JP2006350059A - アクティブマトリクス基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下層側から、複数の走査信号配線及び複数の共通電極配線と、第1の絶縁膜103と、複数の映像信号配線及び各画素に配設される画素電極106と、第2の絶縁膜107と、映像信号配線と重なる領域に配設される第3の絶縁膜と、各画素に配設される共通電極110とを少なくとも備えるアクティブマトリクス基板において、第2の絶縁膜107を、塗布時に流動性を有し、画素電極106による段差を緩和する機能を有する感光性アクリル樹脂などを用いて形成し、また、第2の絶縁膜107の膜厚や画素電極106近傍の傾斜角度、画素電極106の膜厚、共通電極110の膜厚を規定する。
【選択図】図1
Description
302、402、502、602 共通信号配線
103、203、303、403、503、603 第1の絶縁膜
304、404、504、604 映像信号配線
305、405、505、605 薄膜トランジスタ(TFT)
306、406、506、606 ソース電極又はソース電極と一体化した画素電極
107、207、307、407、507、607 第2の絶縁膜
308、408、508、608 第3の絶縁膜
309、409 画素電極
110、210、310、410、510、610 共通電極
311、411 画素電極−ソース電極間コンタクトホール
312、412、512、612 共通電極−共通信号配線間コンタクトホール
613 遮光電極
Claims (10)
- 基板側から、複数の走査信号配線及び該走査信号配線に略並行する複数の共通信号配線と、第1の絶縁膜と、薄膜トランジスタとなる半導体層と、前記走査信号配線に略直交し、前記薄膜トランジスタのドレインに接続される複数の映像信号配線及び前記走査信号配線と前記映像信号配線とで囲まれる画素領域に配設され、前記薄膜トランジスタのソースに接続される画素電極と、第2の絶縁膜と、前記映像信号配線と重なる領域に配設される第3の絶縁膜と、前記画素領域及び前記第3の絶縁膜上に配設され、前記共通信号配線に接続される共通電極と、を少なくとも備え、前記画素電極と前記共通電極との間に印加する電圧により、対向基板との間に挟持された液晶を前記基板に略平行な面内で回転させる横電界方式の液晶表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板において、
前記第2の絶縁膜は、流動性を有する材料を塗布することにより形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 基板側から、複数の走査信号配線、該走査信号配線に略並行する複数の共通信号配線及び映像信号配線形成領域周囲に配設される遮光電極と、第1の絶縁膜と、薄膜トランジスタとなる半導体層と、前記走査信号配線に略直交し、前記薄膜トランジスタのドレインに接続される複数の前記映像信号配線及び前記走査信号配線と前記映像信号配線とで囲まれる画素領域に配設され、前記薄膜トランジスタのソースに接続される画素電極と、第2の絶縁膜と、前記映像信号配線と重なる領域に配設される第3の絶縁膜と、前記画素領域及び前記第3の絶縁膜上に配設され、前記共通信号配線に接続される共通電極と、を少なくとも備え、前記画素電極と前記共通電極との間に印加する電圧により、対向基板との間に挟持された液晶を前記基板に略平行な面内で回転させる横電界方式の液晶表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板において、
前記第2の絶縁膜は、流動性を有する材料を塗布することにより形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第2の絶縁膜は、感光性アクリル樹脂で形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
- 前記第2の絶縁膜は、平坦部の膜厚が前記画素電極の膜厚と同等以上、かつ、略300nm以下であることを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置。
- 前記第2の絶縁膜は、前記画素電極近傍の傾斜角が略30°以下であることを特徴とする請求項3又は4に記載の液晶表示装置。
- 前記画素電極は、非透過性導電膜からなり、その膜厚が略200nm以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一に記載の液晶表示装置。
- 前記共通電極は、透過性導電膜からなり、その膜厚が略50nm以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一に記載の液晶表示装置。
- 対向基板との間に挟持された液晶を基板に略平行な面内で回転させる横電界方式の液晶表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板の製造方法であって、
前記基板上に、複数の走査信号配線と、該走査信号配線に略並行する複数の共通信号配線とを形成するステップと、
第1の絶縁膜を形成するステップと、
薄膜トランジスタとなる半導体層を形成するステップと、
前記走査信号配線に略直交し、前記薄膜トランジスタのドレインに接続される複数の映像信号配線と、前記走査信号配線と前記映像信号配線とで囲まれる画素領域に配設され、前記薄膜トランジスタのソースに接続される画素電極とを形成するステップと、
流動性を有する材料を塗布し、露光、現像及び焼成処理を行うことにより第2の絶縁膜を形成するステップと、
前記映像信号配線と重なる領域に、第3の絶縁膜を形成するステップと、
前記画素領域及び前記第3の絶縁膜上に、透過性導電膜を用いて、前記共通信号配線に接続される共通電極を形成するステップと、を少なくとも備え、
前記第2の絶縁膜により、前記画素電極による段差を緩和することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。 - 対向基板との間に挟持された液晶を基板に略平行な面内で回転させる横電界方式の液晶表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板の製造方法であって、
前記基板上に、複数の走査信号配線と、該走査信号配線に略並行する複数の共通信号配線と、映像信号配線形成領域周囲に配設される遮光電極とを形成するステップと、
第1の絶縁膜を形成するステップと、
薄膜トランジスタとなる半導体層を形成するステップと、
前記走査信号配線に略直交し、前記薄膜トランジスタのドレインに接続される複数の前記映像信号配線と、前記走査信号配線と前記映像信号配線とで囲まれる画素領域に配設され、前記薄膜トランジスタのソースに接続される画素電極とを形成するステップと、
流動性を有する材料を塗布し、露光、現像及び焼成処理を行うことにより第2の絶縁膜を形成するステップと、
前記映像信号配線と重なる領域に、第3の絶縁膜を形成するステップと、
前記画素領域及び前記第3の絶縁膜上に、透過性導電膜を用いて、前記共通信号配線に接続される共通電極を形成するステップと、を少なくとも備え
前記第2の絶縁膜により、前記画素電極による段差を緩和することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。 - 前記第2の絶縁膜を、感光性アクリル樹脂を用いて形成することを特徴とする請求項8又は9に記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。
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