JP2006134624A - 電気光学装置、及び、それを用いた電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上に形成された隔壁と、隔壁に囲まれた区画領域内に設けられた発光素子の下部電極の構造において、下部電極を形成する部材平坦面の大きさが、前記隔壁の開口の大きさと同一か、それより小さく設計する。
【選択図】 図3
Description
係る構成の電気光学装置は、その製造に際して、前記区画領域内に液体材料を塗布し、この液体材料を乾燥固化させることにより有機機能層が形成される。従来の有機EL装置における膜厚ムラの問題は、この区画領域内に配した液体材料の乾燥工程において、液体の表面張力と隔壁の張力によって液体材料が隔壁側に引き寄せられた状態で固化することに起因すると考えられる。また、乾燥は塗布された液体材料の周辺部から進むので、これを補うように内部で物質の移動も起こる。その結果、特に隔壁に接触したところ、および画素周辺部での偏析が大きくなるものである。
そこで本発明の電気光学装置では、画素電極の大きさを隔壁の開口の大きさより小さくし、有機機能層の膜厚が不均一となる画素周辺部を除外できるように下部電極を構成した。その結果、下部電極上で均一な膜厚で有機機能層を形成できるようになった。したがって本構成の電気光学装置によれば、有機機能層の膜厚を均一化することができ、輝度むらのない優れた光学特性を有する電気光学装置を提供できる。
本構成によれば、薄膜トランジスタ、および、配線層を形成した後の層間絶縁膜の成膜に続いて、第1隔壁材料を成膜し、この後配線層までのコンタクトホールを開ける工程順となる。下部電極はこのコンタクトホール上に成膜し、パターニングを行えばよい。このように、本構成では素直な製造工程が進められることが長所である。また、下部電極のパターニング後、電極と隙間を空けて第2隔壁を形成すれば、これまでに述べた有機機能層形成時の効果も生かせるので、画素領域内で有機機能層の膜厚も均一となり、光学特性に優れた有機機能層を得ることができる。
[電気光学装置]
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。本発明に係わる電気光学装置は、有機EL素子(自発光素子)を基板上に配列した有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)である。この有機EL装置は、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができる。
<有機EL装置の製造方法>
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法について図4ないし図6を参照しながら説明する。本実施形態では、図1から図3に示した構成を備えた有機EL装置70を、液滴吐出法(インクジェット法)を用いて製造する方法を例示して説明する。なお、図4から図6には、説明を簡略化するために単一の画素領域71についてのみ図示しているが、各画素において共通の構成を有しているものとする。本発明に係る有機EL装置では、発光素子の光を基板側から取り出す構成(ボトムエミッション)、及び基板と反対側から取り出す構成(トップエミッション)のいずれも採用できる。本実施形態は、トップエミッション型の有機EL装置として説明する。
図7に第1の実施形態の変形例を図示した。(a)は画素電極141を第1隔壁160に接するように作製し、かつ第1隔壁160の高さに対し画素電極141の厚みを薄くしたものである。(b)は同様に画素電極141を作製し、かつ第1隔壁160の高さに対し画素電極141の厚みを同じにしたものである。これについては第1の実施形態で詳細を説明した。(c)は同様に画素電極141を作製し、第1隔壁160の厚みに対し画素電極141の厚みを厚くしたものである。
図8は、本発明の他の実施形態を示した図である。この図では基板P上の薄膜トランジスタ143等は省略し、本実施形態の主要部分のみを示した。図8(a)は、画素電極141を第1隔壁160から離すように作製し、かつ、第1隔壁160の高さに対し画素電極141の厚みを薄くしたものである。図8(b)は同様に、画素電極141を第1隔壁160から離すように作製し、かつ、第1隔壁160の高さに対し画素電極141の厚みを同一にしたものである。図8(c)は同様に、画素電極141を第1隔壁160から離すように作製し、かつ、第1隔壁160の厚みに対し画素電極141の厚みを厚くしたものである。
図9は、第3の実施形態を示した図である。本実施形態は、第1隔壁160の内部に全有機機能層140を形成するものである。従って、第1隔壁の高さは画素電極141と有機機能層140を内包出来るだけの高さが必要であり、塗布された液滴に対し親液性の効果を利用する場所は隔壁の側面163となる。隔壁の高さを得る方法には、第1隔壁の材料そのものを厚くする方法と、第1隔壁内部に凸状の層(図の点線)を形成した後、親液性の酸化シリコンなどで被覆する方法がある。後者は、画素電極形成時に同一材料である導電材料を用いて凸部を作れば、簡単に所望の高さが得られる。
図10は、本発明の第4の実施形態を示した図である。本実施形態では、画素電極141の下部に親液性の第1隔壁160を全面形成し、その上に画素電極141を設置する構成になっている。そのためドレイン電極からの電気的な接続を取るためにコンタクトホール245aを第2層間絶縁膜240のみならず第1隔壁160の層にも貫通させ、画素電極141との導通を取っている。また第2隔壁150は、画素電極141の外側に隙間162を設けて第1隔壁160上に設置する。このようにすると、親液性の第1隔壁160の表面が隙間162で露出するので、電極上のみならず隙間部分にも有機機能材料の液滴が充分に拡がることが出来る。その結果、有機機能層140の膜厚不均一箇所は電極外に追いやられ、膜厚均一性の良い発光素子を得ることができる。
図11は、本発明の第5の実施形態である。本実施形態は前述の第4の実施形態を簡略化したものであり、隔壁を1層構造とした。すなわち、図11のように画素電極141と隙間162を確保したした上で撥液性の隔壁150を設ける。隔壁150は有機樹脂を用いてパターン形成後、撥液処理をしてもよいし、最初からフッ素系の樹脂を用い撥液性の隔壁にしても良い。次に、この隔壁150内に有機機能層140を形成し、その上を対向電極154によって被覆する。
図12は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
図12に示す映像モニタ1200は、先の実施形態の有機EL装置70を備えた表示部1201と、筐体1202と、スピーカ1203等を備えて構成されている。この映像モニタ1200は、先の有機EL装置70により高画質でムラの少ない表示が可能である。
Claims (8)
- 基板上に形成された隔壁によって囲まれた区画領域内に設けられた発光素子を備えた電気光学装置において、
前記発光素子の下部電極を形成する部材平坦面の大きさが、前記隔壁の開口の大きさと同一か、それより小さいことを特徴とする電気光学装置。 - 前記下部電極が、前記第1隔壁と接していることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記下部電極と前記第1隔壁との間に隙間を設けることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記第1隔壁と第2隔壁の開口の大きさを同一とし、かつ当該第1隔壁の高さを前記下部電極の厚さより高くしたことを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
- 前記下部電極を前記第1隔壁上に設け、当該下部電極と前記第2隔壁の間に隙間を設けることによって前記第1隔壁の一部を露出させると共に、当該第1隔壁に開けられたコンタクトホールを介して前記下部電極と駆動回路の電気的導通を取ることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 層間絶縁膜上に形成された前記下部電極と、前記層間絶縁膜が前記第1隔壁を兼用することを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
- 前記第1隔壁が省略され、かつ前記下部電極と前記第2隔壁の間に隙間を設けたことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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