JP2006352081A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、ビームを放射源から基板に投射するようになされている。リソグラフィ装置は、ビームの光路内の光学エレメントと、ビームによってガスがイオン化され、それにより光学エレメントに向かって電界が生成されるよう、ビームの光路にガスを導入するためのガス入口と、ガス入口に結合された、ガスを供給するためのガス源とを備えている。ガスは、光学エレメントをスパッタリングするための、電界中のガスのイオンによって展開する運動エネルギーより大きい運動エネルギーの閾値を有している。
【選択図】図2
Description
1.ステップ・モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に動かされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターニング機器を保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング機器が更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング機器を利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
C 基板の目標部分
IF1、IF2 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
MA パターニング機器(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
OC 光学コンパートメント
PB 投影ビーム
PM 第1のポジショナ
PS 投影システム
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板アライメント・マーク
SO 放射源
W 基板
WC 基板コンパートメント
WT 基板テーブル
20 陰極
22 陽極
23 陽極中の孔
24 ホイル・トラップ
26 コレクタ・レンズ
27、46、48 ポンプ
28、29、44 ガス入口
28a ガス供給源(ヘリウム及び/又は水素ガス供給源)
29a ガス供給源(アルゴン供給源)
30 薄い条片
32 中央ハブ
34 リム部分
40、50 光学エレメント
42 開放通路接続
49 メッシュ
60 入口
62 軽いガスの供給源
Claims (37)
- ビームを放射源から基板に投射するようになったリソグラフィ装置であって、
前記ビームの光路内の光学エレメントと、
前記ビームによってガスがイオン化され、それにより前記光学エレメントに向かって電界が生成されるよう、前記ビームの前記光路にガスを導入するためのガス入口と、
前記ガス入口に結合された、前記ガスを供給するためのガス源とを備え、
前記ガスが、前記光学エレメントをスパッタリングするための、前記電界中の前記ガスのイオンによって展開する運動エネルギーより大きい運動エネルギーの閾値を有するリソグラフィ装置。 - 前記ガスが、ヘリウム及び/又は水素及び/又はそれらの1つ又は複数の同位体を含む1つ又は複数のガス種を含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- プラズマ・ビーム源をさらに備え、前記ガス入口が、前記ビーム源と前記光学エレメントの間の前記ビーム光路を含む空間に展開している、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板を支持するための支持テーブルと、
壁で仕切られた、前記光学エレメントが含まれている光学コンパートメントと、
前記光学コンパートメントの壁を貫通している、前記光学コンパートメントから前記基板へ前記ビームを引き渡すための開放通路とをさらに備え、
前記ガス入口が実質的に前記通路内に展開している、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - ビームを放射源から基板に投射するようになされたリソグラフィ装置であって、
前記ビームの光路内の光学エレメントと、
第1のガスを供給するための第1のガス・サプライと、
前記第1のガスより軽い第2のガスを供給するための第2のガス・サプライと、
前記第1のガス・サプライに結合された、前記第1のガスを前記第1のガス・サプライから前記ビームの前記光路に導入するようになされた第1のガス入口と、
前記第2のガス・サプライに結合された、前記光学エレメントと前記第1のガスが前記ビームの前記光路に導入される位置との間の前記ビームの前記光路の一部に前記第2のガスを導入するようになされた第2のガス入口とを備えたリソグラフィ装置。 - ビーム源と、
前記ビーム源と前記光学エレメントの間に配置されたホイル・トラップとをさらに備え、
前記第1のガス入口が、前記ビーム源と前記ホイル・トラップの間の第1の空間に展開し、前記第2のガス入口が、前記ホイル・トラップと前記光学エレメントの間の第2の空間に展開した、請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1の空間に結合されたインプットを備えたポンプをさらに備えた、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板を支持するための支持テーブルと、
壁で仕切られた、前記光学エレメントが含まれている光学コンパートメントと、
前記光学コンパートメントの壁を貫通している、前記光学コンパートメントから前記基板へ前記ビームを引き渡すための開放通路とをさらに備え、
前記第1のガス入口が実質的に前記通路内に展開し、前記第2のガス入口が、前記通路より前記光学コンポーネントにより近い位置で前記光学コンパートメントに展開している、請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1のガス及び前記第2のガスが前記ビームによってイオン化され、それにより場の線が前記光学エレメントに向いた電界が生成され、前記第2のガスが、前記光学エレメントをスパッタリングするための、前記電界中の前記第2のガスのイオンによって展開する運動エネルギーより大きい運動エネルギーの閾値を有する、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2のガスが、ヘリウム及び/又は水素及び/又はそれらの1つ又は複数の同位体を含む、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1のガスがアルゴンを含む、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- パターニング機器から基板にパターンを投影するようになされたリソグラフィ装置であって、
前記パターニング機器と前記基板の間の放射ビームの光路内の光学エレメントと、
前記光学エレメントの光活性表面に隣接するプラズマ電位が前記光学エレメントの電位より小さくなるよう、前記光学エレメントの前記光活性表面に隣接する領域に自由電子を供給するための電子源とを備えたリソグラフィ装置。 - 前記電子源が熱電子電子源である、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記電子源が、固体表面に向けられた、光電効果によって前記固体表面から電子を解放するための放射を生成するようになされた放射源を備えた、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記固体表面が、パターン化された放射のビームを反射する前記光学エレメントの表面である、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- パターニング機器から基板にパターンを投影するようになされたリソグラフィ装置であって、ビームの光路内又はビームの光路に隣接して配置された繊維のメッシュを備えたリソグラフィ装置。
- 前記メッシュが、前記ビームの光路の少なくとも1区分を実質的に取り囲み、且つ、前記ビームが通過して移動する領域に実質的に隣接し、前記ビームの光路内には展開していない、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記メッシュの少なくとも一部が前記ビームの光路内に展開し、前記部分が、直径が約100ナノメートル以下の繊維を含む、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記メッシュが前記ビーム光路内の光学エレメントの表面に隣接して配置された、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- パターニング機器から基板にパターンを投影するようになされたリソグラフィ装置であって、
陰極及び陽極を備えた放射源であって、前記陽極と前記陰極の間の領域から放射を引き渡すための孔が前記陽極に穿たれた放射源と、
前記孔から前記放射を受け取るようになされたコレクタ・レンズと、
前記陽極から前記コレクタ・レンズまでの放射光路内に配置されたホイル・トラップであって、前記ホイル・トラップが導電条片を備え、前記導電条片が、前記導電条片の電位が前記陽極の電位に対して自由に浮動することができるよう、前記陽極から電気的に絶縁されたホイル・トラップとを備えたリソグラフィ装置。 - パターニング機器を使用して放射のビームをパターン化する段階と、
パターン化された放射のビームを基板に投射する段階と、
前記ビームの光路内の光学エレメントを使用する段階と、
前記ビームによってガスがイオン化され、それにより場の線が前記光学エレメントに向いた電界が生成されるよう、前記ビームの前記光路にガスを導入する段階とを含むデバイス製造方法であって、
前記ガスが、前記光学エレメントをスパッタリングするための、前記電界中の前記ガスのイオンによって展開する運動エネルギーより大きい運動エネルギーの閾値を有するデバイス製造方法。 - 前記ガスが、ヘリウム及び/又は水素及び/又はそれらの1つ又は複数の同位体を含む1つ又は複数のガス種を含む、請求項21に記載のデバイス製造方法。
- 前記ガスが、プラズマ・ビーム源と前記光学エレメントの間の前記ビーム光路に導入される、請求項21に記載のデバイス製造方法。
- 前記ガスが、壁で仕切られた、前記光学エレメントが含まれている光学コンパートメントと、前記基板が含まれている基板コンパートメントとの間の前記ビーム光路のための通路内の前記ビーム光路に導入される、請求項21に記載のデバイス製造方法。
- 放射のビームを使用してパターニング機器から基板へパターンを投影する段階と、
前記パターンを投影している間、汚染物質源と前記ビームの光路内の光学エレメントとの間の前記ビームの光路に、1つ又は複数の第1のガス種を含んだ第1のガスを提供する段階と、
前記パターンを投影している間、前記第1のガスと前記光学エレメントの間の前記ビームの光路に、前記1つ又は複数の第1のガス種より軽い1つ又は複数の第2のガス種を含んだ第2のガスを提供する段階とを含むデバイス製造方法。 - 前記第1のガスが、第1の入口から、ビーム源と前記ビーム源と前記光学エレメントの間に配置されているホイル・トラップとの間の第1の空間に供給され、前記第2のガスが、第2の入口から前記ホイル・トラップと前記光学エレメントの間の第2の空間に供給される、請求項25に記載の方法。
- 前記第1の空間からガスをポンプ給送する段階をさらに含む、請求項26に記載の方法。
- 前記第1のガスが、前記基板のためのコンパートメントと、壁で仕切られた、前記光学エレメントが含まれている光学コンパートメントとの間のビーム引渡し通路から実質的に導入され、前記第2のガスが、前記光学コンパートメント内の入口を介して導入される、請求項25に記載の方法。
- 前記第1のガス及び前記第2のガスが前記ビームによってイオン化され、それにより場の線が前記光学エレメントに向いた電界が展開し、前記第2のガスが、前記光学エレメントをスパッタリングするための、前記電界中の前記第2のガスのイオンによって展開する運動エネルギーより大きい運動エネルギーの閾値を有する、請求項25に記載の方法。
- 前記第2のガスが、ヘリウム及び/又は水素及び/又はそれらの1つ又は複数の同位体を含む、請求項29に記載の方法。
- 放射のビームを使用してパターニング機器から基板へパターンを投影する段階と、
光学エレメントの光活性表面に隣接するプラズマ電位が前記光活性表面の表面電位より小さくなるよう、ビーム光路内の前記光学エレメントの光活性表面に隣接する領域に自由電子の流れを使用して自由電子を供給する段階とを含むデバイス製造方法。 - 前記自由電子が熱電子電子源から供給される、請求項31に記載の方法。
- 前記ビーム光路に沿った放射以外の放射が固体表面に供給され、それにより前記固体表面に光電効果が生成され、前記電子が解放される、請求項31に記載の方法。
- 前記固体表面が前記光活性表面である、請求項33に記載の方法。
- 放射のビームを使用してパターニング機器から基板へパターンを投影する段階と、
前記ビームからの放射によってイオン化されるガスから放出される電子を繊維のメッシュを使用して捕捉する段階とを含むデバイス製造方法。 - 前記メッシュが、前記ビームの光路の少なくとも1区分を実質的に取り囲み、且つ、前記ビームが通過して移動する領域に実質的に隣接し、前記領域には展開していない、請求項35に記載の方法。
- 放射のビームを使用してパターニング機器から基板へパターンを投影する段階と、
前記ビームに使用するための放射を陰極−陽極アセンブリを使用して励起する段階と、
前記陰極−陽極アセンブリとビーム光路内の第1のコレクタ・レンズとの間に挿入されるホイル・トラップを提供する段階と、
前記ホイル・トラップの電位を前記陽極の電位に対して浮動させる段階とを含むデバイス製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008060570A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7508853B2 (en) | 2004-12-07 | 2009-03-24 | Imra, America, Inc. | Yb: and Nd: mode-locked oscillators and fiber systems incorporated in solid-state short pulse laser systems |
US7825390B2 (en) * | 2007-02-14 | 2010-11-02 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus with plasma radiation source and method of forming a beam of radiation and lithographic apparatus |
DE102010030023A1 (de) | 2010-06-14 | 2011-12-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61179046A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-08-11 | ハンプシヤ− インスツルメンツ,インコ−ポレ−テツド | X線リソグラフ装置 |
JPH04291915A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-16 | Fujitsu Ltd | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
JPH09167759A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置製造方法 |
JP2002124463A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-04-26 | Asm Lithography Bv | マスクハンドリング装置、平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子 |
JP2003209053A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-25 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2004172626A (ja) * | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Asml Holding Nv | リソグラフィー装置中の主要室ガスから光源ガスを分離する装置および方法 |
JP2004519868A (ja) * | 2001-04-17 | 2004-07-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Euvに透明な境界構造 |
JP2004207740A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置の構成要素の表面を洗浄する方法、リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法および洗浄システム |
JP2004207736A (ja) * | 2002-12-23 | 2004-07-22 | Asml Netherlands Bv | デブリ抑制手段を備えたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2004289120A (ja) * | 2002-10-18 | 2004-10-14 | Asml Netherlands Bv | 二次電子除去装置を備えたリソグラフィ投影装置 |
JP2005005666A (ja) * | 2002-11-22 | 2005-01-06 | Asml Netherlands Bv | 複数の抑制メッシュを備えたリトグラフ投影装置 |
JP2005020006A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Asml Netherlands Bv | フォイル・トラップを備えたレーザー生成プラズマ放射システム |
WO2005096099A2 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Removal of particles generated by a radiation source |
JP2006165579A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2006523038A (ja) * | 2003-04-08 | 2006-10-05 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源用コレクタ |
JP2006279051A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ・デバイス、デバイス製造方法及びそれによって製造されたデバイス |
JP2006529057A (ja) * | 2003-05-22 | 2006-12-28 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法および装置 |
JP2007517396A (ja) * | 2003-12-30 | 2007-06-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、及びデブリ軽減システムを備える放射源、並びにリソグラフィ装置におけるデブリ粒子を軽減する方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6614505B2 (en) * | 2001-01-10 | 2003-09-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2003124111A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-04-25 | Nikon Corp | 軟x線露光装置 |
US20040011381A1 (en) * | 2002-07-17 | 2004-01-22 | Klebanoff Leonard E. | Method for removing carbon contamination from optic surfaces |
EP1491963A3 (en) | 2003-06-27 | 2005-08-17 | ASML Netherlands B.V. | Laser produced plasma radiation system with contamination barrier |
DE602004003015T2 (de) * | 2003-10-06 | 2007-02-08 | Asml Netherlands B.V. | Verfahren und Gerät zur Herstellung einer Schutzschicht auf einem Spiegel |
SG112047A1 (en) * | 2003-11-11 | 2005-06-29 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus with contamination suppression, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
GB0408543D0 (en) * | 2004-04-16 | 2004-05-19 | Boc Group Plc | Cleaning of multi-layer mirrors |
US7041989B1 (en) * | 2004-10-22 | 2006-05-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
GB0426036D0 (en) * | 2004-11-26 | 2004-12-29 | Boc Group Plc | Protection of surfaces exposed to charged particles |
JP4539335B2 (ja) * | 2005-01-12 | 2010-09-08 | 株式会社ニコン | 多層膜反射鏡、euv露光装置、及び多層膜反射鏡におけるコンタミネーションの除去方法 |
-
2005
- 2005-03-31 US US11/094,490 patent/US7279690B2/en active Active
-
2006
- 2006-03-30 JP JP2006093871A patent/JP4828985B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-11-20 JP JP2009264762A patent/JP4920741B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61179046A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-08-11 | ハンプシヤ− インスツルメンツ,インコ−ポレ−テツド | X線リソグラフ装置 |
JPH04291915A (ja) * | 1991-03-20 | 1992-10-16 | Fujitsu Ltd | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
JPH09167759A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置製造方法 |
JP2002124463A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-04-26 | Asm Lithography Bv | マスクハンドリング装置、平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子 |
JP2004519868A (ja) * | 2001-04-17 | 2004-07-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Euvに透明な境界構造 |
JP2003209053A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-25 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2004289120A (ja) * | 2002-10-18 | 2004-10-14 | Asml Netherlands Bv | 二次電子除去装置を備えたリソグラフィ投影装置 |
JP2004172626A (ja) * | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Asml Holding Nv | リソグラフィー装置中の主要室ガスから光源ガスを分離する装置および方法 |
JP2005005666A (ja) * | 2002-11-22 | 2005-01-06 | Asml Netherlands Bv | 複数の抑制メッシュを備えたリトグラフ投影装置 |
JP2004207740A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置の構成要素の表面を洗浄する方法、リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法および洗浄システム |
JP2004207736A (ja) * | 2002-12-23 | 2004-07-22 | Asml Netherlands Bv | デブリ抑制手段を備えたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2006523038A (ja) * | 2003-04-08 | 2006-10-05 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源用コレクタ |
JP2007298980A (ja) * | 2003-04-08 | 2007-11-15 | Cymer Inc | Euv光源用コレクタ |
JP2006529057A (ja) * | 2003-05-22 | 2006-12-28 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法および装置 |
JP2005020006A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Asml Netherlands Bv | フォイル・トラップを備えたレーザー生成プラズマ放射システム |
JP2007517396A (ja) * | 2003-12-30 | 2007-06-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、及びデブリ軽減システムを備える放射源、並びにリソグラフィ装置におけるデブリ粒子を軽減する方法 |
WO2005096099A2 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Removal of particles generated by a radiation source |
JP2007531296A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 放射線源により生じる粒子の除去 |
JP2006165579A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2006279051A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ・デバイス、デバイス製造方法及びそれによって製造されたデバイス |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008060570A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP4695122B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2011-06-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US7279690B2 (en) | 2007-10-09 |
JP4920741B2 (ja) | 2012-04-18 |
JP4828985B2 (ja) | 2011-11-30 |
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