JP2006286724A - 配線基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数の絶縁層1を積層した絶縁基板2の表面及び絶縁層1の間に、金属箔から成る導体層3がそれぞれ埋設されている。絶縁基板2の表面に埋設された表面導体層3Aの結晶粒径が、絶縁層1の間に埋設された内部導体層3Bの結晶粒径よりも小さく設定されている。表面導体層3A、内部導体層3Bは何れも電解めっきにより形成されている。表面導体層3Aについては、絶縁層1に埋設された側の主面がマット面であり、露出する側の主面がシャイニー面である。内部導体層3Bについては、埋設された側の主面が酸等の溶液処理により粗化されたシャイニー面であり、反対側の主面がマット面である。
【選択図】 図2
Description
図1は、本発明の一実施の形態による配線基板の構成を示す断面図である。また、図2は、図1の配線基板の一部拡大断面図である。この配線基板100は、積層された複数の絶縁層1が一体化されてなる絶縁基板2、各絶縁層1の表面に埋設されることにより複数層にわたる導体層3、及び、各絶縁層1を貫通することにより異なる層に位置する導体層3どうしを電気的に接続する貫通導体4を、主要な要素として備えている。また、配線基板100は、導体層3の一部を露出させるように絶縁基板2の上下の二主面に被着されたソルダーレジスト層5を更に備えている。なお、この実施の形態による配線基板100では、ソルダーレジスト層5を備えている例を示しているが、本発明の配線基板は必ずしもソルダーレジスト層5を備えていることを要しない。
図3及び図4は、配線基板100を製造する好ましい方法を示す製造工程図である。以下に図3及び図4を参照しつつ、配線基板100を製造するための好ましい方法について説明する。
2・・・・絶縁基板
3・・・・導体層
3A・・・・表面導体層(第2導体層)
3B・・・・内部導体層(第1導体層)
4・・・・貫通導体
23・・・・銅箔(金属箔)
23A・・・・銅箔(第2金属箔)
23B・・・・銅箔(第1金属箔)
30・・・・転写フィルム(第1、第2フィルム)
40・・・・絶縁シート(第1、第2絶縁層)
Claims (12)
- 複数層の導体層を有する多層構造の配線基板であって、
絶縁基板と、
前記絶縁基板の表面に埋設された金属箔から成る表面導体層と、
前記絶縁基板の内部に埋設された金属箔から成る内部導体層と、を備え、
前記表面導体層の結晶粒径が前記内部導体層の結晶粒径よりも小さく、
前記表面導体層は、その埋設された側の主面がマット面又は粗化されたマット面から成る粗化面であるとともに、露出する側の主面がシャイニー面から成る非粗化面又は粗化されたシャイニー面から成る粗化面であり、
前記内部導体層は、一主面がマット面から成る粗化面であり、他主面が粗化されたシャイニー面から成る粗化面であることを特徴とする配線基板。 - 前記表面導体層の埋設された側の前記主面の表面粗さが、前記内部導体層の前記他主面の表面粗さに略同一であることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 前記表面導体層は、その埋設された側面が粗化面であることを特徴とする請求項1又は2記載の配線基板。
- 前記表面導体層の前記側面の十点平均粗さ(Rz)が1.5〜3.5μmであることを特徴とする請求項3に記載の配線基板。
- 前記内部導体層は、その埋設された側面が粗化面であることを特徴とする請求項1ないし4の何れかに記載の配線基板。
- 前記表面導体層の結晶粒径が0.2〜1.0μmであり、前記内部導体層の結晶粒径が0.6〜1.8μmであることを特徴とする請求項1ないし5の何れかに記載の配線基板。
- 前記表面導体層は、その埋設された側の前記主面の十点平均粗さ(Rz)が2.0〜4.0μmであることを特徴とする請求項1ないし6の何れかに記載の配線基板。
- 前記表面導体層の露出する側の前記主面の十点平均粗さ(Rz)が1.0〜3.0μmであることを特徴とする請求項1ないし7の何れかに記載の配線基板。
- 前記内部導体層の前記一主面の十点平均粗さ(Rz)が1.0〜5.0μmであることを特徴とする請求項1ないし8の何れかに記載の配線基板。
- 複数層の導体層を有する多層構造の配線基板を製造する方法であって、
第1金属箔をめっきにより形成する第1工程と、
前記第1金属箔のマット面が接着面となるように前記第1金属箔を第1フィルムに接着させる第2工程と、
前記第1金属箔をパターニングすることにより第1導体層を形成する第3工程と、
前記第2工程と前記第3工程との間、又は前記第3工程の後に、前記第1金属箔のシャイニー面を溶液処理により粗化する第4工程と、
前記第3工程及び前記第4工程の後に、前記第1フィルムを未硬化ないし半硬化の第1絶縁層に圧力を加えつつ積層することにより前記第1導体層を前記第1絶縁層の表面に埋設する第5工程と、
前記第5工程の後に、前記第1フィルムを剥離することにより前記第1導体層を前記第1絶縁層の表面に転写する第6工程と、
前記第1金属箔よりも結晶粒径が小さくなるように第2金属箔をめっきにより形成する第7工程と、
前記第2金属箔のシャイニー面が接着面となるように前記第2金属箔を第2フィルムに接着させる第8工程と、
前記第2金属箔をパターニングすることにより第2導体層を形成する第9工程と、
前記第9工程の後に、前記第2フィルムを未硬化ないし半硬化の第2絶縁層に圧力を加えつつ積層することにより前記第2導体層を前記第2絶縁層の表面に埋設する第10工程と、
前記第10工程の後に、前記第2フィルムを剥離することにより前記第2導体層を前記第2絶縁層の表面に転写する第11工程と、
前記第6工程及び前記第11工程の後に、前記第1導体層が内部に位置し前記第2導体層が表面に位置するように、前記第1絶縁層と前記第2絶縁層とを積層して硬化させる第12工程と、を備える配線基板の製造方法。 - Nを1以上の整数として、前記第1工程ないし第6工程を、N回反復する反復工程を更に備え、
前記第12工程は、N+1回の前記第6工程及び前記第11工程の後に、全ての前記第1導体層が内部に位置し前記第2導体層が表面に位置するように、N+1枚の前記第1絶縁層と前記第2絶縁層とを積層して硬化させる請求項10記載の配線基板の製造方法。 - 前記第8工程と前記第9工程との間、又は前記第9工程の後に、前記第2金属箔のマット面を溶液処理により更に粗化する第13工程を更に備える請求項10又は11に記載の配線基板の製造方法。
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