JP2006349945A - 露光装置 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
【解決手段】 制御ユニットのメモリに記憶した、少なくとも補正に必要となる所定描画画素の走査位置に応じた描画画素位置の軌跡に関係する補正用のデータに基づいて、各描画画素に割り与える画像を調整し、露光ヘッドに設置された複数の描画画素を、調整された画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ14に載置された被露光部材11上に照射する状態で、ステージ14と露光ヘッドとを相対的に移動して所定のパターンで走査露光をすることで、所定の描画形状を得るようにする。
【選択図】 図15
Description
[画像形成装置の構成]
図1に示すように、本発明の実施の形態に係る露光装置として構成された画像形成装置10は、いわゆるフラットベッド型に構成したものであり、4本の脚部材12Aに支持された基台12と、この基台12上に設けられた図中Y方向に移動し、例えばプリント基板(PCB)、カラーの液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマ・ディスプレイ・パネル(PDP)といったガラス基板の表面に感光材料を形成したもの等である感光材料を載置固定して移動する移動ステージ14と、紫外波長領域を含む、一方向に延在したマルチビームをレーザ光として射出する光源ユニット16と、このマルチビームを、所望の画像データに基づきマルチビームの位置に応じて空間変調し、マルチビームの波長領域に感度を有する感光材料に、この変調されたマルチビームを露光ビームとして照射する露光ヘッドユニット18と、移動ステージ14の移動に伴って露光ヘッドユニット18に供給する変調信号を画像データから生成する制御ユニット20とを主に有して構成される。
[画像形成装置の動作]
次に、上述のように構成した画像形成装置10の動作の概略について説明する。
11 感光材料
14 移動ステージ
18 露光ヘッドユニット
20 制御ユニット
24 位置検出センサ
26 露光ヘッド
32 露光エリア
37 マイクロミラー
37 マイクロミラー
48 露光ビーム
48A 画素
70 スリット板
72 フォトセンサ
74 検出用スリット
76 リニヤエンコーダ
78 目盛り板
80 投光器
82 受光器
102 ミラー部材
104 レーザビーム距離測定器
106 レーザビーム距離測定器
108 ミラー部材
110 レーザビーム距離測定器
Claims (5)
- 露光ヘッドに設置された複数の描画画素を画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ上に載置された被露光部材上に照射する状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて所定のパターンで露光を行う露光装置において、
少なくとも補正に必要となる所定描画画素の走査位置に応じた描画画素位置の軌跡に関係する補正用のデータをメモリに記憶した制御ユニットと、
前記制御ユニットに記憶された前記補正用のデータに基づいて、前記各描画画素に割り与える画像を調整することで、所定の描画形状を得るようにする描画位置補正手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 露光ヘッドに設置された複数の描画画素を画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ上に載置された被露光部材上に照射する状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて所定のパターンで露光を行う露光装置において、
前記ステージ上の被露光部材上に前記露光ヘッドから照射される、少なくとも補正に必要となる所定描画画素の位置を検出するためのビーム位置検出手段と、
前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させたときの、前記ステージと前記露光ヘッドとの相対的な位置関係を検出する移動位置検出手段と、
前記ビーム位置検出手段による検出データと、前記移動位置検出手段による検出データとから得られた、少なくとも補正に必要となる所定描画画素の走査位置に応じた描画画素位置の軌跡に関係する補正用のデータをメモリに記憶した制御ユニットと、
前記制御ユニットに記憶された前記補正用のデータに基づいて、前記各描画画素に割り与える画像を調整することで、所定の描画形状を得るようにする描画位置補正手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 露光ヘッドに設置された複数の描画画素を画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ上に載置された被露光部材上に照射する状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて所定のパターンで露光を行う露光装置において、
前記ステージ上の被露光部材上に前記露光ヘッドから照射される、少なくとも補正に必要となる所定描画画素の位置を検出し、露光エリア内における描画の単一の歪み状態を求めるビーム位置検出手段と、
前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に走査移動させたときのベクトルデータを検出する移動位置検出手段と、
前記ビーム位置検出手段による単一の歪み状態と、前記位置検出手段により検出された走査移動時のベクトルデータとから得られた、少なくとも補正に必要となる所定描画画素の走査位置に応じた描画画素位置の軌跡に関係する補正用のデータをメモリに記憶した制御ユニットと、
前記制御ユニットに記憶された前記補正用のデータに基づいて、前記各描画画素に割り与える画像を調整することで、所定の描画形状を得るようにする描画位置補正手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 露光ヘッドに設置された複数の描画画素を画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ上に載置された被露光部材上に照射する状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて所定のパターンで露光を行う露光装置において、
前記ステージ上に被描画媒体を載置し、前記露光ヘッドの露光エリアにおける代表点として点灯された所定複数の露光ビームにより画素を露光している状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて走査させることにより、各描画画素位置の軌跡を描画した画像を形成し、前記被描画媒体上に描かれた各描画画素位置の軌跡を測定して走査位置に応じた各描画画素位置の軌跡データを求め、この求めた走査位置に応じた各描画画素位置の軌跡データをメモリに記憶した制御ユニットと、
前記制御ユニットに記憶された前記軌跡データに基づいて、前記各描画画素に割り与える画像を調整することで、所定の描画形状を得るようにする描画位置補正手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 露光ヘッドに設置された複数の描画画素を画像データに基づいて選択的に変調する手段から出射された各光ビームをステージ上に載置された被露光部材上に照射する状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて所定のパターンで露光を行う露光装置において、
前記ステージ上に2次的な測定エリアをもつ描画画素位置の測定装置を載置し、前記露光ヘッドの露光エリアにおける代表点として点灯された所定複数の露光ビームにより画素を露光している状態で、前記ステージと前記露光ヘッドとを相対的に移動させて走査させることにより、前記描画画素位置の測定装置により走査位置に応じた各描画画素位置の軌跡を測定して、走査位置に応じた各描画画素位置の軌跡データを求め、この求めた走査位置に応じた各描画画素位置の軌跡データをメモリに記憶した制御ユニットと、
前記制御ユニットに記憶された前記軌跡データに基づいて、前記各描画画素に割り与える画像を調整することで、所定の描画形状を得るようにする描画位置補正手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008250147A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | アライメントマーク測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
JP2009302531A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US8953146B2 (en) | 2009-02-26 | 2015-02-10 | V Technology Co., Ltd. | Exposure apparatus for improving alignment accuracy of a pattern generated by light modulating elements |
JP2015142036A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
JP2016535299A (ja) * | 2013-10-22 | 2016-11-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | ウェブベース処理用のマスクレスリソグラフィ |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5000948B2 (ja) * | 2006-08-17 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
US8817236B2 (en) | 2008-05-13 | 2014-08-26 | Nikon Corporation | Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
JP2010060990A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
DE102008051204A1 (de) * | 2008-10-14 | 2010-04-15 | Tesa Scribos Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturen in einem Speichermedium |
JP5221611B2 (ja) | 2010-09-13 | 2013-06-26 | 株式会社東芝 | ドーズデータ生成装置、露光システム、ドーズデータ生成方法および半導体装置の製造方法 |
JP5813555B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2015-11-17 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光描画装置及び露光描画方法 |
JP6113021B2 (ja) * | 2013-08-09 | 2017-04-12 | 株式会社キーエンス | 接触式変位計 |
KR20150087949A (ko) * | 2014-01-23 | 2015-07-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크리스 노광 장치 |
CN104950587B (zh) * | 2014-03-25 | 2017-12-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 曝光装置与曝光方法 |
KR102255033B1 (ko) * | 2015-01-13 | 2021-05-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크리스 노광 장치 및 이를 이용한 마스크리스 노광 방법 |
CN105700302A (zh) * | 2016-03-18 | 2016-06-22 | 天津中精微仪器设备有限公司 | 一种快速光刻*** |
US10852528B2 (en) | 2016-12-20 | 2020-12-01 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Method and device for exposure of photosensitive layer |
CN108762009A (zh) * | 2018-07-18 | 2018-11-06 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种双工位直投式光刻机及其曝光方法 |
KR102592916B1 (ko) | 2018-07-31 | 2023-10-23 | 삼성전자주식회사 | 마스크리스 노광 장치와 노광 방법, 및 그 노광 방법을 포함한 반도체 소자 제조방법 |
CN113379651B (zh) * | 2021-08-11 | 2021-11-19 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像过程中的图像处理方法、***及相关设备 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004319899A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6345819A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | 投影露光装置におけるステ−ジ誤差測定装置 |
US5473410A (en) * | 1990-11-28 | 1995-12-05 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
JP2691319B2 (ja) * | 1990-11-28 | 1997-12-17 | 株式会社ニコン | 投影露光装置および走査露光方法 |
US5854671A (en) * | 1993-05-28 | 1998-12-29 | Nikon Corporation | Scanning exposure method and apparatus therefor and a projection exposure apparatus and method which selectively chooses between static exposure and scanning exposure |
EP1486826A3 (en) * | 2003-06-10 | 2006-12-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Pixel position specifying method, method of correcting image offset, and image forming device |
JP4486323B2 (ja) * | 2003-06-10 | 2010-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
JP2005106992A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置 |
US7209216B2 (en) * | 2005-03-25 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography |
-
2005
- 2005-06-15 JP JP2005175391A patent/JP2006349945A/ja active Pending
-
2006
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004319899A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008250147A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | アライメントマーク測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
JP2009302531A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2009302532A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2010034516A (ja) * | 2008-06-02 | 2010-02-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US8264671B2 (en) | 2008-06-02 | 2012-09-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8446564B2 (en) | 2008-06-02 | 2013-05-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8477289B2 (en) | 2008-06-02 | 2013-07-02 | Asml Netherlands B.V. | Position measurement using natural frequency vibration of a pattern |
US8953146B2 (en) | 2009-02-26 | 2015-02-10 | V Technology Co., Ltd. | Exposure apparatus for improving alignment accuracy of a pattern generated by light modulating elements |
JP2016535299A (ja) * | 2013-10-22 | 2016-11-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | ウェブベース処理用のマスクレスリソグラフィ |
JP2015142036A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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