JP2006117876A - Phosphor paste and plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、真空紫外線励起発光素子としての蛍光体を構成する蛍光体ペースト及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルに関する。 The present invention relates to a phosphor paste constituting a phosphor as a vacuum ultraviolet ray excitation light emitting element and a plasma display panel using the phosphor paste.
近年、紫外線の発生で励起して発光する「紫外線励起発光素子」の開発が盛んに行われている。それを利用した一例として「プラズマディスプレイパネル」を挙げることができる。プラズマディスプレイパネルは、電極を備えた２枚の基板と基板間に立設された隔壁とによって形成された多数の微小放電空間（放電セル）を備え、各放電セルの内側に紫外線の照射で蛍光を発する蛍光体膜が配された構成を有している。当該プラズマディスプレイパネルにおいては、各放電セル内に希ガスを封入してその希ガスに電圧を印加することで紫外線が放出され、その紫外線が蛍光体膜に入射すると、当該蛍光体膜が励起して発光するようになっている。 In recent years, “ultraviolet-excited light-emitting elements” that emit light by being excited by the generation of ultraviolet rays have been actively developed. An example of using this is a “plasma display panel”. The plasma display panel has a large number of minute discharge spaces (discharge cells) formed by two substrates with electrodes and barrier ribs erected between the substrates, and fluorescent light is irradiated by ultraviolet irradiation inside each discharge cell. The fluorescent substance film | membrane which emits is arranged. In the plasma display panel, a rare gas is enclosed in each discharge cell and a voltage is applied to the rare gas to emit ultraviolet rays. When the ultraviolet rays enter the phosphor film, the phosphor film is excited. The light is emitted.
上記紫外線励起発光素子としての蛍光体膜は、放電セルに配される前の状態ではペースト状を呈しており、その製造過程において、放電セルを構成する基板と隔壁との内側に塗布され、その後乾燥・焼成等の各処理が施されることで所望の蛍光体膜を構成するようになっている。ここで、当該蛍光体膜は、プラズマディスプレイパネルの一構成要素として組み込まれた場合に、放電セル内で惹起される放電現象に供され、その現象が起こるごとに種々のイオンや電子の衝突を受ける。その結果、当該蛍光体膜は経時的に劣化して発光輝度が次第に低下し、製造初期の機能を十分に発揮できなくなる。 The phosphor film as the ultraviolet-excited light emitting element is in a paste form before being placed in the discharge cell, and is applied to the inside of the substrate and the barrier rib constituting the discharge cell in the manufacturing process, and thereafter A desired phosphor film is configured by performing various processes such as drying and baking. Here, when the phosphor film is incorporated as a component of a plasma display panel, it is subjected to a discharge phenomenon induced in the discharge cell, and each time the phenomenon occurs, collision of various ions and electrons occurs. receive. As a result, the phosphor film deteriorates with time, and the light emission luminance gradually decreases, so that the functions at the initial stage of production cannot be fully exhibited.
そこで、特許文献１に開示された技術では、スパッタリングにより蛍光体膜の表面に金属酸化物の被膜を形成して蛍光体膜の劣化を防止している（段落番号００１１等参照）。
しかしながら、特許文献１に開示された技術では、確かに、金属酸化物の被膜が蛍光体膜の経時的な劣化を防止するのに有効に機能してはいるが、蛍光体膜の表面にスパッタリング処理を施すという表面処理の工程が設けられているためその表面処理の工程に手間・時間がかかり、更に当該表面処理だけでは真空紫外線の吸収により蛍光体膜の輝度が劣化する可能性がある。
本発明の目的は、表面処理の工程を設けずに蛍光体膜の経時的劣化を防止することができる蛍光体ペースト及びそれを用いたプラズマディスプレイを提供することである。
However, in the technique disclosed in Patent Document 1, although the metal oxide film certainly functions effectively to prevent deterioration of the phosphor film over time, sputtering is performed on the surface of the phosphor film. Since the surface treatment step of performing the treatment is provided, the surface treatment step takes time and effort, and the luminance of the phosphor film may be deteriorated due to absorption of vacuum ultraviolet rays only by the surface treatment.
An object of the present invention is to provide a phosphor paste capable of preventing deterioration of a phosphor film over time without providing a surface treatment step, and a plasma display using the phosphor paste.
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、
無機蛍光体、バインダ樹脂及び溶剤を含有する蛍光体ペーストにおいて、
後記一般式（１）で示すフッ素化合物を含有していることを特徴としている。
ＡＦ2 … （１）
（前記一般式（１）中、「Ａ」はＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｒａのうち少なくとも１つの元素を示す。）
In order to solve the above problem, the invention according to claim 1
In a phosphor paste containing an inorganic phosphor, a binder resin and a solvent,
It is characterized by containing a fluorine compound represented by the following general formula (1).
AF 2 (1)
(In the general formula (1), “A” represents at least one element of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, and Ra.)
請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載の蛍光体ペーストにおいて、
前記無機蛍光体が液相法を用いて合成されていることを特徴としている。
The invention described in
The phosphor paste according to claim 1,
The inorganic phosphor is synthesized using a liquid phase method.
請求項３に記載の発明は、
請求項１又は２に記載の蛍光体ペーストにおいて、
前記無機蛍光体に対する前記フッ素化合物の比率が０．５〜５．０質量％であることを特徴としている。
The invention according to
In the phosphor paste according to
The ratio of the fluorine compound to the inorganic phosphor is 0.5 to 5.0% by mass.
請求項４に記載の発明のプラズマディスプレイパネルは、
放電現象が惹起される放電セルと、
前記放電セルでの放電現象に伴い励起して蛍光を発する蛍光体膜と、
を備え、
前記蛍光体膜が、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の蛍光体ペーストから構成されていることを特徴としている。
A plasma display panel according to a fourth aspect of the present invention provides:
A discharge cell in which a discharge phenomenon is caused;
A phosphor film that emits fluorescence when excited by a discharge phenomenon in the discharge cell;
With
The phosphor film is
It is comprised from the fluorescent substance paste as described in any one of Claims 1-3.
請求項１に記載の発明では、上記一般式（１）で示すフッ素化合物を含有しているから、当該蛍光体ペーストに対し焼成処理を施すことでそのフッ素化合物が無機蛍光体の表面に吸着し、表面処理を施さずに当該蛍光体膜の表層にその化合物の被膜が形成されるか、又は被膜が形成されなくても、無機蛍光体の表面であって放電現象に伴い放出される真空紫外線やイオン・電子等の攻撃を受け易い表面エネルギーの高い欠陥部分に、フッ素化合物が選択的に吸着する。そして、当該蛍光体膜を放電現象に供した場合に、それに伴い放出される真空紫外線や種々のイオン・電子等が、フッ素化合物の被膜（又はフッ素化合物そのもの）に衝突して蛍光体膜には衝突しない。以上から、請求項１に記載の発明によれば、表面処理の工程を設けずに蛍光体膜の経時的劣化を防止することができ、より詳しくは焼成処理に伴う輝度の劣化や経時的変化に伴う輝度・色度の劣化を防止することができる（下記実施例参照）。 In the invention described in claim 1, since the fluorine compound represented by the general formula (1) is contained, the fluorine compound is adsorbed on the surface of the inorganic phosphor by subjecting the phosphor paste to a baking treatment. The surface of the phosphor film is not subjected to surface treatment, or the compound film is formed on the surface of the phosphor film, or the vacuum ultraviolet ray that is emitted along with the discharge phenomenon on the surface of the inorganic phosphor even if the film is not formed. Fluorine compounds are selectively adsorbed on defects with high surface energy that are easily attacked by ions, ions and electrons. When the phosphor film is subjected to a discharge phenomenon, vacuum ultraviolet rays and various ions / electrons, etc. emitted from the phosphor film collide with the fluorine compound film (or the fluorine compound itself) and enter the phosphor film. Do not collide. As described above, according to the first aspect of the present invention, the phosphor film can be prevented from being deteriorated over time without providing a surface treatment step, and more specifically, the luminance deterioration and the change over time associated with the baking treatment can be prevented. It is possible to prevent deterioration of luminance and chromaticity associated with (see the following examples).
請求項２に記載の発明では、無機蛍光体が液相法で合成されているから、当該蛍光体ペーストの焼成処理時に無機蛍光体の表面に対し上記一般式（１）で示すフッ素化合物がそれ以外の他の化合物よりも優先的に吸着し、確実にその化合物の被膜を蛍光体膜の表層に形成することができるか、又は確実にフッ素化合物そのものを無機蛍光体の表面で表面エネルギーの高い欠陥部分に吸着させることができる。 In the second aspect of the invention, since the inorganic phosphor is synthesized by the liquid phase method, the fluorine compound represented by the general formula (1) is applied to the surface of the inorganic phosphor during the baking treatment of the phosphor paste. Adsorbs preferentially over other compounds, and can reliably form a film of the compound on the surface of the phosphor film, or the fluorine compound itself has a high surface energy on the surface of the inorganic phosphor. It can be adsorbed on the defective part.
請求項４に記載の発明では、請求項１〜３のいずれか一項に記載の蛍光体ペーストから蛍光体膜が構成されているため、表面処理の工程を設けずにプラズマディスプレイパネルの経時的劣化を防止することができる。 In the invention according to claim 4, since the phosphor film is composed of the phosphor paste according to any one of claims 1 to 3, the time course of the plasma display panel can be increased without providing a surface treatment step. Deterioration can be prevented.
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、発明の範囲は図示例に限定されない。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the scope of the invention is not limited to the illustrated examples.
始めに、本発明に係る蛍光体ペーストについて説明する。
蛍光体ペーストは、バインダ樹脂を含む溶剤中に、液相法により合成された無機蛍光体の粒子を分散したペースト状のものであり、所定のフッ素化合物が含有されているものである。
下記に、蛍光体ペーストを構成する各成分について説明する。
First, the phosphor paste according to the present invention will be described.
The phosphor paste is a paste in which particles of an inorganic phosphor synthesized by a liquid phase method are dispersed in a solvent containing a binder resin, and contains a predetermined fluorine compound.
Below, each component which comprises a fluorescent substance paste is demonstrated.
（１）バインダ樹脂
バインダ樹脂としては、エチルセルロース又はポリエチレンオキサイド（エチレンオキサイドのポリマー）が挙げられ、特にエトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5）の含有率が４９〜５４％のエチルセルロースを用いるのが好ましい。また、バインダ樹脂として光感光性樹脂を用いてもよいし、乳酸の単独重合体を用いてもよい。樹脂バインダの含有量としては０．１５〜１０質量％の範囲内が好ましい。なお、隔壁間に塗布される蛍光体ペーストの形状を整えるため、樹脂バインダの含有量はペースト粘度が高くなり過ぎない範囲内で多い方に設定するのが好ましい。
(1) As the binder resin a binder resin, it includes ethylcellulose or polyethylene oxide (a polymer of ethylene oxide), in particular the content of the ethoxy group (-OC 2 H 5) is preferably used from 49 to 54% of ethylcellulose. Further, a photosensitive resin may be used as the binder resin, or a homopolymer of lactic acid may be used. The content of the resin binder is preferably in the range of 0.15 to 10% by mass. In order to adjust the shape of the phosphor paste applied between the barrier ribs, it is preferable to set the content of the resin binder as large as possible within a range where the paste viscosity does not become too high.
（２）溶剤
溶剤は、バインダ樹脂との相溶性が良好なものであれば、特に限定されるものではない。このような溶剤の具体例としては、酢酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、カルビトール等のジエチレングリコールアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル等の乳酸エステル類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、ブタン酸メチル（酪酸メチル）、ブタン酸エチル（酪酸エチル）、ブタン酸プロピル（酪酸プロピル）、ブタン酸イソプロピル（酪酸イソプロピル）等の脂肪族カルボン酸のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等のエステル類、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、テルピネオール等のモノテルペンアルコール類等が挙げられる。これらの溶剤は、単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
(2) Solvent The solvent is not particularly limited as long as it has good compatibility with the binder resin. Specific examples of such solvents include butyl acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monobutyl ether, Ethylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate and ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol alkyl ethers such as carbitol, diethylene glycol dialkyl such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether Ethers, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dipropyl ether, propylene glycol Propylene glycol dialkyl ethers such as dibutyl ether, propylene glycol monoalkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate Salts, lactate esters such as methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, methyl formate, ethyl formate, amyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, isoamyl acetate Fats such as hexyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, methyl butanoate (methyl butyrate), ethyl butanoate (ethyl butyrate), propyl butanoate (propyl butyrate), isopropyl butanoate (isopropyl butyrate) Esters of aromatic carboxylic acids, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone and cyclohexanone, ethyl 2-hydroxypropionate, 2-hydroxy-2 -Methylpropionic acid Chill, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutyrate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, Esters such as 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, 3-methyl-3-methoxybutyl butyrate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, N-methylpyrrolidone, N, Examples thereof include amides such as N-dimethylformamide, N-methylformamide and N, N-dimethylacetamide, and monoterpene alcohols such as terpineol. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
溶剤の含有割合は、蛍光体ペーストの可塑性又は流動性（粘度）が後述のプラズマディスプレイパネルの製造過程における成形処理又は塗布処理に適したものとなる範囲で適宜調製することができる。 The content ratio of the solvent can be appropriately adjusted within a range in which the plasticity or fluidity (viscosity) of the phosphor paste is suitable for the molding process or the coating process in the manufacturing process of the plasma display panel described later.
（３）無機蛍光体
無機蛍光体として以下のものを使用するのが好ましく、無機蛍光体を作製する際には、その作製しようとしている無機蛍光体を得ることができる蛍光体原料を用いることが好ましい。
(3) Inorganic phosphor It is preferable to use the following as the inorganic phosphor, and when producing the inorganic phosphor, it is necessary to use a phosphor material capable of obtaining the inorganic phosphor to be produced. preferable.
赤色の無機蛍光体として、例えば、（Ｙ1-xＥｕx）2Ｏ3（０．０２５≦ｘ≦０．０６０），（Ｙ1-xＥｕx）ＢＯ3（０．０２５≦ｘ≦０．０６０），Ｙ2ＳｉＯ4Ｅｕ，（Ｙ，Ｇｄ，Ｅｕ）ＢＯ3，Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ4：Ｅｕ，ＧｄＢＯ3：Ｅｕ，ＳｃＢＯ3：Ｅｕ，一般式Ｌｍ2Ｏ3：Ｒ（「Ｌｍ」はＧｄ，Ｙ，Ｌａ，Ｌｕのうち少なくとも１種であり、「Ｒ」はＥｕ，Ｔｂ，Ｐｒ，Ｄｙ，Ｔｍ，Ｃｅ，Ｙｂのうち少なくとも１種である。）で表される群から選ばれた少なくとも１種を挙げることができる。 Examples of the red inorganic phosphor include (Y 1-x Eu x ) 2 O 3 (0.025 ≦ x ≦ 0.060), (Y 1-x Eu x ) BO 3 (0.025 ≦ x ≦ 0). .060), Y 2 SiO 4 Eu, (Y, Gd, Eu) BO 3 , Y (P, V) O 4 : Eu, GdBO 3 : Eu, ScBO 3 : Eu, general formula Lm 2 O 3 : R ( “Lm” is at least one of Gd, Y, La, and Lu, and “R” is at least one of Eu, Tb, Pr, Dy, Tm, Ce, and Yb). The at least 1 sort (s) chosen from can be mentioned.
緑色の無機蛍光体として、例えば、Ｚｎ2ＳｉＯ4：０．７〜７Ｍｎ，ＢａＭｇＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ，ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ，ＹＢＯ3：Ｔｂ，（Ｂａ，Ｓｒ，Ｍｇ）Ｏ・５Ａｌ2Ｏ3：Ｍｎ，ＢａＭｇＡｌ16Ｏ26：Ｅｕ，Ｍｎ、一般式（１−ａ）（ｂＭＯ・６Ａｌ2Ｏ3）・ａ（ＭＭｇ1-cＭｎcＡｌ10Ｏ17）（「Ｍ」はＢａ，Ｓｒのうち少なくとも１種であり、「ａ，ｂ，ｃ」はそれぞれ０．０５≦ａ≦１．０，０．６４≦ｂ≦０．８６，０．０５≦ｃ≦１．０，０．０５≦ａ・ｃ≦０．３の条件を満たす数）のＭｎ付活アルミン酸塩、一般式（ＭｘＣｅｙＴｂｚ）ＰＯ4（「Ｍ」はＬａ，Ｙ，Ｃｄのうち少なくとも１種であり、「ｘ，ｙ，ｚ」はそれぞれ０．５０≦ｘ≦０．９０，０≦ｙ≦０．３，０．０４≦ｚ≦０．１６）の群から選ばれた少なくとも１種を挙げることができる。 Examples of the green inorganic phosphor include, for example, Zn 2 SiO 4 : 0.7 to 7 Mn, BaMgAl 12 O 19 : Mn, BaAl 12 O 19 : Mn, YBO 3 : Tb, (Ba, Sr, Mg) O · 5Al 2 O 3 : Mn, BaMgAl 16 O 26 : Eu, Mn, general formula (1-a) (bMO · 6Al 2 O 3 ) · a (MMg 1-c Mn c Al 10 O 17 ) (“M” represents Ba, At least one of Sr, and “a, b, c” are 0.05 ≦ a ≦ 1.0, 0.64 ≦ b ≦ 0.86, 0.05 ≦ c ≦ 1.0, 0. 05 ≦ a · c ≦ 0.3) Mn-activated aluminate, general formula (MxCeyTbz) PO 4 (“M” is at least one of La, Y, and Cd, and “x , Y, z ”are groups of 0.50 ≦ x ≦ 0.90, 0 ≦ y ≦ 0.3, 0.04 ≦ z ≦ 0.16), respectively. At least one selected from the above.
青色の無機蛍光体としては、例えば、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ，Ｂａ1-xＥｕxＡｌ10Ｏ17（０．０４５≦ｘ≦０．２５），Ｂａ1-x-yＳｒxＥｕyＭｇＡｌ10Ｏ17（０．１≦ｘ+ｙ≦０．６），３（Ｂａ，Ｍｇ）Ｏ・８Ａｌ2Ｏ3：Ｅｕ，ＣａＷＯ4：Ｐｂ，Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ，ＹＰＶＯ4の群から選ばれた少なくとも１種を挙げることができる。 Examples of the blue inorganic phosphor include BaMgAl 14 O 23 : Eu, Ba 1-x Eu x Al 10 O 17 (0.045 ≦ x ≦ 0.25), Ba 1-xy Sr x Eu y MgAl 10 O 17 (0.1 ≦ x + y ≦ 0.6), 3 (Ba, Mg) O.8Al 2 O 3 : Eu, CaWO 4 : Pb, Y 2 SiO 5 : Ce, YPVO 4 At least one can be mentioned.
また、上記の無機蛍光体以外に、ｍＭ１Ｏ・ｎＭ２Ｏ・（Ｍ３2-2XＰxＡｌx）Ｏ4（「Ｍ１」はＣａ，Ｓｒ，Ｂａのうち少なくとも１種であり、「Ｍ２」はＭｇ，Ｚｎのうち少なくとも１種であり、「Ｍ３」はＳｉ，Ｇｅのうち少なくとも１種であり、「ｍ，ｎ，ｘ」はそれぞれ０．５≦ｍ≦３．５，０．５≦ｎ≦２．５，０＜ｘ≦０．２）で表される化合物を、付活剤として挙げられるＣｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｍｎからなる群から選ばれた少なくとも１種で付活したものを挙げることができる。 In addition to the inorganic phosphor, mM1O · nM2O · (M3 2-2X P x Al x) O 4 ( "M1" is Ca, Sr, at least one kind of Ba, "M2" is Mg, At least one of Zn, “M3” is at least one of Si and Ge, and “m, n, x” are 0.5 ≦ m ≦ 3.5 and 0.5 ≦ n ≦ 2, respectively. .5,0 <x ≦ 0.2) from Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Mn, which are mentioned as activators. A material activated with at least one selected from the group consisting of:
（４）フッ素化合物
フッ素化合物として下記一般式（１）で示す化合物を適用するのがよい。
ＡＦ2 … （１）
上記一般式（１）中、「Ａ」はＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｒａから選ばれるいずれかの元素を示している。
なお、これらフッ素化合物の中でも「ＭｇＦ2」を適用するのがよい。
(4) Fluorine compound A compound represented by the following general formula (1) is preferably used as the fluorine compound.
AF 2 (1)
In the general formula (1), “A” indicates any element selected from Be, Mg, Ca, Sr, Ba, and Ra.
Among these fluorine compounds, “MgF 2 ” is preferably applied.
フッ素化合物として「ＢｅＦ2」を適用する場合には、炭酸ベリリウムを白金皿の中でフッ化水素酸と加熱すると無色正方晶系結晶が得られるので、当該無色正方晶系結晶をフッ素化合物として適用するのがよい。 When “BeF 2 ” is applied as a fluorine compound, a colorless tetragonal crystal is obtained when beryllium carbonate is heated with hydrofluoric acid in a platinum dish. Therefore, the colorless tetragonal crystal is applied as a fluorine compound. It is good to do.
フッ素化合物として「ＭｇＦ2」を適用する場合には、炭酸マグネシウムを白金皿の中でフッ化水素酸と加熱すると無色正方晶系結晶が得られるので、当該無色正方晶系結晶をフッ素化合物として適用するのがよい。 When “MgF 2 ” is used as the fluorine compound, colorless tetragonal crystals can be obtained by heating magnesium carbonate with hydrofluoric acid in a platinum dish. Therefore, the colorless tetragonal crystals are applied as fluorine compounds. It is good to do.
フッ素化合物として「ＣａＦ2」を適用する場合には、炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムをフッ化水素酸で中和した溶液を濾過すると無色立方晶結晶が得られるので、当該無色立方晶結晶をフッ素化合物として適用するのがよい。 When “CaF 2 ” is applied as the fluorine compound, a colorless cubic crystal is obtained by filtering a solution obtained by neutralizing calcium carbonate or calcium hydroxide with hydrofluoric acid. It is good to apply as.
フッ素化合物として「ＳｒＦ2」を適用する場合には、炭酸ストロンチウム又は水酸化ストロンチウムをフッ化水素酸で中和した溶液を濾過すると無色立方晶結晶が得られるので、当該無色立方晶結晶をフッ素化合物として適用するのがよい。 When “SrF 2 ” is applied as the fluorine compound, a colorless cubic crystal is obtained by filtering a solution obtained by neutralizing strontium carbonate or strontium hydroxide with hydrofluoric acid. It is good to apply as.
フッ素化合物として「ＢａＦ2」を適用する場合には、炭酸バリウム又は水酸化バリウムをフッ化水素酸で中和した溶液を濾過すると無色立方晶結晶が得られるので、当該無色立方晶結晶をフッ素化合物として適用するのがよい。 When “BaF 2 ” is applied as the fluorine compound, a colorless cubic crystal is obtained by filtering a solution obtained by neutralizing barium carbonate or barium hydroxide with hydrofluoric acid. It is good to apply as.
上記フッ素化合物を蛍光体ペースト中に含有させる場合には、それらフッ素化合物の結晶をボールミル，ビーズミル等の装置を利用して小粒化し、各粒子の粒径を０．１〜５０μｍ（好ましくは０．５〜１０μｍ）とするのがよい。 When the above-mentioned fluorine compound is contained in the phosphor paste, the crystals of the fluorine compound are reduced into particles using an apparatus such as a ball mill or a bead mill, and the particle diameter of each particle is 0.1 to 50 μm (preferably 0. 0. 5 to 10 μm).
更に、上記フッ素化合物を蛍光体ペースト中に含有させる場合には、無機蛍光体に対してフッ素化合物を０．５〜５．０質量％の比率で含有させるのがよい。 Furthermore, when the above-mentioned fluorine compound is contained in the phosphor paste, the fluorine compound is preferably contained at a ratio of 0.5 to 5.0% by mass with respect to the inorganic phosphor.
（５）その他
蛍光体ペーストには、上記（１）〜（４）に示す物質の他に、任意成分として各種の添加剤を配合・含有させてもよい。このような添加剤としては、例えば界面活性剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、低融点ガラス、顔料、染料等を挙げることができる。更に、蛍光体ペーストには、光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂、多官能（メタ）アクリレート等を組み合わせて配合・含有させてもよく、この場合当該蛍光体ペーストに対し感光性を付与することができる。
(5) Others In addition to the substances shown in (1) to (4) above, various additives may be blended and contained as optional components in the phosphor paste. Examples of such additives include surfactants, development accelerators, adhesion assistants, antihalation agents, storage stabilizers, antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, low melting glass, pigments, dyes and the like. Can be mentioned. Further, the phosphor paste may contain a photopolymerization initiator, an alkali-soluble resin, a polyfunctional (meth) acrylate, or the like in combination. In this case, the phosphor paste may be given photosensitivity. it can.
続いて、蛍光体ペーストの製造方法について説明する。 Then, the manufacturing method of fluorescent substance paste is demonstrated.
蛍光体ペーストは、（Ａ）無機蛍光体の構成金属元素を含む溶液を混合して無機蛍光体の前駆体を形成する前駆体形成工程と、（Ｂ）前駆体形成工程の後に当該前駆体形成工程により得られた前駆体を乾燥する乾燥工程と、（Ｃ）乾燥工程の後に乾燥済みの前駆体を焼成して無機蛍光体を形成する無機蛍光体形成工程と、（Ｄ）無機蛍光体形成工程の後に当該無機蛍光体形成工程で得られた無機蛍光体を溶剤（バインダ樹脂を含む。）中に分散させて蛍光体ペーストを調製する蛍光体ペースト調製工程と、を含む製造方法により得られる。
下記に、蛍光体ペーストの製造方法を構成する各工程について説明する。
The phosphor paste includes (A) a precursor formation step in which a solution containing the constituent metal elements of the inorganic phosphor is mixed to form a precursor of the inorganic phosphor, and (B) the precursor formation after the precursor formation step. A drying step of drying the precursor obtained by the steps, (C) an inorganic phosphor forming step of firing the dried precursor after the drying step to form an inorganic phosphor, and (D) inorganic phosphor formation And a phosphor paste preparation step of preparing a phosphor paste by dispersing the inorganic phosphor obtained in the inorganic phosphor formation step in a solvent (including a binder resin) after the step. .
Below, each process which comprises the manufacturing method of fluorescent substance paste is demonstrated.
（Ａ）前駆体形成工程
前駆体形成工程では、液相法（液相合成法）により前駆体を形成する。適用可能な液相法に特に限定はないが、無機蛍光体の種類・用途に応じて共沈法を用いてもよいし、ゾルゲル法や反応晶析法を用いてもよい。その中でも共沈法や反応晶析法を用いることが好ましく、特に反応晶析法を用いるのが好ましい。
(A) Precursor forming step In the precursor forming step, a precursor is formed by a liquid phase method (liquid phase synthesis method). Although there is no particular limitation on the applicable liquid phase method, a coprecipitation method may be used according to the type and application of the inorganic phosphor, or a sol-gel method or a reaction crystallization method may be used. Of these, the coprecipitation method and the reaction crystallization method are preferably used, and the reaction crystallization method is particularly preferably used.
「共沈法」を適用する場合は、２液以上の蛍光体原料の溶液を溶媒中に添加するという態様が、微小で粒度分布の狭い無機蛍光体を製造するのに適している。この場合、作製しようとする無機蛍光体の種類やその無機蛍光体に発揮させようとする性能に合わせて、蛍光体原料の溶液の添加速度や添加位置、蛍光体原料の溶液と溶媒との攪拌条件（ｐＨを含む。）等の諸物性値を調整するのが好ましい。 In the case of applying the “coprecipitation method”, an embodiment in which two or more phosphor raw material solutions are added to a solvent is suitable for producing a fine inorganic phosphor having a narrow particle size distribution. In this case, according to the type of inorganic phosphor to be produced and the performance to be exhibited by the inorganic phosphor, the addition rate and position of the phosphor raw material solution, and the stirring of the phosphor raw material solution and the solvent It is preferable to adjust various physical properties such as conditions (including pH).
「反応晶析法」とは、液相中又は固相中で原料溶液又は原料ガスを混合することで無機蛍光体の前駆体を合成する製法である。前駆体形成工程では、液相中で原料溶液を混合させるのがよい。反応晶析法による前駆体形成工程では、冷却、蒸発、ｐＨ調節、濃縮等による物理的又は化学的な環境の変化を生じる場合や、化学反応によって混合系の状態に変化を生じる場合等に液相中から固相が析出し（晶析現象）、当該前駆体形成工程は、晶析現象を誘発する物理的・化学的操作による工程となっている。 The “reaction crystallization method” is a production method in which a precursor of an inorganic phosphor is synthesized by mixing a raw material solution or a raw material gas in a liquid phase or a solid phase. In the precursor forming step, the raw material solution is preferably mixed in the liquid phase. In the precursor formation process by reaction crystallization, liquid is used when changes in the physical or chemical environment occur due to cooling, evaporation, pH adjustment, concentration, or when the state of the mixed system changes due to a chemical reaction. A solid phase is precipitated from the phase (crystallization phenomenon), and the precursor formation process is a process by physical and chemical operations that induces the crystallization phenomenon.
反応晶析法を適用する際の溶媒は反応原料が溶解すれば何を用いてもよいが、過飽和度制御のしやすさの観点から水を当該溶媒として用いるのが好ましい。複数の反応原料を用いる場合は、原料の添加順序は同時でもよいし、異なっていてもよく、活性によって適切な順序を適宜組み立てることができる。 Any solvent may be used as the solvent for applying the reaction crystallization method as long as the reaction raw material dissolves, but water is preferably used as the solvent from the viewpoint of ease of supersaturation control. When a plurality of reaction raw materials are used, the addition order of the raw materials may be the same or different, and an appropriate order can be appropriately assembled depending on the activity.
反応晶析法を用いて前駆体を形成する場合には、いずれの工程においても、反応原料の添加速度、攪拌速度、反応液の温度、ｐＨ等を調整してもよいし、反応中に超音波を照射してもよいし、粒径制御のために界面活性剤やポリマー等を添加してもよい。さらに、原料を添加し終えたら、必要に応じて溶液を濃縮又は熟成のうちどちらか一方又は両方の操作を行ってもよい。 When forming the precursor using the reaction crystallization method, the reaction material addition rate, stirring rate, reaction solution temperature, pH, etc. may be adjusted in any step, A sound wave may be irradiated, or a surfactant, polymer, or the like may be added for particle size control. Furthermore, when the addition of the raw materials is completed, either or both of the operations of concentration and aging of the solution may be performed as necessary.
前駆体形成工程で形成される前駆体は無機蛍光体の中間生成物であり、当該前駆体の結晶を所定温度で焼成することで無機蛍光体が形成されるようになっている。 The precursor formed in the precursor forming step is an intermediate product of an inorganic phosphor, and the inorganic phosphor is formed by firing the crystals of the precursor at a predetermined temperature.
無機蛍光体の特性（焼成後に得られる粒子の径分布や発光特性等）は、前駆体の性状に大きく左右されるため、前駆体形成工程では前駆体を十分小さくする必要があり、また、前駆体形成工程では前駆体同士の凝集を防止する必要もある。そのため、保護コロイドの存在下で当該前駆体形成工程の処理をおこなってもよい。具体的には、原料溶液の１つ以上又は全部に保護コロイドを混合する。この場合、前駆体の粒子径分布の制御や副塩等の不純物の排除に十分に配慮しなければならない。 Since the properties of the inorganic phosphor (such as the particle size distribution and light emission properties obtained after firing) are greatly affected by the properties of the precursor, it is necessary to make the precursor sufficiently small in the precursor formation step. In the body forming step, it is also necessary to prevent aggregation of the precursors. Therefore, you may perform the process of the said precursor formation process in presence of a protective colloid. Specifically, the protective colloid is mixed with one or more or all of the raw material solutions. In this case, sufficient consideration must be given to the control of the particle size distribution of the precursor and the elimination of impurities such as secondary salts.
前駆体形成工程で適用可能な保護コロイドとしては、天然、人工を問わず各種高分子化合物を使用することができ、特にタンパク質を使用するのが好ましく、その中でもゼラチンを使用するのが好ましい。その際の保護コロイドとして、平均分子量が１０，０００以上、好ましくは１０，０００以上３００，０００以下、より好ましくは１０，０００以上３０，０００以下のものであるのがよい。 As the protective colloid applicable in the precursor formation step, various polymer compounds can be used regardless of whether they are natural or artificial, and it is particularly preferable to use protein, and among them, gelatin is preferable. In this case, the protective colloid has an average molecular weight of 10,000 or more, preferably 10,000 or more and 300,000 or less, more preferably 10,000 or more and 30,000 or less.
（Ｂ）乾燥工程
乾燥工程では、前駆体形成工程で得られた前駆体を所定の乾燥温度で乾燥させる。乾燥温度としては、２０〜３００℃の範囲とするのが好ましく、９０〜２００℃の範囲とするのが更に好ましい。乾燥工程では前駆体を直接的に乾燥させてもよく、そのような乾燥方法としては、エバポレーション又は顆粒化しながら乾燥させるスプレードライ方式の方法を適用することができる。
(B) Drying step In the drying step, the precursor obtained in the precursor forming step is dried at a predetermined drying temperature. The drying temperature is preferably in the range of 20 to 300 ° C, more preferably in the range of 90 to 200 ° C. In the drying step, the precursor may be directly dried. As such a drying method, a spray-drying method in which drying is performed while evaporation or granulation can be applied.
なお、乾燥工程の前に、必要に応じて不要な塩類を濾過・洗浄や膜分離等の既存の方法で除去することが好ましく、更に濾過や遠心分離等の方法で前駆体を液体から分離することが好ましい。 In addition, it is preferable to remove unnecessary salts by an existing method such as filtration / washing or membrane separation before the drying step, and the precursor is further separated from the liquid by a method such as filtration or centrifugation. It is preferable.
（Ｃ）無機蛍光体形成工程
無機蛍光体形成工程では、上記乾燥工程で乾燥済みの前駆体を焼成処理することにより無機蛍光体を形成させる。
(C) Inorganic phosphor forming step In the inorganic phosphor forming step, the inorganic phosphor is formed by firing the precursor that has been dried in the drying step.
例えば、乾燥済みの前駆体をアルミナポートに充填して所定のガス雰囲気中で当該前駆体を所定の温度で焼成することで、所望の無機蛍光体を形成することができる。無機蛍光体形成工程では、焼成温度を１０００〜１７００℃の範囲とし、焼成時間を０．５〜４０時間とし、焼成回数を１回とするのがよい。焼成時間は無機蛍光体の種類に合わせて適宜調整してもよい。焼成中のガス雰囲気は、必要に応じて不活性ガス雰囲気（窒素雰囲気等）としてもよいし、大気ガス雰囲気としてよいし、酸素ガス雰囲気としてよいし、還元ガス雰囲気としてもよいし、これらガス雰囲気を組み合わせた雰囲気としてもよい。焼成装置については特に限定はしないが、箱型炉、坩堝炉、ロータリーキルン等の装置を当該焼成装置として用いるのが好ましい。 For example, a desired inorganic phosphor can be formed by filling a dried precursor into an alumina port and firing the precursor at a predetermined temperature in a predetermined gas atmosphere. In the inorganic phosphor forming step, the firing temperature is preferably in the range of 1000 to 1700 ° C., the firing time is 0.5 to 40 hours, and the number of firings is preferably one. The firing time may be appropriately adjusted according to the type of inorganic phosphor. The gas atmosphere during firing may be an inert gas atmosphere (nitrogen atmosphere or the like), an air gas atmosphere, an oxygen gas atmosphere, a reducing gas atmosphere, or these gas atmospheres as necessary. It is good also as the atmosphere which combined. The baking apparatus is not particularly limited, but a box furnace, a crucible furnace, a rotary kiln or the like is preferably used as the baking apparatus.
なお、焼成処理を終了したら、得られた焼成物に対し分散、水洗、乾燥、篩い分け等の処理を施してもよい。 When the firing process is completed, the obtained fired product may be subjected to treatments such as dispersion, washing, drying, and sieving.
（Ｄ）蛍光体ペースト調製工程
蛍光体ペースト調製工程では、バインダ樹脂を溶剤に溶解させてバインダ組成物を作製し、その後無機蛍光体形成工程により得られた焼成物（無機蛍光体）と上記フッ素化合物とを上記バインダ組成物中に分散処理し、蛍光体ペーストを調製する。この際、必要に応じて添加剤を添加してもよい。
(D) Phosphor paste preparation step In the phosphor paste preparation step, the binder resin is dissolved in a solvent to prepare a binder composition, and then the fired product (inorganic phosphor) obtained by the inorganic phosphor formation step and the fluorine The compound is dispersed in the binder composition to prepare a phosphor paste. At this time, an additive may be added as necessary.
なお、無機蛍光体の形成方法としての「固相法」は、焼成処理と解砕処理との繰り返しで無機蛍光体の構成成分を拡散させて均一組成へと導く製法であるため、その粒子の表面が粒子間で不均一であり、粒子内であってもその表面が一律に平滑であるとは言えず、当該無機蛍光体は表面が不均一な形態を呈している。そのため、固相法で形成された無機蛍光体は、表面エネルギーが高くてバインダ樹脂に馴染みにくく、バインダ組成物に対し分散させるのが困難となる。当該無機蛍光体をバインダ組成物に分散させた場合には凝集物が生成され易く、その結果、バインダ樹脂の組成選択と無機蛍光体及びバインダ樹脂の調製に時間を要し、安定な分散液を得にくい。 The “solid phase method” as a method for forming the inorganic phosphor is a production method in which the constituent components of the inorganic phosphor are diffused by repeating the firing treatment and the crushing treatment to lead to a uniform composition. The surface is uneven among the particles, and even within the particles, the surface cannot be said to be uniformly smooth, and the inorganic phosphor has a non-uniform surface shape. For this reason, the inorganic phosphor formed by the solid phase method has high surface energy, is not easily adapted to the binder resin, and is difficult to disperse in the binder composition. When the inorganic phosphor is dispersed in the binder composition, aggregates are likely to be generated. As a result, it takes time to select the composition of the binder resin and prepare the inorganic phosphor and the binder resin. Hard to get.
他方、無機蛍光体（の前駆体）の形成方法として「液相法」を適用した場合には、元々の前駆体が均一な成分で粒子が形成されるため、その前駆体から形成された無機蛍光体は、粒子間及び粒子内のいずれでも表面状態の均一性が固相法で形成された無機蛍光体より優れている。そのため、液相法で形成された無機蛍光体は、表面エネルギーが低くてバインダ樹脂に馴染み易く、バインダ樹脂に対し分散させるのが容易である。以上から、液相法を用いて、本発明に係る蛍光体ペーストの一成分としての無機蛍光体を合成するのがよい。 On the other hand, when the “liquid phase method” is applied as a method of forming the inorganic phosphor (precursor thereof), the original precursor forms particles with a uniform component, and thus the inorganic formed from the precursor. The phosphor is superior to the inorganic phosphor formed by the solid phase method in the uniformity of the surface state both between and within the particles. Therefore, the inorganic phosphor formed by the liquid phase method has a low surface energy and is easily adapted to the binder resin, and can be easily dispersed in the binder resin. From the above, it is preferable to synthesize an inorganic phosphor as one component of the phosphor paste according to the present invention using a liquid phase method.
以上の前駆体形成工程から蛍光体ペースト調製工程までの各処理をおこなうことで、本発明に係る蛍光体ペーストを製造することができる。当該蛍光体ペーストでは、上記一般式（１）で示すフッ素化合物を含有しているから、当該蛍光体ペーストに対し焼成処理を施して蛍光体膜を形成する場合に、そのフッ素化合物が無機蛍光体の表面に吸着し、表面処理を施さずに当該蛍光体膜の表面にその化合物の被膜が形成されるか、又は被膜が形成されなくても、無機蛍光体の表面であって放電現象に伴い放出される真空紫外線やイオン・電子等の攻撃を受け易い表面エネルギーの高い欠陥部分に、フッ素化合物が選択的に吸着する。 The phosphor paste according to the present invention can be manufactured by performing each process from the precursor formation step to the phosphor paste preparation step. Since the phosphor paste contains the fluorine compound represented by the general formula (1), when the phosphor paste is fired to form a phosphor film, the fluorine compound is an inorganic phosphor. The film of the compound is formed on the surface of the phosphor film without being surface-treated, or even if the film is not formed, the surface of the inorganic phosphor is accompanied by a discharge phenomenon. A fluorine compound is selectively adsorbed on a defect portion having a high surface energy that is susceptible to attacks such as vacuum ultraviolet rays and ions / electrons emitted.
この場合、無機蛍光体が液相法を用いて合成されているから、無機蛍光体の表面に対しフッ素化合物がそれ以外の他の化合物よりも優先的に吸着し、確実にその化合物の被膜を蛍光体膜の表層に形成することができるか、又は確実にフッ素化合物そのものを無機蛍光体の表面で表面エネルギーの高い欠陥部分に吸着させることができる。そして、当該蛍光体膜を放電現象に供した場合に、それに伴い放出される真空紫外線や種々のイオン・電子等が、フッ素化合物の被膜（又はフッ素化合物そのもの）に衝突して蛍光体膜には衝突しない。以上から、表面処理の工程を設けずに蛍光体膜の経時的劣化を防止することができ、より詳しくは焼成処理に伴う輝度の劣化や経時的変化に伴う輝度・色度の劣化を防止することができる（下記実施例参照）。 In this case, since the inorganic phosphor is synthesized using a liquid phase method, the fluorine compound is preferentially adsorbed on the surface of the inorganic phosphor over other compounds, and the film of the compound is surely formed. It can be formed on the surface layer of the phosphor film, or the fluorine compound itself can be reliably adsorbed to a defective portion having a high surface energy on the surface of the inorganic phosphor. When the phosphor film is subjected to a discharge phenomenon, vacuum ultraviolet rays and various ions / electrons etc. that are emitted from the phosphor film collide with the coating film of the fluorine compound (or the fluorine compound itself). Do not collide. From the above, it is possible to prevent deterioration of the phosphor film over time without providing a surface treatment step, and more specifically, it is possible to prevent deterioration of luminance due to baking processing and deterioration of luminance / chromaticity due to change over time. (See examples below).
次に、図２を参照しながら本発明に係るプラズマディスプレイパネルについて説明する。
なお、プラズマディスプレイパネルには、電極の構造及び動作モードから大別すると、直流電圧を印加する「ＤＣ型」と交流電圧を印加する「ＡＣ型」とがあるが、図２にはＡＣ型プラズマディスプレイパネルの概略構成の一例を示した。
Next, the plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIG.
There are two types of plasma display panels, “DC type” for applying a DC voltage and “AC type” for applying an AC voltage, depending on the electrode structure and operation mode. An example of the schematic configuration of the display panel is shown.
プラズマディスプレイパネル８は、表示側に配置される前面板１０と前面板１０に対向する背面板２０とを備えている。
The plasma display panel 8 includes a
前面板１０は、可視光を透過する性質を具備し、その基板上に各種の情報表示を行うものである。当該前面板１０はプラズマディスプレイパネル１の表示画面として機能するものであり、ソーダライムガラス（青板ガラス）等の可視光を透過する材料で構成されている。前面板１０の厚さは１〜８ｍｍの範囲であることが好ましく、２ｍｍの範囲であることが更に好ましい。
The
前面板１０には表示電極１１、誘電体層１２、保護層１３等が設けられている。
The
表示電極１１は前面板１０の背面板２０と対向する面に複数設けられており、各表示電極１１は規則正しく配置されている。表示電極１１は、幅広の帯状に形成された透明電極１１ａと、同じく帯状に形成されたバス電極１１ｂとを備えており、透明電極１１ａ上にバス電極１１ｂが積層された構造を有している。バス電極１１ｂはその幅が透明電極１１ａよりも狭く形成されている。表示電極１１については、２つの表示電極１１，１１で組が構成されており、各表示電極１１は所定の放電ギャップがあけられた状態で対向配置されている。
A plurality of
透明電極１１ａとしてはネサ膜等の透明電極を使用することができ、そのシート抵抗が１００Ω以下であることが好ましい。透明電極１１ａは１０〜２００μｍの範囲の幅を有しているのが好ましい。
A transparent electrode such as a nesa film can be used as the
バス電極１１ｂは抵抗を下げるためのものであり、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒのスパッタリング等により形成されている。バス電極１１ｂは５〜５０μｍの範囲の幅を有しているのが好ましい。
The
誘電体層１２は前面板１０の表示電極１１が配された表面全体を覆っている。誘電体層１２は低融点ガラス等の誘電物質から形成されている。誘電体層１２は２０〜３０μｍの範囲の厚さを有しているのが好ましい。誘電体層１２の表面は保護層１３により全体的に覆われている。保護層１３としてはＭｇＯ膜を使用することができる。保護層１３は０．５〜５０μｍの範囲の厚さを有しているのが好ましい。
The
背面板２０にはアドレス電極２１、誘電体層２２、隔壁３０、蛍光体膜３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂ等が設けられている。
The
背面板２０は、前面板１０と同様に、ソーダライムガラス等で構成されている。背面板２０の厚さは１〜８ｍｍの範囲であることが好ましく、２ｍｍ程度であることが更に好ましい。
The
アドレス電極２１は、背面板２０上で前面板２０と対向する面上に複数設けられている。アドレス電極２１も、透明電極１１ａやバス電極１１ｂと同様に帯状に形成されている。アドレス電極２１は、表示電極１１と直交した状態で複数設けられており、各アドレス電極２１が互いに平行に等間隔をあけて配置されている。
A plurality of
アドレス電極２１はＡｇ厚膜電極等の金属電極で構成されている。アドレス電極２１の幅は１００〜２００μｍの範囲であることが好ましい。
The
誘電体層２２は、背面板２０のアドレス電極２１が配された表面全体を覆っている。誘電体層２２は低融点ガラス等の誘電物質から形成されている。誘電体層２２は厚さが２０〜３０μｍの範囲であることが好ましい。
The
誘電体層２２上のアドレス電極２１の両側方には、長尺に形成された隔壁３０が配されている。隔壁３０は背面板２０側から前面板１０側に立設されており、表示電極１１と直交している。隔壁３０は低融点ガラス等の誘電物質から形成されている。隔壁３０の幅は１０〜５００μｍの範囲であることが好ましく、１００μｍ程度であることがより好ましい。隔壁３０の高さ（厚み）は、通常、１０〜１００μｍの範囲であり、５０μｍ程度であることが好ましい。
On both sides of the
上記隔壁３０は、背面板２０と前面板１０との間をストライプ状に区画した複数の微少放電空間３１（以下「放電セル３１」という。）を形成しており、各放電セル３１の内側には、Ａｒ，Ｘｅ，Ｈｅ，Ｎｅ，Ｘｅ−Ｎｅ等の希ガスを主体とする放電ガスが封入されている。
The
放電セル３１には、赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）のいずれかに発光する蛍光体から構成された蛍光体膜３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂのいずれかが規則正しい順序で設けられている。１つの放電セル３１内には、平面視において表示電極１１とアドレス電極２１が交差する点が多数存在するようになっており、これら１つ１つの交点を最小の発光単位として、左右方向に連続するＲ，Ｇ，Ｂの３つの発光単位により１画素を構成している。各蛍光体膜３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂの厚さは特に限定されないが、５〜５０μｍの範囲であることが好ましい。
In the
蛍光体膜３５Ｇ，３５Ｒ，３５Ｂは本発明に係る上記蛍光体ペーストから構成されており、その形成に当たっては、当該蛍光体ペーストを、放電セル３１の側面と底面とに塗布するか又は放電セル３１の内部に充填してその後乾燥及び焼成することにより、放電セル３１の側面と底面とに蛍光体膜３５Ｇ，３５Ｒ，３５Ｂを形成することができる。
The
なお、蛍光体ペーストを放電セル３１（３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂ）に塗布又は充填する際には、スクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法、フォトレジストフィルム法、インクジェット法等種々の方法を適用することができる。例えばスクリーン印刷法によって蛍光体ペーストをガラス基板の表面に所定のパターンに印刷し、形成された塗布膜を乾燥させることにより、本発明の蛍光体ペーストによるパターン層を形成することができる。このスクリーン印刷法は、蛍光体やガラスフリットが無機物質として含有されている組成物において特に有用な塗布法である。また、印刷形成された塗布膜の乾燥条件としては、例えば、加熱温度を６０〜１００℃とし、加熱時間を５〜３０分とするのがよい。また、乾燥後におけるパターン層の厚さは例えば５〜２００μｍとされる。 In addition, when applying or filling the phosphor paste to the discharge cells 31 (31R, 31G, 31B), various methods such as a screen printing method, a photolithography method, a photoresist film method, and an ink jet method can be applied. . For example, the phosphor paste of the present invention can be formed by printing the phosphor paste in a predetermined pattern on the surface of the glass substrate by a screen printing method and drying the formed coating film. This screen printing method is a particularly useful coating method in a composition containing a phosphor or glass frit as an inorganic substance. Moreover, as drying conditions of the coating film formed by printing, it is good to set heating temperature to 60-100 degreeC and 5 to 30 minutes, for example. Moreover, the thickness of the pattern layer after drying is set to, for example, 5 to 200 μm.
また、インクジェット法は、隔壁３０のピッチが狭く、放電セル３１が微細に形成されている場合であっても、隔壁３０間に低コストで容易に精度良く均一に蛍光体ペーストを塗布又は充填できるので、特に好ましい。
In addition, the inkjet method can apply or fill the phosphor paste between the
このようにして、所定の形状に成形された蛍光体ペースト又は当該蛍光体ペーストにより形成されたパターン層は、焼成されることによりバインダ樹脂、残留溶剤、有機系添加物等の有機物質が熱分解されて除去される。
なお、バインダ樹脂として含有されている乳酸系（共）重合体は４００℃〜６００℃の温度で完全に熱分解されるため、焼成温度が比較的低い温度であっても得られる蛍光体膜３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂ中にバインダ樹脂に由来する有機物質が残留することがない。また、焼成時の発熱量を少なくさせることができ、蛍光体膜３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂにバインダ樹脂の発熱による欠陥を生じさせることもない。
In this way, the phosphor paste molded into a predetermined shape or the pattern layer formed by the phosphor paste is fired to thermally decompose organic substances such as binder resin, residual solvent, and organic additives. To be removed.
Since the lactic acid (co) polymer contained as the binder resin is completely pyrolyzed at a temperature of 400 ° C. to 600 ° C., the
そして上記構成を具備するプラズマディスプレイパネル８においては、表示の際に、アドレス電極２１と、１組の表示電極１１，１１のうちいずれか一方の表示電極１１との間で、選択的にトリガー放電を行わせることにより、表示を行う放電セル３１が選択される。その後、選択された放電セル３１内において、１組の表示電極１１，１１間でサステイン放電を行わせることにより、放電ガスに起因する紫外線が生じ、蛍光体膜３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂから可視光が発生するようになっている。
In the plasma display panel 8 having the above-described configuration, a trigger discharge is selectively performed between the
以上のプラズマディスプレイパネル８では、蛍光体膜３５が上記蛍光体ペーストから構成されているため、表面処理の工程を設けずに、蛍光体膜３５の表層にフッ素化合物の被膜が形成されるか、又は被膜が形成されなくても蛍光体膜３５中の無機蛍光体の表面にフッ素化合物が選択的に吸着する。そのため、放電現象に伴って放出された真空紫外線やイオン・電子等がフッ素化合物の被膜（又はフッ素化合物そのもの）に衝突して蛍光体膜３５に衝突するのが防止される。そのため、表面処理の工程を設けずに蛍光体膜３５の経時的劣化を防止することができ、より詳しくは焼成処理に伴う輝度の劣化や経時的変化に伴う輝度・色度の劣化を防止することができる（下記実施例参照）。
In the plasma display panel 8 described above, since the
（１）無機蛍光体
（１．１）無機蛍光体の作製
（１．１．１）無機蛍光体１の作製
ここでは、液相法を用いて無機蛍光体１を作製した。
具体的には、始めに、水１０００ｍｌを「Ａ液」とし、シリコンのイオン濃度が０．５０ｍｏｌ／ｌとなるようにメタケイ酸ナトリウムを水５００ｍｌに溶解させてこれを「Ｂ液」とし、亜鉛のイオン濃度が０．９５０ｍｏｌ／ｌでマンガンのイオン濃度が０．０５０ｍｏｌ／ｌとなるように塩化亜鉛と塩化マンガン四水和物とを水５００ｍｌに溶解させてこれを「Ｃ液」とした。
(1) Inorganic phosphor (1.1) Production of inorganic phosphor (1.1.1) Production of inorganic phosphor 1 Here, the inorganic phosphor 1 was produced using a liquid phase method.
Specifically, first, 1000 ml of water is designated as “solution A”, sodium metasilicate is dissolved in 500 ml of water so that the silicon ion concentration is 0.50 mol / l, and this is designated as “solution B”. Zinc chloride and manganese chloride tetrahydrate were dissolved in 500 ml of water so that the ionic concentration of the solution was 0.950 mol / l and the ionic concentration of manganese was 0.050 mol / l.
Ａ液、Ｂ液及びＣ液を調製したら、図２に示すダブルジェット式反応装置１を用いて無機蛍光体１の前駆体を得た（前駆体形成工程）。 When the liquid A, liquid B and liquid C were prepared, a precursor of the inorganic phosphor 1 was obtained using the double jet reactor 1 shown in FIG. 2 (precursor forming step).
ダブルジェット式反応装置１について詳しく説明すると、当該ダブルジェット式反応装置１は、２種類以上の液体を同時に等速添加し、分散することができるものである。ダブルジェット式反応装置１は、液体を混合させる反応容器２と、反応容器２の内部を攪拌する攪拌翼３とを備えており、反応容器２の底部に、反応容器２の内部と連通可能な２本のパイプ４，５の一端部が接続されている。各パイプ４，５にはノズル６，７が設けられている。このような構成を具備するダブルジェット式反応装置１では、液体を貯留したタンクが各パイプ４，５の他端部に接続されており、各タンクから２本のパイプ４，５を通じて反応容器２の内部に液体を同時に等速で流入させ、当該反応容器２の内部で液体を混練できるようになっている。
The double jet reactor 1 will be described in detail. The double jet reactor 1 can add and disperse two or more kinds of liquids simultaneously at a constant speed. The double jet reactor 1 includes a
当該前駆体形成工程では、具体的に、ダブルジェット式反応装置１の反応容器２にＡ液を入れて当該Ａ液を４０℃に保ちながら当該Ａ液を攪拌翼３で攪拌した。その状態で、４０℃に保ったＢ液及びＣ液をそれぞれパイプ４，５から１００ｍｌ／ｍｉｎの添加速度で反応容器２中に等速添加・流入させ、Ａ液、Ｂ液及びＣ液からなる混合液を１０分間攪拌し続け、無機蛍光体１の前駆体を得た。
In the precursor formation step, specifically, the liquid A was put into the
上記前駆体形成工程の処理を終えたら、当該前駆体形成工程で得た前駆体を濾過・乾燥した（乾燥工程）。その後、乾燥済みの前駆体を１２５０℃の窒素ガス雰囲気下で３時間焼成して「無機蛍光体１」を得た（無機蛍光体形成工程）。 When the processing of the precursor forming step was completed, the precursor obtained in the precursor forming step was filtered and dried (drying step). Thereafter, the dried precursor was baked for 3 hours in a nitrogen gas atmosphere at 1250 ° C. to obtain “inorganic phosphor 1” (inorganic phosphor forming step).
（１．１．２）無機蛍光体２の作製
ここでは、固相法を用いて無機蛍光体２を作製した。
具体的には、始めに、原料としての酸化亜鉛（ＺｎＯ）と酸化ケイ素（ＳｉＯ2）とを２対１のモル比で配合・混合し、その混合物に対し所定量の酸化マンガン（Ｍｎ2Ｏ3）を添加した。その後、酸化マンガンを含む酸化亜鉛と酸化ケイ素との混合物をボールミルで混合し、その第２の混合物を１２５０℃の窒素ガス雰囲気下で３時間焼成して「無機蛍光体２」を得た。
(1.1.2) Production of
Specifically, first, zinc oxide (ZnO) and silicon oxide (SiO 2 ) as raw materials are blended and mixed in a molar ratio of 2: 1, and a predetermined amount of manganese oxide (Mn 2 O) is added to the mixture. 3 ) was added. Thereafter, a mixture of zinc oxide containing manganese oxide and silicon oxide was mixed with a ball mill, and the second mixture was fired in a nitrogen gas atmosphere at 1250 ° C. for 3 hours to obtain “
（１．２）無機蛍光体１，２の特性
（１．２．１）無機蛍光体１，２の単分散度の測定
レーザ回折散乱法を利用した粒度分布計（マイクロトラックHRA粒度分析計Model No.9320-X100）を用いて、各無機蛍光体１，２の粒度分布を測定し、その測定結果から各無機蛍光体１，２の平均粒径を導出し、その導出結果から所定の式に基づき各無機蛍光体１，２の単分散度（％）を算出した。その算出結果を下記表１に示した。
(1.2) Characteristics of inorganic phosphors 1 and 2 (1.2.1) Measurement of monodispersity of
（２）蛍光体ペースト
（２．１）バインダ組成物の作製
下記各種添加剤を下記組成比で調合して「バインダ組成物」を得た。
エチルセルロール（エトキシ基の含有率５０％） … ０．４質量％
ターピネオール … ９９．６質量％
（２．２）蛍光体ペーストの作製
上記無機蛍光体１，２と下記表１に記載のフッ素化合物とを下記表１に示した組み合わせでバインダ組成物中に混合・懸濁し、その懸濁液をTHINKER社製泡とり練太郎MX-201で分散処理し、「蛍光体ペースト１〜１０」を得た。ただし、蛍光体ペースト１〜１０に占める無機蛍光体とフッ素化合物との比率（質量％）を下記表１に記載の通りとした。また下記表１には、無機蛍光体に対するフッ素化合物の比率（質量％）も示した。
(2) Preparation of phosphor paste (2.1) Binder composition The following various additives were blended in the following composition ratio to obtain a "binder composition".
Ethyl cellulose (ethoxy group content: 50%): 0.4% by mass
Turpineol: 99.6% by mass
(2.2) Preparation of phosphor paste The
（３）プラズマディスプレイパネル
（３．１）プラズマディスプレイパネル１〜１０の作製
蛍光体ペースト１〜１０を用いて図１に示すものと同様のプラズマディスプレイパネル１〜１０を作製した。下記表１に示す通り、プラズマディスプレイ１〜１０の番号は、用いた蛍光体ペースト１〜１０の番号に対応するものである。
(3) Plasma Display Panel (3.1) Production of Plasma Display Panels 1-10 Plasma display panels 1-10 similar to those shown in FIG. 1 were produced using phosphor pastes 1-10. As shown in Table 1 below, the numbers of the plasma displays 1 to 10 correspond to the numbers of the phosphor pastes 1 to 10 used.
具体的には、アドレス電極とその両側に隔壁とを備える背面板に対し、蛍光体ペースト１〜１０をスクリーン塗布した。その後、当該蛍光体ペースト１〜１０を１２０℃で乾燥させ、更に乾燥済みの蛍光体ペースト１〜１０を５００℃で１時間焼成し、背面板上の隔壁間に蛍光体層を形成した。 Specifically, phosphor pastes 1 to 10 were screen-coated on a back plate having address electrodes and barrier ribs on both sides thereof. Thereafter, the phosphor pastes 1 to 10 were dried at 120 ° C., and the dried phosphor pastes 1 to 10 were fired at 500 ° C. for 1 hour to form a phosphor layer between the barrier ribs on the back plate.
その後、蛍光体層を形成した背面板と、表示電極、誘電体層及びＭｇＯ保護層を備える前面板とを張り合わせるように対向させ、それら基板の周辺をシールガラスで封止した。このとき、背面板と前面板との間には約１ｍｍのギャップをあけた。その後、背面板と前面板との間に、キセノン（Ｘｅ）とネオン（Ｎｅ）との混合ガスを封入し、それら基板間を気密密閉した状態でエージングをおこない、蛍光体ペースト１〜１０に対応する「プラズマディスプレイパネル１〜１０」を作製した。 Thereafter, the back plate on which the phosphor layer was formed and the front plate provided with the display electrode, the dielectric layer and the MgO protective layer were opposed to each other, and the periphery of these substrates was sealed with seal glass. At this time, a gap of about 1 mm was formed between the back plate and the front plate. After that, a mixed gas of xenon (Xe) and neon (Ne) is sealed between the back plate and the front plate, and aging is performed in a state in which the substrates are hermetically sealed to correspond to the phosphor pastes 1 to 10. “Plasma display panels 1 to 10” were produced.
（４）蛍光体ペースト１〜１０，プラズマディスプレイパネル１〜１０の評価
（４．１）蛍光体ペースト１〜１０の初期輝度
蛍光体ペースト１〜１０について、プラズマディスプレイパネル１〜１０の製造過程における焼成処理前の輝度（初期輝度）を測定した。具体的には、背面板に対しスクリーン印刷された状態の蛍光体ペースト１〜１０を真空チャンバ内に設置して当該真空チャンバ内を０．１ｔｏｒｒの真空度に保ち、その状態で一定の距離から１４６ｎｍの励起光（光源としてウシオ電機製エキシマランプを使用した。）を蛍光体ペースト１〜１０に照射し、当該蛍光体ペースト１〜１０の発光輝度を測定してその測定値を初期輝度とした。各蛍光体ペースト１〜１０の初期輝度を下記表２に示した。ただし、表２に示す初期輝度は、蛍光体ペースト７の測定値を「１００％」とした相対値である。
(4) Evaluation of phosphor pastes 1 to 10 and plasma display panels 1 to 10 (4.1) Initial luminance of phosphor pastes 1 to 10 About phosphor pastes 1 to 10 in the manufacturing process of plasma display panels 1 to 10 The brightness before firing (initial brightness) was measured. Specifically, the phosphor pastes 1 to 10 that are screen-printed on the back plate are placed in a vacuum chamber, the vacuum chamber is maintained at a vacuum degree of 0.1 torr, and in that state, from a certain distance. Excitation light of 146 nm (using an excimer lamp manufactured by USHIO INC. As a light source) was applied to the phosphor pastes 1 to 10, the emission luminance of the phosphor pastes 1 to 10 was measured, and the measured value was used as the initial luminance. . The initial luminance of each phosphor paste 1-10 is shown in Table 2 below. However, the initial luminance shown in Table 2 is a relative value with the measured value of the
（４．２）焼成処理に伴う蛍光体ペースト１〜１０の輝度維持率の測定
蛍光体ペースト１〜１０について、プラズマディスプレイパネル１〜１０の製造過程における焼成処理に伴う輝度維持率を測定した。具体的には、蛍光体ペースト１〜１０について焼成処理後の発光輝度を上記（４．１）と同様にして測定し、上記（４．１）で測定した蛍光体ペースト１〜１０の発光輝度を１００％としてその輝度維持率（％）（＝（焼成処理後の発光輝度）／（焼成処理前の発光輝度））を算出した。その算出結果を下記表２に示した。
(4.2) Measurement of Luminance Maintenance Rate of Phosphor Pastes 1 to 10 Accompanying Firing Treatment For phosphor pastes 1 to 10, luminance maintenance rates associated with the firing treatment in the manufacturing process of plasma display panels 1 to 10 were measured. Specifically, the light emission luminance after the firing treatment was measured in the same manner as in the above (4.1) for the phosphor pastes 1 to 10, and the light emission luminance of the phosphor pastes 1 to 10 measured in the above (4.1). The luminance maintenance ratio (%) (= (emission luminance after baking treatment) / (emission luminance before baking treatment)) was calculated. The calculation results are shown in Table 2 below.
（４．３）経時的変化を伴うプラズマディスプレイパネル１〜１０の輝度維持率と色度との測定
プラズマディスプレイパネル１〜１０について、電極に同等維持電圧（１７０Ｖの交流電圧）を印加した。そして、印加直後のプラズマディスプレイパネル１〜１０の発光輝度と、１００００時間印加し続けた後のプラズマディスプレイパネル１〜１０の発光輝度とをコニカミノルタ社製輝度計で測定し、プラズマディスプレイパネル１〜１０ごとに、印加直後の発光輝度に対する１００００時間経過後の発光輝度、すなわち輝度維持率（％）（＝（１００００時間経過後の発光輝度）／（印加直後の発光輝度））を算出した。その算出結果を下記表２に示した。
(4.3) Measurement of luminance maintenance rate and chromaticity of plasma display panels 1 to 10 accompanied with change over time For plasma display panels 1 to 10, an equivalent maintenance voltage (an alternating voltage of 170 V) was applied to the electrodes. Then, the light emission luminance of the plasma display panels 1 to 10 immediately after application and the light emission luminance of the plasma display panels 1 to 10 after being applied for 10,000 hours are measured with a luminance meter manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. For every 10, the emission luminance after 10000 hours with respect to the emission luminance immediately after application, that is, the luminance maintenance ratio (%) (= (emission luminance after 10000 hours elapse) / (emission luminance immediately after application)) was calculated. The calculation results are shown in Table 2 below.
更に、これと同時に、電圧印加直後のプラズマディスプレイパネル１〜１０の色度（初期色度）と、１００００時間電圧を印加し続けた後のプラズマディスプレイパネル１〜１０の色度（経時色度）とをコニカミノルタ社製輝度計で測定し、その測定結果を下記表２に示した。 Further, at the same time, the chromaticity (initial chromaticity) of the plasma display panels 1 to 10 immediately after the voltage application and the chromaticity (chronological chromaticity) of the plasma display panels 1 to 10 after the voltage is continuously applied for 10,000 hours. Were measured with a luminance meter manufactured by Konica Minolta, and the measurement results are shown in Table 2 below.
表２に示す通り、蛍光体ペースト１〜６，８〜１３はそれ以外の蛍光体ペースト７，１４より初期輝度及び輝度維持率が高く、それに対応するプラズマディスプレイパネル１〜６，８〜１３もそれ以外のプラズマディスプレイパネル７，１４より輝度維持率（色度を含む。以下同じ。）が高い。このことから、蛍光体ペースト中にフッ素化合物を含有させると、蛍光体膜の経時的劣化を防止するのに有用であることがわかる。
As shown in Table 2, the phosphor pastes 1 to 6 and 8 to 13 have higher initial luminance and luminance maintenance ratio than the other phosphor pastes 7 and 14, and the plasma display panels 1 to 6, 8 to 13 corresponding thereto are also included. The luminance maintenance rate (including chromaticity, the same applies hereinafter) is higher than that of the other
また、蛍光体ペースト１〜６，８〜１３の中でも、蛍光体ペースト１〜６は初期輝度及び及び輝度維持率が高く、それに対応するプラズマディスプレイパネル１〜６も輝度維持率が高い。このことから、液相法を用いて無機蛍光体を合成することが、発光輝度の低下を確実に抑制するのに有用であることがわかる。 Further, among the phosphor pastes 1 to 6 and 8 to 13, the phosphor pastes 1 to 6 have a high initial luminance and a high luminance maintenance rate, and the plasma display panels 1 to 6 corresponding thereto have a high luminance maintenance rate. From this, it can be seen that synthesizing the inorganic phosphor using the liquid phase method is useful for reliably suppressing a decrease in emission luminance.
１ ダブルジェット式反応装置
８ プラズマディスプレイパネル
３１（３１Ｒ，３１Ｂ，３５Ｇ） 放電セル
３５（３５Ｒ，３５Ｂ，３５Ｇ） 蛍光体膜
1 Double jet reactor 8 Plasma display panel 31 (31R, 31B, 35G) Discharge cell 35 (35R, 35B, 35G) Phosphor film
Claims (4)
後記一般式（１）で示すフッ素化合物を含有していることを特徴とする蛍光体ペースト。
ＡＦ2 … （１）
（前記一般式（１）中、「Ａ」はＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｒａから選ばれるいずれかの元素を示す。） In a phosphor paste containing an inorganic phosphor, a binder resin and a solvent,
A phosphor paste comprising a fluorine compound represented by the following general formula (1).
AF 2 (1)
(In the general formula (1), “A” represents any element selected from Be, Mg, Ca, Sr, Ba, and Ra.)
前記無機蛍光体が液相法を用いて合成されていることを特徴とする蛍光体ペースト。 The phosphor paste according to claim 1,
A phosphor paste, wherein the inorganic phosphor is synthesized using a liquid phase method.
前記無機蛍光体に対する前記フッ素化合物の比率が０．５〜５．０質量％であることを特徴とする蛍光体ペースト。 In the phosphor paste according to claim 1 or 2,
A phosphor paste, wherein a ratio of the fluorine compound to the inorganic phosphor is 0.5 to 5.0 mass%.
前記放電セルでの放電現象に伴い励起して蛍光を発する蛍光体膜と、
を備え、
前記蛍光体膜が、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の蛍光体ペーストから構成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 A discharge cell in which a discharge phenomenon is caused;
A phosphor film that emits fluorescence when excited by a discharge phenomenon in the discharge cell;
With
The phosphor film is
A plasma display panel comprising the phosphor paste according to any one of claims 1 to 3.
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