥方法 |
CN118086875A (zh) * | 2024-04-26 | 2024-05-28 | 上海谙邦半导体设备有限公司 | 进气装置及半导体处理设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007081311A (ja) | 枚葉型ウェハ洗浄装置及び半導体装置の製造方法 | |
US9378988B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method using processing solution | |
JP6118758B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP4040063B2 (ja) | 基板洗浄方法、基板洗浄装置およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP3993048B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TWI524453B (zh) | 液體處理方法、液體處理裝置及記憶媒體 | |
US8651121B2 (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium | |
JP4607755B2 (ja) | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、制御プログラム、およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | |
TWI619190B (zh) | Liquid processing method, memory medium and liquid processing device | |
JP4976949B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5954862B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6224515B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP2007208247A (ja) | 基板を洗浄するための装置およびシステム | |
JP2010056563A (ja) | スピンドライヤで用いるためのエンドエフェクタ | |
JP6449097B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置並びに基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | |
JP2008060103A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP2020115513A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JP4455228B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP5716696B2 (ja) | 液処理装置、液処理方法及びコンピュータ読取可能な記憶媒体 | |
JP2007329408A (ja) | 基板乾燥方法及び基板乾燥装置 | |
JP5747842B2 (ja) | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | |
JP2002151455A (ja) | 半導体ウエハ用洗浄装置 | |
JP2008016781A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP4342343B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2008124103A (ja) | 基板の表面処理方法及び基板の表面処理装置 |