JP2006281317A - 均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】鉄系溶融金属を高速回転中の冷却ロールの表面で急冷凝固させて非晶質磁性薄帯を製造する方法において、(a)冷却ロールの表面を、下記式で定義する表面凹凸指数Zを用いて評価・管理し、さらに、(b)上記表面凹凸指数を、所定の範囲に制御することを特徴とする均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造方法。Z=Rak・(W/Sm)[Ra:冷却ロール表面の中心線平均粗さ(μm)、W/Sm:冷却ロール軸方向における表面粗度測定長W(μm)にわたって存在する凹凸個数(Sm:冷却ロール表面に存在する凹凸の平均間隔(μm)、k:指数]
【選択図】図2
Description
(x)下記式で定義する表面凹凸指数Zを用いると、冷却ロールの表面を適確に評価・管理できること、
Z=Rak・(W/Sm)
ここで、Ra:冷却ロール表面の中心線平均粗さ(μm)
W/Sm:冷却ロール軸方向における表面粗度測定長W(μm)にわた
って存在する凹凸個数(Sm:冷却ロール表面に存在する凹凸
の平均間隔(μm))
k:指数
(y)上記表面凹凸指数Zを、上記接触面積(率)を定量的に代表する指標として使用できること、及び、
(z)上記表面凹凸指数Zを所定の範囲に制御し、冷却ロールの表面状態を調整すれば、均厚性に優れた非晶質磁性薄帯を製造できること、を見いだした。
(a)冷却ロールの表面状態を、下記式で定義する表面凹凸指数Zを用いて評価・管理し、
(b)上記表面凹凸指数を、所定の範囲に制御する
ことを特徴とする均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造方法。
Z=Rak・(W/Sm)
ここで、Ra:冷却ロール表面の中心線平均粗さ(μm)
W/Sm:冷却ロール軸方向における表面粗度測定長W(μm)にわた
って存在する凹凸個数(Sm:冷却ロール表面に存在する凹凸
の平均間隔(μm))
k:指数
(a)冷却ロールの表面状態を、下記式で定義する表面凹凸指数Zを用いて評価・管理する評価・管理装置、及び、
(b)上記表面凹凸指数を、所定の範囲に制御する制御装置
を備えることを特徴とする均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造装置。
Z=Rak・(W/Sm)
ここで、Ra:冷却ロール表面の中心線平均粗さ(μm)
W/Sm:冷却ロール軸方向における表面粗度測定長W(μm)にわた
って存在する凹凸個数(Sm:冷却ロール表面に存在する凹凸
の平均間隔(μm))
k:指数
Z=Rak・(W/Sm)
ここで、Ra:冷却ロール表面の中心線平均粗さ(μm)
W/Sm:冷却ロール軸方向における表面粗度測定長W(μm)にわた
って存在する凹凸個数(Sm:冷却ロール表面に存在する凹凸
の平均間隔(μm))
k:指数
を定義した。
at%で、Fe:80.5%、Si:6.5%、B:12%、C:1%からなる合金を、溶融温度1320〜1340℃として、図3に示す単ロール鋳造装置で鋳造した。鋳造装置の冷却ロールは、直径1200mm、幅250mm、材質がCu−2%Beで、肉厚20mm、熱伝導率105W/(m・k)のものを用いた。また、ノズルの開口形状は0.7mm×100mmのスリット形状のものを用いた。鋳造時の冷却ロール−ノズル間ギャップは250μmとした。また、板厚は、30μmとなるように溶融合金の噴出圧を調整した。
2 巻取りロール
3 冷却ロール
4 溶融合金
5 タンディッシュ
6 ノズル
7 ストッパー
8 研磨装置
Claims (6)
- 鉄系溶融金属を高速回転中の冷却ロールの表面で急冷凝固させて非晶質磁性薄帯を製造する方法において、
(a)冷却ロールの表面状態を、下記式で定義する表面凹凸指数Zを用いて評価・管理し、
(b)上記表面凹凸指数を、所定の範囲に制御する
ことを特徴とする均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造方法。
Z=Rak・(W/Sm)
ここで、Ra:冷却ロール表面の中心線平均粗さ(μm)
W/Sm:冷却ロール軸方向における表面粗度測定長W(μm)にわた
って存在する凹凸個数(Sm:冷却ロール表面に存在する凹凸
の平均間隔(μm))
k:指数 - 前記表面凹凸指数Zにおいて、k=0.5であることを特徴とする請求項1に記載の均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造方法。
- 前記表面凹凸指数Zにおいて、板幅方向及び鋳造方向のZのバラツキを40以下に制御することを特徴とする請求項2に記載の均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造方法。
- 鉄系溶融金属を高速回転中の冷却ロールの表面で急冷凝固させて非晶質磁性薄帯を製造する装置であって、
(a)冷却ロールの表面状態を、下記式で定義する表面凹凸指数Zを用いて評価・管理する評価・管理装置、及び、
(b)上記表面凹凸指数を、所定の範囲に制御する制御装置
を備えることを特徴とする均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造装置。
Z=Rak・(W/Sm)
ここで、Ra:冷却ロール表面の中心線平均粗さ(μm)
W/Sm:冷却ロール軸方向における表面粗度測定長W(μm)にわた
って存在する凹凸個数(Sm:冷却ロール表面に存在する凹凸
の平均間隔(μm))
k:指数 - 前記表面凹凸指数Zにおいて、k=0.5であることを特徴とする請求項4に記載の均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造装置。
- 前記表面凹凸指数Zにおいて、板幅方向及び鋳造方向のZのバラツキが40以下であることを特徴とする請求項5に記載の均厚性に優れた非晶質磁性薄帯の製造装置。
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