(1)第1実施形態
図1〜図15は、本発明の第1実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。
まず、図1に示す断面構造を得るまでの工程を説明する。
図1に示すように、n型又はp型のシリコン(半導体)基板1表面に、素子分離絶縁膜2をLOCOS(Local Oxidation of Silicon)法により形成する。素子分離絶縁膜2の形成方法としてはLOCOS法の他、STI(Shallow Trench Isolation)法を採用してもよい。
そのような素子分離絶縁膜2を形成した後に、シリコン基板1のメモリセル領域Aと周辺回路領域Bにおける所定の活性領域(トランジスタ形成領域)にp型不純物及びn型不純物を選択的に導入して、pウェル3a及びnウェル3bを形成する。なお、図1には示していないが、周辺回路領域BではCMOSを形成するためにpウェル(不図示)も形成される。
その後、シリコン基板1の活性領域表面を熱酸化して、ゲート絶縁膜4としてシリコン酸化膜を形成する。
次に、シリコン基板1の上側全面に非晶質又は多結晶のシリコン膜を形成し、pウェル3a上ではn型不純物、n型ウェル3b上ではp型不純物をシリコン膜内にイオン注入してシリコン膜を低抵抗化する。その後に、シリコン膜をフォトリソグラフィ法により所定の形状にパターニングして、ゲート電極5a〜5cを形成する。
メモリセル領域Aにおける1つのpウェル3a上には2つのゲート電極5a、5bがほぼ平行に配置され、それらのゲート電極5a、5bはワード線WLの一部を構成している。
次に、メモリセル領域Aにおいて、ゲート電極5a、5bの両側のpウェル3a内にn型不純物をイオン注入して、nチャネルMOSトランジスタのn型ソース/ドレインエクステンション6aを形成する。これと同時に、周辺回路領域Bのpウェル(不図示)にもn型ソース/ドレインエクステンションを形成する。続いて、周辺回路領域Bにおいて、ゲート電極5cの両側のnウェル3bにp型不純物をイオン注入して、pチャネルMOSトランジスタのp型ソース/ドレインエクステンション6cを形成する。
続いて、シリコン基板1の全面に絶縁膜を形成した後、その絶縁膜をエッチバックしてゲート電極5a〜5cの両側部分にのみ絶縁性サイドウォール7として残す。その絶縁膜として、例えばCVD法により酸化シリコン(SiO2)を形成する。
さらに、ゲート電極5a〜5cと絶縁性サイドウォール7をマスクに使用して、pウェル3a内に再びn型不純物イオンを注入することにより、nチャネルMOSトランジスタのn型ソース/ドレイン領域6bを形成する。さらに、nウェル3b内に再びp型不純物イオンを注入することにより、pチャネルMOSトランジスタのp型ソース/ドレイン領域6dを形成する。
なお、n型不純物とp型不純物の打ち分けは、不図示のレジストパターンを使用して行われる。
以上のように、メモリセル領域Aでは、pウェル3aとゲート電極5a、5bとその両側のn型ソース/ドレイン領域6b等によってn型MOSFETが構成され、また、周辺回路領域Bでは、nウェル3bとゲート電極5cとその両側のp型ソース/ドレイン領域6d等によってp型MOSFETが構成される。
次に、全面に高融点金属膜、例えば、チタン膜を形成した後に、この高融点金属膜を加熱してn型ソース/ドレイン領域6bとp型ソース/ドレイン領域6dの表面にそれぞれ高融点金属シリサイド層8a、8bを形成する。その後、ウエットエッチングにより未反応の高融点金属膜を除去する。
次に、プラズマCVD法により、シリコン基板1の全面にカバー膜9として酸窒化シリコン(SiON)膜を約200nmの厚さに形成する。さらに、TEOSガスを用いるプラズマCVD法により、下地絶縁膜10として二酸化シリコンをカバー膜9上に約1.0μmの厚さに成長する。
その後に、下地絶縁膜10をCMP(Chemical Mechanical Polishing)法により研磨してその表面を平坦化する。
次に、図2に示す構造を形成するまでの工程を説明する。
まず、DCスパッタ法によりチタン膜とプラチナ膜とをこの順に形成し、これらの積層膜を第1導電膜11とする。その第1導電膜11の厚さは特に限定されないが、本実施形態では約200nmに形成する。また、第1導電膜11の最下層のチタン膜は、第1導電膜11が下地絶縁膜10から剥がれるのを防止する密着層として機能すると共に、その上のプラチナ膜の配向を揃える役割も有する。
続いて、スパッタ法により、PZT(Lead Zirconate Titanate: Pb(Zr,Ti)O3)を第1導電膜11の上に100〜300nmの厚さ、例えば240nmに形成し、これを強誘電体膜12とする。なお、PZTに代えて、PLZT(lead lanthanum zirconate titanate; (Pb,La)(Zr,Ti)O3)、(Sr,Ti)O3、(Ba,Sr)TiO3等の材料や、Bi4Ti2O12等のBi層状構造化合物で強誘電体膜12を構成してもよい。更に、強誘電体膜12の形成方法としては、上記したスパッタ法の他にスピンオン法、ゾル−ゲル法、MOD(Metal Organic Deposition)法、MOCVD法もある。
続いて、アルゴンと酸素との混合ガス雰囲気中にシリコン基板1を置き、600℃以上の温度、例えば725℃で20秒間、昇温速度125℃/secの条件で、強誘電体膜12を構成するPZT膜をRTA(Rapid Thermal Annealing)処理することにより、PZT膜の結晶化処理を行う。
そのような強誘電体膜12を形成した後に、その上に第2導電膜13として酸化イリジウム(IrO2)膜をスパッタリング法により100〜300nmの厚さ、例えば200nmの厚さに形成する。なお、第2導電膜13として、プラチナ膜又は酸化ルテニウムストロンチウム(SRO)膜をスパッタ法により形成してもよい。
次に、図3に示す構造を得るまでの工程を説明する。
まず、上部電極形状のレジストパターン(不図示)を第2導電膜13上に形成した後に、そのレジストパターンをマスクに使用して第2導電膜13をエッチングし、これにより残った第2導電膜13をキャパシタの上部電極13aとする。
そして、そのレジストパターンを除去した後に、温度650℃、60分間の条件で、強誘電体膜12を酸素雰囲気中でアニールする。このアニールは、スパッタリング及びエッチングの際に強誘電体膜12に入ったダメージを回復させるために行われる。
続いて、メモリセル領域Aにおいて、キャパシタ上部電極13a及びその周辺にレジストパターン(不図示)を形成した状態で強誘電体膜12をエッチングし、これにより残った強誘電体膜12をキャパシタ誘電体膜12aとする。そして、そのレジストパターンを除去した後に、温度650℃、60分間でキャパシタ誘電体膜12aを酸素雰囲気中でアニールする。このアニールは、キャパシタ誘電体膜12aの下の膜に吸収された水分等を脱ガスするために行われる。
次に、図4に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、図26に示すHDPCVD(High Density Plasma CVD)装置のチャンバ70内にシリコン基板1を入れ、基板載置台71上にシリコン基板1を載置する。そして、SiH4、O2、及びArよりなる反応ガスをチャンバ70内に供給すると共に、不図示の排気ポンプでチャンバ内を排気してチャンバ内を例えば15mTorr程度に減圧する。この状態で、アンテナ用高周波電源73から発生した周波数13.56MHz、パワー3.5kWの高周波電力(交流電力)を、チャンバ70の上方に設けられたコイル72に供給し、そのコイル72を介して反応ガスに交流電圧を供給して、チャンバ70内にプラズマを発生させる。
なお、基板載置台71には、周波数が2MHzの高周波電力を発生するバイアス用高周波電源74が接続されるが、この段階ではその高周波(交流)電力を基板載置台71に供給しない。
そして、このような状態を所定の時間だけ維持し、シリコン基板1の上側全面に酸化シリコン膜を堆積することにより、図4に示すように、その酸化シリコン膜よりなるエンキャップ層14を形成する。
その後に、酸素雰囲気中で、700℃、60秒間、昇温速度125℃/secの条件で、エンキャップ層14の下のキャパシタ誘電体膜12aを急速熱処理してその膜質を改善する。
次に、図5に示すように、エンキャップ層14の上に不図示のレジストを塗布し、これを露光、現像して上部電極13a及びキャパシタ誘電体膜12aの上とその周辺にレジストパターンとして残す。そして、このレジストパターンをマスクに使用して、エンキャップ層14、第1導電膜11をエッチングし、これにより残った第1導電膜11をキャパシタの下部電極11aとする。エンキャップ層14、第1導電膜11のエッチングは、塩素を用いたドライエッチングにより行われる。
そのレジストパターンを除去した後に、酸素雰囲気中で温度650℃、60分間の条件で、キャパシタ誘電体膜12をアニールしてダメージから回復させる。
これにより、図5に示すように、下地絶縁膜10の上には、下部電極11a、キャパシタ誘電体膜12a、及び上部電極13aからなるキャパシタQが形成されたことになる。
次に、図6に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、図26で説明したHDPCVD装置のチャンバ70内にシリコン基板1を入れ、そのシリコン基板1を基板載置台71上に置く。
次いで、SiH4、O2、及びArをチャンバ70内に供給すると共に、不図示の排気ポンプでチャンバ内を排気してチャンバ70内を例えば15mTorr程度に減圧して、周波数が13.56MHzでパワーが3.5kWの高周波電力をコイル72からチャンバ70に供給する。また、これと共に、バイアス用電源74から周波数が2MHzでパワーが2.4kWのバイアス電圧をシリコン基板1に印加して、チャンバ70内に高密度のプラズマを発生させる。
このように、シリコン基板1にバイアス電圧を印加するプラズマCVD法はHDPCVD法と呼ばれる。そのHDPCVD法では、上記のバイアス電圧により、酸素イオンやアルゴンイオンがシリコン基板1に引き込まれ、これらのイオンによるスパッタエッチが酸化シリコン膜の成長と同時に進行する。そのスパッタエッチは、キャパシタQの角に形成される酸化シリコン膜を削るように作用するため、その角に酸化シリコン膜が厚く形成されるのが防止され、狭いスペースにボイドが発生するのが抑えられたGap-fillingに優れた酸化シリコン膜を形成することが可能となる。
本実施形態では、このようなHDPCVD法により形成された厚さ約1000nm以上の酸化シリコン膜でキャパシタQを覆い、その酸化シリコン膜を第1層間絶縁膜15とする。
HDPCVD法で形成された第1層間絶縁膜15は、既述のように埋め込み性が良いため、その上面に下地を反映した凹凸が明瞭に現れる。
そこで、次の工程では、図7に示すように、凹凸が形成された第1層間絶縁膜15の上面をCMP法により研磨して平坦化する。
次に、図8に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、図26で説明したHDPCVD装置のチャンバ70内にシリコン基板1を入れ、そのシリコン基板1を71上に置き、基板温度を250℃〜400℃程度の低温、より好ましくは175℃〜350℃程度の低温に安定させる。
次に、流量が約500sccmの酸素(O2)と流量が約400sccmのアルゴン(Ar)をチャンバ70に導入しながら、更にこれらの混合ガスにシラン(SiH4)を約100sccmの流量で添加する。そして、これら酸素、アルゴン、及びシランの混合ガスよりなる反応ガスをチャンバ70に供給しつつ、不図示の排気ポンプでチャンバ70内の圧力を約15mTorr程度に減圧する。これと共に、周波数が13.56MHzでパワーが3.5kWの高周波電力をコイル72に供給し、チャンバ70内にプラズマを発生させる。
但し、この段階では、第1層間絶縁膜15の上面が既に平坦化してあるため、この上に形成される膜に高い埋め込み性は要求されず、HDPCVD法でシリコン基板1にイオンを引き付ける必要は無い。従って、第1層間絶縁膜15を形成した時とは異なり、図26の基板載置台71にはバイアス電圧は印加しない。
そして、このような状態を所定の時間、例えば2〜20秒間だけ維持することにより、第1層間絶縁膜15上に酸化シリコン膜を厚さ約50〜500nmに形成し、その酸化シリコン膜を第1保護絶縁膜16とする。このようにバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法で形成された第1保護絶縁膜16は、HDPCVD法で形成された膜と比較して、膜中に水酸基を多く含む。その水酸基は、水素と結合して水となる傾向が強いため、第1保護絶縁膜16は水素を吸収してその下に通さない機能を備える。従って、キャパシタ誘電体膜12aを還元する水素を含んだ雰囲気に第1保護絶縁膜16が曝されても、第1保護絶縁膜16を通り抜ける水素を大幅に低減することが可能となり、キャパシタQが水素によって劣化するのを防ぐことが可能となる。
また、この第1保護絶縁膜16を形成する前に、その下の第1層間絶縁膜15の上面を平坦化してあるので、上記のようにバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法で第1絶縁膜16を形成しても、その第1絶縁膜16の膜中にボイド等は発生しない。
しかも、HDPCVD法のチャンバ内でバイアス電圧を印加しないで形成された第1保護絶縁膜16は、バイアス電圧を印加して形成された膜と比較して膜厚の面内均一性が良いので、その第1保護絶縁膜16を平坦化するための工程は不要である。
そして、その第1保護絶縁膜16の成膜温度を既述のように250℃〜400℃程度の低温としたので、サーマルバジェッドを低減できるという利点も得られる。
更に、第1保護絶縁膜16を成膜する際、O2の流量をSiH4のそれよりも多く、例えば5倍以上とすることで、酸素ラジカルが水素と反応し、成膜時にキャパシタQに到達する水素の量を減らすことができ、水素によるキャパシタQの劣化を防止できる。
その後に、基板温度を約200℃〜450℃、より好ましくは約400℃とするN2プラズマ処理を第1保護絶縁膜16に対して行い、第1保護絶縁膜16の脱水処理を行う。この場合、N2プラズマ処理に代えてN2Oプラズマ処理を行ってもよい。
続いて、図9に示すように、カバー膜9、下地絶縁膜10、第1層間絶縁膜15、及び第1保護絶縁膜16をフォトリソグラフィによりパターニングして、これらの膜に図示のような複数の第1ホール18aを形成する。このフォトリソグラフィでは、C2F6系のガス、例えばC2F6、CO、Ar、及びO2の混合ガスがエッチングガスとして使用される。或いは、C4F8系のガス、例えばC4F8、CO、Ar、及びO2の混合ガスをそのエッチングガスとして使用してもよい。
このエッチングの際、第1保護絶縁膜16とその下の第1層間絶縁膜15はいずれも酸化シリコンを主体に構成されるため、それらのエッチング速度は実質的に同じであり、第1保護絶縁膜16をエッチングするのに困難は無い。従って、例えば第1保護絶縁膜16としてエッチングし難いアルミナ膜を形成する場合のように、第1ホール18aが細くなるという不都合は発生せず、直径の安定した第1ホール18aを綺麗に形成することが可能となる。
そのような第1ホール18aは、キャパシタQの上では二つ形成され、そのうちの一方が上部電極13aに至る深さを有し、他方が下部電極11aに至る深さを有する。
また、n型ソース/ドレイン領域6bとp型ソース/ドレイン領域6dのそれの上にも第1ホール18aが形成され、その第1ホール18aの下に高融点金属シリサイド層8a、8bが露出する。
既述のように、バイアス電圧を印加しないで形成された第1保護絶縁膜16の膜厚の面内均一性が良好であり、且つそのエッチレートが下層膜と同等なため、上記の第1ホール18aを形成する際、第1保護絶縁膜16の膜厚変動に伴うエッチング深さの変動が低減されと同時に、下層膜とのエッチレートの差が生じない。そのため、第1ホール18aが未開口となったり、或いは第1ホール18a下の高融点シリサイド層8a、8b、上部電極13a、及び下部電極11aが過剰にエッチングされるといった不都合を回避することが可能となる。
その後に、第1保護絶縁膜16の上と第1ホール18aの内面とにスパッタ法によりチタン膜を約20nm、窒化チタン(TiN)膜を約50nmの厚さに形成し、それらをグルー膜とする。更に、フッ化タングステンガス(WF6)、アルゴン、及び水素の混合ガスを使用するCVD法により、グルー膜の上にタングステン膜を形成して、そのタングステン膜で第1ホール18aを完全に埋め込む。
そして、第1保護絶縁膜16の上に形成された余分なグルー膜とタングステン膜とをCMP法により除去し、それらを第1ホール18aの中に第1導電性プラグ19aとして残す。
キャパシタQの上の二つの第1導電性プラグ19aは、それぞれ下部電極11aと上部電極13aに電気的に接続される。また、n型ソース/ドレイン領域6bとp型ソース/ドレイン領域6dのそれぞれの上の第1導電性プラグ19aは、これらのソース/ドレイン領域6b、6dと電気的に接続される。
次に、図10に示すように、第1保護絶縁膜16と第1導電性プラグ19aのそれぞれの上に、アルミニウム膜を含む4層構造の金属積層膜をスパッタ法により形成する。その金属積層膜は、下から順に、膜厚50nmの窒化チタン膜、膜厚500nmの銅含有(0.5%)アルミニウム膜、膜厚5nmのチタン膜、膜厚100nmの窒化チタン膜である。
そして、その金属積層膜をフォトリソグラフィによりパターニングして、図10に示すような一層目金属配線20を形成する。
この一層目金属配線20同士の間隔は、FeRAMの微細化によって狭くなっており、バイアス電圧を印加しない通常のCVD法で形成された絶縁膜により一層目金属配線20の間を埋めるのは困難である。
そこで、本実施形態では、図26で説明したHDPCVD法を採用して、図11のように、一層目金属配線20と第1保護絶縁膜16の上に第2層間絶縁膜21として酸化シリコン膜を形成し、この第2層間絶縁膜21で一層目金属配線20の間を完全に埋める。
このCVD法では、既述のように、シリコン基板1にバイアス電圧が印加され、それにより成膜雰囲気中のイオンがシリコン基板1側に引き込まれる。そのようなイオンには、キャパシタ誘電体膜12aを還元して劣化させる水素も含まれている。しかし、本実施形態では、バイアス電圧を印加しないCVD法により水酸基を多く含んだ酸化シリコン膜を第1保護絶縁膜16として既に形成してあるので、上記のように水素が引き付けられても、膜中の水酸基が水素と結びついて水素がキャパシタ誘電体膜12aにまで到達し難くなるため、第2層間絶縁膜20の形成時にキャパシタ誘電体膜12aが水素で劣化するのを効果的に抑止することが可能となる。
次いで、図12に示すように、CMP法により上記の第2層間絶縁膜21の上面を研磨して平坦化する。
そして、平坦化された第2層間絶縁膜21の上に、図26のHDPCVD装置の基板載置台71にバイアス電圧を印加しない状態で、厚さ約50〜500nmの酸化シリコン膜を形成し、それを第2保護絶縁膜22とする。
この第2保護絶縁膜22は、第2層間絶縁膜21の平坦化された上面上に形成されるため、HDPCVD法のような優れた埋め込み性を有する成膜方法で形成する必要が無く、上記のようなバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法で形成し得る。更に、このようにバイアス電圧を印加しないことで、第1保護絶縁膜16と同様に、第2保護絶縁膜22の膜中には多くの水酸基が含まれる。そして、外部の水素がその水酸基と結合するため、第2保護絶縁膜22は水素を吸収してその下に通さない機能を有し、これによりキャパシタQが水素に劣化するのが防止される。
その後に、再びHDPCVD法を採用して、第2保護絶縁膜22の上に酸化シリコン膜を厚さ約300nmに形成し、それを第3層間絶縁膜24とする。
次に、図13に示す断面構造を得るまでの構成について説明する。
まず、第3層間絶縁膜24、第2保護絶縁膜22、及び第2層間絶縁膜21をフォトリソグラフィによりパターニングして、一層目金属配線20に至る深さの第2ホール26を形成する。このフォトリソグラフィでは、第1ホール18aを形成したときと同様に、C2F6、CO、Ar、及びO2の混合ガス等のC2F6系のガスがエッチングガスとして使用される。そして、第3層間絶縁膜24、第2保護絶縁膜22、及び第2層間絶縁膜21のいずれもが酸化シリコンを主体に形成されるので、これらの膜21、22、24においてエッチング速度の違いが殆ど無く、第2ホール26を綺麗に形成することができる。
次に、第3層間絶縁膜24の上面と第2ホール26の内面に、RF前処理エッチングを行った後、膜厚90nm〜150nmの窒化チタン(TiN)よりなるグルー膜をスパッタ法により形成し、その後、第2ホール26を埋め込むようにブランケットタングステン膜をCVD法により例えば800nmの厚さに形成する。
そして、そのブランケットタングステン膜をエッチバックして第2ホール26の中にのみ残す。このようにして残されたブランケットタングステン膜は、一層目金属配線20と電気的に接続された第2導電性プラグ28として使用される。また、上記のエッチバックでは、ブランケットタングステン膜のみがエッチングされ、グルー膜は第3層間絶縁膜24上に残った状態となる。
その後に、残存するグルー膜の上に、3層構造の金属積層膜をスパッタ法により形成する。その金属積層膜は、下から順に、膜厚500nmの銅含有(0.5%)アルミニウム膜、膜厚5nmのチタン膜、及び膜厚100nmの窒化チタン膜である。
そして、この金属積層膜とその下のグルー膜とをフォトリソグラフィによりパターニングして最終金属配線30とする。
次に、図14に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、第1、第2保護絶縁膜16、22と同様に、水酸基を多く含んで水素を吸収し易い第3保護絶縁膜32として、バイアス電圧を印加しないプラズマCVD法で酸化シリコン膜を厚さ約50nmに形成し、その第3保護絶縁膜32で第3層間絶縁膜24と最終金属配線30とを覆う。
その後に、その最終金属配線30の間を絶縁膜で埋めるために、図26で説明した埋め込み性のよいHDPCVD法で第3保護絶縁膜32上に酸化シリコン膜を厚さ約700nmに形成し、それを第4層間絶縁膜34とする。
その第4層間絶縁膜34の上には配線を形成しないので、第4層間絶縁膜34の上面を平坦化する必要は無い。
次に、図15に示すように、第4層間絶縁膜34の上に最終保護絶縁膜36を形成する。その最終保護絶縁膜36は、第1〜第3保護絶縁膜16、22、32と同様に、バイアス電圧を印加しないプラズマCVD法により形成され、膜中に多くの水酸基を含む。そして、その水酸基が外部の水素と結合することにより、外部の水素がキャパシタQに至るのが防止される。
その後に、アンモニア(NH3)とシラン(SiH4)とを反応ガスにするプラズマCVD法により、パッシベーション膜38として窒化シリコン(SiN)膜を厚さ約100nmに形成する。その窒化シリコン膜は、様々な膜の中でも特に水分防止性に優れているため、外気に曝されるパッシベーション膜38として使用するのが好適である。
また、このパッシベーション膜38を形成するのに使用されるアンモニアに起因して、パッシベーション膜38の成膜時には多くの水素イオンが発生する。但し、このように水素イオンが発生しても、水酸基を多く含む最終保護絶縁膜36をパッシベーション膜38の下に予め形成してあるため、その水素イオンの大部分は最終保護絶縁膜36によってブロックされ、キャパシタQが水素によって劣化するのが防止される。
以上により、FeRAMの基本構造が完成したことになる。
上記したFeRAMの製造方法によれば、図8に示したように、平坦化されて高い埋め込み性が要求されない第1層間絶縁膜15の上に、バイアス電圧を印加しないプラズマCVD法により酸化シリコン膜を形成してそれを第1保護絶縁膜16とした。
バイアス電圧を印加しないことで、第1保護絶縁膜16には多くの水酸基が含まれることになり、外部雰囲気中の水素はその水酸基に結合してキャパシタQまで到達し難くなる。このように、第1保護絶縁膜16は水素からキャパシタQを保護するように機能するので、第1保護絶縁膜16を形成した後に、雰囲気中に水素を多く含む工程を行っても、その水素からキャパシタQを保護できるようになる。
例えば、例えば図11で説明したように、HDPCVD法で一層目金属配線20の間を第2層間絶縁膜21で埋め込む工程を行う場合は、バイアス電圧によって多量の水素イオンが基板1側に引き込まれるが、その水素イオンの大部分が第1保護絶縁膜16によってブロックされるため、上記の工程中にキャパシタQにダメージが入り難くなる。
しかも、その第1保護絶縁膜16は、その下の第1層間絶縁膜15と同様に酸化シリコンを主体に構成されるため、これらの膜にエッチングにより第1ホール18aを形成する際、各膜15、16にエッチング速度が殆ど同じとなる。そのため、第1層間絶縁膜15よりもエッチング速度が遅い膜、例えばアルミナ膜を第1保護絶縁膜16として形成する場合と比較して、第1ホール18aを形成するのが容易となり、第1ホール18aを綺麗に形成することが可能となる。
(2)第2実施形態
本実施形態では、銅配線を形成するのに好適なダマシンプロセスに、バイアス電圧を印加しないプラズマCVDで形成した保護絶縁膜を適用する。
図16〜図21は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。なお、これらの図において、第1実施形態で説明した要素には第1実施形態と同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
最初に、図16に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、第1実施形態で説明した図1〜図9の工程を行った後、図16に示すように、第1導電性プラグ19aと第1保護絶縁膜16の上に、プラズマCVD法により第1エッチングストッパ膜40として窒化シリコン膜を厚さ約100nmに形成する。
次に、シランを反応ガスとするプラズマCVD法で酸化シリコン膜を厚さ約800nmに形成し、それを第2層間絶縁膜41とする。
そして、例えばC4F8をエッチングガスとして使用して、フォトリソグラフィによりこの第2層間絶縁膜41をパターニングして第1配線溝41aを形成する。その後に、エッチングガスをCHF3に変えて、第1配線溝41aの下の第1エッチングストッパ膜40をエッチングすることにより、第1配線溝41aの下に第1導電性プラグ19aの上面を露出させる。
次いで、上記の第1配線溝41aの内面と第2層間絶縁膜41の上面に、銅の拡散を防止する第1拡散防止膜42として例えばTaN膜をスパッタ法で厚さ約25nmに形成した後、上記の第1配線溝41aを完全に埋める厚さの第1銅膜43を電解めっきにより第1拡散防止膜42の上に形成する。その電解めっき法では、硫酸銅の他に、第1銅膜43の埋め込み性を良くするための有機物がめっき液中に添加される。
その後に、第2層間絶縁膜41の上面の余分な第1銅拡散防止膜42と第1銅膜43とをCMP法により除去し、これらの膜を第1配線溝41aの中に一層目金属配線44として残す。
続いて、図17に示すように、一層目金属配線44と第2層間絶縁膜41のそれぞれの上にプラズマCVD法で窒化シリコン膜を形成してそれを第2エッチングストッパ膜46とする。そして、この第2エッチングストッパ膜よりもエッチング速度が速い膜、例えば酸化シリコン膜をプラズマCVD法により形成してそれを第3層間絶縁膜47とする。
次に、この第3層間絶縁膜47を構成する酸化シリコン(誘電率:約4)よりも低誘電率の第1低誘電率絶縁膜48を第3層間絶縁膜47の上に厚さ約300nmに形成する。そのような第1低誘電率絶縁膜48としては、例えば誘電率が約2.8のBN(Boron Nitride)膜や、誘電率が約3.0〜3.2のSiOF膜がある。そのうち、BN膜は、第1実施形態で図26を参照して説明したHDPCVD法で形成することができ、例えばB2H6とN2との混合ガスがそのHDPCVD法における反応ガスとして使用される。また、SiOF膜は、上記のHDPCVD法において、SiF4、O2、及びArを反応ガスにして形成され得る。
その後に、第1実施形態で説明した図26のチャンバ70内にシリコン基板1を入れ、基板載置台71の上にシリコン基板1を載置する。そして、その基板載置台71の上でシリコン基板1を250℃〜400℃程度の比較的低温に維持して、SiH4、O2、及びArをチャンバ70に導入する。続いて、チャンバ70内の圧力を約15mTorrとする条件下で、周波数が13.56MHzでパワーが3.5kWの高周波電力をコイル72に供給し、チャンバ70内にプラズマを発生させる。
このとき、一層目金属配線44の上面をCMP法で平坦化してあるので、その一層目金属配線44の上方に形成されている第1低誘電率絶縁膜48の上面も実質的に平坦である。従って、この第1低誘電率絶縁膜48上に形成される膜に高い埋め込み性は要求されず、その膜をHDPCVD法で形成する必要は無い。
そこで、本実施形態では、図26の基板載置台71にはバイアス電圧を印加せず、コイル72からの高周波電力によってのみチャンバ70内にプラズマを発生させ、通常の単周波のプラズマCVD法により、第1低誘電率絶縁膜48の上に酸化シリコン膜を約200nmの厚さに形成し、その酸化シリコン膜を第2保護絶縁膜49とする。その第2保護絶縁膜49は、誘電率が約4.0であり、これよりも誘電率が低い第1低誘電率絶縁膜48と共に第4層間絶縁膜45を構成する。
第1実施形態で説明したように、HDPCVD装置内においてバイアス電圧を印加せずに形成した第2保護絶縁膜49は、HDPCVD法で形成した酸化シリコン膜と比較して水酸基を多く含み、その水酸基と外部の水素とが結合することによって水素を吸収し、膜の下方に水素を透過させない機能に富む。これにより、第2保護絶縁膜49の上方に、雰囲気中に水素を多く含む成膜プロセスやエッチングプロセスを行っても、その水素がキャパシタQに到達するのが防止され、外部からの水素によるキャパシタQの劣化を防ぐことが可能となる。
次に、図18に示すように、第4層間絶縁膜45の上にフォトレジストを塗布し、それを露光、現像することにより、一層目金属配線44の上にホール形状の第1窓50aを備えた第1レジストパターン50を形成する。
そして、第2エッチングストッパ膜46をエッチングのストッパにしながら、第1窓50aを通じて各絶縁膜47〜49をドライエッチングすることにより、一層目金属配線44の上方に第2ホール51を形成する。なお、このドライエッチングにおいて、酸化シリコンで構成される第3層間絶縁膜47と第2保護絶縁膜49のエッチングには、C4F8と不活性ガスとの混合ガスがエッチングガスとして使用される。また、第1低誘電率絶縁膜48としてBN膜を形成する場合には、上記のガスの混合比率を変えて第1低誘電率絶縁膜48をエッチングする。
この後に、第1レジストパターン50は除去される。
次に、図19に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、シリコン基板1の上側全面にフォトレジストを塗布し、それを露光、現像することにより、第2ホール51の上に第2窓52aを備えた第2レジストパターン52を形成する。
そして、この第2窓52aを通じて第2保護絶縁膜49と第1低誘電率絶縁膜48とをドライエッチングしてこれらの膜に第2配線溝53を形成する。このとき、第2保護絶縁膜49のエッチングガスとしては、C4F8と不活性ガスとの混合ガスが使用され、第1低誘電率絶縁膜48のエッチングガスとしては、上記のガスの混合比率を変えたものが使用される。また、このようなエッチングガスに対して第2エッチングストッパ膜46はエッチングされないので、上記のエッチングは第2エッチングストッパ膜46の上で自動的に停止する。
その後に、第2ホール51下の第2エッチングストッパ膜46をエッチングして第1開口46aを形成し、一層目金属配線44の上面をその第1開口46aから露出させる。
このエッチングが終了した後に、第2レジストパターン52は除去される。
次に、図20に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、第4層間絶縁膜45の上面、及び第2配線溝53と第2ホール51のそれぞれの内面に、スパッタ法でTaN膜を厚さ約25nmに形成して、そのTaN膜を銅の拡散を防止する第2拡散防止膜54とする。更に、その第2拡散防止膜54の上に、電解めっきにより第2銅膜55を形成し、この第2銅膜55で第2配線溝53と第2ホール51とを完全に埋め込む。
その後に、第4層間絶縁膜45の上面の余分な第2拡散防止膜54と第2銅膜55とをCMP法により研磨して除去し、第2配線溝53と第2ホール51の中にこれらの膜を中間金属配線56として残す。
そして、上記した中間金属配線56の形成プロセスをもう一度行うことにより、図21に示すような断面構造を得る。
この例では、図示のように、第2保護絶縁膜49の上に窒化シリコンよりなる第3エッチングストッパ膜57を形成する。その第3エッチングストッパ膜57は、例えばシランとアンモニアとを反応ガスとするプラズマCVD法により形成され、アンモニアに起因する水素がその成膜雰囲気中に多量に含まれる。その水素がキャパシタQにまで到達するとキャパシタQが劣化することになるが、本実施形態では予め第2保護絶縁膜49を形成してあるので、水素が第2保護絶縁膜49によってブロックされ、上記のように水素でキャパシタQが劣化するのが防止される。
その後に、酸化シリコンよりなる第5層間絶縁膜58、BN(Boron Nitride)よりなる第2低誘電率絶縁膜59、及び酸化シリコンよりなるカバー絶縁膜60が第3エッチングストッパ膜57上にこの順に形成される。そして、これらの絶縁膜のうち、第2低誘電率絶縁膜59とカバー絶縁膜60とが第6層間絶縁膜67を構成する。
次に、フォトリソグラフィによりこれらの絶縁膜をパターニングして、中間金属配線56の上に第3ホール61と第3配線溝62とを形成する。次いで、全面に第3拡散防止膜63としてTaN膜を形成した後、その上に第3銅膜64を電解めっきにより形成した後、第6層間絶縁膜67の上の余分な第3拡散防止膜63と第3銅膜64をCMP法で研磨して除去し、研磨されずに残ったこれらの膜を最終金属配線65とする。
その後に、最終金属配線65と第6層間絶縁膜67のそれぞれの上面にパッシベーション膜66として窒化シリコン膜をプラズマCVD法により形成する。
以上により、本実施形態に係る半導体装置の基本構造が完成したことになる。
本実施形態によれば、図17で説明したように、第4層間絶縁膜45を構成する第2保護絶縁膜49を、バイアス電圧を印加しないプラズマCVD法で形成したので、その第2保護絶縁膜49の膜中に水酸基が多く含まれ、それにより第2保護絶縁膜49が外部の水素をブロックするようになる。その結果、第2保護絶縁膜49を形成した後に、雰囲気中に多くの水素を含むプロセスを行ったり、或いは実使用下において上記の半導体装置が水素含有雰囲気に曝されたりしても、水素がキャパシタQに到達し難くなり、水素によるキャパシタQの劣化を効果的に防止することが可能となる。
しかも、本実施形態では、そのような第2保護絶縁膜49と、酸化シリコンよりも低い誘電率を有する第1低誘電率絶縁膜48とで第4層間絶縁膜45を構成したので、その第4層間絶縁膜45に埋め込まれた中間金属配線56の信号遅延を防止することが可能となり、高速動作が可能なFeRAMを提供できる。
(3)第3実施形態
既述の第1、第2実施形態では、バイアス電圧を印加しないプラズマCVD法で形成された単層の酸化シリコン膜で保護絶縁膜を構成した。これに対し、本実施形態では、その保護絶縁膜とは別に水素拡散防止膜も形成し、水素に対するバリア性を高める
図22、図23は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。
最初に、図22に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、第1実施形態で説明した図1〜図11の工程を行った後、図22に示すように、第2層間絶縁膜21の上面をCMP法で研磨して平坦化する。
次いで、その第2層間絶縁膜21の上面に、スパッタ法によりアルミナ(Al2O3)膜を厚さ約20nm〜100nm、より好ましくはこの範囲で最も薄い20nmに形成し、それを水素拡散防止膜80とする。なお、水素拡散防止膜80はアルミナ膜に限定されず、金属酸化物や金属窒化物よりなる膜を水素拡散防止膜80としてよい。そのような膜としては、例えば、窒化アルミニウム膜、酸化タンタル膜、窒化タンタル膜、酸化チタン膜、及び酸化ジルコニウム膜等がある。
続いて、バイアス電圧を印加しないプラズマCVD法により酸化シリコン膜を厚さ約30nm〜500nm、より好ましくは約30nmに形成し、それを第2保護絶縁膜22とする。
その後に、第1実施形態と同様にして、第2保護絶縁膜22の上に第3層間絶縁膜24として酸化シリコン膜を形成する。
ここまでの工程により、第2保護絶縁膜22よりも水素ブロック性に優れた金属酸化物や金属窒化物よりなる水素拡散防止膜80が第2保護絶縁膜22と積層された構造が得られたことになる。
このように、第2保護絶縁膜22と共に水素拡散防止膜80を形成することで、第1実施形態や第2実施形態のように第2保護絶縁膜22を単独で使用する場合と比較して、水素をブロックする効果が高まり、外部の水素がキャパシタQに至るのをより一層効果的に防止することが可能となる。
次に、図23に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、フォトリソグラフィにより、第3層間絶縁膜24、第2保護絶縁膜22、水素拡散防止膜80、及び第2層間絶縁膜21をパターニングして、一層目金属配線20の上のこれらの膜に第2ホール26を形成し、その第2ホール26から一層目金属配線20を露出させる。
このフォトリソグラフィにおいては、エッチングされる膜の全てに対し同一のエッチングガス、例えばC4F8が用いられる。
その後、第1実施形態と同様にして、第2ホール26内に第2導電性プラグ28を形成した後、その第2導電性プラグ28と電気的に接続される二層目金属配線30を第3層間絶縁膜24の上に形成する。
この後は、第1実施形態で説明した図14〜図15の工程を行うことにより、FeRAMの基本構造を完成させる。
以上説明した本実施形態によれば、第2保護絶縁膜22だけでなく、水素拡散防止膜80を第2保護絶縁膜22と共に形成したので、これらの膜によって外部の水素が確実にブロックされ、水素によるキャパシタQの劣化をより一層確実に防ぐことが可能となる。
しかも、第2保護絶縁膜22と共に水素拡散防止膜80を形成するので、第2保護絶縁膜22よりもエッチングレートが遅い水素拡散防止膜80の厚さを極力薄くすることが可能となる。そのため、第2ホール26をエッチングで形成するときに、水素拡散防止膜80のエッチング量を最小限に留めることができ、水素拡散防止膜80と第2保護絶縁膜22とのエッチレートの差によって第2ホール26の直径が細くなるのを防止でき、第2ホール26を綺麗に形成することが可能となる。
ところで、第2保護絶縁膜22を形成せずに、水素をブロックする機能に優れた水素拡散防止膜80のみを単独で形成することも考えられる。しかし、このようにすると、水素が拡散するのを確実に防止するために、水素拡散防止膜80を上記の20nmよりも厚く形成する必要がある。しかし、水素拡散防止膜80を構成する金属酸化物や金属窒化物、特にアルミナは、エッチングを行うのが困難な材料であるため、このように水素拡散防止膜80を厚く形成すると、下地の一層目金属配線20とのコンタクト用の第2ホール26を水素拡散防止膜80に形成するのが難しくなり、第2ホール26の直径が細くなるという不都合が新たに発生する。
これに対し、上記した実施形態では、第2保護絶縁膜22と水素拡散防止膜80とが協同して水素をブロックするので、水素拡散防止膜80を単独で形成する場合と比較してその水素拡散防止膜80の厚さを薄くすることが可能となる。その結果、第2ホール26を形成する際の水素拡散防止膜80のエッチング量を少なくすることができるので、エッチングによる第2ホール26の形成が容易となって、第2ホール26の直径が細くなるという不都合を回避することが可能となる。
また、本実施形態では、水素拡散防止膜80の下ではなく、その上に第2保護絶縁膜22を形成した。これによれば、バイアス電圧を印加しないで形成されて水分を比較的多く含む第2保護絶縁膜22に対し、配線形成工程等で熱が加わっても、膜中で気化した水分が上方に逃げることができると共に、水素拡散防止膜80によってその水分がキャパシタQに浸入するのを防ぐことができ、水分によるキャパシタQの劣化を防止することが可能となる。
これに対し、水素拡散防止膜80の下に第2保護絶縁膜22を形成すると、第2保護絶縁膜22から発生した水分が水素拡散防止膜80によってその逃げ道が断たれ、キャパシタQが水分によって蒸し焼きの状態になるので、水分によるキャパシタQの劣化を防ぐという観点からは好ましくない。
なお、上記では、第2保護絶縁膜22と共に水素拡散防止膜80を形成したが、第1実施形態で説明した第1保護絶縁膜16や第3保護絶縁膜32と共に水素拡散防止膜80を形成してもよい。更に、第2実施形態のダマシンプロセスで形成した第2保護絶縁膜49と共に上記の水素拡散防止膜80を形成してもよい。
(4)第4実施形態
既述の第1実施形態では、図6〜図8で説明したように、HDPCVD法で第1層間絶縁膜15を形成し、その上面を平坦化した後で、第1層間絶縁膜15の上に第1保護絶縁膜16を形成した。
これに対し、本実施形態では、以下で説明するように、第1層間絶縁膜15を平坦化せずにその上に第1保護絶縁膜16を形成する。
図24、図25は、本実施形態に係る半導体装置の製造途中の断面図である。なお、これらの図において、第1実施形態で説明した要素には第1実施形態と同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
最初に、図24に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、第1実施形態の図1〜図6の工程を行い、図示のようにシリコン基板1の上側全面にHDPCVD法で酸化シリコン膜を厚さ約1000nm以上に形成し、それを第1層間絶縁膜15とする。その第1層間絶縁膜15は、例えば図26で説明したHDPCVD装置のチャンバ70内で形成され、成膜を終了した後に、基板載置台71へのバイアス電圧の印加を停止する。
次に、第1実施形態とは異なり、その第1層間絶縁膜15を平坦化せずに、シリコン基板1を上記のチャンバ70に入れたままの状態にする。そして、そのチャンバ70内において、基板載置台71にバイアス電圧が印加されていない状態で、コイル72からの高周波電力のみでチャンバ70内の反応ガスをプラズマ化し、第1実施形態と同じ成膜条件を採用するプラズマCVD法で酸化シリコン膜を約750nmの厚さに形成し、その酸化シリコン膜を第1保護絶縁膜16とする。
この第1保護絶縁膜16には、下地の第1層間絶縁膜15の起伏に起因した凹凸が形成される。
そこで、次の工程では、図25に示すように、第1保護絶縁膜16の上面をCMP法により研磨して平坦化する。
この後は、第1実施形態で説明した図9〜図15の工程を行うことにより、FeRAMの基本構造を完成させる。
以上説明した本実施形態では、HDPCVD法で第1層間絶縁膜15を形成した後に、図26のHDPCVD法のチャンバ70からシリコン基板1を取り出さずに、そのチャンバ70の中で引き続いて第1保護絶縁膜16を形成する。これによれば、第1層間絶縁膜15と第1保護絶縁膜16とを同じ装置内で連続的に形成することができるので、第1実施形態と比較してFeRAMの製造工程のスループットを高めることができ、半導体装置の製造時間を短縮することができる。
以下に、本発明の特徴を付記する。
(付記1) 半導体基板の上に下地絶縁膜を形成する工程と、
前記下地絶縁膜の上に、下部電極、キャパシタ誘電体膜、及び上部電極を順に形成してなるキャパシタを形成する工程と、
前記キャパシタを覆う第1層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1層間絶縁膜の上に、前記半導体基板にバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法により第1保護絶縁膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
(付記2) 前記第1保護絶縁膜を形成する工程は、HDPCVD(High Density Plasma CVD)用のチャンバ内の基板載置台上に前記半導体基板を載置した状態で、該基板載置台に前記バイアス電圧を印加せずに前記チャンバ内に反応ガスを導入し、前記チャンバの上方から前記反応ガスに交流電力を供給して行われることを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記3) 前記反応ガスとして酸素とシランを含むガスを使用し、該酸素の流量を前記シランの流量よりも多くすることを特徴とする付記2に記載の半導体装置の製造方法。
(付記4) 前記第1保護絶縁膜を形成する工程において、基板温度を250℃以上400℃以下とすることを特徴とする付記2に記載の半導体装置の製造方法。
(付記5) 前記第1層間絶縁膜を形成した後に、該第1層間絶縁膜の上面を平坦化する工程を有し、
平坦化された後の前記第1層間絶縁膜の上に前記第1保護絶縁膜を形成することを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記6) 前記層間絶縁膜を形成した後に、該層間絶縁膜を形成したチャンバ内から前記半導体基板を取り出さずに、前記チャンバ内で引き続いて前記第1保護絶縁膜を形成することを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記7) 前記第1保護絶縁膜を形成した後に、該第1保護絶縁膜の上面を平坦化する工程を有することを特徴とする付記6に記載の半導体装置の製造方法。
(付記8) 前記第1保護絶縁膜を形成する工程の後に、前記第1層間絶縁膜と前記第1保護絶縁膜とに第1ホールを形成する工程と、該第1ホールの中に第1導電性プラグを形成する工程とを有することを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記9) 前記第1保護絶縁膜の上又は下に水素拡散防止膜を形成する工程を有することを特徴とする付記8に記載の半導体装置の製造方法。
(付記10) 前記水素拡散防止膜として、金属酸化物又は金属窒化物よりなる膜を形成することを特徴とする付記9に記載の半導体装置の製造方法。
(付記11) 前記水素拡散防止膜としてアルミナ膜を形成することを特徴とする付記9に記載の半導体装置の製造方法。
(付記12) 前記第1保護絶縁膜の上に、金属配線と、該金属配線の間を埋める第2層間絶縁膜とを形成する工程を有することを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記13) 前記金属配線と前記第2層間絶縁膜とを形成する工程は、前記第1保護絶縁膜の上に前記金属配線を形成した後、HDPCVD法により前記第2層間絶縁膜を形成して行われることを特徴とする付記12に記載の半導体装置の製造方法。
(付記14) 前記第2層間絶縁膜を形成する工程の後に、前記半導体基板にバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法により前記第2層間絶縁膜の上に第2保護絶縁膜を形成する工程を有することを特徴とする付記13に記載の半導体装置の製造方法。
(付記15) 前記第2保護絶縁膜を形成する工程の後に、該第2保護絶縁膜、及び前記第2層間絶縁膜に、前記金属配線に至る深さの第2ホールを形成する工程と、
前記第2ホールに第2導電性プラグを形成し、該第2導電性プラグと前記金属配線とを電気的に接続する工程とを有することを特徴とする付記14に記載の半導体装置の製造方法。
(付記16) 前記金属配線を形成する工程の後に、該金属配線の上方に最終金属配線を形成する工程と、
前記半導体基板にバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法により、前記最終金属配線の上に第3保護絶縁膜を形成する工程とを有することを特徴とする付記13に記載の半導体装置の製造方法。
(付記17) 前記第1保護絶縁膜を形成する工程の後に、該第1保護絶縁膜の上方に、前記半導体基板にバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法により最終保護絶縁膜を形成する工程と、該最終保護絶縁膜の上に、パッシベーション膜として窒化シリコン膜を形成する工程とを有することを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記18) 前記金属配線と前記第2層間絶縁膜とを形成する工程は、前記第1保護絶縁膜の上に前記第2層間絶縁膜を形成した後、該第2層間絶縁膜に配線溝を形成し、該配線溝の中に前記金属配線を形成して行われることを特徴とする付記12に記載の半導体装置の製造方法。
(付記19) 前記金属配線の上方に第3層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第3層間絶縁膜上に、前記半導体基板にバイアス電圧を印加しないプラズマCVD法で形成された第3保護絶縁膜を含む第4層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第3絶縁膜に配線溝を形成する工程と、
前記配線溝に中間金属配線を形成する工程とを有することを特徴とする付記18に記載の半導体装置の製造方法。
(付記20) 前記第4層間絶縁膜を形成する工程において、前記第3保護絶縁膜よりも誘電率が低い低誘電率絶縁膜を形成し、該低誘電率絶縁膜と前記第3保護絶縁膜とを前記第4層間絶縁膜とすることを特徴とする付記19に記載の半導体装置の製造方法。
1…シリコン基板、2…素子分離絶縁膜、3a…pウェル、3b…nウェル、4…ゲート絶縁膜、5a〜5c…ゲート電極、6a…n型ソース/ドレインエクステンション、6b…n型ソース/ドレイン領域、6c…p型ソース/ドレインエクステンション、6d…p型ソース/ドレイン領域、7…絶縁性サイドウォール、8a、8b…高融点金属シリサイド層、9…カバー膜、10…下地絶縁膜、11…第1導電膜、11a…下部電極、12…強誘電体膜、12a…キャパシタ上部電極、13…第2導電膜、13a…上部電極、14…エンキャップ層、15…第1層間絶縁膜、16…第1保護絶縁膜、18a…第1ホール、19…第1導電性プラグ、20…一層目金属配線、21…第2層間絶縁膜、22…第2保護絶縁膜、24…第3層間絶縁膜、26…第2ホール、28…第2導電性プラグ、30…最終金属配線、32…第3層間絶縁膜、34…第4層間絶縁膜、36…最終保護絶縁膜、38…パッシベーション膜、40…第1エッチングストッパ膜、41…第2層間絶縁膜、41a…第1配線溝、42…第1拡散防止膜、43…第1銅膜、44…一層目金属配線、45…第4層間絶縁膜、46…第2エッチングストッパ膜、47…第3層間絶縁膜、48…第1低誘電率絶縁膜、49…第2保護絶縁膜、50…第1レジストパターン、50a…第1窓、51…第2ホール、52…第2レジストパターン、52a…第2窓、53…第2配線溝、54…第2拡散防止膜、55…第2銅膜、56…中間金属配線、57…第3エッチングストッパ膜、58…第5層間絶縁膜、59…第2低誘電率絶縁膜、60…カバー絶縁膜、61…第3ホール、62…第3配線溝、63…第3拡散防止膜、64…第3銅膜、65…最終金属配線、66…パッシベーション膜、67…第6層間絶縁膜、70…チャンバ、71…基板載置台、72…コイル、73…アンテナ用高周波電源、74…バイアス用高周波電源、80…水素拡散防止膜。