JP2006265596A - 蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1)紗貼り枠に紗を貼る、2)メタルマスク原反を紗に貼る、3)メタルマスクに接する紗を除去、原反にテンションをかける、4)ガラス描画板に原反を重ね、紗貼り枠に荷重を加え、メタルマスクのマークをガラス描画板のマークに合致させ、5)ガラス描画板に入れ代わり、桟を有しない蒸着マスクの本枠を載置する、6)本枠に荷重を加え、その荷重に対する内部応力を、原反のテンションに対する内部応力に拮抗させ、7)メタルマスクを本枠のに貼り付け、8)原反周囲の紗、余白部を除去し本枠に転写する、各工程を具備。
【選択図】図14
Description
低分子系有機EL素子の場合、低分子系有機EL素子を構成する陽極と陰極は無機薄膜であるが、有機EL層はすべて有機薄膜で形成されている。
また、陰極の材料は、水や酸素に対し弱い金属材料であるために、フォトリソグラフィ法などの方法で陰極をパターニングすることは難しく、一般には蒸着法によってパターン状に膜の形成をおこなっている。
メタルマスクに形成される開口部のパターン精度としては高いものが要求されており、例えば、パターンの位置精度は、約50cm角の大きさのメタルマスクの場合、±10μm程度である。
図1、及び図2に示すように、有機EL層などの形成に用いられる蒸着マスク(10)は、例えば、ステンレス(SUS304、SUS430)、インバールなど金属製の本枠(11)の上面に、インバールなど金属製のメタルマスク(12)がテンションをかけて貼り付けされたものである。
蒸着時、蒸着物質を通過させる開口部(図示せず)は、予め、フォトエッチング法によってパターン部(13)内に形成される。図1において、多数個面付けされたパターン部(13)の数は省略してある。
。
金属製の本枠(11)の大きさは、例えば、横(a)50cm、縦(b)50cm程度で、本枠(11)のB−B’線での断面は、高さ(c)15〜20mm、巾(d)30〜40mm程度のものである。また、メタルマスク(12)の厚さは、50〜200μm程度のものである。
図3、及び図4に示すように、蒸着マスク(10)の製造に用いられる紗貼り枠(21)は、例えば、アルミニウムなどの金属製の枠である。この紗貼り枠(21)の上面に紗(22)が貼り付けるられる。
紗貼り枠(21)の大きさは、例えば、前記横(a)50cm、縦(b)50cm程度の大きさの蒸着マスク(10)を製造する際の紗貼り枠(21)としては、横(e)80cm、縦(f)80cm程度で、紗貼り枠(21)のB−B’線での断面は、高さ(g)30mm、巾(h)40mm程度のものである。
まづ、図5(a)に示すように、紗貼り枠(21)の上面の全面に紗(22)を配する。次に、矢印で示すように、紗(22)に紗貼り枠(21)の外側水平方向にテンションをかけ、紗貼り枠(21)の上面の(i)で示す部分に接着剤を用いてテンションのかかった紗(22)を接着し貼り付ける。
次に、図5(b)に示すように、紗(22)の余分な部分を切断して取り除く。
矢印は、紗(22)にかけるテンションの方向を表している。
また、この余白部(14)の巾は、40mm〜50mm程度のものである。
この切断は、紗貼り枠(21)の内側から、図5(d)におけるメタルマスク原反(16)の下方の(k)で示す紗(22)の中央部分を略メタルマスク(12)の大きさに切断して取り除く。
これにより、矢印で示すように、メタルマスク原反(16)にも紗が有する外側水平方向のテンションがかかることになり、メタルマスク原反(16)は引っ張られた状態で、紗(22)を介し紗貼り枠(21)に貼り付けたものとなる。
すなわち、メタルマスク(12)上のパターン部(13)には、紗貼り枠(21)の2次元的、或いは3次元的な歪み、紗(22)へのテンションのかけ方の不均一性、紗(22)にテンションがかかった際の不均一な応力の分布、図5(d)に示す紗(22)の中央部を取り除いた際に、メタルマスク原反(16)にかかるテンションの不均一性、接着剤の剛性などに起因して位置の変動が起こっているからである。
この微調整機構(76)の押し機構(74)と引き機構(75)を操作することによって、保持ベース(73)上に保持された紗貼り枠(21)に適宜水平方向の荷重を加え、後述するガラス描画板の位置合わせマーク(87)にメタルマスクの位置合わせマーク(17)を合致させる。
また、保持ベース(73)の上方には、メタルマスク(12)に形成された位置合わせマーク(17)、及びガラス描画板の位置合わせマーク(87)の位置をモニターするCCDカメラ(C)が設けられている。
また、ガラス描画板(80)は、精密な位置合わせの基準となるものであり、透明なガラス製の基板に基準となる位置合わせマーク(87)が設けられている。
メタルマスク(12)の周縁部を接着剤で貼り付ける。余白部(14)は貼り付けない。次に、図9に示すように、メタルマスク原反(16)の周囲の(m)で示す紗(22)の部分を切断し、また、メタルマスク原反(16)の余白部(14)を切断して取り除き、メタルマスク(12)を蒸着マスクの本枠(11)に転写する。これにより、図2に示す蒸着マスク(10)を得る。
この要望を適える手法として、図1に示す蒸着マスクの本枠(11)の横及び縦中央の位置に設けられている桟(19)を取り除き、本枠(11)の形状を「口の字」にした蒸着マスクを用いることが試みられている。すなわち、従来、桟(19)があった部位にもパターン部(13)を設けることができ、面付け数を増やせるのである。
すなわち、紗を介してテンションのかかったメタルマスクを本枠(11)に転写した後、テンションが解除された際にメタルマスクに生じる復元力により、強度の低下した本枠が変形し、パターンの位置精度が維持できないものである。
することのできる蒸着マスクの製造方法を提供することを課題とするものである。
1)紗貼り枠の上面に、紗貼り枠の外側水平方向にテンションをかけて紗を貼り付ける工程、
2)蒸着によりパターン状の膜を形成する部分を予めフォトエッチング法にて孔あけした、紗より小さなサイズのメタルマスク原反を、メタルマスク原反の余白部にて該紗上に貼り付ける工程、
3)該メタルマスク原反の中央のメタルマスクに接する紗の部分を除去し、メタルマスク原反に上記紗が有する外側水平方向のテンションをかける工程、
4)位置合わせマークを描画したガラス描画板に、上記紗貼り枠に紗を介して貼り付けたメタルマスク原反を重ね、紗貼り枠に水平方向の荷重を加えて、メタルマスクの位置合わせマークをガラス描画板の位置合わせマークに合致させる工程、
5)メタルマスクの位置合わせマークがガラス描画板の位置合わせマークに合致した状態で、ガラス描画板を転写装置のステージから取り外し、入れ代わって、桟を有しない蒸着マスクの本枠を転写装置のステージに載置する工程、
6)転写装置のステージに載置された、該桟を有しない蒸着マスクの本枠に外側より内側水平方向の荷重を加え、該桟を有しない蒸着マスクの本枠に加えられた荷重に対する該本枠の外側水平方向の内部応力を、上記メタルマスク原反にかけられたテンションに対するメタルマスク原反の内側水平方向の内部応力に拮抗させる工程、
7)メタルマスク原反の内側水平方向の内部応力と、該桟を有しない蒸着マスクの本枠の外側水平方向の内部応力が拮抗した状態で、上記メタルマスク原反のメタルマスクの周縁部を該桟を有しない蒸着マスクの本枠の上面に貼り付ける工程、
8)メタルマスク原反の周囲の紗を切断し、メタルマスク原反の余白部を除去し、メタルマスクを該桟を有しない蒸着マスクの本枠に転写する工程、
を少なくとも具備することを特徴とする蒸着マスクの製造方法である。
反の内側水平方向の内部応力に拮抗させる工程、7)メタルマスク原反の内側水平方向の内部応力と、本枠の外側水平方向の内部応力が拮抗した状態で、メタルマスクの周縁部を本枠の上面に貼り付ける工程、8)メタルマスク原反の周囲の紗を切断し、余白部を除去し、メタルマスクを本枠に転写する工程、を少なくとも具備する蒸着マスクの製造方法であるので、蒸着マスクの本枠から桟を取り除いたために強度が低下した本枠を用いても、パターン部の位置精度の良好な、すなわち、メタルマスクのパターン精度として要求されている、約50cm角大のメタルマスクにての、パターンの位置精度±10μmを達成することのできる蒸着マスクの製造方法となる。
図12は、図10に示す蒸着マスクの本枠(31)を用い、前記製造方法にて製造した蒸着マスク(30)の平面図である。図12に示すように、蒸着マスク(30)は、前記桟(19)を有せず、ロの字状の枠部(18)のみからなる本枠(31)とメタルマスク(12)で構成されている。
桟を有しない蒸着マスク(30)の平面形状は、誇張してあるが、図12に示すように、所謂、糸巻状を呈したものとなっている。
本発明者は、この現象をもとに蒸着マスクの本枠から桟を取り除くと、パターンの位置精度±10μmを保持することが出来なくなる原因を精査し、本発明をするに至った。
従って、図12に示すように、このメタルマスク(12)の外側水平方向のテンションに対するメタルマスク(12)の内側水平方向の内部応力(図12中、矢印)は、メタルマスク(12)の形状を復元させる方向にあった。
本枠微調整機構(66)は、転写装置のステージ(71)の四辺の略中央部上、保持ベース(73)下方の位置に設けられており、ステージ(71)の周囲からの操作により、ステージ(71)上の中央に載置された桟を有しない蒸着マスク(30)の本枠(31)に、その内側水平方向の荷重を加えるようになっている。
先ず、図13、及び図14に示す転写装置を用いて、前記図6、及び図7に示すような操作、すなわち、位置合わせマークを描画したガラス描画板(80)に、紗貼り枠(21)に紗を介して貼り付けたメタルマスク原反(16)を重ね、紗貼り枠(21)に水平方向の荷重を加えて、メタルマスクの位置合わせマーク(17)をガラス描画板の位置合わせマーク(87)に合致させる。
図13に示す転写装置のステージ(71)に載置された、桟を有しない蒸着マスクの本枠(31)に、ステージ(71)の周囲から本枠微調整機構(66)を操作して外側より内側水平方向の荷重を加える。
桟を有しない蒸着マスクの本枠(31)に荷重を加える際は、桟を有しない蒸着マスクの本枠(31)に加えられた荷重に対する本枠の外側水平方向の内部応力(復元力)を、メタルマスク原反(16)にかけられたテンションに対するメタルマスク原反の内側水平方向の内部応力(復元力)に拮抗させるように荷重を加える。
続いて、メタルマスク原反の周囲の紗(22)を切断し、メタルマスク原反の余白部(14)を除去し、メタルマスク(12)を桟を有しない蒸着マスクの本枠(31)に転写し、本発明による蒸着マスクを得る。
、或いは樽状のいずれでもない。
また一方、桟を有しない蒸着マスクの本枠(31)の形状は、上記のように、外側より内側水平方向に荷重が加えられた段階での糸巻状のままである。
しかし、本枠(31)の内部応力よりメタルマスク原反(16)の内部応力を強くし、メタルマスク原反(16)を貼り付けた後に本枠(31)が基の形状に復帰し、その際に、メタルマスク(12)の位置が所望する位置になることであっても構わない。
11・・・蒸着マスクの本枠
12・・・メタルマスク
13・・・メタルマスクのパターン部
14・・・メタルマスクの余白部
16・・・メタルマスク原反
17・・・メタルマスクの位置合わせマーク
18・・・本枠の枠部
19・・・本枠の桟
21・・・紗貼り枠
22・・・紗
30・・・桟を有ない蒸着マスク
31・・・桟を有ない蒸着マスクの本枠
66・・・本枠微調整機構
71・・・転写装置のステージ
72・・・ガイドレール
73・・・保持ベース
74・・・押し機構
75・・・引き機構
76・・・位置合わせする微調整機構
80・・・ガラス描画板
87・・・ガラス描画板の位置合わせマーク
90・・・本発明における蒸着マスク
C・・・CCDカメラ
F1・・・メタルマスクの内側水平方向の内部応力
F2・・・桟を有しない蒸着マスクの本枠の外側水平方向の内部応力
L・・・照明
a・・・本枠の横
b・・・本枠の縦
c・・・本枠の高さ
d・・・本枠の巾
e・・・紗貼り枠の横
f・・・紗貼り枠の縦
g・・・紗貼り枠の高さ
h・・・紗貼り枠の巾
k・・・紗を切断して取り除く中央部分
m・・・メタルマスク原反の切断する部分
Claims (2)
- 基板上に所定のパターンの蒸着膜を形成する際に用いる蒸着マスクの製造方法において、
1)紗貼り枠の上面に、紗貼り枠の外側水平方向にテンションをかけた紗を貼り付ける工程、
2)蒸着によりパターン状の膜を形成する部分を予めフォトエッチング法にて孔あけした、紗より小さなサイズのメタルマスク原反を、メタルマスク原反の余白部にて該紗上に貼り付ける工程、
3)該メタルマスク原反の中央のメタルマスクに接する紗の部分を除去し、メタルマスク原反に上記紗が有する外側水平方向のテンションをかける工程、
4)位置合わせマークを描画したガラス描画板に、上記紗貼り枠に紗を介して貼り付けたメタルマスク原反を重ね、紗貼り枠に水平方向の荷重を加えて、メタルマスクの位置合わせマークをガラス描画板の位置合わせマークに合致させる工程、
5)メタルマスクの位置合わせマークがガラス描画板の位置合わせマークに合致した状態で、ガラス描画板を転写装置のステージから取り外し、入れ代わって、桟を有しない蒸着マスクの本枠を転写装置のステージに載置する工程、
6)転写装置のステージに載置された、該桟を有しない蒸着マスクの本枠に外側より内側水平方向の荷重を加え、該桟を有しない蒸着マスクの本枠に加えられた荷重に対する該本枠の外側水平方向の内部応力を、上記メタルマスク原反にかけられたテンションに対するメタルマスク原反の内側水平方向の内部応力と等しくする工程、
7)メタルマスク原反の内側水平方向の内部応力と、該桟を有しない蒸着マスクの本枠の外側水平方向の内部応力とを等しくした状態で、上記メタルマスク原反のメタルマスクの周縁部を該桟を有しない蒸着マスクの本枠の上面に貼り付ける工程、
8)メタルマスク原反の周囲の紗を切断し、メタルマスク原反の余白部を除去し、メタルマスクを該桟を有しない蒸着マスクの本枠に転写する工程、
を少なくとも具備することを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 前記4)位置合わせマークを描画したガラス描画板に、上記紗貼り枠に紗を介して貼り付けたメタルマスク原反を重ね、紗貼り枠に水平方向の荷重を加えて、メタルマスクの位置合わせマークをガラス描画板の位置合わせマークに合致させる工程にて、紗貼り枠への荷重を弱めにし、本枠にメタルマスク原反を貼り付けてメタルマスク原反の周囲の紗を切断した際に、メタルマスクの位置を所望する位置にすることを特徴とする請求項1記載の蒸着マスクの製造方法。
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