JP2006221029A - Substrate processing equipment and control unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板処理装置及び制御装置に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a control apparatus.
従来より、例えば有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬディスプレイと言う）等の電気光学装置の製造工程に、液滴吐出方法が用いられている。液滴吐出方法では、基板に設けられた画素形成領域に有機ＥＬ層（発光層、正孔輸送層等）を形成するために、液滴吐出ヘッドから、有機発光材料等の機能材料を溶媒に溶解（又は分散媒に分散）させた液状体を、画素形成領域内に吐出する。さらに、画素形成領域に塗布した液状体に含まれる溶媒（分散媒）を蒸発させて有機ＥＬ層等を作成する。 Conventionally, a droplet discharge method has been used in a manufacturing process of an electro-optical device such as an organic electroluminescence device (hereinafter referred to as an organic EL display). In the droplet discharge method, a functional material such as an organic light emitting material is used as a solvent from a droplet discharge head in order to form an organic EL layer (light emitting layer, hole transport layer, etc.) in a pixel formation region provided on a substrate. The dissolved liquid (or dispersed in a dispersion medium) is discharged into the pixel formation region. Further, an organic EL layer or the like is formed by evaporating a solvent (dispersion medium) contained in the liquid applied to the pixel formation region.
液状体を乾燥させる乾燥方法としては、ホットプレート等で基板を加熱する方法、加熱された乾燥ガスを基板に吹付ける方法等が用いられている。また、特許文献１では、乾燥室内を減圧して液状体を乾燥する真空乾燥方法が用いられている。
ところが、各乾燥処理の際には、液状体から蒸発した溶媒等が乾燥室内に放出され、この溶媒等が、乾燥室内の空間に残留したり、内壁に付着する問題がある。既に完了した乾燥処理によって内壁に付着した残留成分は、他の基板に対する乾燥処理中に、内壁から離れ、乾燥室内に拡散してしまう。その結果、乾燥室内の雰囲気が、各回の乾燥処理ごとに異なってしまい、有機ＥＬ層の膜厚、膜質、膜形状等にばらつきが生じる。 However, in each drying process, there is a problem that the solvent evaporated from the liquid is discharged into the drying chamber, and this solvent remains in the space in the drying chamber or adheres to the inner wall. Residual components adhering to the inner wall by the already completed drying process leave the inner wall and diffuse into the drying chamber during the drying process for other substrates. As a result, the atmosphere in the drying chamber differs for each drying process, and the film thickness, film quality, film shape, and the like of the organic EL layer vary.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、乾燥処理の雰囲気を安定化し、機能層のばらつきを防止することができる基板処理装置及び制御装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a control apparatus that can stabilize the atmosphere of the drying process and prevent variations in functional layers. .
本発明の基板処理装置は、基板に塗布した機能材料を含む液状体を乾燥する乾燥室と、前記乾燥室を構成する壁部を加熱して、前記壁部に付着した前記液状体の残留成分を除去する加熱手段とを備えた。 The substrate processing apparatus of the present invention includes a drying chamber for drying a liquid material containing a functional material applied to a substrate, and a residual component of the liquid material adhered to the wall portion by heating a wall portion constituting the drying chamber. And a heating means for removing water.
これによれば、基板処理装置は、基板に塗布した機能材料を含む液状体を乾燥させる乾燥室と、乾燥室を構成する壁部を加熱して、壁部に付着した液状体の残留成分を加熱除去する加熱手段とを備えている。このため、基板処理装置が繰り返し乾燥処理を行う場合に、前回までの乾燥処理において液状体の成分が乾燥室内に残留しても、次の乾燥処理の前に、予め加熱手段による壁部の加熱を行うことにより、壁部に付着した残留成分を脱離及び除去させることができる。従って、乾燥室を清浄な状態とし、乾燥室内の雰囲気を安定させることができるので、例えば、機能材料により基板上に形成された機能層の膜厚、膜形状、膜質等のばらつきを防止することができる。 According to this, the substrate processing apparatus heats the drying chamber for drying the liquid material containing the functional material applied to the substrate and the wall portion constituting the drying chamber, and removes the residual component of the liquid material attached to the wall portion. Heating means for removing by heating. For this reason, when the substrate processing apparatus repeatedly performs the drying process, even if the liquid component remains in the drying chamber in the previous drying process, the heating of the wall portion by the heating means is performed in advance before the next drying process. By performing the above, it is possible to desorb and remove residual components attached to the wall. Accordingly, the drying chamber can be kept clean and the atmosphere in the drying chamber can be stabilized. For example, it is possible to prevent variations in the film thickness, film shape, film quality, and the like of the functional layer formed on the substrate from the functional material. Can do.
この基板処理装置において、前記加熱手段は、前記壁部のうち、少なくとも側壁又は上壁に対して設けられている。
これによれば、加熱手段は、壁部のうち、少なくとも側壁又は上壁に対して設けられている。このため、基板から蒸発した液状体の成分が付着しやすい箇所を加熱できる。
In this substrate processing apparatus, the heating means is provided on at least the side wall or the upper wall of the wall portion.
According to this, a heating means is provided with respect to at least a side wall or an upper wall among wall parts. For this reason, the location where the component of the liquid material evaporated from the substrate is likely to adhere can be heated.
この基板処理装置において、前記加熱手段は、前記壁部内に設けられている。
これによれば、加熱手段は壁部内に設けられているので、壁部を効率よく加熱できる。
この基板処理装置において、前記乾燥室内の気体に含まれる前記残留成分を、前記乾燥室から排出する排出手段と接続されている。
In this substrate processing apparatus, the heating means is provided in the wall portion.
According to this, since a heating means is provided in the wall part, a wall part can be heated efficiently.
In the substrate processing apparatus, the residual component contained in the gas in the drying chamber is connected to a discharge unit that discharges the residual component from the drying chamber.
これによれば、基板処理装置は、乾燥室内の残留成分を乾燥室から排出する排出手段と接続されている。このため、加熱手段及び排出手段の駆動により、各成分を乾燥室内に滞留させることなく、効率よく排出できる。 According to this, the substrate processing apparatus is connected to the discharge means for discharging the residual components in the drying chamber from the drying chamber. For this reason, by driving the heating means and the discharge means, each component can be discharged efficiently without staying in the drying chamber.
この基板処理装置において、前記乾燥室内の気体に含まれる前記残留成分の濃度を測定する濃度測定装置に接続されている。
これによれば、基板処理装置は、乾燥室内に気化した残留成分濃度を測定する濃度測定装置に接続している。このため、濃度測定装置により、残留成分の濃度が基準値を超えた場合のみに、乾燥処理を行うことができるので、効率が良い。
In this substrate processing apparatus, the substrate processing apparatus is connected to a concentration measuring apparatus that measures the concentration of the residual component contained in the gas in the drying chamber.
According to this, the substrate processing apparatus is connected to a concentration measuring apparatus that measures the concentration of residual components vaporized in the drying chamber. For this reason, since the drying process can be performed only when the concentration of the residual component exceeds the reference value by the concentration measuring apparatus, the efficiency is good.
この基板処理装置において、前記乾燥室内を減圧することにより、前記基板に塗布した前記液状体の真空乾燥を行う。
これによれば、基板処理装置は、基板に塗布した液状体の真空乾燥を行う。このため、液状体に含まれる成分の材料変質がなく、しかも、予め加熱手段による壁部の加熱を行うことにより、膜厚等のばらつきを、より抑制できる。
In this substrate processing apparatus, the liquid material applied to the substrate is vacuum-dried by reducing the pressure in the drying chamber.
According to this, the substrate processing apparatus performs vacuum drying of the liquid material applied to the substrate. For this reason, there is no material alteration of the components contained in the liquid material, and the variation of the film thickness and the like can be further suppressed by heating the wall portion by the heating means in advance.
この基板処理装置において、前記基板処理装置は、機能層を形成するための前記機能材料を含む前記液状体を乾燥させて、電気光学装置を構成する前記機能層を前記基板上に形成する。 In this substrate processing apparatus, the substrate processing apparatus dries the liquid material containing the functional material for forming the functional layer, and forms the functional layer constituting the electro-optical device on the substrate.
これによれば、基板処理装置は、電気光学装置を製造するための装置である。従って、機能層の膜厚等のばらつきを防止することで、画像表示の際の色むら等の少ない電気光学装置を製造することができるため、特に効果を発揮できる。 According to this, the substrate processing apparatus is an apparatus for manufacturing an electro-optical device. Therefore, it is possible to produce an electro-optical device with little color unevenness when displaying an image by preventing variations in the thickness of the functional layer and the like.
本発明の制御装置は、基板に塗布した機能材料を含む液状体を乾燥室内で乾燥する処理を制御し、前記液状体の乾燥処理前に、前記乾燥室を構成する壁部を加熱する加熱手段を予め駆動して、前記壁部に付着した前記液状体の残留成分を加熱除去する。 The control device according to the present invention controls a process of drying a liquid material containing a functional material applied to a substrate in a drying chamber, and heats a wall portion constituting the drying chamber before the liquid material is dried. Is driven in advance, and the residual component of the liquid material adhering to the wall portion is removed by heating.
これによれば、制御装置は、基板に塗布した液状体を乾燥室内で乾燥させる処理を制御するとともに、乾燥処理前に、乾燥室を構成する壁部を加熱する加熱手段を予め駆動して、壁部に付着した液状体の残留成分を加熱除去する。このため、乾燥室内で繰り返し乾燥処理を行う場合に、前回までの乾燥処理において液状体の成分が乾燥室内に残留しても、次の乾燥処理の前に、予め加熱手段による壁部の加熱を行うことにより、壁部に付着した残留成分を脱離及び除去させることができる。従って、乾燥室を清浄な状態とし、乾燥室内の雰囲気を安定させることができるので、例えば、機能材料により基板上に形成された機能層の膜厚、膜形状、膜質等のばらつきを防止することができる。 According to this, the control device controls the process of drying the liquid material applied to the substrate in the drying chamber, and drives the heating means for heating the wall portion constituting the drying chamber in advance before the drying process, Residual components of the liquid adhering to the wall are removed by heating. Therefore, when the drying process is repeatedly performed in the drying chamber, even if the liquid component remains in the drying chamber in the previous drying process, the wall portion is heated by the heating means in advance before the next drying process. By performing, the residual component adhering to the wall portion can be desorbed and removed. Accordingly, the drying chamber can be kept clean and the atmosphere in the drying chamber can be stabilized. For example, it is possible to prevent variations in the film thickness, film shape, film quality, and the like of the functional layer formed on the substrate from the functional material. Can do.
この制御装置において、前記加熱手段を駆動するとともに、前記乾燥室内の気体に含まれる前記残留成分を、前記乾燥室から排出する排出手段を駆動する。
これによれば、制御装置は、乾燥室内の気体に含まれる残留成分を、乾燥室から排出する排出手段を駆動する。このため、加熱手段及び排出手段を駆動することにより、各成分を乾燥室内に滞留させることなく、効率よく排出できる。
In this control device, the heating unit is driven, and a discharge unit that discharges the residual component contained in the gas in the drying chamber from the drying chamber is driven.
According to this, the control device drives the discharge means for discharging the residual component contained in the gas in the drying chamber from the drying chamber. For this reason, by driving the heating means and the discharge means, each component can be discharged efficiently without staying in the drying chamber.
この制御装置において、濃度測定装置により測定された前記乾燥室内の前記残留成分の濃度が、基準値を超えた際に、前記加熱手段を駆動する。
これによれば、制御装置は、濃度測定装置によって測定された残留成分の濃度が基準値を超えた場合に、加熱手段を駆動する。このため、残留成分濃度が基準値未満の場合には、加熱による残留成分の除去を行わないので、効率が良い。
In the control device, the heating means is driven when the concentration of the residual component in the drying chamber measured by the concentration measuring device exceeds a reference value.
According to this, the control device drives the heating means when the concentration of the residual component measured by the concentration measuring device exceeds the reference value. For this reason, when the residual component concentration is less than the reference value, the removal of the residual component by heating is not performed, so that the efficiency is high.
この制御装置において、前記乾燥室内を減圧するポンプ装置を駆動して、前記基板に塗布した前記液状体の真空乾燥を行う。
これによれば、制御装置は、乾燥室内を減圧するポンプ装置を駆動して、基板に塗布した液状体の真空乾燥を行う。このため、液状体が乾燥して形成された機能層の厚さ、形状等のばらつきを防止できるとともに、材料変質がない。
In this control device, a pump device that depressurizes the drying chamber is driven to vacuum dry the liquid material applied to the substrate.
According to this, the control device drives the pump device that depressurizes the inside of the drying chamber, and performs vacuum drying of the liquid material applied to the substrate. For this reason, it is possible to prevent variations in the thickness, shape and the like of the functional layer formed by drying the liquid, and there is no material alteration.
この制御装置において、所定の圧力に減圧するまでの前記ポンプ装置の排気時間又は排気速度が基準値を超えた際に、前記加熱手段及び前記ポンプ装置を駆動して、前記壁部に付着した前記残留成分の加熱除去及び前記残留成分の排出を行う。 In this control device, when the pumping time or pumping speed of the pump device until the pressure is reduced to a predetermined pressure exceeds a reference value, the heating means and the pump device are driven to adhere to the wall portion. The residual component is removed by heating and the residual component is discharged.
これによれば、制御装置は、ポンプ装置の排気時間又は排気速度が基準値を超えた場合に、乾燥室内に液状体の成分が残留していると判断し、加熱手段及びポンプ装置を駆動する。このため、残留成分濃度が基準値未満の場合には、残留成分の加熱除去を行わないので、効率的である。 According to this, when the pumping time or pumping speed of the pump device exceeds the reference value, the control device determines that the liquid component remains in the drying chamber and drives the heating means and the pump device. . For this reason, when the residual component concentration is less than the reference value, the residual component is not removed by heating, which is efficient.
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図９に従って説明する。図１は、電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイの模式図である。
図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、ディスプレイ部２と、フレキシブル回路基板３とから構成されている。フレキシブル回路基板３は、ディスプレイ部２の下側に設けられている。
Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic diagram of an organic EL display as an electro-optical device.
As shown in FIG. 1, the
ディスプレイ部２は、その略中央に表示領域２ａを備えている。この表示領域２ａには、ディスプレイ部２上に形成された隔壁４（図２参照）によりｎ行ｍ列の画素形成領域５がマトリクス状に区画形成されている。各画素形成領域５には、赤色用画素Ｒ、緑色用画素Ｇ、青色用画素Ｂがそれぞれ形成されている。赤色用画素Ｒ、緑色用画素Ｇ及び青色用画素Ｂは、図１中水平方向（行方向）の１組で１つの画素Ｐを形成している。また、赤色用画素Ｒ、緑色用画素Ｇ及び青色用画素Ｂは、各色ごとに鉛直方向（列方向）一列に列設されている。また、各色の列が、所定の順番（赤色用画素Ｒ、緑色用画素Ｇ、青色用画素Ｂ）で繰り返し配設されることにより、表示領域２ａにはｍ個の列が形成されている。
The
ディスプレイ部２の非表示領域２ｂには、一対の走査線駆動回路６が形成されている。また、非表示領域２ｂであって、表示領域２ａの上側には、検査回路７が形成されている。
A pair of scanning line driving circuits 6 is formed in the
フレキシブル回路基板３上には、発光輝度を決定するデータ信号を出力するデータ線駆動回路８と、各走査線駆動回路６及びデータ線駆動回路８に対し各種制御信号を出力する制御回路９とが形成されている。
On the
図２は、図１のａ−ａ線における有機ＥＬディスプレイ１の要部断面図である。有機ＥＬディスプレイ１は、図２に示すように、ガラス、高分子フィルム等の光透過性を有する材質で形成された基板１０を備えている。基板１０上には、回路形成層１１が形成されている。回路形成層１１には、薄膜トランジスタ１２等の各種回路素子が形成されている。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the main part of the
また、回路形成層１１上の表示領域２ａには、複数個の隔壁４が形成され、各隔壁４は、各画素形成領域５を区画形成している。隔壁４によって区画形成された各画素形成領域
５内の各底部には、画素電極１３が形成され、その画素電極１３はコンタクトホール１４を介して各薄膜トランジスタ１２にそれぞれ電気的に接続されている。画素電極１３は、インジウム−錫化合物（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファスといった透明電極で構成されている。
A plurality of
画素電極１３上には、機能層としての正孔輸送層１７と、機能層としての赤色用発光層１８Ｒ、緑色用発光層１８Ｇ、又は青色用発光層１８Ｂとからなる電気光学層１９が形成されている。
On the
正孔輸送層１７は、例えば、ポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体、又はそれらのドーピング体といった有機材料で構成されている。赤色用発光層１８Ｒ、緑色用発光層１８Ｇ及び青色用発光層１８Ｂは、蛍光又は燐光を発光することが可能な有機物発光材料で構成されている。
The
各赤色用発光層１８Ｒ、緑色用発光層１８Ｇ及び青色用発光層１８Ｂは、それぞれの色の光を、各正孔輸送層１７から注入されたキャリア密度に応じた輝度で出射する。出射された各色の光は、回路形成層１１及び基板１０を介して外部に出射される。
Each of the red
また、各画素電極１３が電気光学層１９を介して対向する位置には、陰極２０が形成されている。陰極２０は、隔壁４上を亘って非表示領域２ｂ上に至るまで形成されている。
そして、画素電極１３と、陰極２０と、赤色用発光層１８Ｒ、緑色用発光層１８Ｇ又は青色用発光層１８Ｂとにより、赤色用画素Ｒ、緑色用画素Ｇ又は青色用画素Ｂがそれぞれ構成されている。また、回路形成層１１の外周縁部には、陰極２０全面を覆うように、乾燥した空間２１を介して、樹脂等からなる封止部材２２が接着されている。尚、図１には、この封止部材２２を省略した状態のディスプレイ部２を示している。
In addition, a
The
次に、ディスプレイ部２の製造方法の一例について、図３〜図９に従って説明する。先ず、図３に示すように、基板１０上に、公知の方法を用いて薄膜トランジスタ１２等の各種回路素子を形成し、各種回路素子上に、層間絶縁膜２５を成膜する。その後、薄膜トランジスタ１２のソース又はドレインに至るまで貫通したコンタクトホール１４を形成し、回路形成層１１を形成する。
Next, an example of the manufacturing method of the
さらに、層間絶縁膜２５の上に、透明導電材料をパターニングして、画素電極１３を形成する。続いて、回路形成層１１上に、感光性ポリイミド樹脂等を塗布し、露光・現像により、隔壁４を形成する。そして、各画素電極１３に酸素プラズマ処理等の親水化処理を行い、隔壁４等を、フッ素系ガスによるプラズマ処理により撥液化する。
Further, the
次に、液滴吐出装置を用いて、画素形成領域５内に正孔輸送層１７を形成するための液状体を吐出する。液滴吐出装置３０は、図４に示すように、搬送部３１によってＸ軸方向（Ｘ矢印方向及び反Ｘ矢印方向）に移動する、基板１０を載置固定するための搬送台３２を備えている。また、液滴吐出装置３０は、ガイドレール３３にそって移動するキャリッジ３４に搭載された、液滴吐出ヘッド３５を備えている。各液滴吐出ヘッド３５は、外部から供給された正孔輸送層１７を形成するための液状体を一時貯留し、ノズルＮ（図５参照）から液状体を吐出するようになっている。この液状体は、正孔輸送層１７を構成する前記した有機材料である機能材料、この機能材料を溶解する溶媒（又は分散する分散媒）、各種調整剤等から構成されている。
Next, a liquid material for forming the
そして、液滴吐出ヘッド３５は、搬送台３２上の基板１０に対し、図５に示すようにノズルＮから液状体の微小液滴Ｆａを吐出して、基板１０の所定の画素形成領域５に対し、液状体を吐出する。その結果、各画素形成領域５内に液滴Ｆｂ（液状体）が付着する。
Then, the
次に、正孔輸送層１７用の液状体の液滴Ｆｂを乾燥固化させる第１乾燥処理を行う。この乾燥処理では、図６に示す基板処理装置としての乾燥装置４０を使用する。乾燥装置４０は、壁部４１によって構成された筐体４２を備え、筐体４２内には、基板１０の画素形成領域５内に塗布した液状体を乾燥する乾燥室４３が設けられている。筐体４２の一側面には、開口部４４が形成され、この開口部４４を介して乾燥室４３内に基板１０が搬入及び搬出可能になっている。
Next, a first drying process for drying and solidifying the liquid droplets Fb for the
また、筐体４２の外部には、板状のゲートバルブ４５が開口部４４を開閉可能に設けられており、このゲートバルブ４５により乾燥室４３は密閉可能になっている。
筐体４２を構成する壁部４１は、内壁４６、中壁４７及び外壁４８により構成されている。内壁４６は、乾燥室４３の上面、下面及び側面を構成し、ステンレス鋼、ガラス等の乾燥室４３内の密閉性を確保できる材質から形成されている。この内壁４６は、乾燥室４３に連通する貫通孔をそれぞれ有する排気部４９、連通部５１及び大気圧開放孔５２を備えている。排気部４９には、排気管４９ａが接続され、連通部５１には連通管５１ａが接続されている。また、大気圧開放孔５２には、大気圧開放管５２ａが接続され、その端部には、筐体４２の外部に設けられたリークバルブ５４が設けられている。
Further, a plate-
The
中壁４７は、内壁４６を取り囲むように設けられ、例えば耐火煉瓦等の断熱材から構成されている。中壁４７内には、加熱手段としてのヒータ５５が配設されている。即ち、ヒータ５５は、内壁４６の上壁（図示せず）、側壁４６ａ、下壁４６ｂを囲むように中壁４７内に埋設されている。このヒータ５５は、例えば、シーズヒータから構成され、内壁４６を加熱可能に設けられている。また、中壁４７の外側に設けられた外壁４８は、金属板等からなり、主に筐体４２の強度を確保するために設けられている。
The
また、乾燥室４３と連通した排気管４９ａは、バルブ５６ａを介して、排出手段としてのポンプ装置５６と接続されている。ポンプ装置５６は、排気管４９ａを介して、乾燥室４３内を約１Ｔｏｒｒ（１３３．３Ｐａ）以下に減圧する排気能力を備えている。そして、基板１０を乾燥室４３内に載置して、ゲートバルブ４５及びリークバルブ５４を閉じた状態でポンプ装置５６を駆動させると、乾燥室４３が減圧され、基板１０の画素形成領域５内に塗布した液状体の溶媒が乾燥室４３内に放出されることによって真空乾燥されるようになっている。
Further, the
同様に乾燥室４３と連通し、筐体４２から突出した連通管５１ａには、バルブ５１ｂを介して質量分析装置（ＭＳ）等の濃度測定装置５７が接続している。濃度測定装置５７は、乾燥室４３内の気体を装置内に導き、乾燥室４３内に残留した液状体の成分（以下、残留成分と言う）の濃度を測定するようになっている。測定対象となる残留成分は、予め決められており、例えば、液状体の溶媒又は分散媒、機能材料、又は、液状体に含まれる各種調整剤でもよい。
Similarly, a
さらに、乾燥装置４０、ポンプ装置５６及び濃度測定装置５７からなるユニットは、制御装置６０により駆動制御される。制御装置６０は、乾燥装置４０、ポンプ装置５６及び濃度測定装置５７に電気的に接続され、ＲＯＭ等に格納したプログラムに基づいて、乾燥装置４０、ポンプ装置５６及び濃度測定装置５７を駆動する。
Further, the unit composed of the drying
制御装置６０は、各乾燥処理前に、濃度測定装置５７を駆動して、予め乾燥室４３内の残留成分の濃度測定を行う。具体的には、乾燥処理済みの基板１０が乾燥室４３から既に取り出された後であって、次の乾燥処理を開始する前に、ゲートバルブ４５及びリークバルブ５４を閉弁し、連通管５１ａに設けられたバルブ５１ｂを開弁する。そして、濃度測定装置５７を駆動して、連通管５１ａを介して乾燥室４３内の気体を吸引し、乾燥室４３
内の気体に残留する残留成分の濃度を測定する。
The
The concentration of residual components remaining in the gas inside is measured.
即ち、前記したように、乾燥装置４０は、ポンプ装置５６の駆動により基板１０に塗布した液状体を真空乾燥させるが、蒸発した残留成分の一部が、乾燥室４３内に放出された後、排気管４９ａを介して排出されずに、乾燥室４３の気体内に残留したり、内壁４６に付着してしまう。従って、減圧による乾燥処理によって形成された機能層の膜厚等のばらつきは、この残留成分が悪影響を及ぼしていると想定される。このため、濃度測定装置５７により、乾燥室４３内の気体に含まれる残留成分の濃度を測定し、その濃度が基準値未満であるか否かを確認するようになっている。
That is, as described above, the drying
制御装置６０は、濃度測定装置５７の測定結果に基づいて、残留成分の濃度が、予め定められた基準値未満であるか否かを判断する。基準値未満であった場合には、基板１０の乾燥処理に大きな影響を与えないとして、そのまま乾燥処理に移行する。基準値を超えていた場合には、加熱除去処理を行う。
Based on the measurement result of the
加熱除去処理の際は、制御装置６０は、乾燥装置４０に設けられたヒータ５５を駆動して、内壁４６を約１００度に加熱する。これにより、内壁４６に付着していた残留成分が、内壁４６から離脱し、乾燥室４３内に再放出される。
During the heat removal process, the
ヒータ５５を駆動すると同時に、制御装置６０は、ポンプ装置５６を駆動する。これにより、乾燥室４３の気体内の残留成分は、排気管４９ａ及びポンプ装置５６を介して外部に排出される。
At the same time as driving the
制御装置６０は、ヒータ５５及びポンプ装置５６を駆動しながら、濃度測定装置５７に残留成分の濃度測定を継続させて、残留成分の濃度が基準値未満になったか否かを判断する。そして、加熱除去処理の結果、残留成分の濃度が基準値未満になった場合には、制御装置６０はヒータ５５及びポンプ装置５６の駆動を停止する。そして、リークバルブ５４を開弁して、乾燥室４３を大気開放して、乾燥室４３内の温度を所定温度にする。
The
その後、乾燥装置４０のゲートバルブ４５を開き、液状体が塗布された基板１０を乾燥室４３内に搬入する。そして、制御装置６０は、ゲートバルブ４５及びリークバルブ５４等を閉じて乾燥室４３を密閉し、ポンプ装置５６を駆動する。これにより、乾燥室４３内が減圧され、基板１０に塗布した液状体の溶媒等が蒸発する。その結果、機能材料が画素形成領域５内で固化し、図７に示すように、画素電極１３上に正孔輸送層１７が形成される。
Thereafter, the
このようにして第１乾燥処理が終了すると、制御装置６０は、ポンプ装置５６の駆動を停止する。そして、正孔輸送層１７が形成された基板１０を、乾燥装置４０から搬出する。
When the first drying process is thus completed, the
次に、画素形成領域５内に形成された正孔輸送層１７上に、液滴吐出装置を使用して、各赤色用発光層１８Ｒ、緑色用発光層１８Ｇ及び青色用発光層１８Ｂを形成する。各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを形成するための液滴吐出装置は、図４に示す液滴吐出装置３０とほぼ同様な構成をしているため、以下、符号を同じにして説明する。
Next, the red
各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを形成するための液滴吐出装置３０は、各色に対応する液状体を液滴吐出ヘッド３５に供給するようになっている。各液状体は、機能材料としての発光層材料、それらの材料を溶解する溶媒（又は分散媒）、各種調整剤等を含んでいる。そして、液滴吐出装置３０は、液滴吐出ヘッド３５のノズルＮ（図８参照）から、所定の各画素形成領域５内に、各色に対応する液状体の微小液滴Ｆｃ（図８参照）を吐出す
るようになっている。
The
図８に示すように、全ての画素形成領域５内の正孔輸送層１７上に各液状体の液滴Ｆｄをそれぞれ塗布すると、第２乾燥処理に移る。各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを形成するための乾燥装置は、図６に示す乾燥装置４０と同様な構成の装置である。また、第２乾燥処理も、第１乾燥処理と同様に、加熱除去処理、液状体を乾燥する乾燥処理を行うようになっている。加熱除去処理では、各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを形成するための液状体に含有され、乾燥室４３内に残留した残留成分を濃度測定装置５７によって測定し、その残留成分が基準値を超える場合には、ヒータ５５によって乾燥装置４０の内壁４６を加熱する。
As shown in FIG. 8, when the liquid droplets Fd are applied onto the hole transport layers 17 in all the
その結果、図９に示すように、各画素形成領域５の正孔輸送層１７上に、各赤色用発光層１８Ｒ、緑色用発光層１８Ｇ又は青色用発光層１８Ｂが形成される。
続いて、隔壁４と各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂとの上に、ＬｉＦ層、Ｃａ層、Ａｌ層等を蒸着方法等により積層し、陰極２０を形成する。その後、空間２１を介して、封止部材２２によりディスプレイ部２を封止する。さらに、ディスプレイ部２と、フレキシブル回路基板３とを接続する。
As a result, as shown in FIG. 9, each red light emitting layer 18 </ b> R, green light emitting layer 18 </ b> G, or blue light emitting layer 18 </ b> B is formed on the
Subsequently, a LiF layer, a Ca layer, an Al layer, and the like are stacked on the
上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）上記実施形態では、乾燥室４３内を減圧して真空乾燥を行う乾燥装置４０の乾燥室４３を構成する壁部４１に、内壁４６に付着した残留成分を加熱除去するためのヒータ５５を設けた。このため、ヒータ５５による内壁４６の加熱と、乾燥室４３内を減圧するポンプ装置５６の排気とを、予め乾燥処理前に行うことにより、前回までの乾燥処理によって生じた残留成分を加熱除去することができる。従って、乾燥室４３を清浄な状態とし、乾燥室４３内の雰囲気を安定させることができるので、基板１０に形成された正孔輸送層１７及び各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂの膜厚、膜形状、膜質等のばらつきを防止することができる。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained.
(1) In the above-described embodiment, the
（２）上記実施形態では、ヒータ５５を、内壁４６の側壁、上壁側にも設けたので、基板１０から蒸発した液状体の成分が付着しやすい箇所を加熱できる。また、ヒータ５５は、壁部４１内に設けられているので、内壁４６にヒータ５５の熱を効率よく伝搬することができる。
(2) In the above embodiment, the
（３）上記実施形態では、乾燥装置４０を、乾燥室４３内の残留成分濃度を測定する濃度測定装置５７に接続するようにした。このため、乾燥室４３内の残留成分の濃度が基準値を超えた場合のみに、乾燥処理を行うことができるので、工程数の増加を抑制でき、効率が良い。
(3) In the above embodiment, the drying
（４）上記実施形態では、基板１０の液状体を真空乾燥する乾燥装置４０に、ヒータ５５を設けるようにした。従って、材料の変質等を防止できる真空乾燥を行いながら、ヒータ５５を用いた加熱除去処理により乾燥室４３内の雰囲気も安定させることができるので、正孔輸送層１７及び各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂの膜厚、膜形状、膜質等のばらつきを、より抑制することができる。
(4) In the above embodiment, the
（５）上記実施形態では、乾燥装置４０、ポンプ装置５６及び制御装置６０を、有機ＥＬディスプレイ１を製造するための装置とした。従って、正孔輸送層１７及び各発光層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂの膜厚等のばらつきを防止することで、画像表示の際の色むら等の少ない有機ＥＬディスプレイ１を製造することができるため、特に効果を発揮できる。
(5) In the above embodiment, the drying
尚、本実施形態は以下のように変更してもよい。
・壁部４１（内壁４６）を加熱する加熱手段は、図１０に示すように、内壁４６を囲むように設けられたシーズヒータ、ヒートテープ等のヒータ７０でもよい。
In addition, you may change this embodiment as follows.
The heating means for heating the wall 41 (inner wall 46) may be a
・上記実施形態では、基板１０の液状体を乾燥させる乾燥処理の前に、仮乾燥処理を乾燥装置４０を使用して行って、画素形成領域５内に粘度を高くした液状体を形成してもよい。そして、この仮乾燥の前に、前記した加熱除去処理を行うようにしてもよい。
In the above embodiment, before the drying process for drying the liquid material of the
・各赤色用発光層１８Ｒ、緑色用発光層１８Ｇ及び青色用発光層１８Ｂを形成する液滴吐出装置は、赤色用発光層１８Ｒを形成するための装置と、緑色用発光層１８Ｇを形成するための装置と、青色用発光層１８Ｂを形成するための装置とからそれぞれ構成されるようにしてもよい。そして、各装置による液滴吐出動作の間に、乾燥装置４０による加熱除去処理、乾燥処理を行うようにしてもよい。
The droplet discharge device for forming each red
・乾燥装置４０は、中壁４７及び外壁４８を省略した構造でもよく、多層構造でなくてもよい。つまり、セラミックス等からなる１層の壁部の中に、ヒータ５５を埋め込んだ構造にしてもよく、残留成分が付着する虞のある壁をヒータ５５により加熱する構造であればよい。
The drying
・制御装置６０は、乾燥装置４０、ポンプ装置５６及び濃度測定装置５７を駆動するようにしたが、乾燥装置４０のみ、又は、乾燥装置４０と、ポンプ装置５６又は濃度測定装置５７のいずれかを駆動するようにしてもよい。
The
・上記実施形態では、濃度測定装置５７を、質量分析装置としたが、電気光学系分析装置、吸光光度系分析装置、発光分光分析装置等、残留成分によって、その測定装置を選択してよい。
In the above embodiment, the
・上記実施形態では、濃度測定装置５７は、ヒータ５５が駆動していない状態で、乾燥室４３内の気体の残留成分の濃度を測定するようにしたが、ヒータ５５を駆動して測定してもよい。そして、濃度が基準値を超える場合には、ヒータ５５及びポンプ装置５６を所定時間駆動して、加熱除去処理を行うようにしてもよい。
In the above embodiment, the
・乾燥室４３内の残留成分を排気する排出手段として、ポンプ装置５６を用いたが、ファン等の装置でもよい。また、乾燥室４３内を減圧するポンプ装置５６と、乾燥室４３内の残留成分を排出する排出手段は、別の装置にしてもよい。
Although the
・ヒータ５５は、壁部４１の外側又は内側（乾燥室４３内）に設けてもよい。また、ヒータ５５は、内壁４６の側壁４６ａ、上壁、又は下壁４６ｂ側のみに設けられていてもよい。
The
・上記実施形態では、濃度測定装置５７の測定結果に基づいて、加熱除去処理を行うようにしたが、これ以外の方法に基づいて加熱除去処理を行うか否かを決めるようにしてもよい。例えば、乾燥室４３内に残留成分が残留している場合には、ポンプ装置５６が所定の真空度まで到達するまでの時間は長くなるため、乾燥室４３内を所定圧まで減圧するポンプ装置５６の排気時間が所定時間（基準値）より長くなったときに、加熱除去処理を行うようにしてもよい。又は、所定圧まで所定時間で減圧するように制御されたポンプ装置５６の排気速度が所定速度（基準値）を超えた場合に、加熱除去処理を行うようにしてもよい。又は、乾燥室４３の圧力が所定圧まで減圧されなかった場合に、加熱除去処理を行うようにしてもよい。このようにすると、簡単な設備で加熱除去処理を行うことができる。
In the above embodiment, the heat removal process is performed based on the measurement result of the
・上記実施形態では、乾燥装置４０は、真空乾燥を行うようにしたが、乾燥気体を基板に噴射することにより乾燥させる装置、マイクロ波、レーザ光の照射等により溶媒を蒸発させる乾燥装置等の非加熱式装置や、ホットプレート等により基板を加熱する加熱式装置に具体化してもよい。尚、非加熱方式とは、ホットプレート等で基板を直接加熱する方式以外の乾燥方式である。
In the above embodiment, the drying
・上記実施形態では、乾燥装置４０及び制御装置６０は、有機ＥＬディスプレイ１を製造する装置としたが、これ以外の電気光学装置又はその他の製品を製造する装置に具体化してもよい。例えば、液晶表示モジュールの製造装置に具体化してもよい。また、平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）を備えた表示モジュールの製造装置であってもよい。
In the above embodiment, the drying
１…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１０…基板、１７…機能層としての正孔輸送層、１８Ｒ…機能層としての赤色発光層１８Ｒ、１８Ｇ…機能層としての緑色発光層１８Ｇ、１８Ｂ…機能層としての青色発光層１８Ｂ、４０…基板処理装置としての乾燥装置、４１…壁部、４３…乾燥室、４６…内壁、４６ａ…側壁、５５，７０…加熱手段としてのヒータ、５６…排出手段としてのポンプ装置、５７…濃度測定装置、６０…制御装置。
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記乾燥室を構成する壁部を加熱して、前記壁部に付着した前記液状体の残留成分を除去する加熱手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 A drying chamber for drying the liquid material containing the functional material applied to the substrate;
A substrate processing apparatus, comprising: a heating unit that heats a wall portion constituting the drying chamber to remove a residual component of the liquid material attached to the wall portion.
前記加熱手段は、前記壁部のうち、少なくとも側壁又は上壁に対して設けられていることを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1,
The substrate processing apparatus, wherein the heating means is provided on at least a side wall or an upper wall of the wall portion.
前記加熱手段は、前記壁部内に設けられていることを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus according to claim 1 or 2,
The substrate processing apparatus, wherein the heating means is provided in the wall portion.
前記乾燥室内の気体に含まれる前記残留成分を、前記乾燥室から排出する排出手段と接続されていることを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of any one of Claims 1-3,
A substrate processing apparatus, wherein the substrate processing apparatus is connected to a discharge means for discharging the residual component contained in the gas in the drying chamber from the drying chamber.
前記乾燥室内の気体に含まれる前記残留成分の濃度を測定する濃度測定装置に接続されていることを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of any one of Claims 1-4,
A substrate processing apparatus connected to a concentration measuring device for measuring the concentration of the residual component contained in the gas in the drying chamber.
前記乾燥室内を減圧することにより、前記基板に塗布した前記液状体の真空乾燥を行うことを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of any one of Claims 1-5,
A substrate processing apparatus, wherein the liquid material applied to the substrate is vacuum-dried by reducing the pressure in the drying chamber.
前記基板処理装置は、機能層を形成するための前記機能材料を含む前記液状体を乾燥させて、電気光学装置を構成する前記機能層を前記基板上に形成することを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of any one of Claims 1-6,
The substrate processing apparatus is characterized in that the liquid material containing the functional material for forming a functional layer is dried to form the functional layer constituting the electro-optical device on the substrate. .
前記液状体の乾燥処理前に、前記乾燥室を構成する壁部を加熱する加熱手段を予め駆動して、前記壁部に付着した前記液状体の残留成分を加熱除去することを特徴とする制御装置。 Control the process of drying the liquid material containing the functional material applied to the substrate in the drying chamber,
Before the liquid material is dried, the heating means for heating the wall portion constituting the drying chamber is driven in advance so that the residual component of the liquid material adhering to the wall portion is removed by heating. apparatus.
前記加熱手段を駆動するとともに、
前記乾燥室内の気体に含まれる前記残留成分を、前記乾燥室から排出する排出手段を駆動することを特徴とする制御装置。 The control device according to claim 8, wherein
Driving the heating means;
The control apparatus which drives the discharge means which discharges | emits the said residual component contained in the gas in the said drying chamber from the said drying chamber.
濃度測定装置により測定された前記乾燥室内の前記残留成分の濃度が基準値を超えた際に、前記加熱手段を駆動することを特徴とする制御装置。 The control device according to claim 8 or 9,
A control device that drives the heating means when the concentration of the residual component in the drying chamber measured by the concentration measuring device exceeds a reference value.
前記乾燥室内を減圧するポンプ装置を駆動して、前記基板に塗布した前記液状体の真空乾燥を行うことを特徴とする制御装置。 In the control device according to any one of claims 8 to 10,
A control device, wherein a pump device for depressurizing the drying chamber is driven to vacuum dry the liquid material applied to the substrate.
所定の圧力に減圧するまでの前記ポンプ装置の排気時間又は排気速度が基準値を超えた
際に、前記加熱手段及び前記ポンプ装置を駆動して、前記壁部に付着した前記残留成分の加熱除去及び前記残留成分の排出を行うことを特徴とする制御装置。 The control device according to claim 11,
When the pumping time or pumping speed of the pump device until the pressure is reduced to a predetermined pressure exceeds a reference value, the heating means and the pump device are driven to remove the residual components attached to the wall by heating. And a controller for discharging the residual component.
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| JP2010073589A (en) * | 2008-09-20 | 2010-04-02 | Konica Minolta Holdings Inc | Method of manufacturing organic electroluminescent device, and organic electroluminescent device |
| CN105546946A (en) * | 2016-01-13 | 2016-05-04 | 广东必优特电子科技有限公司 | Constant-temperature high-vacuum drying oven for battery and capacitor production |
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008142966A1 (en) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Ulvac, Inc. | Apparatus for manufacturing organic el device |
| JPWO2008142966A1 (en) * | 2007-05-16 | 2010-08-05 | 株式会社アルバック | Organic EL device manufacturing equipment |
| KR101139737B1 (en) * | 2007-05-16 | 2012-04-26 | 가부시키가이샤 알박 | Apparatus for manufacturing organic el device |
| TWI416986B (en) * | 2007-05-16 | 2013-11-21 | Ulvac Inc | Manufacturing apparatus for organic el devices |
| JP2010073589A (en) * | 2008-09-20 | 2010-04-02 | Konica Minolta Holdings Inc | Method of manufacturing organic electroluminescent device, and organic electroluminescent device |
| CN105546946A (en) * | 2016-01-13 | 2016-05-04 | 广东必优特电子科技有限公司 | Constant-temperature high-vacuum drying oven for battery and capacitor production |
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