JP2006269769A - 半導体複合装置、プリントヘッド、及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体複合装置100は、集積回路基板110と、この集積回路基板110上に備えられたメタル層140と、集積回路基板110上に備えられ、メタル層140の複数箇所と電気的に接続され、メタル層140に共通電位を供給するパッド150と、1つ以上の半導体素子166及び1つ以上の半導体素子に電気的に接続された半導体層を有し、半導体層をメタル層140に電気的に接続するように集積回路基板110上に備えられた半導体薄膜160とを有している。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体複合装置100を概略的に示す平面図である。また、図2は、図1をS2−S2線で切る面を概略的に示す断面図であり、図3は、集積回路基板110上の導通層(メタル層)140上に備えられた半導体薄膜160を拡大して示す断面図である。
図6は、本発明の第2の実施形態に係る半導体複合装置200を概略的に示す平面図である。また、図7は、図6をS7−S7線で切る面を概略的に示す断面図である。
図8は、本発明の第3の実施形態に係る半導体複合装置300を概略的に示す平面図である。また、図9は、図8をS9−S9線で切る面を概略的に示す断面図である。
図10は、本発明の第4の実施形態に係る半導体複合装置400を概略的に示す平面図である。また、図11は、図10をS11−S11線で切る面を概略的に示す断面図である。
図12は、本発明の第5の実施形態に係る半導体複合装置500を概略的に示す平面図である。また、図13は、図12をS13−S13線で切る面を概略的に示す断面図である。
図15は、本発明の第6の実施形態に係る半導体複合装置600を概略的に示す平面図である。また、図16は、図15をS16−S16線で切る面を概略的に示す断面図であり、図17は、図15をS17−S17線で切る面を概略的に示す断面図である。
上記第1〜第6の実施形態で述べた半導体薄膜は、必ずしも半導体薄膜形成用の基板から剥離して、集積回路基板にボンディングしたものである必要はなく、半導体複合装置を構成する基板上に半導体薄膜を形成できる他の方法で製造されたものであってもよい。また、半導体薄膜は、ボンディング後に、エッチング除去又は研磨して除去することによって形成してもよい。したがって、本発明は、第1の実施形態において説明した半導体薄膜の製造方法に限定されるものではない。
図18は、本発明の第7の実施形態に係る半導体複合装置700を概略的に示す平面図である。
図19は、本発明の第8の実施形態に係る半導体複合装置800を概略的に示す平面図である。
図20は、本発明の第9の実施形態に係る半導体複合装置900を概略的に示す平面図である。
図21は、本発明の第10の実施形態に係る半導体複合装置を組み込んだLEDヘッド1000を概略的に示す断面図である。
図22は、本発明の第11の実施形態に係る画像形成装置を概略的に示す構成図である。
111,211,311,411,511,611 基板、
112,212,312,412,512,612 集積回路領域、
113,213,313,413,513,613 多層配線領域、
114,214,314,414,514,614 積層膜領域、
115,215,315,415,515,615 個別配線用パッド、
116,216,316,416,516,616 接続配線、
117,217,317,417,517 個別出力パッド、
617 個別入力パッド、
118,218,318,418,518,618 入力パッド、
110,210,310,410,510,610 集積回路基板、
140,240,340,440,540,640 導通層(メタル層)、
150,650 ボンディングパッド(電極パッド)、
160,160b 半導体薄膜(半導体エピタキシャルフィルム)、
160a 半導体薄膜層、
161,161b,461 下コンタクト層、
162,162b,462 下クラッド層、
163,163b,463 活性層、
164,164b,464 上クラッド層、
165,165b,465 上コンタクト層、
166,266,366,466,566,666 半導体素子、
167 オーミックコンタクトを形成する領域、
168 選択的拡散領域、
169 拡散フロント、
170,270,370,470,570,670 層間絶縁膜、
171 開口部、
180 個別配線、
218a,318a,518a 共通電極パッド、
219,319,519 接続配線、
220,520 接続領域、
341 下位電極層、
451 貫通配線、
452 裏面側の導通層、
590 帯状の導通層、
591 絶縁層、
650 接続領域、
680 共通電極、
700,800,900 半導体複合装置、
701,801,901 ガラスエポキシ基板、
1000 プリントヘッド、
1100 画像形成装置。
Claims (22)
- 回路基板と、
前記回路基板に備えられた導通層と、
前記導通層の複数箇所と電気的に接続され、前記導通層に共通電位を供給する共通電極部と、
前記回路基板に備えられ、前記導通層に電気的に接続する1つ以上の半導体素子を有する半導体薄膜と
を有することを特徴とする半導体複合装置。 - 前記半導体薄膜は、前記導通層上に配置され、
前記共通電極部は、前記導通層の複数箇所と電気的に接続された複数の電極パッドを有する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体複合装置。 - 前記半導体薄膜は、前記導通層上に配置され、
前記共通電極部は、
前記導通層の複数箇所と電気的に接続された複数の電極配線と、
前記複数の電極配線のそれぞれに接続された電極パッドと
を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体複合装置。 - 前記回路基板は、複数の貫通孔を有し、
前記共通電極部は、
前記複数の貫通孔内に備えられ、前記導通層の複数箇所と電気的に接続された複数の貫通配線と、
前記回路基板の、前記半導体薄膜と反対側の面に備えられた裏面電極と
を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体複合装置。 - 前記半導体薄膜は、共通電位領域を有し、
前記共通電極部は、
前記半導体薄膜の共通電位領域と前記導通層とを接続する配線層と、
前記導通層の複数箇所と電気的に接続された複数の電極配線と、
前記複数の電極配線のそれぞれに接続された電極パッドと
を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体複合装置。 - 前記半導体薄膜と前記導通層との間に層間絶縁膜を有することを特徴とする請求項5に記載の半導体複合装置。
- 前記導通層を複数有し、
前記半導体薄膜を複数有し、
前記複数の半導体薄膜のぞれぞれは、共通電位領域を有し、
前記共通電極部は、複数の電極パッドと、前記複数の半導体薄膜の共通電位領域と前記導通層とを接続する配線層とを有する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体複合装置。 - 前記導通層は、メタル層であることを特徴とする請求項1から8までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記メタル層は、Ti、Pt、Au、Ge、Ni、ln、及びCrの中のから選ばれた1つ又は複数の元素を含む材料から構成されたことを特徴とする請求項8に記載の半導体複合装置。
- 前記半導体薄膜は、前記導通層側に、共通電位領域を有することを特徴とする請求項2から4までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記半導体薄膜は、前記導通層の反対側に、共通電位領域を有することを特徴とする請求項5から7までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記半導体薄膜は、ヘテロエピタキシャル積層構造を含むことを特徴とする請求項1から11までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記ヘテロエピタキシャル積層構造は、エピタキシャル成長によって形成されたヘテロ接合を含むことを特徴とする請求項12に記載の半導体複合装置。
- 前記へテロエピタキシャル積層構造は、第1導電型のエピタキシャル層内に第2導電型の不純物を拡散することによって形成されたヘテロ接合を含むことを特徴とする請求項12に記載の半導体複合装置。
- 前記半導体素子は、発光素子であることを特徴とする請求項1から14までのいずれかに記載の半導体複合装置
- 前記発光素子は、発光ダイオードであることを特徴とする請求項15に記載の半導体複合装置。
- 前記発光素子は複数個であり、
前記複数個の発光素子は、発光ダイオードアレイを構成する
ことを特徴とする請求項16に記載の半導体複合装置。 - 前記回路基板は、前記半導体素子を駆動制御するための駆動集積回路を有することを特徴とする請求項1から17までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記半導体素子は、受光素子であることを特徴とする請求項1に記載の半導体複合装置。
- 実装基板と、
前記実装基板上に実装された、請求項1から19までのいずれか1項に記載の装置と同じ構成の半導体複合チップと
を有することを特徴とする半導体複合装置。 - 請求項20に記載の半導体複合装置と、
前記半導体複合装置に対向するように実装された光学素子と
を有することを特徴とするプリントヘッド。 - 請求項21に記載のプリントヘッドと、
前記プリントヘッドからの光照射によって静電潜像が形成される像担持体と
を有することを特徴とする画像形成装置。
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