JP2006286691A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャンバ2の内部に、処理室が形成されている。チャンバ2は、非磁性材料で構成されている。スプレー3は、処理室内で、処理液を基板1の表面へ吹き付ける。処理室内には、シャフト11が、所定の間隔で複数設置されている。シャフト11には複数のローラ10が取り付けられており、一端には磁石13が取り付けられている。処理室外には、モータが設置され、モータにはシャフト21が連結されている。シャフト21には、チャンバ2を隔てて各磁石13と対向する位置に、複数の磁石23が取り付けられている。モータの駆動により磁石23が回転すると、磁石13が回転して、モータの駆動力が、処理室の内外の空間を介し、シャフト11に取り付けられたローラ10へ非接触で伝達される。
【選択図】図1
Description
2 チャンバ
3 スプレー
10,30 ローラ
11,21,31,41 シャフト
12,22,32,42 ベアリング
13,23,33,43 磁石
20,40 モータ
24,25,44,45 ベース
Claims (4)
- 基板の処理室と、
前記処理室内で基板を移動する基板移動手段と、
前記処理室内で処理液を前記基板移動手段により移動される基板へ供給する処理液供給手段とを備えた基板処理装置であって、
前記基板移動手段は、
前記処理室内に設けられて基板を搭載する基板搭載機構と、
前記処理室外に設けられた駆動源と、
前記駆動源の駆動力を、前記処理室の内外の空間を介し、前記基板搭載機構へ非接触で伝達する駆動力伝達機構とを有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理室の壁は非磁性材料で構成され、
前記基板搭載機構はローラを含み、
前記駆動源はモータを含み、
前記駆動力伝達機構は、前記モータの軸に取り付けられた第1の磁石と、前記ローラの軸に取り付けられ、前記第1の磁石の回転に応じて回転する第2の磁石とを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 処理室内で、基板を移動しながら、処理液を基板へ供給して基板の処理を行う基板処理方法であって、
処理室外に設けた駆動源の駆動力を、処理室の内外の空間を介し、処理室内に設けた基板搭載機構へ非接触で伝達して、基板搭載機構に搭載した基板を移動することを特徴とする基板処理方法。 - 処理室の壁を非磁性材料で構成し、
処理室内にローラを設け、
処理室外にモータを設け、
モータの軸に取り付けた第1の磁石から、ローラの軸に取り付けた第2の磁石へ回転力を伝達して、ローラに搭載した基板を移動することを特徴とする請求項3に記載の基板処理方法。
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