JP2007044582A - Surface treatment method, manufacturing method of electro-optic device, and electro-optic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表面処理方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。 The present invention relates to a surface treatment method, a method for manufacturing an electro-optical device, and an electro-optical device.
近年、液晶ディスプレイに替わる自発発光型ディスプレイとして、有機物を発光材料と
して用いた有機エレクトロルミネッセンス（以下、単に有機ＥＬと記す）素子の開発が盛
んに行われている。その中でも、高分子系材料を使用したカラー化の手段として、インク
ジェット法を用いた微細パターニングによるカラー化が注目されている。
2. Description of the Related Art In recent years, organic electroluminescence (hereinafter simply referred to as organic EL) elements using an organic substance as a light emitting material have been actively developed as a spontaneous emission type display replacing a liquid crystal display. Among them, as a means of coloring using a polymer material, attention is focused on coloring by fine patterning using an ink jet method.
このインクジェット法は、表示基板上にマトリクス状に多数形成された素子形成領域に
、液滴吐出装置の吐出ノズルから発光素子形成材料を含む機能液滴を吐出し、その素子形
成領域に着弾した機能液滴を乾燥・硬化させることによって素子形成領域に有機ＥＬ層（
有機ＥＬ素子）を形成する。
This ink jet method is a function in which functional droplets containing a light emitting element forming material are ejected from an ejection nozzle of a droplet ejection device to an element forming region formed in a matrix on a display substrate and landed on the element forming region. By drying and curing the droplets, an organic EL layer (
Organic EL element) is formed.
このインクジェット法によれば、前記機能液滴を微小な液滴として吐出するため、他の
形成方法（例えば、スピンコート等）に比べて、有機ＥＬ層の形成位置や膜厚等をより高
い精度で制御することができる。しかも、インクジェット法は、素子形成領域にのみ機能
液滴を吐出するため、原材料である高分子有機材料の使用量を低減することができる。
According to this ink jet method, the functional liquid droplets are ejected as fine liquid droplets, so that the formation position and film thickness of the organic EL layer are more accurate than other forming methods (for example, spin coating). Can be controlled. In addition, since the ink jet method ejects functional droplets only to the element formation region, the amount of the polymer organic material that is a raw material can be reduced.
ところが、インクジェット法では、素子形成領域に対する機能液滴の接触角が大きくな
ると（濡れ性が低くなると）、吐出した機能液滴が、素子形成領域の一部に偏倚するよう
になる。その結果、有機ＥＬ層は、各機能液滴間の境界等によって、その形状の均一性（
例えば、有機ＥＬ層の膜の平坦性や有機ＥＬ層間の形状の均一性等）を損なう問題を招く
。
However, in the ink jet method, when the contact angle of the functional liquid droplet with respect to the element formation region increases (when the wettability decreases), the discharged functional liquid droplet is biased to a part of the element formation region. As a result, the organic EL layer has a uniform shape (such as a boundary between functional droplets).
For example, the problem of impairing the flatness of the film of the organic EL layer, the uniformity of the shape between the organic EL layers, or the like is caused.
そこで、こうしたインクジェット法では、吐出する機能液滴に対する素子形成領域の濡
れ性を向上する提案がなされている（例えば、特許文献１。）。特許文献１では、親液性
のプラズマ処理（酸素プラズマ処理）及び撥液性のプラズマ処理（フッ化処理）の後、素
子形成領域に水を接触させるようにしている。これによって、素子形成領域の濡れ性を向
上することができ、有機ＥＬ層の形状の均一性を向上することができる。
ところが、この種のインクジェット法では、素子形成領域に水を接触させる水処理工程
の後に、その水を乾燥させるための乾燥工程を行うようにしている。この乾燥工程におい
て、素子形成領域を均一に乾燥させることが困難であり、素子形成領域の濡れ性が不均一
になってしまっていた。そのため、その素子形成領域に液滴が吐出されると、膜の平坦な
有機ＥＬ層と、膜の平坦でない有機ＥＬとが混在する有機ＥＬシートが形成され、有機Ｅ
Ｌ層の形状の均一性が損なわれるという問題点があった。
However, in this type of ink jet method, a drying process for drying the water is performed after the water treatment process for bringing the element formation region into contact with water. In this drying process, it is difficult to uniformly dry the element formation region, and the wettability of the element formation region has become uneven. Therefore, when droplets are ejected to the element formation region, an organic EL sheet in which an organic EL layer having a flat film and an organic EL having a non-flat film are mixed is formed.
There was a problem that the uniformity of the shape of the L layer was impaired.
本発明は、前述した上記問題点を解消するためになされたものであって、その目的は、
表示基板上に形成されるパターンの膜の平坦化を向上させるとともに、パターン間の形状
の均一性を向上させることができる表面処理方法を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and its purpose is as follows.
An object of the present invention is to provide a surface treatment method capable of improving the flatness of a film of a pattern formed on a display substrate and improving the uniformity of the shape between patterns.
また、別の目的は、基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させるとともに、
発光素子間の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好適に抑制す
ることができる電気光学装置の製造方法および電気光学装置を提供することにある。
Another object is to improve the planarization of the film of the light emitting element formed on the substrate,
An object of the present invention is to provide an electro-optical device manufacturing method and an electro-optical device capable of improving the uniformity of the shape between light-emitting elements and suitably suppressing display unevenness such as luminance unevenness and light emission color unevenness.
本発明のパターン形成基板の表面処理方法は、基板上に隔壁を形成し、前記隔壁によっ
て形成されたパターン形成領域にパターン形成材料を含む機能液滴を吐出し、パターンを
形成するパターン形成基板の表面処理方法において、前記機能液滴を前記パターン形成領
域に吐出する前に、前記パターン形成領域に撥液性を付与する撥液性処理を施し、前記パ
ターン形成領域を所定時間だけ水蒸気に晒して前記パターン形成領域に親液性を付与する
水蒸気処理を施した。
According to the surface treatment method of a pattern formation substrate of the present invention, a partition is formed on a substrate, a functional droplet containing a pattern formation material is ejected to a pattern formation region formed by the partition, and a pattern is formed on the pattern formation substrate. In the surface treatment method, before discharging the functional droplets to the pattern formation region, a liquid repellency treatment is performed to impart liquid repellency to the pattern formation region, and the pattern formation region is exposed to water vapor for a predetermined time. The pattern formation region was subjected to water vapor treatment for imparting lyophilicity.
本発明の表面処理方法によれば、パターン形成領域にパターン形成材料を含む機能液滴
を吐出する前に、撥液性処理を施しその後水蒸気処理を施すことによって、隔壁に撥液性
を、パターン形成領域に親液性を付与することができる。従って、親液性を付与した後に
パターン形成領域を乾燥させる必要がなく、乾燥ムラが生じない。そのため、パターン形
成領域の親液性が均一になり、基板上に形成されるパターンの膜の平坦化を向上させると
ともに、パターン間の形状の均一性を向上させることができる。
According to the surface treatment method of the present invention, the liquid repellent treatment is performed before the functional liquid droplets containing the pattern forming material are discharged to the pattern forming region, and then the water vapor treatment is performed. Lipophilicity can be imparted to the formation region. Therefore, it is not necessary to dry the pattern formation region after imparting lyophilicity, and drying unevenness does not occur. Therefore, the lyophilicity of the pattern formation region becomes uniform, and the flatness of the pattern film formed on the substrate can be improved, and the uniformity of the shape between patterns can be improved.
この表面処理方法において、前記隔壁は、絶縁層としての第１の隔壁と、前記第１の隔
壁の上面に形成され、前記撥液性処理によって前記第１の隔壁よりも撥液性を付与し易い
第２の隔壁とから構成される。
In this surface treatment method, the partition is formed on the first partition as an insulating layer and the upper surface of the first partition, and the liquid repellency treatment gives liquid repellency more than the first partition. The second partition is easy to configure.
この表面処理方法によれば、絶縁層である第１の隔壁によって各パターン形成領域を電
気的に絶縁することができ、撥液性を付与し易い第２の隔壁によって各パターン形成領域
間の機能液滴の混合を好適に抑制することができる。
According to this surface treatment method, each pattern formation region can be electrically insulated by the first partition which is an insulating layer, and the function between each pattern formation region is provided by the second partition which is easy to impart liquid repellency. Mixing of droplets can be suitably suppressed.
この表面処理方法において、前記第１の隔壁は二酸化珪素から形成され、前記水蒸気処
理によって親液性が付与される。
この表面処理方法によれば、二酸化珪素は水蒸気処理によって親液性が付与されるため
、機能液滴が均一に濡れ広がる。
In this surface treatment method, the first partition is formed of silicon dioxide, and lyophilicity is imparted by the water vapor treatment.
According to this surface treatment method, since silicon dioxide is given lyophilicity by the water vapor treatment, the functional droplets spread uniformly and spread.
この表面処理方法において、前記第２の隔壁はアクリル樹脂から形成され、前記水蒸気
処理によっても撥液性が保持される。
この表面処理方法によれば、アクリル樹脂は水蒸気処理を行っても撥液性を保持したま
まであるため、各パターン形成領域の機能液滴の混合を好適に抑制することができる。
In this surface treatment method, the second partition is made of an acrylic resin, and the liquid repellency is maintained even by the water vapor treatment.
According to this surface treatment method, since the acrylic resin remains liquid repellent even after the water vapor treatment, mixing of functional droplets in each pattern formation region can be suitably suppressed.
この表面処理方法において、前記パターン形成領域の底面はＩＴＯから形成され、前記
水蒸気処理によって親液性が付与される。
この表面処理方法によれば、ＩＴＯは水蒸気処理によって親液性が付与されるため、機
能液滴が均一に濡れ広がる。
In this surface treatment method, the bottom surface of the pattern formation region is formed of ITO, and lyophilicity is imparted by the water vapor treatment.
According to this surface treatment method, ITO is made lyophilic by water vapor treatment, so that the functional droplets spread uniformly and spread.
この表面処理方法において、前記水蒸気処理は、前記パターン形成領域を大気中に放置
することによって施される。
この表面処理方法によれば、パターン形成領域を大気中に所定時間だけ放置するという
簡便な方法によって水蒸気処理を行うことができる。
In this surface treatment method, the water vapor treatment is performed by leaving the pattern formation region in the atmosphere.
According to this surface treatment method, the water vapor treatment can be performed by a simple method in which the pattern formation region is left in the atmosphere for a predetermined time.
この表面処理方法において、前記所定時間は、前記パターン形成領域が親液性になるの
に要する時間である。
この表面処理方法によれば、パターン形成領域が親液性になってから、パターン形成領
域に機能液滴が吐出されるため、パターン形成領域の親液性によって機能液滴をより濡れ
広がせることができる。
In this surface treatment method, the predetermined time is a time required for the pattern formation region to become lyophilic.
According to this surface treatment method, the functional liquid droplets are discharged to the pattern formation area after the pattern formation area becomes lyophilic, so that the functional liquid droplets are further wetted and spread by the lyophilicity of the pattern formation area. be able to.
この表面処理方法において、前記所定時間は、前記パターン形成領域の前記機能液滴に
対する接触角が１０［ｄｅｇ］以下になるのに要する時間である。
この表面処理方法によれば、パターン形成領域の機能液滴に対する接触角が１０［ｄｅ
ｇ］以下になってから、パターン形成領域に機能液滴が吐出されるため、パターン形成領
域は高い親液性を有しており、機能液滴をより均一に濡れ広がせることができる。
In this surface treatment method, the predetermined time is a time required for the contact angle of the pattern forming region with respect to the functional droplet to be 10 [deg] or less.
According to this surface treatment method, the contact angle with respect to the functional droplet in the pattern formation region is 10 [de].
g] Since the functional droplets are discharged to the pattern forming region after the following, the pattern forming region has high lyophilicity, and the functional droplets can be more uniformly wetted and spread.
この表面処理方法において、前記撥液性処理は、大気圧プラズマ処理である。
この表面処理方法によれば、簡単な設備で簡便にパターン形成領域に撥液性を付与する
ことができる。
In this surface treatment method, the liquid repellency treatment is an atmospheric pressure plasma treatment.
According to this surface treatment method, it is possible to easily impart liquid repellency to the pattern formation region with simple equipment.
この表面処理方法において、前記撥液性処理を施す前に、前記パターン形成領域に親液
性を付与する親液性処理を施す。
この表面処理方法によれば、親液性処理を施すことによって、パターン形成領域に親液
性を付与することができるため、吐出される機能液滴がより濡れ広がりやすくなる。
In this surface treatment method, lyophilic treatment for imparting lyophilicity to the pattern forming region is performed before the lyophobic treatment.
According to this surface treatment method, by applying lyophilic treatment, lyophilicity can be imparted to the pattern formation region, so that the ejected functional droplets are more likely to spread.
この表面処理方法において、前記親液性処理は、酸素プラズマ処理である。
この表面処理方法によれば、簡単な設備で簡便にパターン形成領域に親液性を付与する
ことができる。
In this surface treatment method, the lyophilic treatment is oxygen plasma treatment.
According to this surface treatment method, lyophilicity can be easily imparted to the pattern formation region with simple equipment.
この表面処理方法において、前記パターン形成材料は、発光素子形成材料である。
この表面処理方法によれば、基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させると
ともに、発光素子間の形状の均一性を向上させることができる。
In this surface treatment method, the pattern forming material is a light emitting element forming material.
According to this surface treatment method, the planarization of the film of the light emitting element formed on the substrate can be improved, and the uniformity of the shape between the light emitting elements can be improved.
この表面処理方法において、前記発光素子形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス
素子形成材料である。
この表面処理方法によれば、基板上に形成される有機エレクトロルミネッセンス素子の
表面の平坦化を向上させるとともに、有機エレクトロルミネッセンス間の形状の均一性を
向上させることができる。
In this surface treatment method, the light emitting element forming material is an organic electroluminescence element forming material.
According to this surface treatment method, the planarization of the surface of the organic electroluminescence element formed on the substrate can be improved and the uniformity of the shape between the organic electroluminescence can be improved.
本発明の電気光学装置の製造方法は、表示基板上に隔壁を形成し、前記隔壁によって形
成された発光素子形成領域に発光素子形成材料を含む機能液滴を吐出して発光素子を形成
するようにした電気光学装置の製造方法において、前記機能液滴を前記発光素子形成領域
に吐出する前に、上記記載の表面処理方法で、前記発光素子形成領域の表面を表面処理し
た。
According to the method of manufacturing the electro-optical device of the present invention, a partition is formed on a display substrate, and a functional droplet containing a light emitting element forming material is ejected to a light emitting element forming region formed by the partition so as to form a light emitting element. In the electro-optical device manufacturing method, the surface of the light emitting element forming region was surface-treated by the surface treatment method described above before discharging the functional liquid droplets to the light emitting element forming region.
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、発光素子形成領域に発光素子形成材料を吐
出する前に、少なくとも撥液性処理を施しその後水蒸気処理を施すことによって、隔壁に
撥液性を、発光素子形成領域に親液性を付与することができる。従って、親液性を付与し
た後に発光素子形成領域を乾燥させる必要がなく、乾燥ムラが生じない。そのため、発光
素子形成領域の親液性が均一になり、表示基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向
上させるとともに、発光素子間の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示
ムラを好適に抑制することができる。
According to the manufacturing method of the electro-optical device of the present invention, the liquid repellent property is given to the partition wall by performing at least a liquid repellent treatment and then performing a water vapor treatment before discharging the light emitting element forming material to the light emitting element forming region. The lyophilic property can be imparted to the light emitting element formation region. Therefore, it is not necessary to dry the light emitting element formation region after imparting lyophilicity, and drying unevenness does not occur. Therefore, the lyophilicity of the light emitting element formation region becomes uniform, the planarization of the film of the light emitting element formed on the display substrate is improved, the uniformity of the shape between the light emitting elements is improved, the luminance unevenness, the light emission Display unevenness such as color unevenness can be suitably suppressed.
本発明の電気光学装置は、上記電気光学装置の製造方法で表示基板上に発光素子を形成
した。
本発明の電気光学装置によれば、親液性を付与した後に発光素子形成領域を乾燥させる
必要がなく、乾燥ムラが生じない。そのため、発光素子形成領域の親液性が均一になり、
基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させるとともに、発光素子間の形状の均
一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好適に抑制することができる。
In the electro-optical device of the present invention, a light-emitting element is formed on a display substrate by the method for manufacturing the electro-optical device.
According to the electro-optical device of the present invention, it is not necessary to dry the light emitting element formation region after imparting lyophilicity, and drying unevenness does not occur. Therefore, the lyophilicity of the light emitting element formation region becomes uniform,
The planarization of the film of the light emitting element formed on the substrate can be improved, the uniformity of the shape between the light emitting elements can be improved, and display unevenness such as luminance unevenness and light emission color unevenness can be suitably suppressed.
以下、本発明を具体化した電気光学装置の実施形態を図１〜図４に従って説明する。
まず、本発明の表面処理方法によって製造される電気光学装置としての有機エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイ（以下、単に有機ＥＬディスプレイという）について説明す
る。図１は有機ＥＬディスプレイ１を説明するための正面図、図２はその有機ＥＬディス
プレイ１の図１中のａ−ａ線の要部断面図である。
Hereinafter, an embodiment of an electro-optical device embodying the present invention will be described with reference to FIGS.
First, an organic electroluminescence display (hereinafter simply referred to as an organic EL display) as an electro-optical device manufactured by the surface treatment method of the present invention will be described. FIG. 1 is a front view for explaining the
図１において、有機ＥＬディスプレイ１は、本実施形態ではボトムエミッション型のデ
ィスプレイであって、平面板状の光透過性のパターン形成基板及び表示基板としてのガラ
ス基板２を備えている。そのガラス基板２の表面（素子形成面２ａ）の略中央位置には、
四角形状の表示領域Ｒが形成されている。その表示領域Ｒ内には、図１に示すように、ｍ
×ｎ個の画素３がマトリクス状に形成されている。ガラス基板２上であって、表示領域Ｒ
以外の領域（非表示領域）には、走査線駆動回路５が形成されている。
In FIG. 1, an
A rectangular display region R is formed. In the display area R, as shown in FIG.
A scanning
表示領域Ｒには、１行当たりｍ個の画素３がｎ行、また、１列当たりｎ個の画素３がｍ
列、形成されている。各画素３は、赤色の光を出射する赤色有機ＥＬ素子４Ｒ、緑色の光
を出射する緑色有機ＥＬ素子４Ｇ、青色の光を出射する青色有機ＥＬ素子４Ｂとから構成
されている。そして、各画素３は、図１中Ｘ矢印方向（行方向）に沿って、赤色有機ＥＬ
素子４Ｒ、緑色有機ＥＬ素子４Ｇ、青色有機ＥＬ素子４Ｂの順で配置されている。また、
図１Ｙ矢印方向（列方向）においては、同色の有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが配置され
る。
In the display area R, m
A row is formed. Each
The
In the Y arrow direction (column direction) in FIG. 1,
図２に示すように、ガラス基板２の素子形成面２ａ上には、各画素３を駆動させるため
の薄膜トランジスタ８等といった回路素子や、非表示領域に形成される走査線駆動回路５
を構成する回路素子の一部または全部が形成される回路形成層６が形成されている。回路
形成層６の上面であって表示領域Ｒに対応した領域には、パターン及び発光素子を構成す
る各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを区画する隔壁としてのバンクＢが形成されている。
As shown in FIG. 2, on the
A
バンクＢは、第１の隔壁としての第１バンクＢ１と、第１バンクＢ１の上に形成された
第２の隔壁としての第２バンクＢ２とからなる。第１バンクＢ１は二酸化珪素よりなり絶
縁性を有し、第２バンクＢ２はアクリル樹脂、ポリイミド樹脂や撥液性のあるフッ素系樹
脂等の有機樹脂よりなる。そのうちの第１バンクＢ１で囲まれたパターン形成領域及び発
光素子形成領域としての凹部９には、それぞれ対応する有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが
形成される。また、第２バンクＢ２は、有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成することに
なる後工程のために、撥液性であることが好ましい。従って、フッ素系樹脂を除いて第２
バンクＢ２をアクリル樹脂やポリイミド樹脂等で形成する際には、大気圧プラズマ処理等
により表面を撥液化する必要がある。なお、本実施形態においては、第２バンクＢ２をア
クリル樹脂で形成している。
The bank B includes a first bank B1 as a first partition and a second bank B2 as a second partition formed on the first bank B1. The first bank B1 is made of silicon dioxide and has an insulating property, and the second bank B2 is made of an organic resin such as an acrylic resin, a polyimide resin, or a liquid repellent fluorine-based resin. Corresponding
When the bank B2 is formed of an acrylic resin, a polyimide resin, or the like, it is necessary to make the surface lyophobic by atmospheric pressure plasma treatment or the like. In the present embodiment, the second bank B2 is made of acrylic resin.
第１バンクＢ１によって区画された凹部９の底面には、陽極１０が形成されている。陽
極１０は、光透過性を有する透明導電膜であって、本実施形態ではＩＴＯによって形成さ
れている。また、各陽極１０は、対応する薄膜トランジスタ８とコンタクトホール１１を
介して電気的に接続されている。なお、各陽極１０は、バンクＢ（第１バンクＢ１）によ
って互いに絶縁されている。
An
各凹部９において、その陽極１０上には、有機材料からなる有機エレクトロルミネッセ
ンス層（有機ＥＬ層）１２が形成されている。有機ＥＬ層１２は、本実施形態においては
、正孔輸送層１３、そして、正孔輸送層１３の上に形成される赤色発光層１４、緑色発光
層１５又は青色発光層１６の２層からなる有機化合物層である。赤色発光層１４は、赤色
の光を出射する有機発光材料で構成された発光層である。緑色発光層１５は、緑色の光を
出射する有機発光材料で構成された発光層である。青色発光層１６は、青色の光を出射す
る有機発光材料で構成された発光層である。
In each recess 9, an organic electroluminescence layer (organic EL layer) 12 made of an organic material is formed on the
発光層１４，１５，１６及び各バンクＢの上面には、アルミニウム等の光反射性を有す
る金属膜からなる陰極１８が形成されている。また、陰極１８は非表示領域上を覆うよう
に形成されている。そして、陽極１０、正孔輸送層１３、発光層１４，１５，１６及び陰
極１８で、各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが形成される。そして、陰極１８の上側には
、図示しないエポキシ樹脂等のコーティング材で形成され、各種金属膜や有機ＥＬ層１２
の酸化等を防止するための封止部１９が形成されている。
On the upper surfaces of the light emitting layers 14, 15, 16 and each bank B, a
A sealing
そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極１０に供給されると、有機ＥＬ層１２は、
その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層１２から陰極１８側（図２に
おける上側）に向かって発光された光は、同陰極１８によって反射される。そのため、有
機ＥＬ層１２から発光された光は、その殆どが、陽極１０、回路形成層６、ガラス基板２
を通過してガラス基板２の裏面側（表示面２ｂ）から出射される。即ち、データ信号に基
づく画像が有機ＥＬディスプレイ１の表示面２ｂに表示される。
When the drive current corresponding to the data signal is supplied to the
Light is emitted at a luminance corresponding to the drive current. At this time, light emitted from the
And is emitted from the back surface side (
次に、有機ＥＬディスプレイ１の製造工程について以下に説明する。
図３（ａ）に示すように、ガラス基板２上には、回路形成層６が形成されている。回路
形成層６上には、バンクＢ（第１及び第２バンクＢ１，Ｂ２）が形成され、第１バンクＢ
１に囲まれた凹部９には、ＩＴＯからなる陽極１０が形成されている。
Next, the manufacturing process of the
As shown in FIG. 3A, a
In the recess 9 surrounded by 1, an
この状態から、凹部９の底面部分（陽極１０の表面１０ａ）及びバンクＢの表面処理を
行う。即ち、表面処理では、まず、陽極１０の表面１０ａ及びバンクＢの内周面を撥液性
から親液性にするために、図示しない公知の表面処理装置等を用いて陽極１０の表面１０
ａ及びバンクＢ全体に大気圧下で酸素プラズマを照射する大気圧プラズマ処理を行う。こ
の親液性処理としての酸素プラズマ処理は、後工程における液滴吐出ヘッド（インクジェ
ットヘッド）の液滴吐出ノズルから各バンクＢによって区画された凹部９内に吐出される
パターン形成材料、発光素子形成材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子形成材料を
構成する正孔輸送有機材料を含む機能液及び発光有機材料を含む機能液が凹部９全体に濡
れ広がるようにするための処理である。
From this state, the surface treatment of the bottom surface portion of the recess 9 (the
Atmospheric pressure plasma treatment is performed by irradiating oxygen plasma to a and the entire bank B under atmospheric pressure. This oxygen plasma treatment as a lyophilic process is performed by forming a pattern forming material and a light emitting element that are discharged from a droplet discharge nozzle of a droplet discharge head (inkjet head) in a later process into a recess 9 defined by each bank B. This is a process for allowing the functional liquid containing the hole transporting organic material and the functional liquid containing the light emitting organic material constituting the material and the organic electroluminescence element forming material to spread over the entire recess 9.
続いて、バンクＢの第２バンクＢ２を親液性から撥液性にするために、図示しない公知
の表面処理装置等を用いて陽極１０の表面１０ａ及びバンクＢ全体に大気圧下でＣＦ４プ
ラズマを照射する大気圧プラズマ処理を行う。この撥液性処理としてのＣＦ４プラズマ処
理は、液滴吐出ノズルから凹部９内に吐出された発光層材料を含む機能液が溢れて、第２
バンクＢ２を通過して隣の凹部９内に吐出された機能液と混合されるのを防止するための
処理である。
Subsequently, in order to change the second bank B2 of the bank B from lyophilic to lyophobic, a CF4 plasma is applied to the
This is a process for preventing the functional liquid discharged through the bank B2 from being discharged into the adjacent recess 9 from being mixed.
ＣＦ４プラズマ処理が行われると、図３（ｂ）に示すように、陽極１０の表面１０ａ、
第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２に撥液性官能基Ｆが結合される。これによって、陽極
１０の表面１０ａ、第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２は撥液性を有するようになり、機
能液との接触角θが高くなる。
When the CF4 plasma treatment is performed, the
The liquid repellent functional group F is bonded to the first bank B1 and the second bank B2. Accordingly, the
次に、ＣＦ４プラズマ処理後、陽極１０、第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２を大気中
（例えば、本実施形態では常温下、湿度４０〜５０％）に所定時間Ｔだけ放置させ、陽極
１０、第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２を大気中に浮遊する水蒸気に晒す水蒸気処理を
行う。所定時間Ｔは、使用するバンクＢや陽極１０の材質に応じて自由に変更可能な値で
あって、機能液に対する凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の側壁）の接
触角θが有機ＥＬ層１２の膜を平坦に、且つ有機ＥＬ層１２間の形状を均一に成形するこ
とができる接触角θ（＝１０［ｄｅｇ］以下）に達する時間である。なお、所定時間Ｔは
予め試験、実験等で求めた値であって、本実施形態では例えば１時間に設定している。
Next, after the CF4 plasma treatment, the
水蒸気処理によって、陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１に結合している撥液性
官能基Ｆが親液性を有するＯＨ基に置換され、陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１
が再び撥液性から親液性になる（図３（ｃ）参照）。
By the water vapor treatment, the liquid repellent functional group F bonded to the
Changes from lyophobic to lyophilic (see FIG. 3C).
詳しくは、図４に従って説明する。図４は、本実施形態における電気光学装置の製造方
法を用いて、大気圧プラズマ処理（酸素プラズマ処理及びＣＦ４プラズマ処理）後に有機
ＥＬディスプレイ１を大気放置した場合の陽極１０の表面１０ａ（ＩＴＯ）、第１バンク
Ｂ１及び第２バンクＢ２の機能液に対する各接触角θの経時変化を示している。図４に示
すように、陽極１０の表面１０ａ（ＩＴＯ）及び第１バンクＢ１は時間経過とともに機能
液に対する接触角θが変化している。
Details will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows the
即ち、陽極１０の表面１０ａは、大気に晒された直後に大量の撥液性官能基ＦがＯＨ基
に置換されて接触角が約１０［ｄｅｇ］と低くなり、その後時間とともに接触角が高くな
り撥液性が高くなる。また、第１バンクＢ１は、大気に晒されている時間とともに少しず
つ撥液性官能基ＦがＯＨ基に置換され、接触角が低くなり撥液性が低くなる。有機ＥＬ層
１２を形成する際には、正孔輸送層１３及び各発光層１４，１５，１６それぞれに接する
陽極１０の表面１０ａと第１バンクＢ１の両方（凹部９）の接触角θが１０［ｄｅｇ］以
下であることが好ましい。そのため、本実施形態では、所定時間Ｔを１時間に設定してい
る。なお、第２バンクＢ２と撥液性官能基Ｆとの結合は強固なため、陽極１０の表面１０
ａや第１バンクＢ１のように撥液性官能基ＦがＯＨ基には置換されないため、接触角θが
約９０［ｄｅｇ］で一定となっており、高い撥液性を保持している。
That is, on the
Since the liquid repellent functional group F is not substituted with an OH group as in a and the first bank B1, the contact angle θ is constant at about 90 [deg], and high liquid repellency is maintained.
そして、ＣＦ４プラズマ処理から所定時間Ｔ（１時間）が経過して水蒸気処理が終了す
ると、有機ＥＬ層１２（正孔輸送層１３及び各発光層１４，１５，１６）の形成が行われ
る。詳しくは、インクジェット法を利用して、図示しないインクジェットヘッドの液滴吐
出ノズルから、第１バンクＢ１によって区画された凹部９に正孔輸送有機材料を含む機能
液滴を吐出させる。そして、各凹部９に対して吐出された正孔輸送有機材料を含む機能液
滴を乾燥させ、正孔輸送層１３を形成する。
When a predetermined time T (1 hour) elapses after the CF4 plasma treatment and the water vapor treatment is completed, the organic EL layer 12 (the hole transport layer 13 and the light emitting layers 14, 15, and 16) is formed. Specifically, by using an inkjet method, a functional droplet containing a hole transporting organic material is discharged from a droplet discharge nozzle of an inkjet head (not shown) into the recess 9 defined by the first bank B1. And the functional droplet containing the hole transport organic material discharged with respect to each recessed part 9 is dried, and the hole transport layer 13 is formed.
このとき、前工程の水蒸気処理によって、凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バン
クＢ１の側壁）の機能液に対する接触角θが１０［ｄｅｇ］以下となっており、正孔輸送
有機材料を含む機能液滴の接触する面が親液性に保たれているため、正孔輸送有機材料を
含む機能液滴が均一に濡れ広がる。また、第２バンクＢ２の機能液に対する接触角θが約
９０［ｄｅｇ］となっているため、正孔輸送有機材料を含む機能液滴に対する撥液性が保
たれており、隣の凹部９に吐出された正孔輸送有機材料を含む機能液滴とは混合しない。
従って、均一に濡れ広がった正孔輸送有機材料を含む機能液滴を乾燥させることによって
、表面が平坦な正孔輸送層１３が形成される。
At this time, the contact angle θ with respect to the functional liquid of the recess 9 (the
Therefore, the hole transport layer 13 having a flat surface is formed by drying the functional droplet containing the hole transport organic material that has spread uniformly and spreads.
次に、インクジェット法を利用して、図示しないインクジェットヘッドの液滴吐出ノズ
ルから、表面が平坦な正孔輸送層１３が形成された凹部９に対し、発光有機材料を含む機
能液滴を吐出させる。そして、凹部９に対して吐出された発光有機材料を含む機能液滴を
乾燥させ、赤色発光層１４、緑色発光層１５又は青色発光層１６を形成する。
Next, using an inkjet method, functional droplets containing a light-emitting organic material are ejected from a droplet ejection nozzle of an inkjet head (not shown) to the recess 9 in which the hole transport layer 13 having a flat surface is formed. . Then, the functional liquid droplets containing the light emitting organic material discharged to the concave portion 9 are dried to form the red light emitting layer 14, the green light emitting layer 15, or the blue light emitting layer 16.
このとき、第１バンクＢ１は引き続き接触角θが１０［ｄｅｇ］以下に保持されており
、発光有機材料を含む機能液滴の接触する面が親液性に保たれているため、発光有機材料
を含む機能液滴が均一に濡れ広がる。また、第２バンクＢ２の機能液に対する接触角θが
９０［ｄｅｇ］となっているため、発光有機材料を含む機能液滴に対する撥液性が保たれ
ており、隣の凹部９に吐出された発光有機材料を含む機能液滴とは混合しない。従って、
均一に濡れ広がった発光有機材料を含む機能液滴を乾燥させることによって、表面が平坦
な発光層１４，１５，１６がそれぞれ形成される。
At this time, the contact angle θ of the first bank B1 is continuously maintained at 10 [deg] or less, and the surface in contact with the functional liquid droplet containing the light emitting organic material is kept lyophilic. The functional liquid droplets containing uniformly spread. Further, since the contact angle θ with respect to the functional liquid in the second bank B2 is 90 [deg], the liquid repellency with respect to the functional liquid droplets containing the light emitting organic material is maintained, and the liquid is discharged into the adjacent concave portion 9. It does not mix with functional droplets containing luminescent organic materials. Therefore,
By drying the functional liquid droplets containing the light-emitting organic material that has spread evenly and uniformly, the light-emitting layers 14, 15, and 16 having flat surfaces are formed.
そして、凹部９において表面が平坦な赤色発光層１４、緑色発光層１５及び青色発光層
１６が形成された後、バンクＢと発光層１４，１５，１６の上面においては、アルミニウ
ム等の光反射性を有する金属膜からなる陰極１８を積層形成する。さらに、陰極１８の上
面には、エポキシ樹脂等からなる封止部１９を形成し、封止を行う。以上により、各有機
ＥＬ層１２の膜を平坦に形成することができるため、各有機ＥＬ層１２の形状が均一な有
機ＥＬディスプレイ１を形成することができる。よって、形成された有機ＥＬディスプレ
イ１は、輝度ムラ、発光色ムラのない均一な表示を可能にすることができる。
Then, after the red light emitting layer 14, the green light emitting layer 15 and the blue light emitting layer 16 having a flat surface are formed in the recess 9, the upper surface of the bank B and the light emitting layers 14, 15, 16 is light reflective such as aluminum. A
次に、本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）本実施形態によれば、凹部９に正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材
料を含む機能液滴を吐出する前に、第２バンクＢ２に撥液性を付与するためにＣＦ４プラ
ズマ処理を施した。次に、所定時間Ｔ（陽極１０及び第１バンクＢ１の機能液に対する接
触角を１０［ｄｅｇ］以下にするのに要する時間）だけ有機ＥＬディスプレイ１を大気中
に放置して、凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の側壁）に親液性を付与
した。従って、親液性を付与した後に陽極１０及び第１バンクＢ１を乾燥させる必要がな
く、乾燥ムラが生じない。そのため、陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の親液性
が均一になり、ガラス基板２上に形成される有機ＥＬ層１２の平坦化を向上させるととも
に、有機ＥＬ層１２間の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好
適に抑制することができる。また、隣接する有機ＥＬ層１２での発光素子寿命のばらつき
を低減することができ、さらに電気特性が向上するため、有機ＥＬディスプレイ１が長寿
命化になる。
Next, the effect of this embodiment is described below.
(1) According to the present embodiment, the liquid repellent property is imparted to the second bank B2 before the functional liquid droplets containing the hole transporting organic material and the functional liquid droplets containing the light emitting organic material are ejected into the concave portion 9. Was subjected to CF4 plasma treatment. Next, the
（２）本実施形態によれば、凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の側壁
）の撥液性を親液性に置換するための水蒸気処理を、有機ＥＬディスプレイ１を所定時間
Ｔだけ大気中に放置して行った。従って、公知技術である水処理工程のように特別な装置
を必要とせず、有機ＥＬディスプレイ１を大気中に放置するという簡単な操作によって行
うことができる。さらに、乾燥工程が不要であるため、乾燥ムラが生じることはなく、陽
極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１のそれぞれの親液性を均一にすることができる。
さらにまた、凹部９の親液性を、大気放置する時間を変更するだけで自在に調整すること
ができる。
(2) According to this embodiment, the water vapor treatment for replacing the liquid repellency of the recess 9 (the
Furthermore, the lyophilicity of the recess 9 can be freely adjusted simply by changing the time of leaving in the atmosphere.
（３）本実施形態によれば、陽極１０をＩＴＯで構成し、第１バンクＢ１を二酸化珪素
で構成し、第２バンクＢ２をアクリル樹脂で構成した。そして、水蒸気処理によって、陽
極（ＩＴＯ）１０の表面１０ａ及び第１バンク（二酸化珪素）Ｂ１は撥液性から親液性に
置換され、第２バンクＢ２は撥液性を保持するようにした。従って、陽極１０及び第１バ
ンクＢ１の親液性によって、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機
能液滴が均一に濡れ広がるため、表面が平坦な有機ＥＬ層１２を形成することができる。
また、第２バンクＢ２の撥液性によって、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機
材料を含む機能液滴は隣の凹部９に混入しないようになっているため、隣の凹部９に吐出
された正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴とは混合しない
。
(3) According to the present embodiment, the
In addition, the liquid repellency of the second bank B2 prevents the functional droplet including the hole transporting organic material and the functional droplet including the light emitting organic material from being mixed into the adjacent concave portion 9, so that the adjacent concave portion 9 The functional droplets containing the hole-transporting organic material and the functional droplets containing the light-emitting organic material that are discharged into the liquid crystal are not mixed.
（４）本実施形態によれば、陽極１０の表面１０ａが親液性を保持している間（液滴に
対する接触角θが１０［ｄｅｇ］以下の間）に水蒸気処理を終了し、凹部９に正孔輸送有
機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴が吐出されるようにした。従って
、陽極１０の表面１０ａの親液性によって、正孔輸送有機材料を含む機能液滴を均一に濡
れ広がせることができる。
(4) According to the present embodiment, the water vapor treatment is finished while the
（５）本実施形態によれば、第１バンクＢ１が高い親液性（液滴に対する接触角θが１
０［ｄｅｇ］以下）を有するようになるまで水蒸気処理を続けた。従って、凹部９に正孔
輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴を吐出する際には、第１バ
ンクＢ１は高い親液性を有しているため、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機
材料を含む機能液滴が均一に濡れ広がる。
(5) According to this embodiment, the first bank B1 is highly lyophilic (the contact angle θ with respect to the droplet is 1).
The steam treatment was continued until it had 0 [deg] or less). Therefore, when ejecting a functional droplet including a hole transporting organic material and a functional droplet including a light emitting organic material into the recess 9, the first bank B1 has a high lyophilic property. The functional droplets containing the organic material and the functional droplets containing the light emitting organic material are spread uniformly.
（６）本実施形態によれば、親液性を付与するために酸素プラズマ処理を行い、撥液性
を付与するためにＣＦ４プラズマ処理を行うようにした。従って、簡単な設備で簡便な方
法によって、素子形成面２ａの表面処理を行うことができる。
(6) According to this embodiment, oxygen plasma treatment is performed to impart lyophilicity, and CF4 plasma treatment is performed to impart liquid repellency. Therefore, the surface treatment of the
なお、上記実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・上記実施形態では、水蒸気処理を行う所定時間Ｔを１時間に設定したが、これに制限
されるものではない。また、陽極１０及び第１バンクＢ１の機能液に対する接触角θが１
０［ｄｅｇ］以下になる時間に設定したが、これに制限されるものではない。例えば、水
蒸気処理後において膜の平坦化が確保されるのであれば接触角θは２０［ｄｅｇ］以下で
あってもよく、その場合は、接触角θが２０［ｄｅｇ］以下になる時間を設定してもよい
。
In addition, you may change the said embodiment into the following aspects.
-In above-mentioned embodiment, although predetermined time T which performs a water vapor | steam process was set to 1 hour, it is not restrict | limited to this. Further, the contact angle θ with respect to the functional liquid of the
The time is set to 0 [deg] or less, but is not limited thereto. For example, the contact angle θ may be 20 [deg] or less as long as the flatness of the film is ensured after the water vapor treatment. In this case, the time for the contact angle θ to be 20 [deg] or less is set. May be.
・上記実施形態では、水蒸気処理を大気に放置することによって行ったが、これを水蒸
気雰囲気下に変更して実施してもよい。これによって、多くの水蒸気と反応が起こるため
、水蒸気処理の時間を短縮することができる。
In the above embodiment, the steam treatment is performed by leaving it in the air. However, this may be performed by changing it to a steam atmosphere. As a result, a reaction with a large amount of water vapor occurs, so that the time for the water vapor treatment can be shortened.
・上記実施形態では、水蒸気処理を常温で湿度４０〜５０％の大気中で行うようにして
いたが、この温度、湿度に制限されるものではない。例えば、高湿度セミチャンバー等を
用いて湿度を８０〜９０％のように高くして高湿度雰囲気下で水蒸気処理を行うように変
更してもよい。これによって、撥液性官能基Ｆから親液性を有するＯＨ基への置換が促進
され、水蒸気処理の時間を短縮することができる。
In the above embodiment, the water vapor treatment is performed in the atmosphere at room temperature and humidity of 40 to 50%, but is not limited to this temperature and humidity. For example, the humidity may be increased to 80 to 90% using a high-humidity semi-chamber or the like, and the steam treatment may be performed in a high-humidity atmosphere. Thereby, the substitution from the liquid repellent functional group F to the lyophilic OH group is promoted, and the water vapor treatment time can be shortened.
・上記実施形態では、パターン形成材料及び発光素子形成材料として有機ＥＬ形成材料
を採用した。これに代えて、パターン形成材料及び発光素子形成材料は、例えばカラーフ
ィルタ形成材料であってもよい。この場合、パターン形成領域にカラーフィルタ形成部材
として赤、青、緑のいずれかのフィルタ材料を含む機能液滴が吐出され、各色の着色層が
形成される。
In the above embodiment, the organic EL forming material is employed as the pattern forming material and the light emitting element forming material. Instead, the pattern forming material and the light emitting element forming material may be, for example, a color filter forming material. In this case, functional droplets containing any one of red, blue and green filter materials are ejected as color filter forming members to the pattern forming region, and colored layers of each color are formed.
・上記実施形態では、撥液性処理としてのＣＦ４プラズマ処理よりも前に、親液性処理
としての酸素プラズマ処理を行うようにしたが、この親液性処理を省略して実施してもよ
い。
In the above embodiment, the oxygen plasma treatment as the lyophilic treatment is performed before the CF4 plasma treatment as the lyophobic treatment. However, the lyophilic treatment may be omitted. .
・上記実施形態では、親液性処理及び撥液性処理を大気圧プラズマ処理によって行った
が、これに制限されるものではない。例えば、真空プラズマ処理や減圧プラズマ処理に変
更して実施してもよい。また、ＵＶ処理やカップリング処理等に変更して表面処理を行っ
てもよい。
In the above embodiment, the lyophilic process and the liquid repellent process are performed by the atmospheric pressure plasma process, but the present invention is not limited to this. For example, it may be carried out by changing to a vacuum plasma treatment or a reduced pressure plasma treatment. Further, the surface treatment may be performed by changing to UV treatment or coupling treatment.
・上記実施形態では、親液性処理として酸素プラズマを照射したが、凹部９やバンクＢ
に親液性を付与することができれば、酸素プラズマに制限されるものではない。
・上記実施形態では、撥液性処理としてＣＦ４プラズマを照射したが、凹部９やバンク
Ｂ、特に第２バンクＢ２に撥液性を付与することができれば、ＣＦ４プラズマに制限され
るものではない。例えば、ＣＨＦ３、ＳＦ６ガス等のハロゲンガスに変更して実施しても
よい。
In the above embodiment, the oxygen plasma is irradiated as the lyophilic treatment.
If lyophilicity can be imparted to oxygen, it is not limited to oxygen plasma.
In the above embodiment, the CF4 plasma is irradiated as the liquid repellency treatment. However, the liquid repellent treatment is not limited to the CF4 plasma as long as the liquid repellency can be imparted to the concave portion 9 and the bank B, particularly the second bank B2. For example, it may be implemented by changing to a halogen gas such as CHF3 or SF6 gas.
・上記実施形態では、発光素子形成領域を形成するバンクＢは二酸化珪素からなる第１
バンクＢ１とアクリル樹脂からなる第２バンクＢ２の２層から形成されている。これに代
えて、第２バンクＢ２のみから形成されていてもよい。
In the above embodiment, the bank B forming the light emitting element formation region is the first made of silicon dioxide.
It is formed of two layers of a bank B1 and a second bank B2 made of acrylic resin. Instead, it may be formed only from the second bank B2.
・上記実施形態では、パターン形成基板又は表示基板としてガラス基板２を採用した。
これに代えて、樹脂材料からなる基板や半導体基板を使用してもよい。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１として具体化したが、こ
れに限られず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは
平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の蛍光を利用し
た電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。
In the above embodiment, the
Instead of this, a substrate made of a resin material or a semiconductor substrate may be used.
In the above-described embodiment, the electro-optical device is embodied as the
・上記実施形態では、ボトムエミッション型の有機ＥＬディスプレイ１に具体化したが
、これに制限されない。例えば、トップエミッション型に変更して実施してもよい。
In the above embodiment, the bottom emission type
Ｂ…隔壁としてのバンク、Ｂ１…第１の隔壁としての第１バンク、Ｂ２…第２の隔壁と
しての第２バンク、Ｆ…撥液性官能基、θ…接触角、１…電気光学装置としての有機ＥＬ
ディスプレイ、２…パターン形成基板及び表示基板としてのガラス基板、４Ｒ，４Ｇ，４
Ｂ…パターン及び発光素子を構成する有機ＥＬ素子、９…パターン形成領域及び発光素子
形成領域としての凹部、１０…陽極、１２…有機ＥＬ層、１３…正孔輸送層、１４…赤色
発光層、１５…緑色発光層、１６…青色発光層
B: Bank as a partition, B1: First bank as a first partition, B2: Second bank as a second partition, F: Liquid repellent functional group, θ: Contact angle, 1 ... Electro-optical device Organic EL
Display, 2 ... Pattern forming substrate and glass substrate as display substrate, 4R, 4G, 4
B: Organic EL element constituting pattern and light emitting element, 9: Recessed part as pattern forming region and light emitting element forming region, 10 ... Anode, 12 ... Organic EL layer, 13 ... Hole transport layer, 14 ... Red light emitting layer, 15 ... green light emitting layer, 16 ... blue light emitting layer
Claims (15)
料を含む機能液滴を吐出し、パターンを形成するパターン形成基板の表面処理方法におい
て、
前記機能液滴を前記パターン形成領域に吐出する前に、前記パターン形成領域に撥液性
を付与する撥液性処理を施し、前記パターン形成領域を所定時間だけ水蒸気に晒して前記
パターン形成領域に親液性を付与する水蒸気処理を施したことを特徴とする表面処理方法
。 In a surface treatment method of a pattern formation substrate, a partition is formed on a substrate, a functional droplet including a pattern formation material is discharged to a pattern formation region formed by the partition, and a pattern is formed.
Before ejecting the functional liquid droplets to the pattern formation region, a liquid repellency treatment is performed to impart liquid repellency to the pattern formation region, and the pattern formation region is exposed to water vapor for a predetermined time to form the pattern formation region. A surface treatment method characterized by performing steam treatment for imparting lyophilicity.
前記隔壁は、絶縁層としての第１の隔壁と、前記第１の隔壁の上面に形成され、前記撥
液性処理によって前記第１の隔壁よりも撥液性を付与し易い第２の隔壁とから構成される
ことを特徴とする表面処理方法。 The surface treatment method according to claim 1,
The partition includes a first partition as an insulating layer, and a second partition that is formed on an upper surface of the first partition, and that can easily impart liquid repellency to the first partition by the liquid repellency treatment. A surface treatment method comprising:
前記第１の隔壁は二酸化珪素から形成され、前記水蒸気処理によって親液性が付与され
ることを特徴とする表面処理方法。 The surface treatment method according to claim 2,
The surface treatment method according to claim 1, wherein the first partition is made of silicon dioxide, and lyophilicity is imparted by the water vapor treatment.
前記第２の隔壁はアクリル樹脂から形成され、前記水蒸気処理によっても撥液性が保持
されることを特徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method according to claim 2 or 3,
The surface treatment method, wherein the second partition wall is made of an acrylic resin, and liquid repellency is maintained even by the water vapor treatment.
前記パターン形成領域の底面はＩＴＯから形成され、前記水蒸気処理によって親液性が
付与されることを特徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method as described in any one of Claims 1-4,
A surface treatment method, wherein a bottom surface of the pattern formation region is made of ITO, and lyophilicity is imparted by the water vapor treatment.
前記水蒸気処理は、前記パターン形成領域を大気中に放置することによって施されるこ
とを特徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method as described in any one of Claims 1-5,
The water vapor treatment is performed by leaving the pattern formation region in the atmosphere.
前記所定時間は、前記パターン形成領域が親液性になるのに要する時間であることを特
徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method according to any one of claims 1 to 6,
The surface treatment method according to claim 1, wherein the predetermined time is a time required for the pattern formation region to become lyophilic.
前記所定時間は、前記パターン形成領域の前記機能液滴に対する接触角が１０［ｄｅｇ
］以下になるのに要する時間であることを特徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method of Claim 7,
For the predetermined time, a contact angle of the pattern formation region with respect to the functional droplet is 10 [deg]
] A surface treatment method characterized by the time required for the following.
前記撥液性処理は、大気圧プラズマ処理であることを特徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method as described in any one of Claims 1-8,
The surface treatment method, wherein the liquid repellent treatment is atmospheric pressure plasma treatment.
前記撥液性処理を施す前に、前記パターン形成領域に親液性を付与する親液性処理を施
すことを特徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method as described in any one of Claims 1-9,
A surface treatment method comprising performing lyophilic treatment for imparting lyophilicity to the pattern formation region before performing the liquid repellency treatment.
前記親液性処理は、酸素プラズマ処理であること特徴とする表面処理方法。 The surface treatment method according to claim 10,
The surface treatment method according to claim 1, wherein the lyophilic treatment is an oxygen plasma treatment.
前記パターン形成材料は、発光素子形成材料であることを特徴とする表面処理方法。 In the surface treatment method as described in any one of Claims 1-11,
The surface treatment method, wherein the pattern forming material is a light emitting element forming material.
前記発光素子形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子形成材料であることを特
徴とする表面処理方法。 The surface treatment method according to claim 12,
The surface treatment method according to claim 1, wherein the light emitting element forming material is an organic electroluminescent element forming material.
成材料を含む機能液滴を吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法
において、
前記機能液滴を前記発光素子形成領域に吐出する前に、請求項１〜１３のいずれか一つ
に記載の表面処理方法で、前記発光素子形成領域の表面を表面処理したことを特徴とする
電気光学装置の製造方法。 In a method for manufacturing an electro-optical device, a partition is formed on a display substrate, and a functional droplet containing a light emitting element forming material is discharged to a light emitting element forming region formed by the partition, thereby forming a light emitting element.
The surface of the light emitting element forming region is surface-treated by the surface treatment method according to claim 1 before discharging the functional liquid droplets to the light emitting element forming region. Manufacturing method of electro-optical device.
装置。 An electro-optical device in which a light emitting element is formed on a display substrate by the method for manufacturing an electro-optical device according to claim 14.
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|---|---|---|---|
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009122874A1 (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 住友化学株式会社 | Method for manufacturing organic electroluminescence element, organic electroluminescence element and display device |
| WO2009147838A1 (en) | 2008-06-06 | 2009-12-10 | パナソニック株式会社 | Organic el display panel and manufacturing method thereof |
| US8383453B2 (en) | 2009-11-30 | 2013-02-26 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing organic light emitting display apparatus and organic light emitting display apparatus |
| US8835205B2 (en) | 2010-02-16 | 2014-09-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
| TWI573308B (en) * | 2016-01-27 | 2017-03-01 | 友達光電股份有限公司 | Array substrate of display and method of manufacturing the same |
| CN108906538A (en) * | 2015-07-31 | 2018-11-30 | 杜尔***股份公司 | Processing equipment and method for handling workpiece |
| US10697702B2 (en) | 2015-07-31 | 2020-06-30 | Dürr Systems Ag | Treatment installation and method for treating workpieces |
| JP2021086769A (en) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | Light-emitting device and display panel including the same, and manufacturing method thereof |
-
2005
- 2005-08-08 JP JP2005229143A patent/JP2007044582A/en not_active Withdrawn
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009122874A1 (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 住友化学株式会社 | Method for manufacturing organic electroluminescence element, organic electroluminescence element and display device |
| JP2009245775A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Method of manufacturing organic electroluminescent element, and organic electroluminescent device, and display |
| WO2009147838A1 (en) | 2008-06-06 | 2009-12-10 | パナソニック株式会社 | Organic el display panel and manufacturing method thereof |
| US7842947B2 (en) | 2008-06-06 | 2010-11-30 | Panasonic Corporation | Organic EL display panel and manufacturing method thereof |
| US8383453B2 (en) | 2009-11-30 | 2013-02-26 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing organic light emitting display apparatus and organic light emitting display apparatus |
| US8835205B2 (en) | 2010-02-16 | 2014-09-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
| US10584920B2 (en) | 2015-07-31 | 2020-03-10 | Dürr Systems Ag | Treatment installation and method for treating workpieces |
| CN108906538A (en) * | 2015-07-31 | 2018-11-30 | 杜尔***股份公司 | Processing equipment and method for handling workpiece |
| US10697702B2 (en) | 2015-07-31 | 2020-06-30 | Dürr Systems Ag | Treatment installation and method for treating workpieces |
| US11112177B2 (en) | 2015-07-31 | 2021-09-07 | Dürr Systems Ag | Treatment installation and method for treating workpieces |
| US11674752B2 (en) | 2015-07-31 | 2023-06-13 | Dürr Systems Ag | Treatment installation and method for treating workpieces |
| US11740021B2 (en) | 2015-07-31 | 2023-08-29 | Dürr Systems Ag | Treatment installation and method for treating workpieces |
| US9929217B2 (en) | 2016-01-27 | 2018-03-27 | Au Optronics Corporation | Array substrate of display and method of manufacturing the same |
| TWI573308B (en) * | 2016-01-27 | 2017-03-01 | 友達光電股份有限公司 | Array substrate of display and method of manufacturing the same |
| JP2021086769A (en) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | Light-emitting device and display panel including the same, and manufacturing method thereof |
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