JP2007052138A - ワーク固定装置及びその位置決め方法並びに画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ステージ110上に吸着されたワーク200の周縁部を上方から押さえて密閉する押さえ部14と、ワーク200の周縁部を除く領域を露出させる開口部12と、を有するワーク固定装置10とする。このワーク固定装置10をワーク200用の位置決め部材26によってステージ110上に位置決め載置する。また、このワーク固定装置10を備えた画像形成装置100とする。
【選択図】 図2
Description
まず最初に、レーザー露光装置100について説明する。図1で示すように、このレーザー露光装置100は、6本の脚部104に支持された矩形厚板状の設置台102を備えている。設置台102の上面には、長手方向(搬送方向)に沿って2本のガイドレール106が配設されており、これら2本のガイドレール106上には、ガイド部108を介して矩形平板状のステージ110が設けられている。
次に、以上のような構成のレーザー露光装置100の作用について説明する。なお、レーザー露光装置100により画像露光を行う基板材料(ワーク)200としては、プリント配線基板や液晶表示素子等のパターンを形成(画像露光)する材料としての基板や、ガラスプレート等の表面に感光性エポキシ樹脂等のフォトレジストを塗布、又はドライフィルムの場合はラミネートしたものなどが挙げられる。
次に、以上のようなレーザー露光装置100等の画像形成装置において使用される基板固定装置としての固定治具10について詳細に説明する。この固定治具10は、図2(A)で示すように、中央に開口部12が穿設された額縁状に形成され、基板材料200の周縁部を除く描画領域が、その開口部12から露出可能になっている。
次に、このような位置決め部材26によって位置決め載置される固定治具10の作用(位置決め方法)について更に説明する。この固定治具10は、図3で示すように、基板材料200の周縁部を上方から密閉するようになっているため、まず最初に、基板材料200がステージ110上に位置決め載置される。
次に、固定治具10の変形例について図8、図9を基に説明する。まず、図8で説明する固定治具10は、基板材料200の厚さが厚く、その周縁部に反り等が発生している場合でも、その周縁部を押さえることができるようになっている。すなわち、厚さが厚い(例えば3mmの)基板材料200の場合には、図8で示すように、押さえ部14における弾性部材18を、ステージ110上に当接させる支持部18Aと、基板材料200の周縁部に当接(密着)させる作用部18Bとに分割(分離)するとともに、支持部18A又は作用部18Bの厚さ(高さ)を基板材料200の厚さに応じて変更する。
12 開口部
14 押さえ部
16 剛性部材
18 弾性部材
18A 支持部
18B 作用部
20 易剥離部材
22 切欠部
26 位置決め部材
28 切欠部
100 レーザー露光装置(画像形成装置)
110 ステージ
112 ボールねじ(移動機構)
114 モーター(移動機構)
118 CCDカメラ(測定部)
120 露光ヘッド(露光部)
130 コントローラー
200 基板材料(ワーク)
Claims (8)
- ステージ上に吸着されたワークの周縁部を上方から押さえて密閉する押さえ部と、
前記ワークの前記周縁部を除く領域を露出させる開口部と、
を有することを特徴とするワーク固定装置。 - 前記押さえ部は、材質の異なる複数の部材が積層されて構成されていることを特徴とする請求項1に記載のワーク固定装置。
- 前記押さえ部の前記ワークとの接触面側に弾性部材を設けたことを特徴とする請求項2に記載のワーク固定装置。
- 前記押さえ部の前記ワークとの接触面に易剥離部材を設けたことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載のワーク固定装置。
- 前記押さえ部の前記ワークとの接触面を、前記ステージとの接触面と分離させたことを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載のワーク固定装置。
- 前記押さえ部の前記ワークとの非接触面を黒色としたことを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載のワーク固定装置。
- ステージ上にセットされた位置決め部材によってワークの位置を位置決めし、次いで、前記位置決め部材を前記ステージ上の所定位置へ移動させ、該位置決め部材によってワーク固定装置の位置決めをすることを特徴とするワーク固定装置の位置決め方法。
- 請求項1乃至請求項6の何れか1項に記載のワーク固定装置によってワークが固定されたステージを所定の搬送経路に沿って移動させる移動機構と、
前記移動機構によって移動させるステージ上のワークのアライメントマークを検出する測定部と、
前記ステージに固定されたワークの前記周縁部を除く領域を、前記測定部の検出結果によりアライメント処理された画像情報に基づいて変調された光ビームにより露光し、該領域に画像を形成する露光部と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010147122A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Lintec Corp | アライメント装置及びアライメント方法 |
JP2011081156A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Orc Manufacturing Co Ltd | 露光装置 |
CN104204957A (zh) * | 2012-03-30 | 2014-12-10 | 株式会社阿迪泰克工程 | 曝光描绘装置及曝光描绘方法 |
JP2015128902A (ja) * | 2015-01-14 | 2015-07-16 | セイコーエプソン株式会社 | 印刷装置 |
JP2016177159A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | 株式会社オーク製作所 | 基板矯正治具を用いる露光装置、及び基板矯正治具 |
JP2018088476A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 三菱電機株式会社 | 半導体製造装置 |
CN111913363A (zh) * | 2019-05-09 | 2020-11-10 | 株式会社阿迪泰克工程 | 直描式曝光装置 |
WO2024016676A1 (zh) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | 上海美维电子有限公司 | 印刷线路板自动曝光固定方法 |
KR102672234B1 (ko) * | 2023-02-16 | 2024-06-04 | 한화엔엑스엠디 주식회사 | 기판 캐리어 장치 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113490337B (zh) * | 2021-07-15 | 2022-07-26 | 广东通元精密电路有限公司 | 一种基于cam的无工艺边led线路板外形加工方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0418446U (ja) * | 1990-06-06 | 1992-02-17 | ||
JPH08170198A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Nippondenso Co Ltd | 半導体ウエハ用メッキ治具 |
JPH09148219A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-06 | Nikon Corp | 基板アダプタ |
JP2004134755A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-04-30 | Asml Netherlands Bv | 基板ホルダおよびデバイス製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0492643U (ja) * | 1990-12-28 | 1992-08-12 | ||
JPH0758190A (ja) * | 1993-08-13 | 1995-03-03 | Sony Corp | 基板固定治具 |
JP2004284236A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置 |
-
2005
- 2005-08-16 JP JP2005236147A patent/JP4606968B2/ja active Active
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2006
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0418446U (ja) * | 1990-06-06 | 1992-02-17 | ||
JPH08170198A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Nippondenso Co Ltd | 半導体ウエハ用メッキ治具 |
JPH09148219A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-06 | Nikon Corp | 基板アダプタ |
JP2004134755A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-04-30 | Asml Netherlands Bv | 基板ホルダおよびデバイス製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010147122A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Lintec Corp | アライメント装置及びアライメント方法 |
JP2011081156A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Orc Manufacturing Co Ltd | 露光装置 |
CN104204957A (zh) * | 2012-03-30 | 2014-12-10 | 株式会社阿迪泰克工程 | 曝光描绘装置及曝光描绘方法 |
JP2015128902A (ja) * | 2015-01-14 | 2015-07-16 | セイコーエプソン株式会社 | 印刷装置 |
JP2016177159A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | 株式会社オーク製作所 | 基板矯正治具を用いる露光装置、及び基板矯正治具 |
JP2018088476A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 三菱電機株式会社 | 半導体製造装置 |
CN111913363A (zh) * | 2019-05-09 | 2020-11-10 | 株式会社阿迪泰克工程 | 直描式曝光装置 |
JP2020184045A (ja) * | 2019-05-09 | 2020-11-12 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 直描式露光装置 |
JP7239388B2 (ja) | 2019-05-09 | 2023-03-14 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 直描式露光装置 |
TWI834858B (zh) * | 2019-05-09 | 2024-03-11 | 日商亞多特克工程股份有限公司 | 直描式曝光裝置 |
CN111913363B (zh) * | 2019-05-09 | 2024-05-17 | 株式会社阿迪泰克工程 | 直描式曝光装置 |
WO2024016676A1 (zh) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | 上海美维电子有限公司 | 印刷线路板自动曝光固定方法 |
KR102672234B1 (ko) * | 2023-02-16 | 2024-06-04 | 한화엔엑스엠디 주식회사 | 기판 캐리어 장치 |
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