JP2006155119A - Lsi物理設計方法、プログラム及び装置 - Google Patents

Lsi物理設計方法、プログラム及び装置 Download PDF

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Abstract

【課題】物理設計単位として矩形形状に加えて非矩形形状を扱い可能としてチップの小型化とコスト低減を図る。
【解決手段】フロアプラン処理部28は、チップ38内に非矩形領域を含む複数の回路ブロック40,42を配置するフロアプランを作成する。配置処理部30はフロアプランに適合するようにチップ38内に非矩形領域をもつ複数の非矩形回路ブロックの各々を複数の矩形形状に分割して配置する。配線処理部32は複数の回路ブロックを相互に配線する。非矩形領域は、複数の分割矩形領域40−1,40−2の集合体で構成され、複数の矩形領域の対角頂点a1,a2及びb1,b2を示す2次元座標値の集合を示すデータ構造を有する。回路ブロックに配置するセルについても非矩形領域を導入する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、フロアプランに基づいて回路ブロック及びセルの配置と配線によりレイアウト設計を行うLSI物理設計方法、プログラム及び装置に関し、特に、回路ブロックやセル等の物理設計単位として非矩形領域を扱うLSI物理設計方法、プログラム及び装置に関する。
近年、LSI設計システムにおいては、高機能化によりチップサイズに対するゲート規模は大きくなっており、設計された回路図を物理的形状と寸法を持つ素子の配置配線に変換するLSI物理設計として知られたレイアウト設計において、効率的なチップ形状の使用方法が求められている。
従来のレイアウト設計にあっては、チップ、回路ブロック、セルといった階層に分けて並列的に設計作業を進める階層レイアウト設計が一般化されており、この階層レイアウト設計にあっては、回路ブロックやセルといった下位階層の物理設計単位の形状は矩形領域のみを扱うようにしている。
特開平5−181936号 特開平6−124321号 特開平5−160375号 特開平5−243383号 特開平9−147009号 特開平10−189746号 特開2003−303217号
しかしながら、このような従来の階層レイアウト設計にあっては、回路ブロックやセルなどの物理設計単位として矩形領域のみを許容していたため、例えば回路ブロックの矩形領域にセルを配置した場合、セルの配置は矩形領域に均一に分散配置されるとは限らず、局所的にセル配置や配線が行われないデッドスペースを発生し易いという問題がある。
本発明は、物理設計単位として矩形領域に加えて非矩形領域を扱い可能としてチップを小型化してコスト低減を図るLSI物理設計方法、プログラム及び装置を提供することを目的とする。
図1は本発明の原理説明図である。本発明は、LSI物理設計方法を提供するものであり、本発明のLSI物理設計方法は
チップ38内に非矩形領域の回路ブロック(非矩形回路ブロック40,42)を含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理ステップと、
フロアプランに適合するようにチップ内に非矩形領域の回路ブロック、例えば非矩形回路ブロック40を複数の分割矩形領域40−1,40−2に分割して配置する配置ステップと、
非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線ステップと、
を備えたことを特徴とする。
ここで、物理設計単位となる非矩形領域は、複数の分割矩形領域の集合体で構成され、複数の分割矩形領域の対角頂点を示す2次元座標値の集合を示すデータ構造を有する。
フロアプラン処理ステップは、チップ内に矩形領域の回路ブロックを複数配置した後に、空き領域をもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、一方の回路ブロックの向い合う辺の1部から自己の矩形空き領域を削除すると共に他方の回路ブロックの向い合う辺の残り部分から自己の矩形空き領域を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成する。
フロアプラン処理ステップは、チップ内に矩形領域の回路ブロックを複数配置した後に、混雑領域と空き領域をもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、混雑領域をもつ回路ブロックの向い合う辺の1部に矩形領域を付加すると共に空き領域を持つ回路ブロックの向い合う辺の部分から付加した矩形領域に相当する形状を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成する。
配置ステップは、非矩形領域を複数の分割矩形領域の集合体として扱い、複数の分割矩形領域の少なくとも1つが他の非矩形領域の分割矩形領域に重なっていた場合に、2つの非矩形領域が重なっていると判定して再配置により重なりを解消する。
本発明のLSI物理設計方法に於いて、更に、非矩形領域の回路ブロック内にセルを配置するセル配置ステップを備え、このセル配置ステップは、配置されたセルが1又は複数の分割矩形領域に含まれている場合は非矩形領域に含まれていると判定し、配置されたセルが複数の分割矩形領域のいずれにも含まれていない場合又はセルの一部が分割矩形領域に含まれている場合、セルは非矩形領域に含まれていないと判定する。
配置ステップは、更に、非矩形領域をもつセルを回路ブロック内に配置することを特徴とする。
本発明はLSI物理設計プログラムを提供するものであり、コンピュータに、
チップ内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理ステップと、
フロアプランに適合するようにチップ内に非矩形領域の回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置ステップと、
非矩形領域をもつ回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線ステップと、
を実行させることを特徴とする。
本発明は、LSI物理設計装置24を提供するものであり、
チップ38内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理部28と、
フロアプランに適合するようにチップ38内に非矩形領域をもつ回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置処理部30と、
非矩形領域をもつ回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線処理部32と、
を備えたことを特徴とする。
なお、本発明の物理設計プログラム及び装置の詳細は、本発明のLSI物理設計方法の場合と基本的に同じになる。
本発明によれば、階層レイアウト設計における回路ブロックやセルといった物理設計単位の形状として、従来の矩形領域に加えて複数の分割矩形領域の集合体で構成される非矩形領域を取り扱うことができるため、例えば隣接する矩形領域の回路ブロックでデッドスペースが発生する場合には、各回路ブロックにつきデッドスペース分の面積をもつ矩形領域を交互に凹凸形状が向い合うように削除した後に付き合せることで、チップ面積を低減し、製造コストを下げることができる。
また非矩形領域を分割された矩形領域の集合体として扱うことで、非矩形領域であっても従来の矩形領域としての処理をそのまま利用でき、既存の階層レイアウト設計における非矩形領域となる物理設計単位の取扱いを容易に実現できる。
更に非矩形領域は、回路ブロックのみならず、回路ブロック内に配置されるセルについても非矩形領域としての取扱いを導入することで、セル内に生ずるデッドスペースを低減して回路ブロックの面積を小さくできる。
更に、矩形領域を持つ一対の回路ブロックの一方に配線混雑領域が局所的存在し、他方に空き領域が局所的に存在するような場合、混雑領域をもつ回路ブロックに矩形領域を付加して面積を拡大する同時に空き領域をもつ回路ブロックから拡大した矩形領域を削除して面積を小さくすることで非矩形領域に変更し、非矩形領域への変更により矩形領域の回路ブロックに生じた配線混雑によるエラーを解消できる。
図2は、本発明のLSI物理設計方法が適用されるLSI設計システムの全体構成のブロック図である。図2において、LSI設計システムは、システム仕様設計部10、機能設計部12、論理設計部14、回路設計部16、レイアウト設計部18、設計検証部20及びLSI製造部22で構成されている。
システム仕様設計部10は、目的とするLSIのシステム仕様を実現するため、全体をどのような機能ブロックに分け、どのように動作するかを決定する。設計結果の妥当性を調べるためには動作シミュレータや方式シミュレータが使用される。
機能設計部は12、機能ブロックの内部構造と動作を決定するレジスタトランスファーレベル(RTレベル)の設計を行う。設計結果の検証には機能シミュレータが使用される。論理設計部14はゲートレベルでの論理回路設計を行う。動作確認には論理シミュレータやタイミングシミュレータなどが使用される。
回路設計部16はトランジスタ回路の設計を行う。設計した回路特性を調べるためには回路シミュレータが使用される。
レイアウト設計部18は、回路図を物理的形状と寸法を持つ素子の配置配線に変換してマスクレイアウトを作成する物理設計であり、通常、階層レイアウト設計の手法が採用され、チップ内に複数の回路ブロックをフロアプランに従って配置した後、各ブロック間の配線を行い、複数の回路ブロックについて並列的にセル配置と配線を行う。セルの配置配線には、自動設計に対応した配置配線プログラムなどが使用される。
本発明にあっては、レイアウト設計部18におけるチップ内に配置する下位階層の階層モジュール、具体的には回路ブロックの形状として、従来の矩形領域に加え新たに非矩形領域を導入して取り扱うようにしている。
設計検証部20は、設計されたレイアウトについて設計寸法の規則違反を調べるデザインルールチェック(DRC)、レイアウトからの回線結線情報を作り出す回線抽出、結線アルゴリズムを調べる結線チェック、トランジスタの寸法要求特性や電源配線の短絡有無を調べる電気ルールチェックなどがある。この設計検証部20の処理が終了するとマスクデータが作成され、LSI製造部22に引き渡されて、LSIの製造が行われることになる。
図3は本発明によるLSI物理設計装置の機能構成のブロック図である。本発明のLSI物理設計装置24に対してはネットリスト26が設けられ、ネットリスト26には図2に示した回路設計部16で設計の済んだネットリストデータが格納されている。
LSI物理設計装置24は、フロアプラン処理部28、配置処理部30、配線処理部32及び階層設計制御部34で構成される。LSI物理設計装置24で処理の済んだレイアウト設計データは、設計検証が済んだ後にマスクパターンデータ36として出力される。
LSI物理設計装置24に設けたフロアプラン処理部28は、チップ内に非矩形領域を含む複数の回路ブロックを配置するためのフロアプランを作成する。配置処理部30はフロアプランに適合するようにチップ内に回路ブロックを配置するもので、この場合に非矩形領域を持つ回路ブロックについては、複数の回路ブロックの各々を複数の矩形領域に分割してチップ内に配置する。配線処理部32は、セル内に配置した複数の回路ブロックを相互に配線する。
更に配置処理部30及び配線処理部32は、チップ内に配置した各回路ブロックを対象にセルの配置と配線を行う。本発明にあっては、回路ブロック内に配置するセルについても、従来の矩形領域を持つセルに加え、本発明により新たに非矩形領域を持つセルを配置することができる。
階層設計制御部34は、LSI物理設計装置24で階層レイアウト設計の手法を実現している。LSIの階層レイアウト設計は、まずフロアプラン処理部28によりチップ内に下位階層の物理設計単位である回路ブロックをどのように配置するかを、データの流れと各回路ブロックの物理的大きさを推定して定める。
即ちフロアプランとは、与えられたn個のブロックを互いに重なることなく最小面積で矩形チップの内部に配置する問題であり、本発明はこのフロアプランにおいて、従来の矩形領域を持つ回路ブロックに加え、非矩形領域を持つ回路ブロックを取り扱うことができるようにしている。
ここで本発明で取り扱う非矩形領域とは、複数の分割矩形領域の集合体で構成される。このように本発明の矩形領域は複数の分割矩形領域の集合体で構成されているため、チップ内に対する配置については矩形領域に分割して扱うことで、従来の矩形領域の回路ブロックと同等に処理することができる。
フロアプラン処理部28によりチップ内に回路ブロックを配置するフロアプランが作成されたならば、各回路ブロックにつきフロアプランが適合する端子位置と形状を持つように設計する。そして、配置処理部30によりチップ内に回路ブロックを配置して、配線処理部32により各ブロック間の配線を行うことになる。
階層レイアウト設計にはボトムアップ型とトップダウン型の2種類の手法がある。ボトムアップ型階層レイアウト設計は、階層モジュールとなる各回路ブロックの形状、電源配線、外部ピン配置などをボトムアップに順次決定して、チップに対しレイアウトの済んだモジュールを配置する手法である。
またトップダウン型階層レイアウト設計は、フロアプランの作成時に、階層モジュールとなる回路ブロックの形状、外部ピン配置を決定した後、チップレベルと階層モジュールレベルで並列的にレイアウト設計を行う手法である。このトップダウン型階層レイアウト設計は、トップダウンに階層モジュールの形状を決定するため、チップに最適な階層モジュールを生成することが可能である。
いずれの階層レイアウト設計にあっても、レイアウトをゲート数の小さな階層モジュール単位、即ち回路ブロック単位にレイアウト設計を行うことができるため、プログラムの処理時間が短く、少ないメモリ領域で効率よくレイアウト設計を実行することができる。
なお、通常のLSIの階層レイアウト設計にあっては、チップ、回路ブロックという2階層で階層レイアウト設計を行っているが、更に大規模で且つ高性能のLSIの階層レイアウト設計にあっては、チップ、サブチップ、ブロックという3階層で階層レイアウト設計を行う場合もある。
このような階層レイアウト設計における下位階層の物理設計単位につき、本発明は従来の矩形領域に加え非矩形領域を導入して取り扱うことができるようにしている。
図3におけるLSI物理設計装置24は、例えば図4のようなコンピュータのハードウェア資源により実現される。図4のコンピュータにおいて、CPU100のバス101にはRAM102、ハードディスクコントローラ(ソフト)104、フロッピィディスクドライバ(ソフト)110、CD−ROMドライバ(ソフト)114、マウスコントローラ118、キーボードコントローラ122、ディスプレイコントローラ126、通信用ボード130が接続される。
ハードディスクコントローラ104はハードディスクドライブ106を接続し、本発明のLSI物理設計処理を実行するプログラムをローディングしており、コンピュータの起動時にハードディスクドライブ106から必要なプログラムを呼び出して、RAM102上に展開し、CPU100により実行する。
フロッピィディスクドライバ110にはフロッピィディスクドライブ(ハード)112が接続され、フロッピィディスク(R)に対する読み書きができる。CD−ROMドライバ114に対しては、CDドライブ(ハード)116が接続され、CDに記憶されたデータやプログラムを読み込むことができる。
マウスコントローラ118はマウス120の入力操作をCPU100に伝える。キーボードコントローラ122はキーボード124の入力操作をCPU100に伝える。ディスプレイコントローラ126は表示部128に対して表示を行う。通信用ボード130は無線を含む通信回線132を使用し、ネットワークを介して外部の装置との間で通信を行う。
図5は本発明による非矩形領域の回路ブロックをチップに配置したレイアウト説明図である。図5(A)は、チップ38にフロアプランに基づいて作成した面積と形状を持つ2つの非矩形回路ブロック40,42を配置した場合であり、その間には非矩形回路ブロック40,42を接続する必要十分な配線領域44を確保している。配線領域44は、配線数と配線に用いる金属配線層数とに依存している。
図5(B)は、図5(A)の非矩形回路ブロック40を取り出している。非矩形回路ブロック40は点線で示すように上下に分割された分割矩形領域40−1,40−2の集合で構成されている。分割矩形領域40−1のデータ構造は、対角頂点a1,a2の2次元座標で定義される。また分割矩形領域40−2のデータ構造も対角頂点b1,b2の2次元座標で定義される。
非矩形回路ブロック40は分割矩形領域40−1,40−2の集合体であることから、そのデータ構造47は、図5(C)に示すように、分割矩形領域40−1,40−2の対角頂点a1,a2及びb1,b2を示す2次元座標値の集合を示すデータ構造
非矩形領域{A(a1,a2),B(b1,b2)}
で表現することができる。
このような非矩形回路ブロック40が分割矩形領域40−1,40−2の集合体で構成される点は、隣接する非矩形回路ブロック42についても同様である。
図6は本発明による非矩形領域の形成に使用するデッドスペースを局所的に持つ矩形回路ブロックの配置説明図である。図5(A)は、チップ38について矩形領域を持つ矩形回路ブロック46,48をフロアプランに基づいて配線領域44を介して配置した場合であり、矩形回路ブロック46,48にはそれぞれデッドスペース50,52が局所的に存在しており、デッドスペース50は面積S1であり、またデッドスペース52は面積S2であったとする。
このようなデッドスペース50,52を持つ隣接する矩形回路ブロック46,48につき、本発明にあっては、隣接する一方の矩形回路ブロック46の向かい合う辺の一部から自己のデッドスペース50の面積S1に相当する矩形空き領域を削除すると共に、他方の矩形回路ブロック48の向かう合う辺の残りの部分からデッドスペース52の面積S2に対応した矩形空き領域を削除することで、配線領域44を介して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形形状を持つ非矩形回路ブロックを形成する。
図6(B)は、図6(A)の矩形回路ブロック46から削除する削除矩形領域54と矩形回路ブロック48から削除する削除矩形領域56の面積とサイズを示している。図6(B)において、削除矩形領域54,56は同じ横幅Wを持ち、高さについては凹凸嵌合形状の間に配線領域44の幅wを必要とすることから、矩形回路ブロック46,48の高さHにこれを加えた(H+w)としている。
このような横W×高さ(H+w)を持つ矩形領域につき、デッドスペース50の面積S1とデッドスペース52の面積S2の合計面積(S1+S2)の面積を確保するように、削除矩形領域54,56の横幅Wとそれぞれの高さH1,H2を次式により求める。
Figure 2006155119
図7は図6のデッドスペースに基づいて形成した本発明による非矩形領域を持つ回路ブロックの説明図である。図7(A)は、矩形回路ブロック46,48から、それぞれのデッドスペース50,52に対応した面積S1,S2を持つ図6(B)で求めた削除矩形領域54,56を破線で示すように削除し、これによって非矩形領域を持つ非矩形回路ブロック40,42を形成する。
このように非矩形回路ブロック40,42が形成できたならば、削除矩形領域54,56の部分が相互に噛み合うように両者を近付けることで、図7(B)のように非矩形回路ブロック40,42の配置スペースを低減し、これにより図7(A)の矩形回路ブロックで必要としていたチップ38の横幅W1を、矩形回路ブロックとして取り扱うことで、横幅W2に小さくすることができる。このようにチップの面積を小さくできれば、その分、製造コストを下げることができ、LSIの低価格化を可能とする。
図8は図4(A)の非矩形回路ブロックを配置したチップについて、更に、外部ピン配置、回路ブロック間の相互配線及びセル配置を行った状態の説明図である。図8において、チップ38の周囲には外部ピン35−1〜35−4が配置され、これに対応して非矩形回路ブロック40,42のそれぞれに端子45が配置され、外部ピン35−1〜35−4と端子45の間、及び非矩形回路ブロック40,42の各端子45間の配線が、配線領域44を介して行われている。
続いて非矩形回路ブロック40,42の各々についてセル55を配置し、セル55の配置が済んだ後に、ブロック内におけるセル55の配線処理を行うことになる。この非矩形回路ブロック40,42内のセル55の配置及びその配線については、各回路ブロックについて並列的な処理として実行することができる。
図9は本発明による非矩形領域の形成に使用する混雑エリアと空きエリアを持った矩形回路ブロックの配置説明図である。図9において、チップ38には、フロアプランに従って矩形回路ブロック58,60,62,64が配置されている。この矩形回路ブロック58〜64についてセルの配置配線を見積もることで、局所的な混雑エリア66,68,70及び空きエリア72,74,76が推定されている。
ここで、矩形回路ブロック58の混雑エリア66は矩形回路ブロック62の空きエリア74に相対しており、矩形回路ブロック58の混雑エリア68は矩形回路ブロック60の空きエリア72に相対し、更に矩形回路ブロック60の混雑エリア70は矩形回路ブロック64の空きエリア76に相対している。
そこで、隣接する矩形回路ブロックの相対する混雑エリアと空きエリアの組につき、混雑エリアを持つ矩形回路ブロック側の面積を拡張し、空きエリアを持つ矩形回路ブロック側の面積を減らすことで、混雑エリアの混雑度の解消を図る。
図10(A)は混雑エリア66と空きエリア74に基づき、矩形回路ブロック58については矩形拡張領域78を付加し、これに対応して矩形回路ブロック62から矩形削除領域80を削除する。また混雑エリア68と空きエリア72に対応して、矩形回路ブロック58に矩形拡張領域82を付加し、矩形回路ブロック60からは削除矩形領域84を削除する。更に、混雑エリア70と空きエリア76に対応し、矩形回路ブロック60に矩形拡張領域86を付加し、矩形回路ブロック62からは削除矩形領域88を削除する。
このような混雑エリアと空きエリアに対応した矩形領域の拡張と削除により、図10(B)に示す非矩形領域を持った非矩形回路ブロック580,600,620、更に矩形面積を小さくした矩形回路ブロック640とすることができ、混雑エリアの混雑度を解消することができる。
即ち、従来の矩形領域のみを扱う物理設計にあっては、混雑領域を解消するためにはチップ面積を拡大する必要があったが、本発明にあっては、隣接する矩形領域における混雑エリアと空きエリアを検索することで、空きエリアに相当する矩形領域を混雑エリアを持つ矩形回路ブロックに付加して非矩形回路ブロックとすることで、チップ面積を拡大することなく混雑度を解消することができる。
図11は本発明におけるチップ内に非矩形領域を持つ回路ブロックを配置した場合の重なりチェックの説明図である。図11(A)はチップ38に非矩形領域を持つ非矩形回路ブロック90,92を配置した場合であり、一部が重なって配置されている。
このような場合の重なりチェックについては、非矩形回路ブロック90,92をそれぞれ分割矩形領域90−1〜90−3及び92−1〜92−3に分割し、分割矩形領域90−1〜90−3と分割矩形領域92−1〜92−3の間で矩形領域同士の重なりチェックを行い、いずれかの分割矩形領域同士が重なっていれば、非矩形回路ブロック90,92は重なっているものと判断する。
この場合には分割矩形領域90−2に対し分割矩形領域92−1,92−3が重なっていることから、非矩形回路ブロック90,92は重なっているものと判断する。そして重なりを判断した場合には、図11(B)に示すように、非矩形回路ブロック90,92の間のスペーシング条件を拡大して、再度、回路ブロックを配置して重なりチェックを行うことで、回路ブロックの重なりを解消する。
もちろん図11(A)(B)のように、チップ38に非矩形回路ブロック90,92を配置する際には、例えば非矩形回路ブロック90を例にとると、そのデータ構造が3つの分割矩形領域90−1〜90−3の集合体であることから、まず分割矩形領域90−1を配置し、次に分割矩形領域90−2を配置し、最後に分割矩形領域90−3を配置する通常の矩形回路ブロックの配置と同じ配置処理を繰り返すことになる。
図12は本発明による非矩形領域を持つ回路ブロックに対しセルを配置した場合の領域に入るか否かをチェックするための説明図である。図12において、チップ38には非矩形領域を持つ非矩形回路ブロック94が配置されており、この非矩形回路ブロック94に対しセル95,96,97,98を配置している。このセル95〜98は全て非矩形回路ブロック94の内部に配置しなければならない。
このようなセルの配置のチェックについても、非矩形回路ブロック94を3つの分割矩形領域95−1,95−2,95−3に分け、それぞれに対しセル95〜98がブロック内部に含まれるか否かのチェックを行う。
このブロック内部に含まれるか否かのチェックは、次のチェックを行う。
(1)セルがいずれかの分割矩形領域に含まれていれば、非矩形回路ブロックに含まれている。
(2)セルが複数の分割矩形領域に含まれていれば、非矩形回路ブロックに含まれている。
(3)セルがどの分割矩形領域にも含まれていない場合には、非矩形回路ブロックに含まれていない。
(4)セルの一部が1または複数のいずれかの分割矩形領域に含まれている場合は、非矩形回路ブロックに含まれていない。
このチェックルールを図12について適用してみると、セル95は分割矩形領域95−1に含まれているため、非矩形回路ブロック94に含まれている。セル96は分割矩形領域95−1,95−2の両方に含まれているため、非矩形回路ブロック94に含まれている。
セル97は分割矩形領域95−1〜95−3のいずれにも含まれていないことから、非矩形回路ブロック94に含まれていない。更にセル98は、分割矩形領域95−2,95−3に一部が含まれていることから、非矩形回路ブロック94には含まれていない。
このためセル97,98の2つについては、非矩形回路ブロック94の内部に対する配置処理に失敗していることから、セル配置をやり直すことになる。
図13は非矩形領域の回路ブロックを取り扱う本発明による階層レイアウト設計処理のフローチャートであり、トップダウン型を例にとっている。
図13において、ステップS1にあっては、チップの下位階層となる物理設計単位、具体的には回路ブロックを矩形領域及び非矩形領域として、端子配置を含むチップのフロアプランを作成する。続いて、ステップS2でフロアプランに基づきチップ内に配置する回路ブロックを1つ取り出し、ステップS3で回路ブロックは非矩形領域か否かチェックする。
矩形領域の回路ブロックであった場合にはステップS5に進み、フロアプランに従ってチップ内に矩形領域を配置する。一方、非矩形領域であった場合にはステップS4に進み、非矩形領域を複数の矩形領域に分割した後に、ステップS5に進み、分割した矩形領域を順番にチップ内に配置する。
続いてステップS6で全ての回路ブロックが配置されたか否かチェックし、回路ブロックが残っていればステップ2に戻り、すべての回路ブロックの配置が済めば、ステップS7に進む。ステップS7にあっては、セル内に配置した回路ブロックが重なり合うか否かの物理チェックを行う。
この場合、非矩形領域を持つ非矩形回路ブロックについては、図11に示したように、非矩形領域を複数の矩形領域に分割して重なり合いをチェックする。この物理チェックの結果、ステップS8でブロックが重なり合うブロック配置エラーが判別されると、ステップS1のフロアプランに戻って処理をやり直す。ブロック配置エラーがステップS8で判別されなければ、ステップS9に進み、既に配置した回路ブロック間の配線を行う。この配線の際には外部ピンとの配線も同時に行う。
続いてステップS10で、チップ配置の済んだ回路ブロックを1つ取り出してセル配置を行う。このセル配置についても、回路ブロックに配置するセル形状について本発明にあっては従来の矩形領域のセルに加え非矩形領域を持つセルを配置することができる。セル配置が済むと、ステップS11でセルを矩形領域または非矩形領域の回路ブロックの内部に配置したか否かの物理チェックを行う。
この物理チェックは、非矩形領域については、図12に示したように非矩形領域を複数の矩形領域に分割してチェックする。ステップS12でセル内部に配置できないセル配置エラーが判別されると、ステップS10に戻り、再度、セル配置をやり直す。セル配置エラーがなければステップS13に進み、セルの配線処理を実行する。
続いてステップS14で全ての回路ブロックのセル配置配線の終了の有無をチェックし、終了していなければ、ステップS10に戻って、次の回路ブロックを取り出して同様にセルの配置配線を繰り返す。全ブロックについてセルの配置配線が終了すれば、一連の処理を終了する。
図14は非矩形領域を持つセルを取り扱う本発明によるセル配置処理のフローチャートである。図14において、セル配置処理は、ステップS1で回路ブロック内に配置するセルを取り出し、ステップS2でセルは非矩形領域を持つか否かチェックする。矩形領域のセルであれば、ステップS4に進み、回路ブロック内に矩形領域のセルを配置する。
非矩形領域を持つセルであれば、ステップS3に進み、セルの非矩形領域を複数の分割矩形領域に分割した後、ステップS4で、分割した複数の矩形領域を順番に回路ブロック内に配置する。
このようなステップS1〜S4の処理を、ステップS5で全てのセルを配置するまで繰り返す。全てのセル配置が済むと、ステップS6で配置セルが重なり合うか否かの物理チェックを行う。この場合、非矩形領域を持つセルについては、図11に示したように、複数の矩形領域に分割して重なりをチェックする。
ステップS7でセル重なるセル配置エラーが判別されるとステップS1に戻り、セルの作成からやり直す。ステップS7でセル配置エラーがなければ、ステップS8に進み、セルを回路ブロック内に配置したか否かの物理チェックを行う。
この物理チェックにおいて、回路ブロックが非矩形領域を持つ場合には、図12に示したように、複数の矩形領域に分割して、セルがブロック内に含まれるか否かのチェックを行う。ステップS9でセルが回路ブロックに含まれずにセル配置エラーとなれば、ステップS1に戻り、回路ブロック内に対するセルの配置から処理をやり直す。セル配置エラーがなければ一連の処理を終了する。
この非矩形領域を持つセルの配置処理は、矩形領域のみを持つセルを扱っている図13の階層レイアウト設計処理におけるステップS10〜S12の部分を図14のセル配置処理に置き換えることで、回路ブロックとセルの両方について非矩形領域を扱った階層レイアウト設計を行うことができる。
また図14のセル配置処理で使用する非矩形領域を持つセルの作成は、図6及び図7に示した矩形領域のデッドスペースに基づく非矩形領域の形成、あるいは図9及び図10に示した混雑エリアと空きエリアに基づく非矩形領域の形成について、回路ブロックレベルの処理をセルレベルの処理に置き換えることで同等に適用できる。
また図13の階層レイアウト処理はトップダウン型を例にとるものであったが、ボトムアップ型についても、本発明による非矩形領域を持つ回路ブロック及び非矩形領域を持つセルを同様に取り扱うことで対応することができる。
更に本発明はLSI物理設計プログラムを提供するものであり、このプログラムは図13及び図14に示したフローチャートに従った処理手順を持つことになる。
また上記の実施形態はLSI物理設計として階層レイアウト設計を例にとるものであったが、チップに対し階層モジュールに分けてレイアウト設計をする手法であれば、適宜のレイアウト設計につき物理設計単位を非矩形領域として扱う本発明をそのまま適用することができる。
なお本発明は上記の実施形態に限定されず、その目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含む。更に本発明は上記の実施形態に示した数値による限定は受けない。
ここで本発明の特徴をまとめて列挙すると、次の付記のようになる。
(付記)
(付記1)
チップ内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理ステップと、
前記フロアプランに適合するように前記チップ内に前記非矩形領域の回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置ステップと、
前記非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線ステップと、
を備えたことを特徴とするLSI物理設計方法。(1)
(付記2)
付記1記載のLSI物理設計方法に於いて、前記非矩形領域は、複数の分割矩形領域の集合体で構成され、前記複数の分割矩形領域の対角頂点を示す2次元座標値の集合を示すデータ構造を有することを特徴とするLSI物理設計方法。
(付記3)
付記1記載のLSI物理設計方法に於いて、前記フロアプラン処理ステップは、前記チップ内に矩形領域をもつ回路ブロックを複数配置した後に、空き領域ををもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、一方の回路ブロックの向い合う辺の1部から自己の矩形空き領域を削除すると共に他方の回路ブロックの向い合う辺の残り部分から自己の矩形空き領域を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成することを特徴とするLSI物理設計方法。
(付記4)
付記1記載のLSI物理設計方法に於いて、前記フロアプラン処理ステップは、前記チップ内に矩形領域をもつ回路ブロックを複数配置した後に、混雑領域と空き領域をもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、混雑領域をもつ回路ブロックの向い合う辺の1部に矩形領域を付加すると共に空き領域を持つ回路ブロックの向い合う辺の部分から前記付加した矩形領域に相当する形状を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成することを特徴とするLSI物理設計方法。
(付記5)
付記1記載のLSI物理設計方法に於いて、前記配置ステップは、前記非矩形領域を複数の分割矩形領域の集合体として扱い、前記複数の分割矩形領域の少なくとも1つが他の非矩形領域の分割矩形領域に重なっていた場合に、前記2つの非矩形領域が重なっていると判定して再配置により重なりを解消することを特徴とするLSI物理設計方法。(2)
(付記6)
付記1記載のLSI物理設計方法に於いて、更に、前記非矩形領域をもつ回路ブロック内にセルを配置するセル配置ステップを備え、
前記セル配置ステップは、
配置されたセルが1又は複数の分割矩形領域に含まれている場合は前記非矩形領域に含まれていると判定し、
配置されたセルが複数の分割矩形領域のいずれにも含まれていない場合又は前記セルの一部が前記分割矩形領域に含まれている場合、前記セルは前記非矩形領域に含まれていないと判定することを特徴とするLSI物理設計方法。(3)
(付記7)
付記1記載のLSI物理設計方法に於いて、前記配置ステップは、更に、非矩形領域のセルを前記回路ブロック内に配置することを特徴とするLSI物理設計方法。
(付記8)
コンピュータに、
チップ内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理ステップと、
前記フロアプランに適合するように前記チップ内に前記非矩形領域の回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置ステップと、
前記非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線ステップと、
を実行させることを特徴とするLSI物理設計プログラム。(4)
(付記9)
付記8記載のLSI物理設計プログラムに於いて、前記非矩形領域は、複数の分割矩形領域の集合体で構成され、前記複数の分割矩形領域の対角頂点を示す2次元座標値の集合を示すデータ構造を有することを特徴とするLSI物理設計プログラム。
(付記10)
付記8記載のLSI物理設計プログラムに於いて、前記フロアプラン処理ステップは、前記チップ内に矩形領域の回路ブロックを複数配置した後に、空き領域をもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、一方の回路ブロックの向い合う辺の1部から自己の矩形空き領域を削除すると共に他方の回路ブロックの向い合う辺の残り部分から自己の矩形空き領域を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成することを特徴とするLSI物理設計プログラム。
(付記11)
付記8記載のLSI物理設計プログラムに於いて、前記フロアプラン処理ステップは、前記チップ内に矩形領域をもつ回路ブロックを複数配置した後に、混雑領域と空き領域をもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、混雑領域をもつ回路ブロックの向い合う辺の1部に矩形領域を付加すると共に空き領域を持つ回路ブロックの向い合う辺の部分から前記付加した矩形領域に相当する形状を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成することを特徴とするLSI物理設計プログラム。
(付記12)
付記8記載のLSI物理設計プログラムに於いて、前記配置ステップは、前記非矩形領域を複数の分割矩形領域の集合体として扱い、前記複数の分割矩形領域の少なくとも1つが他の非矩形領域の分割矩形領域に重なっていた場合に、前記2つの非矩形領域が重なっていると判定して再配置により重なりを解消することを特徴とするLSI物理設計プログラム。
(付記13)
付記8記載のLSI物理設計プログラムに於いて、更に、前記非矩形領域をもつ回路ブロック内にセルを配置するセル配置ステップを備え、
前記セル配置ステップは、
配置されたセルが1又は複数の分割矩形領域に含まれている場合は前記非矩形領域に含まれていると判定し、
配置されたセルが複数の分割矩形領域のいずれにも含まれていない場合又は前記セルの一部が前記分割矩形領域に含まれている場合、前記セルは前記非矩形領域に含まれていないと判定することを特徴とするLSI物理設計プログラム。
(付記14)
付記8記載のLSI物理設計プログラムに於いて、前記配置ステップは、更に、非矩形領域をもつセルを前記回路ブロック内に配置することを特徴とするLSI物理設計プログラム。
(付記15)
チップ内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理部と、
前記フロアプランに適合するように前記チップ内に前記非矩形領域の回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置処理部と、
前記非矩形領域をもつ回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線処理部と、
を実行させることを特徴とするLSI物理設計装置。(5)
(付記16)
付記15記載のLSI物理設計装置に於いて、前記非矩形領域は、複数の分割矩形領域の集合体で構成され、前記複数の分割矩形領域の対角頂点を示す2次元座標値の集合を示すデータ構造を有することを特徴とするLSI物理設計装置。
(付記17)
付記15記載のLSI物理設計装置に於いて、前記フロアプラン処理部は、前記チップ内に矩形領域の回路ブロックを複数配置した後に、空き領域をもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、一方の回路ブロックの向い合う辺の1部から自己の矩形空き領域を削除すると共に他方の回路ブロックの向い合う辺の残り部分から自己の矩形空き領域を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成することを特徴とするLSI物理設計装置。
(付記18)
付記15記載のLSI物理設計装置に於いて、前記フロアプラン処理部は、前記チップ内に矩形領域の回路ブロックを複数配置した後に、混雑領域と空き領域をもつ隣接した一対の回路ブロックを検索し、混雑領域をもつ回路ブロックの向い合う辺の1部に矩形領域を付加すると共に空き領域を持つ回路ブロックの向い合う辺の部分から前記付加した矩形領域に相当する形状を削除して凹凸嵌合形状を持つ一対の非矩形領域を形成することを特徴とするLSI物理設計装置。
(付記19)
付記15記載のLSI物理設計装置に於いて、前記配置処理部は、前記非矩形領域を複数の分割矩形領域の集合体として扱い、前記複数の分割矩形領域の少なくとも1つが他の非矩形領域の分割矩形領域に重なっていた場合に、前記2つの非矩形領域が重なっていると判定して再配置により重なりを解消することを特徴とするLSI物理設計装置。
(付記20)(非矩形領域とセルの配置)
付記15記載のLSI物理設計装置に於いて、更に、前記非矩形領域をもつ回路ブロック内にセルを配置するセル配置処理部を備え、
前記セル配置処理部は、
配置されたセルが1又は複数の分割矩形領域に含まれている場合は前記非矩形領域に含まれていると判定し、
配置されたセルが複数の分割矩形領域のいずれにも含まれていない場合又は前記セルの一部が前記分割矩形領域に含まれている場合、前記セルは前記非矩形領域に含まれていないと判定することを特徴とするLSI物理設計装置。
(付記21)
付記15記載のLSI物理設計装置に於いて、前記配置処理部は、更に、非矩形領域をもつセルを前記回路ブロック内に配置することを特徴とするLSI物理設計装置。
本発明の原理説明図 LSI設計システムの全体構成のブロック図 本発明によるLSI物理設計装置の機能構成のブロック図 図3のLSI物理設計装置が適用されるコンピュータのハードウェア環境の説明図 本発明による非矩形領域をもつ回路ブロックを配置したレイアウト説明図 本発明による非矩形領域の形成に使用するデッドスペースをもつ矩形回路ブロックの配置説明図 図6のデッドスペースに基づいて形成した本発明による非矩形領域の説明図 図4の非矩形回路ブロックを配置したセルについて更に外部ピン配置、回路ブロック間の相互配線、及びセル配置を行った状態の説明図 本発明による非矩形領域の形成に使用する混雑エリアと空きエリアをもった矩形回路ブロックの配置説明図 図9の混雑エリアと空きエリアに基づいて形成した本発明による非矩形領域の説明図 本発明におけるチップ内に非矩形領域を配置した場合の重なりチェックの説明図 本発明による非矩形領域をもつ回路ブロックを配置した場合の領域に入るか入らないかのチェックの説明図 非矩形領域の回路ブロックを取り扱う本発明による階層レイアウト処理のフローチャート 非矩形領域のセルを取り扱う本発明によるセル配置処理のフローチャート
符号の説明
10:システム仕様設計部
12:機能設計部
14:論理設計部
16:回路設計部
18:レイアウト設計部
20:設計検証部
22:LSI製造部
24:LSI物理設計装置
26:ネットリスト
28:フロアプラン処理部
30:配置処理部
32:配線処理部
34:階層設計制御部
35−1〜35−4:外部ピン
36:マスクパターンデータ
38:チップ
40−1,40−2,90−1〜90−3,92−1〜92−3,95−1〜95−3:分割矩形領域
40,42,44,90,92,94,580,600,620,640:非矩形回路ブロック
44:配線領域
45:端子
47:データ構造
46,48,58,60,62,64:矩形回路ブロック
50,52:デッドスペース
54,56,80,84,88:削除矩形領域
55,96〜98:セル
66,68,70:混雑エリア
72,74,76:空きエリア
78,82,86:矩形拡張領域

Claims (5)

  1. チップ内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理ステップと、
    前記フロアプランに適合するように前記チップ内に前記非矩形領域の回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置ステップと、
    前記非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線ステップと、
    を備えたことを特徴とするLSI物理設計方法。
  2. 請求項1記載のLSI物理設計方法に於いて、前記配置ステップは、前記非矩形領域を複数の分割矩形領域の集合体として扱い、前記複数の分割矩形領域の少なくとも1つが他の非矩形領域の分割矩形領域に重なっていた場合に、前記2つの非矩形領域が重なっていると判定して再配置により重なりを解消することを特徴とするLSI物理設計方法。
  3. 請求項1記載のLSI物理設計方法に於いて、更に、前記非矩形領域をもつ回路ブロック内にセルを配置するセル配置ステップを備え、
    前記セル配置ステップは、
    配置されたセルが1又は複数の分割矩形領域に含まれている場合は前記非矩形領域に含まれていると判定し、
    配置されたセルが複数の分割矩形領域のいずれにも含まれていない場合又は前記セルの一部が前記分割矩形領域に含まれている場合、前記セルは前記非矩形領域に含まれていないと判定することを特徴とするLSI物理設計方法。
  4. コンピュータに、
    チップ内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理ステップと、
    前記フロアプランに適合するように前記チップ内に前記非矩形領域の回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置ステップと、
    前記非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線ステップと、
    を実行させることを特徴とするLSI物理設計プログラム。
  5. チップ内に非矩形領域の回路ブロックを含む複数の回路ブロックを配置するフロアプランを作成するフロアプラン処理部と、
    前記フロアプランに適合するように前記チップ内に前記非矩形領域の回路ブロックを複数の矩形領域に分割して配置する配置処理部と、
    前記非矩形領域をもつ回路ブロックを含む複数の回路ブロックを相互に配線する配線処理部と、
    を備えたことを特徴とするLSI物理設計装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008129725A (ja) * 2006-11-17 2008-06-05 Toshiba Corp 半導体レイアウト設計装置
JP2011516945A (ja) * 2008-05-01 2011-05-26 インテル・コーポレーション マルチプロセッサメッシュベースシステムにおいて階層ルーティングを行う方法および装置
JP2019204171A (ja) * 2018-05-21 2019-11-28 東芝情報システム株式会社 半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計用プログラム

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7730439B2 (en) * 2005-05-12 2010-06-01 Renesas Technology Corp. Floor plan evaluating method, floor plan correcting method, program, floor plan evaluating device, and floor plan creating device
US7904869B2 (en) * 2007-12-18 2011-03-08 Freescale Semiconductor, Inc. Method of area compaction for integrated circuit layout design
US8219959B2 (en) * 2009-07-24 2012-07-10 Lsi Corporation Generating integrated circuit floorplan layouts
US8402418B2 (en) * 2009-12-31 2013-03-19 Nvidia Corporation System and process for automatic clock routing in an application specific integrated circuit
US9256709B2 (en) * 2014-02-13 2016-02-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method for integrated circuit mask patterning
US9928329B2 (en) * 2016-01-27 2018-03-27 International Business Machines Corporation Layout of large block synthesis blocks in integrated circuits

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4777606A (en) * 1986-06-05 1988-10-11 Northern Telecom Limited Method for deriving an interconnection route between elements in an interconnection medium
US5341383A (en) * 1990-07-30 1994-08-23 Fujitsu Limited Circuit arrangement suitable for testing cells arranged in rows and columns, semiconductor integrated circuit device having the same, and method for arranging circuit blocks on chip
JPH05160375A (ja) 1991-12-10 1993-06-25 Fujitsu Ltd 自動配線方法
JPH05181936A (ja) 1991-12-27 1993-07-23 Fujitsu Ltd 配線方法
JPH05243383A (ja) 1992-03-02 1993-09-21 Hitachi Ltd 自動配線方法
JPH06124321A (ja) 1992-10-09 1994-05-06 Nec Corp 自動配線処理方法
US5742086A (en) * 1994-11-02 1998-04-21 Lsi Logic Corporation Hexagonal DRAM array
JPH09108933A (ja) * 1995-10-18 1997-04-28 Yoji Kajitani 素材の配置および切り出し方法
JPH09147009A (ja) 1995-11-24 1997-06-06 Hitachi Ltd クロストークディレイ決定方法及び平行配線長制限方法
US6049659A (en) * 1995-12-26 2000-04-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for automatically designing a semiconductor integrated circuit
US5870312A (en) * 1996-06-28 1999-02-09 Lsi Logic Corporation Advanced modular cell placement system with dispersion-driven levelizing system
JP3137178B2 (ja) * 1996-08-14 2001-02-19 日本電気株式会社 集積回路の配線設計方法および装置
US6002857A (en) * 1996-11-14 1999-12-14 Avant! Corporation Symbolic constraint-based system for preroute reconstruction following floorplan incrementing
JPH10189746A (ja) 1996-12-27 1998-07-21 Oki Electric Ind Co Ltd Lsi論理回路の配線レイアウト方法
JP3063828B2 (ja) * 1997-03-27 2000-07-12 日本電気株式会社 集積回路の自動概略配線方法
JP3954253B2 (ja) * 1999-11-01 2007-08-08 富士通株式会社 Lsiフロアプラン決定装置及び方法並びにプログラム記録媒体
JP2002329783A (ja) * 2001-04-27 2002-11-15 Toshiba Corp 配線パターンの自動レイアウト方法、レイアウトパターンの光学補正方法、自動レイアウト方法と光学補正方法に基づいて製造される半導体集積回路、および自動レイアウト光学補正プログラムを記録した記録媒体
US6859916B1 (en) * 2001-06-03 2005-02-22 Cadence Design Systems, Inc. Polygonal vias
JP2003303217A (ja) 2002-04-08 2003-10-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd クロストーク回避方法
US6826740B2 (en) * 2002-05-07 2004-11-30 International Business Machines Corporation Automated buffer insertion incorporating congestion relief for use in connection with physical design of integrated circuit
US6871332B2 (en) * 2002-07-23 2005-03-22 Sun Microsystems, Inc. Structure and method for separating geometries in a design layout into multi-wide object classes
JP3834282B2 (ja) * 2002-11-08 2006-10-18 松下電器産業株式会社 メモリマクロおよび半導体集積回路
US7222322B1 (en) * 2003-01-14 2007-05-22 Cadence Design Systems, Inc. Method and mechanism for implementing tessellation-based routing
US7251800B2 (en) * 2003-05-30 2007-07-31 Synplicity, Inc. Method and apparatus for automated circuit design

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008129725A (ja) * 2006-11-17 2008-06-05 Toshiba Corp 半導体レイアウト設計装置
JP2011516945A (ja) * 2008-05-01 2011-05-26 インテル・コーポレーション マルチプロセッサメッシュベースシステムにおいて階層ルーティングを行う方法および装置
JP2019204171A (ja) * 2018-05-21 2019-11-28 東芝情報システム株式会社 半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計用プログラム
JP7009039B2 (ja) 2018-05-21 2022-01-25 東芝情報システム株式会社 半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計用プログラム

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