JP2006301170A

JP2006301170A - Exposing device and method therefor

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Publication number: JP2006301170A
Application number: JP2005120873A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Aihara; 裕粟飯原; Shunichi Kobayashi; 俊一小林; Hideyuki Aoyama; 秀幸青山; Yoshio Umeda; 淑夫梅田; Masaru Imanishi; 賢今西; Takeshi Miyake; 健三宅
Original assignee: Fujikura Ltd; San Ei Giken Inc
Current assignee: Fujikura Ltd; San Ei Giken Inc
Priority date: 2005-04-19
Filing date: 2005-04-19
Publication date: 2006-11-02

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To fabricate a belt-shaped substrate with high quality and excellent productivity, while no warpage of the substrate is produced and the substrate is kept from becoming wrinkled. <P>SOLUTION: In an exposing device 1, the belt-shaped substrate 9 is intermittently conveyed along its longitudinal direction, and is exposed region-to-region with predetermined lengths. The flexible belt-shaped substrate 9 having an exposure surface with a photosensitive material adhered thereto is transferred between an unreeling portion with a roll 7 for unreeling and a winding portion with a roll 15 for winding with a feed drive devices 23, 25. A vertical route portion is formed between the unreeling portion and the winding portion. An exposure portion is arranged on the vertical route portion. The exposure portion has photmasks 41, 43. A pattern drawn on the photomask is transferred to the exposure surface of the belt-shaped substrate with light 51 of a light source 47 of an optical system device 45. One out of the unreeling portion and the winding portion is arranged on the upper part of the exposure portion and the other is arranged on the lower part thereof. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、帯状基板の少なくとも片面にフォトマスクを通して光を照射することにより、前記フォトマスクに描かれた例えばパターンなどを前記帯状基板に転写する露光装置およびその方法に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus and method for transferring, for example, a pattern drawn on the photomask to the belt-like substrate by irradiating at least one surface of the belt-like substrate with light through a photomask.

従来、フレキブルな帯状基板（ＤＦ＋ＣＣＬ）を露光する方法としては、帯状基板を所定長さにカットし、そのカットした基板を１枚ずつ露光する枚葉露光方法（特許文献１参照）と、帯状基板が円筒状に巻かれている繰り出し用ロールと、この帯状基板を円筒状に巻き取る巻き取りロールとの間で、帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、この帯状基板を所定長さの領域ごとに露光するロールツウロール露光方法が知られている。この二つの露光方法を比較すると、基板をカットするなどの作業工数を少なくできること、作業者のハンドリングに起因する不良を減少させることができること、さらには後工程でのオーバーエッチングを減少させることができること、など品質の点、生産性の点でロールツウロール露光方法の方が有利であり、今後この露光方法が普及していくと考えられる。ロールツウロール露光方法に対応した露光装置は、帯状基板を水平状態で露光する水平型露光装置と、帯状基板を垂直状態で露光する垂直型露光装置が考えられる。
特開２００２−１４８８１０号公報 Conventionally, as a method for exposing a flexible strip-shaped substrate (DF + CCL), a single-wafer exposure method (see Patent Document 1) in which a strip-shaped substrate is cut into a predetermined length and the cut substrates are exposed one by one, and a strip-shaped substrate is disclosed. Between the feeding roll wound in a cylindrical shape and the take-up roll that winds the belt-like substrate into a cylindrical shape, while feeding the belt-like substrate intermittently along its longitudinal direction, There is known a roll-to-roll exposure method in which each length region is exposed. Comparing these two exposure methods, it is possible to reduce the number of work steps such as cutting the substrate, to reduce defects caused by handling of the operator, and to reduce over-etching in the subsequent process. The roll-to-roll exposure method is more advantageous in terms of quality and productivity, and it is considered that this exposure method will become widespread in the future. As the exposure apparatus corresponding to the roll-to-roll exposure method, a horizontal exposure apparatus that exposes a strip substrate in a horizontal state and a vertical exposure apparatus that exposes a strip substrate in a vertical state are conceivable.
JP 2002-148810 A

しかし上述した従来の垂直型露光装置は、構成上、露光部が大きくなるため、露光部の横に設置される繰り出し部および巻き取り部を含めた装置全体が水平型露光装置に比べ大型になってしまうことと、露光部に対して帯状基板を垂直に通す構造のため、帯状基板のセットがしにくいことなどが問題であった。一方上述した水平型露光装置は、構造上帯状基板が自重によって下方に撓んでしまう傾向がある。この撓みが、露光を行う上で大きな問題を生じさせていた。帯状基板を長手方向に間欠的に送る時、および、フォトマスクを帯状基板に対して位置合わせする時、あるいはフォトマスク同士を位置合わせする時、帯状基板とフォトマスクとが接触しないように両者間には隙間が形成される。しかしながら、位置合わせ時には、帯状基板とフォトマスク、あるいはフォトマスク同士双方に形成された位置合わせマークを同時に一台のＣＣＤカメラで読みとる必要があるため、上記の隙間は、ＣＣＤカメラの焦点深度以内の狭い距離にする必要がある。そのため、露光部では、帯状基板に長手方向の大きな張力を加え、自重による帯状基板の撓みが小さくなるようにしていたが、その長手方向の大きな張力によって帯状基板は長手方向に伸び、張力がない状態に比べ寸法変化が生じる。その状態で位置合わせを行うため、帯状基板とフォトマスクとを精度良く位置合わせして均一な品質の製品を提供することが難しかった。 However, since the conventional vertical exposure apparatus described above has a larger exposure section, the entire apparatus including the feeding section and the take-up section installed beside the exposure section is larger than the horizontal exposure apparatus. In other words, it is difficult to set the band-shaped substrate because of the structure in which the band-shaped substrate passes vertically to the exposed portion. On the other hand, the above-described horizontal exposure apparatus tends to bend downward due to its weight due to its structure. This bending has caused a big problem in performing exposure. When the strip substrate is intermittently sent in the longitudinal direction, and when the photomask is aligned with the strip substrate, or when the photomasks are aligned with each other, the strip substrate and the photomask are not in contact with each other. A gap is formed in. However, at the time of alignment, it is necessary to read the alignment mark formed on the belt-shaped substrate and the photomask or both photomasks simultaneously with one CCD camera, so the above gap is within the focal depth of the CCD camera. It needs to be a small distance. For this reason, in the exposure unit, a large tension in the longitudinal direction is applied to the strip substrate so that the flexure of the strip substrate due to its own weight is reduced. A dimensional change occurs compared to the state. Since alignment is performed in this state, it has been difficult to provide a uniform quality product by accurately aligning the belt-shaped substrate and the photomask.

水平型露光装置のもう一つの問題は、ゴミの付着である。水平状態の帯状基板にはゴミが付着しやすい。帯状基板の露光面にゴミが付着したまま露光を行うと、露光不良を起こしやすかった。また、帯状基板の下方に配置されたフォトマスクや光源の反射鏡の上には、帯状基板から落下したゴミが溜まりやすい。このような蓄積されたゴミは、多くの露光不良製品を生じさせる大きな原因となっていた。 Another problem of the horizontal exposure apparatus is the adhesion of dust. Dust easily adheres to the horizontal belt-like substrate. When exposure was performed with dust adhering to the exposure surface of the strip substrate, exposure failure was likely to occur. In addition, dust that has fallen from the belt-shaped substrate tends to accumulate on a photomask or a light source reflecting mirror disposed below the belt-shaped substrate. Such accumulated dust has been a major cause of many poorly exposed products.

そこで本発明が解決しようとする課題は、帯状基板の姿勢変化と、帯状基板、フォトマスクや反射鏡などへのゴミの付着を無くし、高性能でコンパクトな露光装置とそれを用いた露光方法を提供することにある。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a high-performance and compact exposure apparatus and an exposure method using the same, which eliminates the change in posture of the belt-shaped substrate and the adhesion of dust to the belt-shaped substrate, photomask, and reflecting mirror. It is to provide.

上記発明が解決しようとする課題を達成するためにこの発明の露光装置は、帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光するための露光装置において、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に形成された、前記帯状基板が垂直状態になるところの垂直経路部と、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送るための送り駆動装置と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも１つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記帯状基板の前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることを特徴とするものである。 In order to achieve the problem to be solved by the above invention, an exposure apparatus of the present invention exposes a belt-like substrate for each predetermined length region while intermittently feeding the belt-like substrate along its longitudinal direction. In the device
A feeding portion having a feeding roll in which a belt-like substrate having an exposure surface on which at least one photosensitive material is attached is wound in a cylindrical shape;
A winding portion having a winding roll for winding the belt-like substrate into a cylindrical shape, and a winding portion provided at a predetermined distance from the feeding portion;
A vertical path portion formed between the feeding portion and the winding portion, where the belt-like substrate is in a vertical state;
A feed driving device for intermittently sending the belt-like substrate from the feeding unit to the winding unit;
An exposure unit having at least one photomask that is close to or can be in contact with the exposure surface as an exposure unit provided in the vertical path unit;
An optical system device for transferring a pattern drawn on the photomask to the exposure surface of the strip substrate;
One of the feeding portion and the winding portion is provided at an upper portion of the exposure portion, and the other is provided at a lower portion.

この発明の露光装置は、前記露光装置において、前記露光部の上方部に設けられた前記繰り出し部または前記巻き取り部が上下方向に移動可能であることが好ましい。 In the exposure apparatus according to the present invention, in the exposure apparatus, it is preferable that the feeding unit or the winding unit provided in an upper part of the exposure unit is movable in the vertical direction.

この発明の露光装置は、前記露光装置において、前記繰り出し部と前記露光部との間に、前記帯状基板に付着した付着物を除去する付着物除去手段が交換可能に設けられていることが好ましい。 In the exposure apparatus of the present invention, in the exposure apparatus, it is preferable that a deposit removing means for removing deposits attached to the belt-like substrate is replaceably provided between the feeding portion and the exposure portion. .

この発明の露光方法は、帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光する露光方法であって、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に設けられた、前記帯状基板が垂直状態になる垂直経路部と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも１つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送り、前記帯状基板が停止した状態で、前記露光部において、前記露光面を前記フォトマスクに近接、または接触させると共に前記光学系装置からの光を前記フォトマスクを通して前記露光面に照射することで前記フォトマスクに描かれたパターンなどを前記露光面に転写することを特徴とするものである。 The exposure method of the present invention is an exposure method in which the belt-like substrate is exposed for each predetermined length region while intermittently feeding the belt-like substrate along its longitudinal direction.
A feeding portion having a feeding roll in which a belt-like substrate having an exposure surface on which at least one photosensitive material is attached is wound in a cylindrical shape;
A winding part having a winding roll for winding the belt-like substrate into a cylindrical shape, and a winding part provided at a predetermined distance from the feeding part; and
A vertical path portion that is provided between the feeding portion and the winding portion and in which the belt-like substrate is in a vertical state;
An exposure unit having at least one photomask that is close to or can be in contact with the exposure surface as an exposure unit provided in the vertical path unit;
An optical system device for transferring a pattern drawn on the photomask to the exposure surface;
The belt-like substrate is intermittently sent from the feeding unit to the take-up unit, and the exposure surface is brought close to or in contact with the photomask in the exposure unit while the belt-like substrate is stopped. The pattern drawn on the photomask is transferred to the exposure surface by irradiating the exposure surface with light from the photomask through the photomask.

この発明の露光方法は、前記露光方法において、前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることが好ましい。 In the exposure method of the present invention, in the exposure method, it is preferable that one of the feeding portion and the winding portion is provided at an upper portion of the exposure portion and the other is provided at a lower portion.

以上のごとき課題を解決するための手段の説明から理解されるように、この発明の露光装置およびこの方法によれば、帯状基板は、垂直状態になるところの垂直経路において露光されるので、自重による帯状基板の撓みは生じない。したがって、撓みを小さくするために帯状基板に大きな張力を加えるという必要がないので、帯状基板の伸びによる寸法変化に伴う問題は生じない。 As can be understood from the description of the means for solving the problems as described above, according to the exposure apparatus and method of the present invention, the strip-shaped substrate is exposed in the vertical path where the vertical state is to be obtained. The band-shaped substrate does not bend due to. Therefore, since it is not necessary to apply a large tension to the belt-like substrate in order to reduce the deflection, there is no problem associated with the dimensional change due to the elongation of the belt-like substrate.

また、垂直経路において垂直状態になった帯状基板は、わずかな張力で十分な平面性を維持できるので、フォトマスクに対する良好な平行性を得ることができ、その結果、両者間の位置合わせの精度が向上する。 In addition, since the belt-like substrate in the vertical state in the vertical path can maintain sufficient flatness with a slight tension, it can obtain good parallelism to the photomask, and as a result, the alignment accuracy between the two Will improve.

さらに、垂直状態の帯状基板は、水平状態の帯状基板に比べてゴミが付着しにくい。さらに構造上フォトマスクおよび光源の反射鏡も垂直状態に設けることができるので、帯状基板、フォトマスクおよび光源の反射鏡に付着または蓄積するゴミに起因する露光不良を、大きく低減させることができる。 Furthermore, dust is less likely to adhere to the vertical belt-like substrate than the horizontal belt-like substrate. Further, since the photomask and the light source reflecting mirror can be provided in a vertical state in terms of structure, it is possible to greatly reduce exposure failures caused by dust adhering to or accumulating on the belt-like substrate, the photomask and the light source reflecting mirror.

さらに、繰り出し部および巻き取り部を露光部の上方または下方に配置することで、コンパクトな装置構成にすることができる。 Furthermore, by arranging the feeding portion and the winding portion above or below the exposure portion, a compact apparatus configuration can be achieved.

結局、本発明によれば、帯状基板の露光に関して、コンパクトな装置で従来よりもはるかに高い品質と生産性とを得ることができる。 After all, according to the present invention, it is possible to obtain much higher quality and productivity than conventional methods with a compact apparatus for exposure of a strip-shaped substrate.

以下、この発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図１および図２を参照するに、露光装置１は、左右方向へ延伸されたベース３と、このベース３上に設けられた筐体５とを備えている。この筐体５内における前記ベース３上の図１において右端部には、繰り出し用ロール７が設けられている。この繰り出し用ロール７にはフレキシブルな帯状基板９が円筒１１状に巻かれている。 Referring to FIGS. 1 and 2, the exposure apparatus 1 includes a base 3 extending in the left-right direction and a housing 5 provided on the base 3. A feeding roll 7 is provided at the right end in FIG. 1 on the base 3 in the housing 5. A flexible belt-like substrate 9 is wound around the feeding roll 7 in the shape of a cylinder 11.

一方、前記筐体５内における図１において左側の上方にはベース１３が図示省略の駆動装置により実線の位置から２点鎖線の位置まで上下動可能に設けられている。前記ベース１３上には巻き取り用ロール１５が設けられている。この巻き取り用ロール１５には露光処理されたフレキシブルな帯状基板９が円筒１７状に巻きとられるようになっている。 On the other hand, a base 13 is provided above the left side in FIG. 1 in the housing 5 so as to be movable up and down from a solid line position to a two-dot chain line position by a driving device (not shown). A winding roll 15 is provided on the base 13. A flexible strip-shaped substrate 9 that has been subjected to exposure processing is wound around the winding roll 15 in the shape of a cylinder 17.

前記ベース１３上の右端部には支持部材１９が立設されており、この支持部材１９の上部にはガイドローラ２１が設けられている。このガイドローラ２１の右側には一対の送り駆動ローラ２３、２５からなる送り駆動装置２７が設けられている。この送り駆動装置２７の一対の送り駆動ローラ２３、２５を回転させることにより、前記繰り出し用ロール７上に巻かれた帯状基板９を所定長さ分ずつ間欠的に引き出す。 A support member 19 is erected on the right end portion of the base 13, and a guide roller 21 is provided on the support member 19. On the right side of the guide roller 21, a feed drive device 27 including a pair of feed drive rollers 23 and 25 is provided. By rotating the pair of feed drive rollers 23 and 25 of the feed drive device 27, the belt-like substrate 9 wound on the feeding roll 7 is intermittently pulled out by a predetermined length.

繰り出し用ロール７から引き出された帯状基板９は、ガイドローラ２９、３１、３３、３５および付着物除去手段としての例えば一対のクリーンローラ３７を経て垂直経路に入り、垂直状態になる。帯状基板９が垂直状態になっている区域が露光部となる。垂直状態で露光部を通過した帯状基板９は、前記送り駆動装置２７の一対の送り駆動ローラ２３、２５、ガイドローラ２１を経て、巻き取り用ロール１５上に円筒１７状に巻きとられる。なおり前記ガイドローラ２９とガイドローラ３１との間には前記帯状基板９の接合作業などを行う際に使用される作業台３９が設けられている。 The belt-like substrate 9 drawn out from the feeding roll 7 enters the vertical path through the guide rollers 29, 31, 33, 35 and a pair of clean rollers 37 as the deposit removing means, for example, and enters a vertical state. An area where the belt-like substrate 9 is in a vertical state is an exposure portion. The belt-like substrate 9 that has passed through the exposure unit in the vertical state is wound in the shape of a cylinder 17 on the take-up roll 15 via the pair of feed drive rollers 23 and 25 and the guide roller 21 of the feed drive device 27. In addition, a work table 39 is provided between the guide roller 29 and the guide roller 31. The work table 39 is used when the belt-like substrate 9 is joined.

前記帯状基板９の少なくとも片面は、感光材が付着された露光面になっている。前記露光部には露光面に対応した位置にフォトマスクユニットＵ１、又はＵ２が配置されている。図示した実施形態では、両面に露光面が形成されている。したがって、露光部には、垂直状態の帯状基板９を挟んで両側にフォトマスクユニットＵ１およびＵ２が配置されている。フォトマスクユニットＵ１およびＵ２にはそれぞれ、帯状基板９の露光面に対向するようにフォトマスク４１、４３が設けられている。 At least one surface of the belt-like substrate 9 is an exposure surface to which a photosensitive material is attached. In the exposure unit, a photomask unit U1 or U2 is disposed at a position corresponding to the exposure surface. In the illustrated embodiment, exposure surfaces are formed on both sides. Therefore, the photomask units U1 and U2 are arranged on both sides of the exposure unit with the vertical strip-shaped substrate 9 in between. Photomasks 41 and 43 are provided in the photomask units U1 and U2, respectively, so as to face the exposure surface of the belt-like substrate 9.

このフォトマスク４１、４３には、例えば電気回路のようなパターンが描かれており、フォトマスク４１、４３の奥側図２において上方には光学系装置４５の一部を構成する光源４７が配置されている。この光源４７の前方図２において右側には実線の位置から２点鎖線の位置までシャッター４９が上下動可能に設けられている。フォトマスク４１、４３の帯状基板９の反対側には前記光源４７からの光５１を帯状基板９の方へ導入する反射鏡５３、５５が配置されている。前記光源４７からの光５１が、反射鏡５３、５５を介し、フォトマスク４１、４３を通って帯状基板９の露光面に照射されることにより、パターンが帯状基板９上に転写される。光５１は平行光であることが望ましく、また反射鏡５３、５５を含む露光部は前記筐体５によって覆うことが望ましい。 A pattern such as an electric circuit is drawn on the photomasks 41 and 43, and a light source 47 constituting a part of the optical system device 45 is disposed above the photomasks 41 and 43 in FIG. Has been. A shutter 49 is provided on the right side of the light source 47 in FIG. 2 so as to be movable up and down from the position of the solid line to the position of the two-dot chain line. Reflecting mirrors 53 and 55 for introducing the light 51 from the light source 47 toward the belt-like substrate 9 are arranged on the opposite sides of the photomasks 41 and 43 to the belt-like substrate 9. The light 51 from the light source 47 is irradiated onto the exposure surface of the strip substrate 9 through the reflecting mirrors 53 and 55 through the photomasks 41 and 43, whereby the pattern is transferred onto the strip substrate 9. The light 51 is preferably parallel light, and the exposure unit including the reflecting mirrors 53 and 55 is preferably covered by the housing 5.

フォトマスクユニットＵ１、Ｕ２の少なくとも１つには、他方に対して近接および離反させるための機構（図示せず）が取り付けられている。フォトマスクユニットＵ１，Ｕ２は、フォトマスク４１，４３を保持するためのフォトマスク用フレーム６５，６７、フォトマスク用フレーム６５，６７をその面内でＸ、Ｙ、θ方向に移動させる移動機構６１、６３を備えたフレーム状のベープレート５７、５９から構成されている。なお、フォトマスク用フレーム６５，６７はフォトマスク４１，４３を密着固定できる機構（図示せず）を有している。フォトマスク用フレーム６５、６７の少なくとも一方の、帯状基板９に対向した面の外周部には、環状の封止部材６９、７１が設けられている。露光の際にフォトマスクユニットＵ１、Ｕ２を互いに近接せしめた時、帯状基板９を含むフォトマスク用フレーム６５、６７、封止部材６９、７１およびフォトマスク４１、４３からなる密閉空間が形成され、その密閉空間内を減圧することで帯状基板９とフォトマスク４１、４３とを互いに、密着させることができる。 At least one of the photomask units U1 and U2 is attached with a mechanism (not shown) for approaching and separating from the other. The photomask units U1 and U2 have photomask frames 65 and 67 for holding the photomasks 41 and 43, and a moving mechanism 61 that moves the photomask frames 65 and 67 in the X, Y, and θ directions within the plane. , 63 and frame-shaped bee plates 57, 59. Note that the photomask frames 65 and 67 have a mechanism (not shown) capable of closely fixing the photomasks 41 and 43. At least one of the photomask frames 65 and 67 is provided with annular sealing members 69 and 71 on the outer periphery of the surface facing the belt-like substrate 9. When the photomask units U1 and U2 are brought close to each other at the time of exposure, a sealed space composed of the photomask frames 65 and 67 including the strip substrate 9, the sealing members 69 and 71, and the photomasks 41 and 43 is formed. By reducing the pressure in the sealed space, the belt-like substrate 9 and the photomasks 41 and 43 can be brought into close contact with each other.

フォトマスクユニットＵ１、Ｕ２の少なくとも一方には、フォトマスク４１、４３同士、または各フォトマスク４１、４３と帯状基板９とを位置合わせする際に使用されるＣＣＤカメラ７３が備えられている。本実施例ではフォトマスクユニットＵ１のみに設けられている。このＣＣＤカメラ７３は、ベースプレート５７に取り付けられた移動機構７５、７７によって、フォトマスク４１の面と平行な面内をＸ、Ｙ方向に移動可能である。 At least one of the photomask units U1 and U2 is provided with a CCD camera 73 that is used when aligning the photomasks 41 and 43 or the photomasks 41 and 43 and the belt-like substrate 9 with each other. In this embodiment, it is provided only in the photomask unit U1. The CCD camera 73 can be moved in the X and Y directions in a plane parallel to the surface of the photomask 41 by moving mechanisms 75 and 77 attached to the base plate 57.

図３を参照しながら、露光装置１を用いた露光方法について説明する。図３は、露光部において垂直経路内で垂直状態になっている帯状基板９とフォトマスク４１、４３との相対位置を示す概略図であり、図１における矢印IIIの方向から見た図である。 An exposure method using the exposure apparatus 1 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic view showing the relative positions of the belt-like substrate 9 and the photomasks 41 and 43 that are in a vertical state in the vertical path in the exposure unit, and is a view seen from the direction of the arrow III in FIG. .

帯状基板９は、２点鎖線で示した所定長さの領域７９ごとに露光される。したがって、送り駆動ローラ２３、２５は、この領域７９の長さを含む長さＰをピッチとして帯状基板９を間欠的に送る。帯状基板９が送られている間、図１に示すように、フォトマスクユニットＵ１、Ｕ２は後退位置にあり、フォトマスク４１、４３と帯状基板９との間には所定の隙間が形成されている。 The belt-like substrate 9 is exposed for each region 79 having a predetermined length indicated by a two-dot chain line. Accordingly, the feed drive rollers 23 and 25 intermittently feed the belt-like substrate 9 with the length P including the length of the region 79 as a pitch. While the belt-like substrate 9 is being sent, as shown in FIG. 1, the photomask units U1 and U2 are in the retracted position, and a predetermined gap is formed between the photomasks 41 and 43 and the belt-like substrate 9. Yes.

帯状基板９の送りが所定の位置で停止されると、フォトマスクユニットＵ１、Ｕ２の少なくとも一方が他方に対して接近せしめられる。その結果、フォトマスク４１、４３は、対向する帯状基板９の領域７９に対して接近して、位置合わせの態勢に入る。フォトマスク４１、４３のそれぞれの対向した位置に、位置合わせ用マーク８１、８１’が少なくとも一つ設けられている。位置合わせ用マーク８１、８１’は、帯状基板９から外れた位置にある。位置合わせ用マーク８１、８１’の位置をＣＣＤカメラ７３によって読み取り、読み取ったデータに基づいて、フォトマスク４１、４３の少なくとも一方をＸ、Ｙ、θ方向に移動させ、フォトマスク４１と４３との位置合わせを行う。 When the feeding of the belt-like substrate 9 is stopped at a predetermined position, at least one of the photomask units U1 and U2 is brought closer to the other. As a result, the photomasks 41 and 43 approach the region 79 of the opposing strip substrate 9 and enter a position for alignment. At least one alignment mark 81, 81 ′ is provided at a position facing each other of the photomasks 41, 43. The alignment marks 81 and 81 ′ are at positions away from the strip substrate 9. The positions of the alignment marks 81 and 81 ′ are read by the CCD camera 73, and based on the read data, at least one of the photomasks 41 and 43 is moved in the X, Y, and θ directions. Perform alignment.

帯状基板９には、その上に位置合わせ用マーク８３を有するものと、有しないものとがある。帯状基板９が位置合わせ用マーク８３を有する場合には、フォトマスク４１、４３の帯状基板９の位置合わせ用マーク８３に対向した位置に設けられた位置合わせ用マーク８１（図示せず）と帯状基板９の位置合わせ用マーク８３の位置をＣＣＤカメラ７３で同時に読み取り、読み取ったデータに基づいてフォトマスク４１、４３と帯状基板９との位置合わせを行えばよい。 The belt-like substrate 9 includes a substrate having the alignment mark 83 thereon and a substrate having no alignment mark 83 thereon. When the belt-like substrate 9 has the alignment mark 83, a belt-like alignment mark 81 (not shown) provided at a position of the photomasks 41, 43 facing the alignment mark 83 of the belt-like substrate 9. The position of the alignment mark 83 on the substrate 9 may be simultaneously read by the CCD camera 73, and the photomasks 41 and 43 and the strip substrate 9 may be aligned based on the read data.

帯状基板９がその上に位置合わせ用マーク８３を有しない場合には、帯状基板９の側縁と、それに対向する位置に設けられたフォトマスク４１、４３の位置合わせ用マーク（図示せず）との位置をＣＣＤカメラ７３で読み取り、双方の相対関係に基づいて帯状基板９とフォトマスク４１、４３との位置合わせを行えばよい。この場合、帯状基板９の側縁が位置合わせ用マーク８３にとって代わっている。 When the belt-like substrate 9 does not have the alignment mark 83 on the belt-like substrate 9, alignment marks (not shown) of the photomasks 41 and 43 provided on the side edges of the belt-like substrate 9 and the positions opposite thereto. And the position of the belt-like substrate 9 and the photomasks 41 and 43 may be aligned based on the relative relationship between them. In this case, the side edge of the belt-like substrate 9 is replaced by the alignment mark 83.

フォトマスク４１、４３相互間およびフォトマスク４１、４３と帯状基板９との間の位置合わせが終了したならば、フォトマスクユニットＵ１、Ｕ２をさらに接近させ、帯状基板９を含むフォトマスクフレーム６５、６７、封止部材６９、７１およびフォトマスク４１、４３からなる密閉空間を形成する。この密閉空間を減圧装置（図示せず）によって減圧することにより、フォトマスク４１、４３と帯状基板９とを互いに密着させることができる。 When the alignment between the photomasks 41 and 43 and between the photomasks 41 and 43 and the belt-like substrate 9 is completed, the photomask units U1 and U2 are brought closer to each other, and the photomask frame 65 including the belt-like substrate 9 is placed. 67, a sealed space composed of the sealing members 69 and 71 and the photomasks 41 and 43 is formed. By depressurizing this sealed space with a decompression device (not shown), the photomasks 41 and 43 and the strip substrate 9 can be brought into close contact with each other.

次いで、光源４７からの光５１を反射鏡５３、５５を介して、フォトマスク４１、４３を通して帯状基板９の領域７９上に照射する。それによって、フォトマスク４１、４３に描かれたパターンが帯状基板９の領域７９上に転写される。 Next, the light 51 from the light source 47 is irradiated onto the region 79 of the strip-shaped substrate 9 through the photomasks 41 and 43 through the reflecting mirrors 53 and 55. As a result, the pattern drawn on the photomasks 41 and 43 is transferred onto the region 79 of the strip substrate 9.

なお、光５１を片面ずつ照射するようにしてもよいし、光源４７を二つ用いて、シャッターを無くし、光５１を、帯状基板９の両面に対して同時に照射するようにしてもよい。 Note that the light 51 may be irradiated one side at a time, or two light sources 47 may be used to eliminate the shutter, and the light 51 may be irradiated to both sides of the strip substrate 9 simultaneously.

１回の露光が終了したら、密閉空間の減圧状態を解除し、フォトマスクユニットＵ１、Ｕ２を離反させ、図１に示すように、フォトマスク４１、４３と帯状基板９との間に所定の隙間を形成する。以降、帯状基板９を長さＰだけ間欠的に送って露光する動作を繰り返す。 When one exposure is completed, the decompressed state of the sealed space is released, the photomask units U1 and U2 are separated, and a predetermined gap is provided between the photomasks 41 and 43 and the strip substrate 9 as shown in FIG. Form. Thereafter, the operation of exposing the strip-shaped substrate 9 by intermittently sending it by the length P is repeated.

上記の構成によって、帯状基板９のカテナリーによる垂れ、しわが無い垂直状態で露光が行えるため、従来よりもはるかに高精度な露光を行うことができ、高い品質の帯状基板９を製造することができる。 With the above-described configuration, exposure can be performed in a vertical state free from sagging and wrinkles of the strip substrate 9 due to the catenary, so that exposure with much higher accuracy than conventional can be performed, and a high-quality strip substrate 9 can be manufactured. it can.

前記繰り出し用ロール７が前記露光部の例えば下方部に設けられていると共に前記巻き取り用ロール１５が前記露光部の上、下方部の上方部に設けられていることで、前記送り出し作業性がよく、生産性が向上することができる。また、前記繰り出し用ロール７が前記露光部の例えば上方部に設けられていると共に前記巻き取り用ロール１５が前記露光部の上、下方部の下方部に設けられていることでも対応可能である。 The feeding roll 7 is provided at, for example, the lower part of the exposure unit, and the winding roll 15 is provided at the upper part of the exposure part and the lower part, so that the feeding workability is improved. Well, productivity can be improved. Further, it is possible to cope with the fact that the feeding roll 7 is provided, for example, in the upper part of the exposure unit and the winding roll 15 is provided in the lower part of the upper part and the lower part of the exposure part. .

前記巻き取り用ロール１５が図１に示したごとく実線の位置から２点鎖線の位置まで上下方向へ往復移動可能に設けられているから、段取り替え時に、送り駆動ローラ２３、２５の回転を逆転させて、巻き取られている帯状基板９の一部を巻き戻した状態で下方へ移動させると、段取り替え時の作業性を向上させることができる。さらに、繰り出し用ロール７、巻き取り用ロール１５が垂直経路部に設けられた露光部の上、下方部に設けられているので、コンパクトな装置となり、省スペ−ス化を図ることができる。繰り出し用ロール７を露光部の上方に設けて、上下方向へ往復移動可能に設けられているようにしても、同様の作用と効果を有する。 As shown in FIG. 1, the take-up roll 15 is provided so as to be able to reciprocate in the vertical direction from the position of the solid line to the position of the two-dot chain line, so that the rotation of the feed drive rollers 23 and 25 is reversed during the setup change. If the part of the belt-like substrate 9 that has been wound is moved downward while being rewound, the workability at the time of changing the setup can be improved. Further, since the feeding roll 7 and the take-up roll 15 are provided above and below the exposure part provided in the vertical path part, a compact apparatus can be achieved and space saving can be achieved. Even if the feeding roll 7 is provided above the exposure unit so as to be reciprocally movable in the vertical direction, the same operation and effect are obtained.

例えば前記露光部の下方にクリーンローラ３７を備えた付着物除去手段が交換可能に設けられているから、帯状基板９に付着したゴミなどの付着物を容易に除去することができると共にクリーンローラ３７が汚れてきたら付着物除去手段を交換して新しいものに容易に交換することができる。 For example, since the deposit removing means provided with the clean roller 37 is replaceably provided below the exposure unit, the deposit such as dust attached to the belt-like substrate 9 can be easily removed and the clean roller 37 can be removed. If it becomes dirty, the deposit removing means can be replaced and easily replaced with a new one.

前記フォトマスク用フレーム６５、６７の後部（図１において右部）に各フォトマスク４１、４３と帯状基板９との位置調整を行う位置調整用撮像手段としてのＣＣＤカメラ７３が前後方向の両側に設けられていると共に各ＣＣＤカメラ７３が上下方向へ移動可能に設けられているから、４点でアライメントの調整ができ、正確なアライメントの調整を行うことができる。 CCD cameras 73 as position adjustment imaging means for adjusting the positions of the photomasks 41 and 43 and the belt-like substrate 9 are arranged on both sides in the front-rear direction at the rear part of the photomask frames 65 and 67 (right part in FIG. 1). In addition, since each CCD camera 73 is provided so as to be movable in the vertical direction, alignment adjustment can be performed at four points, and accurate alignment adjustment can be performed.

前記巻き取り用ロール１５と前記露光部との間に送り駆動装置２７の送り駆動ローラ２３、２５が設けられているから、巻き取り用ロール１５が下方へ移動する際に、送り駆動ローラ２３、２５の回転を逆転させることで、巻き取り用ロール１５に巻かれた帯状基板９が容易に巻き戻され、段取り替え時の線出し作業を容易に行うことができる。 Since the feed drive rollers 23 and 25 of the feed drive device 27 are provided between the take-up roll 15 and the exposure unit, when the take-up roll 15 moves downward, the feed drive roller 23, By reversing the rotation of 25, the belt-like substrate 9 wound around the take-up roll 15 can be easily rewound, and the line-out operation at the time of setup change can be easily performed.

この発明の両面整合露光装置の正面図である。It is a front view of the double-sided aligning exposure apparatus of this invention. 図１における平面図である。It is a top view in FIG. 露光部において垂直状態になっている帯状基板とフォトマスクとの相対位置を示す概略図であって、図１における矢印IIIの方向から見た図である。It is the schematic which shows the relative position of the strip | belt-shaped board | substrate and photomask which are in the perpendicular | vertical state in an exposure part, Comprising: It is the figure seen from the direction of arrow III in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１露光装置
３ベース
５筐体
７繰り出し用ロール
９帯状基板
１１円筒
１３ベース
１５巻き取り用ロール
１７円筒
１９支持部材
２１ガイドローラ
２３、２５送り駆動ローラ
２７送り駆動装置
２９、３１、３３，３５ガイドローラ
３７クリーンローラ
３９作業台
４１、４３フォトマスク
４５光学系装置
４７光源
４９シャッター
５１光
５３、５５反射鏡
５７、５９ベースプレート
６１、６３移動機構
６５、６７フォトマスク用フレーム
６９、７１封止部材
７３ＣＣＤカメラ
７５、７７移動機構
７９領域
８１、８１’ 位置合わせマーク
８３位置合わせマーク
Ｕ１、Ｕ２フォトマスクユニット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Exposure apparatus 3 Base 5 Case 7 Feeding roll 9 Strip | belt-shaped board | substrate 11 Cylinder 13 Base 15 Winding roll 17 Cylinder 19 Support member 21 Guide roller 23, 25 Feed drive roller 27 Feed drive apparatus 29, 31, 33, 35 Guide Roller 37 Clean roller 39 Work table 41, 43 Photomask 45 Optical system device 47 Light source 49 Shutter 51 Light 53, 55 Reflective mirror 57, 59 Base plate 61, 63 Moving mechanism 65, 67 Photomask frame 69, 71 Sealing member 73 CCD camera 75, 77 moving mechanism 79 area 81, 81 'alignment mark 83 alignment mark U1, U2 photomask unit

Claims

帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光するための露光装置において、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰り出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に形成された、前記帯状基板が垂直状態になるところの垂直経路部と、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送るための送り駆動装置と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも１つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンを前記帯状基板の前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることを特徴とする露光装置。 In an exposure apparatus for exposing the band-shaped substrate for each predetermined length region while intermittently feeding the band-shaped substrate along its longitudinal direction,
A feeding portion having a feeding roll in which a belt-like substrate having an exposure surface on which at least one photosensitive material is attached is wound in a cylindrical shape;
A winding part having a winding roll for winding the belt-like substrate into a cylindrical shape, and a winding part provided at a predetermined distance from the feeding part; and
A vertical path portion formed between the feeding portion and the winding portion, where the belt-like substrate is in a vertical state;
A feed driving device for intermittently sending the belt-like substrate from the feeding unit to the winding unit;
An exposure unit having at least one photomask that is close to or can be in contact with the exposure surface as an exposure unit provided in the vertical path unit;
An optical system device for transferring a pattern drawn on the photomask to the exposure surface of the strip substrate;
One of the feeding unit and the winding unit is provided at an upper part of the exposure unit, and the other is provided at a lower part.

前記露光部の上方部に設けられた前記繰り出し部または前記巻き取り部が上下方向に移動可能であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 1, wherein the feeding unit or the winding unit provided in an upper part of the exposure unit is movable in the vertical direction.

前記繰り出し部と前記露光部との間に、前記帯状基板に付着した付着物を除去する付着物除去手段が交換可能に設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 1, wherein a deposit removing means for removing deposits attached to the belt-like substrate is replaceably provided between the feeding unit and the exposure unit. .

帯状基板をその長手方向に沿って間欠的に送りながら、該帯状基板を所定長さ領域ごとに露光する露光方法であって、
感光材が付着された露光面を少なくとも片面に有する帯状基板が円筒状に巻かれた繰り出し用ロールを有する繰り出し部と、
前記帯状基板を円筒状に巻き取るための巻き取り用ロールを有する巻き取り部にして、前記繰出し部から所定の距離をおいて設けられた巻き取り部と、
前記繰り出し部と前記巻き取り部との間に設けられた、前記帯状基板が垂直状態になる垂直経路部と、
前記垂直経路部に設けられた露光部にして、前記露光面に近接、または接触可能な少なくとも１つのフォトマスクを有する露光部と、
前記フォトマスクに描かれたパターンなどを前記露光面に転写するための光学系装置と、を備え、
前記帯状基板を前記繰り出し部から前記巻き取り部まで間欠的に送り、前記帯状基板が停止した状態で、前記露光部において、前記露光面を前記フォトマスクに近接、または接触させると共に前記光学系装置からの光を前記フォトマスクを通して前記露光面に照射することで前記フォトマスクに描かれたパターンなどを前記露光面に転写することを特徴とする露光方法。 An exposure method for exposing the band-shaped substrate for each predetermined length region while intermittently feeding the band-shaped substrate along the longitudinal direction,
A feeding portion having a feeding roll in which a belt-like substrate having an exposure surface on which at least one photosensitive material is attached is wound in a cylindrical shape;
A winding part having a winding roll for winding the belt-like substrate into a cylindrical shape, and a winding part provided at a predetermined distance from the feeding part; and
A vertical path portion that is provided between the feeding portion and the winding portion and in which the belt-like substrate is in a vertical state;
An exposure unit having at least one photomask that is close to or can be in contact with the exposure surface as an exposure unit provided in the vertical path unit;
An optical system device for transferring a pattern or the like drawn on the photomask to the exposure surface;
The belt-like substrate is intermittently sent from the feeding unit to the take-up unit, and the exposure surface is brought close to or in contact with the photomask in the exposure unit while the belt-like substrate is stopped. An exposure method comprising transferring a pattern drawn on the photomask to the exposure surface by irradiating the exposure surface with light from the photomask through the photomask.

前記繰り出し部と前記巻き取り部のうち一方が前記露光部の上方部に、他方が下方部に設けられていることを特徴とする請求項４に記載の露光方法。 5. The exposure method according to claim 4, wherein one of the feeding portion and the winding portion is provided at an upper portion of the exposure portion and the other is provided at a lower portion.