JP2006114438A

JP2006114438A - Gas barrier film for electronic display medium

Info

Publication number: JP2006114438A
Application number: JP2004303064A
Authority: JP
Inventors: Daisaku Haoto; 大作羽音; Hironori Kobayashi; 弘典小林
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2004-10-18
Filing date: 2004-10-18
Publication date: 2006-04-27

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas barrier film for an electronic display medium having a high gas barrier property, free from defect like dark spots, capable of obtaining an image display with high brightness. SOLUTION: The gas barrier film for an electronic display medium is composed of a substrate, a first barrier layer formed on the substrate, an optical interference middle layer formed on the first barrier layer, and a second barrier layer formed on the optical interference middle layer. The optical interference middle layer has an R-area in which a pixel part of red color (R) is arranged, a G-area in which a pixel part of green color (G) is arranged, and a B-area in which a pixel part of blue color (B) is arranged. The R-area, the G-area, and the B-area have film thicknesses respectively, which generate optical interference corresponding to wavelengths of the respective colors. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、例えば有機ＥＬ素子等の電子表示媒体に用いられるガスバリア膜に関するものである。 The present invention relates to a gas barrier film used for an electronic display medium such as an organic EL element.

近年、情報の多様化が進んでいる中で、情報分野における表示装置には、高輝度、高コントラスト、高い発光効率、高解像度、広視野角性、微細化、カラー化、軽さ、薄さ等の、表示装置として優れた特徴が求められ、さらに低消費電力・高速応答へ向けて活発な開発が進められている。特に、高精細なフルカラー表示装置の考案が広くなされている。 In recent years, with the diversification of information, display devices in the information field have high brightness, high contrast, high luminous efficiency, high resolution, wide viewing angle, miniaturization, colorization, lightness, thinness. Such excellent features as a display device are demanded, and active development is progressing toward further low power consumption and high-speed response. Particularly, high-definition full-color display devices have been widely devised.

このようなカラー表示装置として実用化する上で重要なことは、精細なカラー表示機能を有することとともに、長期安定性を有することである。しかし、表示装置の中には、一定期間駆動すると、電流−輝度特性等の発光特性が著しく低下するという欠点を有するものがある。 What is important for practical application as such a color display device is that it has a fine color display function and has long-term stability. However, some display devices have a drawback in that light emission characteristics such as current-luminance characteristics are remarkably deteriorated when driven for a certain period.

この発光特性の低下原因の代表的なものは、ダークスポットと呼ばれる発光欠陥点の成長である。このダークスポットは、表示装置中の酸素あるいは水分による表示装置の積層構成材料の酸化あるいは凝集に起因するものと考えられている。ダークスポットの成長は、通電中（駆動中）はもちろん、保存中にも進行し、極端な場合には発光面全体に広がる。その成長は、特に、（１）表示装置の周囲に存在する酸素あるいは水分により加速され、（２）有機積層膜中に吸着物として存在する酸素あるいは水分に影響され、および（３）表示装置作製時に用いる部品に吸着している水分、もしくは製造時等における水分の浸入にも影響されると考えられている。 A typical cause of the deterioration of the light emission characteristics is the growth of light emission defect points called dark spots. This dark spot is considered to be caused by oxidation or aggregation of the laminated constituent material of the display device due to oxygen or moisture in the display device. The growth of the dark spot proceeds not only during energization (during driving) but also during storage, and in an extreme case spreads over the entire light emitting surface. The growth is particularly accelerated by (1) oxygen or moisture present around the display device, (2) affected by oxygen or moisture present as an adsorbate in the organic laminated film, and (3) display device fabrication. It is considered that it is also affected by moisture adsorbed on parts used at times, or moisture intrusion during production.

この水分の表示装置への侵入を防止する手法として、例えば有機ＥＬ素子の作製方法として、有機ＥＬ層上に、厚さ０．０１〜２００μｍの絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献１）。また、有機ＥＬ層上に、オーバーコート層および絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献２）。上記無機酸化膜層には、有機ＥＬ層の寿命を維持するための高い防湿性が要求され、ＪＩＳＫ７１２６の気体透過度試験方法により測定される、無機酸化膜層における水蒸気または酸素のガス透過係数は、それぞれ１０^−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下であることが望ましいとされている。また、上記オーバーコート層は、塗布後の表面の凹凸を平坦化させて、電極の断線を低減させるものである。 As a method for preventing moisture from entering the display device, for example, as an organic EL element manufacturing method, an insulating inorganic oxide film layer having a thickness of 0.01 to 200 μm is provided on the organic EL layer. (Patent Document 1). Further, it is disclosed that an overcoat layer and an insulating inorganic oxide film layer are provided on the organic EL layer (Patent Document 2). The inorganic oxide film layer is required to have high moisture resistance for maintaining the life of the organic EL layer, and the gas permeability coefficient of water vapor or oxygen in the inorganic oxide film layer is measured by the gas permeability test method of JIS K7126. Is preferably 10 ⁻¹³ cc · cm / cm ² · s · cmHg or less. Moreover, the said overcoat layer planarizes the unevenness | corrugation of the surface after application | coating, and reduces the disconnection of an electrode.

また、特許文献３、特許文献４に示されるように、カラーフィルタの作製方法として、カラーフィルタ層上に形成した樹脂保護層に対して、ＤＣスパッタリングによりＳｉＯ_Ｘ、ＳｉＮ_Ｘを形成する方法があり、この方法は透明導電膜の密着性を向上させる効果がある。また、低融点ガラスを焼結する方法が知られている（特許文献５）。この他に、有機ＥＬ素子を外気から遮断する封止方法として、ＣＶＤ法によりＳｉＮ_Ｘ膜を形成する方法が知られている（特許文献６）。 Further, as shown in Patent Document 3 and Patent Document 4, as a method for producing a color filter, there is a method of forming SiO _x and SiN _x by DC sputtering on a resin protective layer formed on the color filter layer. This method has the effect of improving the adhesion of the transparent conductive film. Further, a method of sintering low melting point glass is known (Patent Document 5). In addition, as a sealing method for blocking the organic EL element from the outside air, a method of forming a SiN _X film by a CVD method is known (Patent Document 6).

しかしながら、上記いずれの文献に記載された発明においても、有機ＥＬ素子等の表示装置の劣化を防ぐ防湿性、ガスバリア性としては十分とは言い難いといえる。 However, in any of the inventions described in any of the above-mentioned documents, it can be said that the moisture-proof property and gas barrier property for preventing deterioration of a display device such as an organic EL element are not sufficient.

そこで、有機ＥＬ層上に無機層と樹脂層とを交互に積層したバリア膜が開示されている（例えば特許文献７、特許文献８、特許文献９参照）。このようなバリア膜は、例えば無機層と樹脂層と無機層とで構成される３層からなる積層体とした場合、有機ＥＬ層上に形成された１層目の無機層中のピンホールが、その上に樹脂層を形成することにより埋められ、さらにその樹脂層上に無機層を形成することにより、酸素や水分等の浸入を妨げることができる。 Thus, a barrier film is disclosed in which inorganic layers and resin layers are alternately laminated on an organic EL layer (see, for example, Patent Document 7, Patent Document 8, and Patent Document 9). When such a barrier film is a laminate composed of, for example, an inorganic layer, a resin layer, and an inorganic layer, pinholes in the first inorganic layer formed on the organic EL layer are formed. It is buried by forming a resin layer thereon, and further, an inorganic layer is formed on the resin layer, thereby preventing entry of oxygen, moisture and the like.

一方、上述したように、表示媒体は可能な限りの高輝度を有する必要性があり、ＰＤＡ、携帯電話、デジタルカメラ等の屋外で使用するものについては特に重要視されている。このため、バリア膜としてバリア性および光取出し効率の高い材料開発がなされているが、赤色・緑色・青色（ＲＧＢ）の全波長で光取出し効率が最大になる材料の開発には至っていない。 On the other hand, as described above, the display medium needs to have as high luminance as possible, and the display medium such as a PDA, a mobile phone, and a digital camera is particularly important. For this reason, materials having high barrier properties and high light extraction efficiency have been developed as barrier films, but no material has been developed that maximizes light extraction efficiency at all wavelengths of red, green, and blue (RGB).

特開平８−２７９３９４号公報JP-A-8-279394 特開２００２−３１８５４３号公報JP 2002-318543 A 特開平７−１４６４８０号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-146480 特開平１０−１０５１８号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-10518 特開２０００−２１４３１８号公報JP 2000-214318 A 特開２０００−２２３２６４号公報JP 2000-223264 A 特開２００３−５３８７３号公報JP 2003-53873 A 特開２００２−１００４６９号公報JP 2002-1000046 A 特開２００２−１８９９４号公報JP 2002-18994 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ガスバリア性が高く、ダークスポット等の欠陥がなく、高輝度の画像表示が得られる電子表示媒体用ガスバリア膜を提供することを主目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above problems, and it is a main object of the present invention to provide a gas barrier film for an electronic display medium that has high gas barrier properties, is free from defects such as dark spots, and provides a high-luminance image display. It is what.

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された第１バリア層と、上記第１バリア層上に形成された光学干渉中間層と、上記光学干渉中間層上に形成された第２バリア層とを有する電子表示媒体用ガスバリア膜であって、
上記光学干渉中間層は、赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とを有し、
上記光学干渉中間層におけるＲ領域、Ｇ領域、およびＢ領域が、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚を有することを特徴とする電子表示媒体用ガスバリア膜を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a base material, a first barrier layer formed on the base material, an optical interference intermediate layer formed on the first barrier layer, and the optical interference intermediate. A gas barrier film for an electronic display medium having a second barrier layer formed on the layer,
The optical interference intermediate layer includes an R region where a red (R) pixel portion is disposed, a G region where a green (G) pixel portion is disposed, and a B region where a blue (B) pixel portion is disposed. And
Provided is a gas barrier film for an electronic display medium, wherein the R region, the G region, and the B region in the optical interference intermediate layer have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color.

本発明によれば、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層が順次積層されていることにより、ダークスポット等の欠陥がなく、ガスバリア性の高い電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができる。また、ＲＧＢ各色の画素部が配置される光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚が、その色の波長の光が干渉を起こし、強め合うような厚みであることにより、光取出し効率が向上し、高輝度の画像表示を得ることが可能となる。 According to the present invention, the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer are sequentially laminated, so that there is no defect such as a dark spot and a gas barrier film for an electronic display medium having a high gas barrier property is obtained. Can do. Also, the light extraction efficiency is improved because the thickness of each RGB region of the optical interference intermediate layer in which the RGB color pixel portions are arranged is such that light of that color wavelength causes interference and strengthens it. In addition, it is possible to obtain a high-luminance image display.

上記発明においては、上記Ｒ領域、Ｇ領域およびＢ領域の屈折率が、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順に小さくなることが好ましい。ＲＧＢ各領域を光学干渉を発生させるような膜厚とする場合、屈折率が高い材料を用いて形成すれば膜厚は薄くなり、一方屈折率が低い材料を用いて形成すれば膜厚は厚くなる。よって、Ｒ領域、Ｇ領域およびＢ領域の屈折率が、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順に小さいことにより、光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚の差を小さくすることができ、平坦化することが可能となり、ダークエリアの発生を抑制することができるからである。 In the said invention, it is preferable that the refractive index of the said R area | region, G area | region, and B area | region becomes small in order of R area | region, G area | region, and B area | region. When each of the RGB regions has a film thickness that generates optical interference, the film thickness decreases if formed using a material having a high refractive index, whereas the film thickness increases if formed using a material having a low refractive index. Become. Therefore, since the refractive index of the R region, the G region, and the B region is smaller in the order of the R region, the G region, and the B region, the difference in film thickness between the RGB regions of the optical interference intermediate layer can be reduced and flat. This is because the generation of dark areas can be suppressed.

また、上記発明においては、上記第１バリア層と上記光学干渉中間層との間に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層が形成されており、上記濡れ性変化層は、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板を、上記濡れ性変化層と上記光触媒処理層とが所定の間隙をおいて配置された後、所定の方向からエネルギー照射されることにより、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることが好ましい。本発明によれば、上記濡れ性変化層を有することにより、容易に濡れ性の変化したパターンを用いて、高精細な光学干渉中間層を形成することが可能となり、低コストで製造可能な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができるからである。 In the invention, a wettability changing layer in which wettability is changed by the action of a photocatalyst is formed between the first barrier layer and the optical interference intermediate layer, and the wettability changing layer includes a photocatalyst. A photocatalyst treatment layer-side substrate having a photocatalyst treatment layer and a substrate containing the wettability changing layer and the photocatalyst treatment layer are disposed with a predetermined gap and then irradiated with energy from a predetermined direction, A layer whose wettability changes so that the contact angle with the liquid is reduced is preferable. According to the present invention, by having the wettability changing layer, it is possible to easily form a high-definition optical interference intermediate layer using a pattern having changed wettability, and an electronic that can be manufactured at low cost. This is because a gas barrier film for a display medium can be obtained.

さらに、上記発明においては、上記第１バリア層と上記光学干渉中間層との間に、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層が形成されており、上記光触媒含有濡れ性変化層は、光触媒を含有し、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることが好ましい。この場合も同様に、上記光触媒含有濡れ性変化層を有することにより、容易に濡れ性の変化したパターンを用いて、高精細な光学干渉中間層を形成することが可能となり、低コストで製造可能な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができるからである。 Further, in the above invention, a photocatalyst-containing wettability changing layer in which wettability is changed by the action of a photocatalyst is formed between the first barrier layer and the optical interference intermediate layer. The layer preferably contains a photocatalyst and is a layer whose wettability changes so that the contact angle with the liquid is lowered by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. In this case as well, by having the photocatalyst-containing wettability changing layer, it is possible to easily form a high-definition optical interference intermediate layer using a pattern having changed wettability, which can be manufactured at low cost. This is because a gas barrier film for an electronic display medium can be obtained.

また、上記発明においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有層であることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒含有層であることにより、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒含有層は、上記光触媒含有層自体に含有される光触媒の作用により濡れ性が変化することから、製造工程が少なく、効率的に電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することが可能となるからである。 Moreover, in the said invention, it is preferable that the said photocatalyst containing wettability change layer contains a photocatalyst, and is a photocatalyst containing layer from which a wettability changes by the effect | action of a photocatalyst. Since the photocatalyst-containing wettability changing layer is the photocatalyst-containing layer, the part irradiated with energy can be made a lyophilic region, and the part not irradiated with energy can be made a liquid-repellent region. This is because the optical interference intermediate layer can be formed using the difference between the two. In addition, the photocatalyst-containing layer has a low wettability due to the action of the photocatalyst contained in the photocatalyst-containing layer itself, and thus it is possible to efficiently produce a gas barrier film for an electronic display medium with few manufacturing steps. Because it becomes.

さらに、上記発明においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層と、上記光触媒処理層上に形成され、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層とからなることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒処理層および上記濡れ性変化層から構成されることにより、上記濡れ性変化層中に光触媒が含有されていない場合であっても、エネルギー照射した際に、光触媒処理層の作用により、上記濡れ性変化層を、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒処理層は、第１バリア層と濡れ性変化層との間に形成されるため、経時的に光学干渉中間層が光触媒の影響を受けることを抑制することができるからである。 Furthermore, in the said invention, the said photocatalyst containing wettability change layer consists of the photocatalyst processing layer containing a photocatalyst, and the wettability change layer which is formed on the said photocatalyst processing layer, and wettability changes with the effect | action of a photocatalyst. It is preferable. When the photocatalyst-containing wettability changing layer is composed of the photocatalyst-treated layer and the wettability changing layer, even when the photocatalyst is not contained in the wettability changing layer, when the energy is irradiated By the action of the photocatalyst treatment layer, it becomes possible to make the wettability changing layer the lyophilic area in the part irradiated with energy and the lyophobic part in the part not irradiated with energy. This is because the optical interference intermediate layer can be formed by using. Moreover, since the said photocatalyst processing layer is formed between a 1st barrier layer and a wettability change layer, it can suppress that an optical interference intermediate | middle layer receives the influence of a photocatalyst with time.

また、上記発明においては、上記第２バリア層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）が、１０ｎｍ以下であることが好ましい。上記第２バリア層のＲｍａｘが上記範囲であることにより、ダークエリアの発生を抑制することができるからである。 Moreover, in the said invention, it is preferable that the maximum surface roughness (Rmax) of the said 2nd barrier layer is 10 nm or less. This is because the occurrence of dark areas can be suppressed when Rmax of the second barrier layer is in the above range.

さらに、上記発明においては、上記光学干渉中間層の最大膜厚と最小膜厚との差が１３０ｎｍ以下であり、上記画素部間の間隙の中心部の５μｍ〜５０μｍの範囲内を底辺とし、上記底辺の両端における上記光学干渉中間層の厚みの差を高さとしたとき、上記底辺の長さに対する上記高さの比が１／５以下であることが好ましい。上記最大膜厚と最小膜厚との差が上記範囲より大きく、上記の比が上記範囲より大きい場合、ダークエリアが発生する可能性があるからである。 Furthermore, in the above invention, the difference between the maximum film thickness and the minimum film thickness of the optical interference intermediate layer is 130 nm or less, and the base is in the range of 5 μm to 50 μm at the center of the gap between the pixel parts. When the difference in thickness of the optical interference intermediate layer at both ends of the base is defined as a height, the ratio of the height to the length of the base is preferably 1/5 or less. This is because if the difference between the maximum film thickness and the minimum film thickness is larger than the above range and the above ratio is larger than the above range, a dark area may occur.

また、上記発明においては、上記第２バリア層表面の尖度が、６．０以下であることが好ましい。上記第２バリア層の尖度が上記範囲であることにより、ダークエリアの発生を抑制することができるからである。 Moreover, in the said invention, it is preferable that the kurtosis of the said 2nd barrier layer surface is 6.0 or less. This is because when the kurtosis of the second barrier layer is within the above range, the occurrence of dark areas can be suppressed.

さらに、上記発明においては、上記光学干渉中間層の膜厚が、５０ｎｍ〜６μｍの範囲内であることが好ましい。上記光学干渉中間層の膜厚が上記範囲未満である場合、十分なガスバリア性が得られない可能性があり、一方、上記光学干渉中間層の膜厚が上記範囲を超えて大きい場合、光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚の差が大きくなり、平坦性が損なわれ、ダークエリアが発生する可能性があるからである。 Furthermore, in the said invention, it is preferable that the film thickness of the said optical interference intermediate | middle layer exists in the range of 50 nm-6 micrometers. If the film thickness of the optical interference intermediate layer is less than the above range, sufficient gas barrier properties may not be obtained. On the other hand, if the film thickness of the optical interference intermediate layer is larger than the above range, optical interference This is because the difference in film thickness between the RGB regions of the intermediate layer increases, flatness is impaired, and dark areas may occur.

また、上記発明においては、上記第２バリア層上に中間層およびバリア層が、この順序で２層〜１０層の範囲内で積層されており、最外層が前記バリア層であることが好ましい。第２バリア層上に中間層およびバリア層を積層することにより、ガスバリア性が向上するからである。 Moreover, in the said invention, it is preferable that the intermediate | middle layer and the barrier layer are laminated | stacked in this order in the range of 2-10 layers on the said 2nd barrier layer, and an outermost layer is the said barrier layer. This is because the gas barrier property is improved by laminating the intermediate layer and the barrier layer on the second barrier layer.

本発明は、また、上記発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を有することを特徴とする有機ＥＬ素子を提供する。本発明によれば、上述した利点を有する電子表示媒体用ガスバリア膜を有することから、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることがなく、高輝度の画像表示が可能である高品質な有機ＥＬ素子とすることができる。 The present invention also provides an organic EL device comprising the gas barrier film for an electronic display medium of the above invention. According to the present invention, since it has a gas barrier film for an electronic display medium having the above-described advantages, it is not affected by oxygen, water vapor or the like over time, and a high-quality organic EL capable of displaying a high-luminance image. It can be set as an element.

また、本発明は、基材上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程と、上記第１バリア層上に赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とからなるパターンを有する光学干渉中間層を形成する光学干渉中間層形成工程と、上記光学干渉中間層上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程とを有する電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法であって、上記光学干渉中間層形成工程では、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域が、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚となるように形成されることを特徴とする電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法を提供する。 The present invention also provides a first barrier layer forming step of forming a first barrier layer on a substrate, an R region in which a red (R) pixel portion is disposed on the first barrier layer, and green (G The optical interference intermediate layer forming step of forming an optical interference intermediate layer having a pattern made up of a G region in which the pixel portion is disposed and a B region in which the blue (B) pixel portion is disposed; And a second barrier layer forming step of forming a second barrier layer on the layer, wherein the optical interference intermediate layer forming step includes the R region, the G region, and the B region. Provided is a method for producing a gas barrier film for an electronic display medium, wherein the region is formed so as to have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color.

本発明によれば、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層が順次積層して形成されることにより、ダークスポット等の欠陥がなく、よりガスバリア性の高い電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができる。また、ＲＧＢ各色の画素部が配置される光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚が、その色の波長の光が干渉を起こし、強め合うような厚みであることにより、光取出し効率が向上し、高輝度の画像表示を得ることが可能な電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができる。 According to the present invention, the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer are sequentially laminated to form a gas barrier film for an electronic display medium that has no defects such as dark spots and has higher gas barrier properties. Can be manufactured. Also, the light extraction efficiency is improved because the thickness of each RGB region of the optical interference intermediate layer in which the RGB color pixel portions are arranged is such that light of that color wavelength causes interference and strengthens it. In addition, a gas barrier film for an electronic display medium capable of obtaining a high-luminance image display can be manufactured.

上記発明においては、上記光学干渉中間層形成工程は、上記第１バリア層上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、上記濡れ性変化層と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、上記濡れ性変化層および上記光触媒処理層が所定の間隙をおいて配置した後、パターン状にエネルギーを照射し、上記濡れ性変化層に液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と、上記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程とを有することが好ましい。 In the above invention, the optical interference intermediate layer forming step includes a wettability changing layer forming step of forming a wettability changing layer in which wettability is changed by the action of a photocatalyst on the first barrier layer, and the wettability changing layer. And a photocatalyst treatment layer containing a photocatalyst and a photocatalyst treatment layer side substrate having a substrate, the wettability changing layer and the photocatalyst treatment layer are arranged with a predetermined gap, and then irradiated with energy in a pattern, A wettability pattern forming step for forming a wettability pattern in which the wettability is changed so that a contact angle with the liquid is lowered on the wettability changing layer, and an optical interference intermediate layer forming coating solution along the wettability pattern It is preferable to have a coating liquid coating step for forming an optical interference intermediate layer.

本発明によれば、上記光触媒処理層と上記濡れ性変化層とを所定の間隙をおいて配置し、エネルギー照射することにより、上記濡れ性変化層表面の濡れ性がパターン状に変化した濡れ性パターンを形成することが可能であり、この濡れ性パターンの濡れ性の差を利用して、容易にパターン状に光学干渉中間層を形成することが可能となることから、高精細な電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができるからである。また、上記濡れ性変化層は光触媒を含有しないことから、光触媒の影響を受けることなく、高品質な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることが可能となるからである。 According to the present invention, the wettability in which the wettability of the wettability changing layer surface is changed into a pattern by disposing the photocatalyst treatment layer and the wettability changing layer with a predetermined gap and irradiating with energy. Since it is possible to form a pattern, and it is possible to easily form an optical interference intermediate layer in a pattern shape by using the difference in wettability of this wettability pattern, a high-definition electronic display medium This is because a gas barrier film can be produced. In addition, since the wettability changing layer does not contain a photocatalyst, it is possible to obtain a high-quality gas barrier film for an electronic display medium without being affected by the photocatalyst.

また、上記発明においては、上記光学干渉中間層形成工程は、上記第１バリア層上に、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層を形成する光触媒含有濡れ性変化層形成工程と、上記光触媒含有濡れ性変化層に、パターン状にエネルギーを照射し、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と上記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程とを有することが好ましい。 Further, in the above invention, the optical interference intermediate layer forming step includes a photocatalyst-containing wettability forming a photocatalyst-containing wettability changing layer containing a photocatalyst and changing wettability by the action of the photocatalyst on the first barrier layer. And a wettability pattern forming step for forming a wettability pattern in which the wettability is changed so that the contact angle with the liquid is reduced by irradiating the photocatalyst-containing wettability changing layer with energy in a pattern. And an optical interference intermediate layer forming coating solution coating step of applying an optical interference intermediate layer forming coating solution along the wettability pattern.

本発明によれば、上記光触媒含有濡れ性変化層にエネルギー照射することにより、上記光触媒含有濡れ性変化層表面の濡れ性がパターン状に変化した濡れ性パターンを形成することが可能であり、この濡れ性パターンの濡れ性の差を利用して、容易にパターン状に光学干渉中間層を形成することが可能となることから、高精細な電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができるからである。 According to the present invention, by irradiating the photocatalyst-containing wettability changing layer with energy, it is possible to form a wettability pattern in which the wettability of the photocatalyst-containing wettability changing layer surface is changed into a pattern. Because the optical interference intermediate layer can be easily formed in a pattern shape by utilizing the difference in wettability of the wettability pattern, a high-definition gas barrier film for an electronic display medium can be manufactured. is there.

さらに、上記発明においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有層であることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒含有層であることにより、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒含有層は、上記光触媒含有層自体に含有される光触媒の作用により濡れ性が変化することから、製造工程が少なく、効率的に電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することが可能となるからである。 Furthermore, in the said invention, it is preferable that the said photocatalyst containing wettability change layer contains a photocatalyst, and is a photocatalyst containing layer from which a wettability changes by the effect | action of a photocatalyst. Since the photocatalyst-containing wettability changing layer is the photocatalyst-containing layer, the part irradiated with energy can be made a lyophilic region, and the part not irradiated with energy can be made a liquid-repellent region. This is because the optical interference intermediate layer can be formed using the difference between the two. In addition, the photocatalyst-containing layer has a low wettability due to the action of the photocatalyst contained in the photocatalyst-containing layer itself, and thus it is possible to efficiently produce a gas barrier film for an electronic display medium with few manufacturing steps. Because it becomes.

また、上記発明においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層と、上記光触媒処理層上に形成され、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層とからなることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒処理層および上記濡れ性変化層から構成されることにより、上記濡れ性変化層中に光触媒が含有されていない場合であっても、エネルギー照射した際に、光触媒処理層の作用により、上記濡れ性変化層を、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒処理層は、第１バリア層と濡れ性変化層との間に形成されるため、経時的に光学干渉中間層が光触媒の影響を受けることを抑制することができるからである。 Moreover, in the said invention, the said photocatalyst containing wettability change layer consists of the photocatalyst processing layer containing a photocatalyst, and the wettability change layer which is formed on the said photocatalyst processing layer, and wettability changes with the effect | action of a photocatalyst. It is preferable. When the photocatalyst-containing wettability changing layer is composed of the photocatalyst-treated layer and the wettability changing layer, even when the photocatalyst is not contained in the wettability changing layer, when the energy is irradiated By the action of the photocatalyst treatment layer, it becomes possible to make the wettability changing layer the lyophilic area in the part irradiated with energy and the lyophobic part in the part not irradiated with energy. This is because the optical interference intermediate layer can be formed by using. Moreover, since the said photocatalyst processing layer is formed between a 1st barrier layer and a wettability change layer, it can suppress that an optical interference intermediate | middle layer receives the influence of a photocatalyst with time.

さらに、上記発明においては、上記光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程において、吐出法により光学干渉中間層形成用塗工液を塗布することが好ましい。濡れ性の違いによるパターンを利用して高精細なパターンを形成することができるからである。 Furthermore, in the said invention, it is preferable to apply | coat the coating liquid for optical interference intermediate | middle layer formation by the discharge method in the said coating liquid application process for optical interference intermediate | middle layer formation. This is because a high-definition pattern can be formed using a pattern due to a difference in wettability.

また、上記発明においては、上記光学干渉中間層形成工程は、感光性樹脂組成物を塗布する感光性樹脂組成物塗布工程、塗布された感光性樹脂組成物に対してパターン状に露光する露光工程、および上記感光性樹脂組成物の未硬化部分を除去してパターンを形成する現像工程を少なくとも有するものであり、上記各工程は、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に対して行われ、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に厚みの異なる感光性樹脂層を形成する工程であることが好ましい。 Moreover, in the said invention, the said optical interference intermediate | middle layer formation process is the photosensitive resin composition application | coating process which apply | coats the photosensitive resin composition, and the exposure process which exposes the applied photosensitive resin composition to pattern shape And at least a development step of removing the uncured portion of the photosensitive resin composition to form a pattern, and each step is performed on the R region, the G region, and the B region, The step is preferably a step of forming photosensitive resin layers having different thicknesses in the R region, the G region, and the B region.

本発明によれば、光学干渉中間層の形成材料として感光性樹脂組成物を用いることにより、容易に光学干渉中間層をパターニングすることができ、高精細な電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができるからである。 According to the present invention, by using a photosensitive resin composition as a material for forming an optical interference intermediate layer, the optical interference intermediate layer can be easily patterned, and a high-definition gas barrier film for an electronic display medium is manufactured. Because you can.

本発明は、電子表示媒体用ガスバリア膜、それを用いた有機ＥＬ素子、および電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法を含むものである。以下、それぞれについて詳細に説明する。 The present invention includes a gas barrier film for an electronic display medium, an organic EL element using the same, and a method for producing a gas barrier film for an electronic display medium. Hereinafter, each will be described in detail.

Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜
まず、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜について説明する。 A. First, the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention will be described.

本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜は、基材と、上記基材上に形成された第１バリア層と、上記第１バリア層上に形成された光学干渉中間層と、上記光学干渉中間層上に形成された第２バリア層とを有する電子表示媒体用ガスバリア膜であって、上記光学干渉中間層は、赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とを有し、上記光学干渉中間層におけるＲ領域、Ｇ領域、およびＢ領域が、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚を有することを特徴とするものである。 The gas barrier film for an electronic display medium according to the present invention includes a base material, a first barrier layer formed on the base material, an optical interference intermediate layer formed on the first barrier layer, and the optical interference intermediate layer. A gas barrier film for an electronic display medium having a second barrier layer formed thereon, wherein the optical interference intermediate layer includes an R region in which a red (R) pixel portion is disposed, and a green (G) pixel. G region in which the portion is disposed and a B region in which the blue (B) pixel portion is disposed, and the R region, the G region, and the B region in the optical interference intermediate layer correspond to the wavelengths of the respective colors. It has a film thickness that causes optical interference.

本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜について図面を用いて説明する。図１は、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の一例を示すものである。図１に示すように、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜は、基材１と、上記基材１上に形成された第１バリア層２と、上記第１バリア層２上に形成された光学干渉中間層３と、上記光学干渉中間層３上に形成された第２バリア層４とを有するものである。また、光学干渉中間層３は、赤色の画素部が配置されるＲ領域３Ｒと、緑色の画素部が配置されるＧ領域３Ｇと、青色の画素部が配置されるＢ領域３Ｂとを有しており、上記Ｒ領域３Ｒ、Ｇ領域３Ｇ、およびＢ領域３Ｂは、配置される画素部の各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚を有するものである。 The gas barrier film for an electronic display medium of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a gas barrier film for an electronic display medium of the present invention. As shown in FIG. 1, the gas barrier film for an electronic display medium according to the present invention is formed on a base material 1, a first barrier layer 2 formed on the base material 1, and the first barrier layer 2. The optical interference intermediate layer 3 and the second barrier layer 4 formed on the optical interference intermediate layer 3 are provided. The optical interference intermediate layer 3 includes an R region 3R where the red pixel portion is disposed, a G region 3G where the green pixel portion is disposed, and a B region 3B where the blue pixel portion is disposed. The R region 3R, G region 3G, and B region 3B have film thicknesses that cause optical interference corresponding to the wavelengths of the respective colors of the arranged pixel portions.

本発明によれば、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層が順次積層されていることにより、第１バリア層にピンホールが存在する場合でも、第１バリア層上に光学干渉中間層を形成することによりこのピンホールが埋められ、さらにその光学干渉中間層上に第２バリア層を形成することにより、第１バリア層から第２バリア層表面まで貫通するピンホールの発生を抑制することができ、酸素や水蒸気等の浸入を妨げることが可能となる。また、ＲＧＢ各色の画素部が配置される光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚が、配置された画素部に対応する色の波長の光が干渉を起こし、強め合うような厚みであることにより、光取出し効率を向上させることができる。ＲＧＢ各色の波長で光取出し効率が向上するようにＲＧＢ各領域の膜厚を調整することにより、より高輝度の画像表示を得ることが可能となる。したがって、本発明においては、ガスバリア性が高く、高輝度で良好な画像表示を得ることができる電子表示媒体用ガスバリア膜とすることが可能となる。 According to the present invention, since the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer are sequentially laminated, even when a pinhole is present in the first barrier layer, the optical interference is formed on the first barrier layer. By forming the intermediate layer, this pinhole is filled, and further, by forming the second barrier layer on the optical interference intermediate layer, generation of a pinhole penetrating from the first barrier layer to the surface of the second barrier layer is generated. It is possible to suppress the intrusion of oxygen, water vapor or the like. Also, the thickness of each RGB region of the optical interference intermediate layer in which the RGB color pixel portions are arranged is such that the light of the wavelength of the color corresponding to the arranged pixel portion causes interference and strengthens. Thus, the light extraction efficiency can be improved. By adjusting the film thickness of each RGB region so that the light extraction efficiency is improved at the wavelength of each RGB color, it is possible to obtain a higher-luminance image display. Therefore, in the present invention, it is possible to provide a gas barrier film for an electronic display medium that has a high gas barrier property and can obtain a high-brightness and good image display.

以下、このような電子表示媒体用ガスバリア膜の各構成について説明する。 Hereinafter, each structure of such a gas barrier film for electronic display media will be described.

１．基材
まず、本発明に用いられる基材について説明する。本発明において基材は、基板のみから構成されていてもよく、基板と機能層とから構成されていてもよい。以下、このような基材の各構成について説明する。 1. Base material First, the base material used for this invention is demonstrated. In this invention, the base material may be comprised only from the board | substrate and may be comprised from the board | substrate and the functional layer. Hereinafter, each structure of such a base material is demonstrated.

（１）基板
本発明に用いられる基板としては、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて電子表示媒体とした際に基板側から光を取り出す場合や、後述する光学干渉中間層を形成する際にエネルギーを基板側から照射する場合には、透明であることが好ましい。また、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて電子表示媒体とした際に、基板の反対側、すなわち第２バリア層側から光を取り出す場合には、特に透明性が要求されることはない。さらに、基板としては、耐溶媒性、耐熱性を有し、寸法安定性に優れているものであることが好ましい。これにより、基板上に機能層、第１バリア層等を形成する際にも安定なものとすることができるからである。 (1) Substrate As a substrate used in the present invention, when an electronic display medium is formed using the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, light is extracted from the substrate side, or an optical interference intermediate layer described later is formed. In the case where energy is irradiated from the substrate side, it is preferably transparent. Further, when an electronic display medium is formed using the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, transparency is particularly required when light is extracted from the opposite side of the substrate, that is, the second barrier layer side. Absent. Further, the substrate preferably has solvent resistance and heat resistance and is excellent in dimensional stability. This is because it is possible to stabilize the functional layer, the first barrier layer, and the like on the substrate.

このような透明な基板としては、例えばガラス板や、有機材料で形成されたフィルム状やシート状のもの等を用いることができる。 As such a transparent substrate, for example, a glass plate or a film or sheet formed of an organic material can be used.

本発明において、透明な基板としてガラス板が用いられる場合には、可視光に対して透過性の高いものであれば、特に限定されるものではなく、例えば未加工のガラス板であってもよく、また加工されたガラス板等であってもよい。このようなガラス板としては、アルカリガラスおよび無アルカリガラスのどちらも使用可能であるが、本発明において、不純物が問題とされる場合には、例えば、パイレックス（登録商標）ガラス等の無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、加工されたガラス板の種類は、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の用途に応じて適宜選択されるものであり、例えば透明ガラス基板に塗布加工をしたものや、段差加工を施したもの等が挙げられる。 In the present invention, when a glass plate is used as the transparent substrate, it is not particularly limited as long as it is highly permeable to visible light. For example, an unprocessed glass plate may be used. Moreover, the processed glass plate etc. may be sufficient. As such a glass plate, both alkali glass and non-alkali glass can be used. However, when impurities are a problem in the present invention, for example, non-alkali glass such as Pyrex (registered trademark) glass. Is preferably used. In addition, the type of the processed glass plate is appropriately selected according to the use of the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention. For example, a transparent glass substrate is subjected to a coating process or a step process is performed. And the like.

このようなガラス板の厚みは３００μｍ〜２ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、フレキシブル基板の場合は２５μｍ〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、リジッドな基板の場合は２００μｍ〜２ｍｍの範囲内であることが好ましい。 The thickness of such a glass plate is preferably in the range of 300 μm to 2 mm. In the case of a flexible substrate, it is preferably in the range of 25 μm to 200 μm, and in the case of a rigid substrate, it is preferably in the range of 200 μm to 2 mm.

また、透明な基板として用いられる有機材料としては、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、結晶化ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ＵＶ硬化型メタクリル樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。 Organic materials used as transparent substrates include polyarylate resin, polycarbonate resin, crystallized polyethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, UV curable methacrylic resin, polyether sulfone resin, polyether ether ketone. Examples thereof include resins, polyetherimide resins, polyphenylene sulfide resins, polyimide resins and the like.

さらに、透明な基板としては、上述した有機材料と、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエーテルスルフォン系樹脂等と２種以上併せて用いることができる。 Further, as the transparent substrate, for example, the above-described organic material, for example, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), poly (Meth) acrylic resins, polycarbonate resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as various nylons, polyurethane resins, fluorine resins, acetal resins, cellulose resins, polyethers Two or more types can be used in combination with a sulfone resin or the like.

本発明においては、上記のような有機材料を用いて透明な基板とする場合には、１０μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも５０〜４００μｍの範囲内、特に１００〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲内より厚い場合は、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を作製する際に耐衝撃性が劣ることや、巻き取り時に巻き取りが困難となり、水蒸気や酸素等のガスバリア性の劣化が見られること等があるからである。また、上記範囲内より薄い場合には、機械適性が悪く、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性の低下が見られるからである。 In the present invention, when a transparent substrate is formed using the organic material as described above, it is preferably within a range of 10 μm to 500 μm, more preferably within a range of 50 to 400 μm, and particularly preferably within a range of 100 to 300 μm. . If it is thicker than the above range, the impact resistance is inferior when the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is produced, and winding becomes difficult during winding, and deterioration of gas barrier properties such as water vapor and oxygen is observed. This is because there are things to be done. Further, when the thickness is less than the above range, the mechanical suitability is poor, and the gas barrier property against water vapor, oxygen and the like is lowered.

また、透明性を有さない基板としては、例えば、アルミニウム、その合金等の金属、プラスチック、織物、不織布等を挙げることができる。 Moreover, as a board | substrate which does not have transparency, metals, such as aluminum and its alloy, a plastics, a textile fabric, a nonwoven fabric, etc. can be mentioned, for example.

また、本発明においては、基板を洗浄して用いることが好ましく、その洗浄方法としては、酸素、オゾン等による紫外光照射処理や、プラズマ処理、アルゴンスパッタ処理等を行うことが好ましい。これにより、水分や酸素の吸着のない状態とすることができ、ダークスポットの低減や電子表示媒体用ガスバリア膜の長寿命化を図ることが可能となるからである。 In the present invention, it is preferable to clean and use the substrate. As the cleaning method, it is preferable to perform ultraviolet light irradiation treatment with oxygen, ozone, etc., plasma treatment, argon sputtering treatment, or the like. This is because moisture and oxygen are not adsorbed, and dark spots can be reduced and the life of the gas barrier film for an electronic display medium can be extended.

（２）機能層
次に、本発明に用いられる機能層について説明する。本発明においては、例えば図２に示すように上記基板１１上に機能層１２が形成されていてもよい。機能層としては、通常、電子表示媒体に用いることができるものであれば特に限定されなく、例えば発光層、電極層、対向電極、色変換層、カラーフィルタ層等を挙げることができる。このような機能層の層構成としては、特に限定されるものではなく、例えば基板と電極層と発光層と対向電極とから構成されているもの、基板と電極層とカラーフィルタ層と発光層と対向電極とから構成されているもの、色変換層を有するもの、色変換層とカラーフィルタ層とから構成されているもの等、電子表示媒体用ガスバリア膜の用途等に応じて適宜選択されるものである。 (2) Functional layer Next, the functional layer used for this invention is demonstrated. In the present invention, for example, a functional layer 12 may be formed on the substrate 11 as shown in FIG. The functional layer is not particularly limited as long as it can be used for an electronic display medium, and examples thereof include a light emitting layer, an electrode layer, a counter electrode, a color conversion layer, and a color filter layer. The layer configuration of such a functional layer is not particularly limited. For example, the functional layer includes a substrate, an electrode layer, a light emitting layer, and a counter electrode, and a substrate, an electrode layer, a color filter layer, and a light emitting layer. Those composed of a counter electrode, those having a color conversion layer, those composed of a color conversion layer and a color filter layer, and the like, which are appropriately selected according to the use of a gas barrier film for an electronic display medium, etc. It is.

本発明において、後述する光学干渉中間層は、赤色の画素部が配置されるＲ領域と、緑色の画素部が配置されるＧ領域と、青色の画素部が配置されるＢ領域とを有するものであるが、ここでいう画素部とは、上記の機能層のうち発光層、色変換層、およびカラーフィルタ層を示すものである。 In the present invention, the optical interference intermediate layer described later has an R region in which a red pixel portion is disposed, a G region in which a green pixel portion is disposed, and a B region in which a blue pixel portion is disposed. However, the pixel portion referred to here indicates a light emitting layer, a color conversion layer, and a color filter layer among the above functional layers.

このような画素部は、例えば図３に示すように、基板１１上にパターン状に形成され、画素部１２は赤色を呈する赤色画素部１２Ｒと、緑色を呈する緑色画素部１２Ｇと、青色を呈する青色画素部１２Ｂとからなるものである。 For example, as illustrated in FIG. 3, such a pixel portion is formed in a pattern on the substrate 11. The pixel portion 12 has a red pixel portion 12 R that exhibits red, a green pixel portion 12 G that exhibits green, and a blue color. It consists of a blue pixel portion 12B.

本発明においては、上記赤色画素部、緑色画素部および青色画素部に対応する位置に形成された光学干渉中間層は、各色に対応してＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域を有し、ＲＧＢ各領域の膜厚が、対応する色の波長の光学干渉を生じさせるような厚みであることにより、ＲＧＢ各波長で光取出し効率を向上させることができる。 In the present invention, the optical interference intermediate layer formed at a position corresponding to the red pixel portion, the green pixel portion, and the blue pixel portion has an R region, a G region, and a B region corresponding to each color. When the thickness of the region is such a thickness that causes optical interference of the corresponding color wavelength, the light extraction efficiency can be improved at each of the RGB wavelengths.

本発明においては、上記画素部間の間隙の中心部の５μｍ〜５０μｍの範囲内を底辺とし、上記底辺の両端における上記光学干渉中間層の厚みの差を高さとしたとき、上記底辺の長さに対する上記高さの比が１／５以下であることが好ましく、より好ましくは１／１０以下、特に１／１００以下であることが好ましい。 In the present invention, when the difference between the thicknesses of the optical interference intermediate layers at both ends of the bottom is defined as the base within the range of 5 μm to 50 μm in the center of the gap between the pixel parts, the length of the base The ratio of the height to the height is preferably 1/5 or less, more preferably 1/10 or less, and particularly preferably 1/100 or less.

ここで、画素部間の間隙とは、例えば図４に示すように青色画素部１２Ｂと赤色画素部１２Ｒとの間隙２２ａをいう。
また、間隙２２ａの中心部の５μｍ〜５０μｍの範囲内を底辺２２ｂとする。画素部間の間隙の中心部の５μｍ〜５０μｍの範囲内とは、間隙２２ａの中心から面方向に片側２．５μｍ〜２５μｍの範囲ずつとるものとする。例えば、画素部間の間隙の中心部の１０μｍを底辺とする場合は、間隙２２ａの中心から面方向に片側５μｍずつとる。この底辺２２ｂは、画素部間の間隔２２ａの大きさによって異なるものであり、５μｍ〜５０μｍの範囲内で適宜選択される。なお、隣り合う画素部が接しており画素部間に間隙がない場合は、画素部間の境界を中心として、画素部間の境界から面方向に片側２．５μｍ〜２５μｍの範囲ずつとるものとする。
さらに、底辺２２ｂの両端における光学干渉中間層３の厚みの差を高さ２２ｃとする。 Here, the gap between the pixel portions refers to a gap 22a between the blue pixel portion 12B and the red pixel portion 12R, for example, as shown in FIG.
Further, the base 22b is defined as a range of 5 μm to 50 μm at the center of the gap 22a. Within the range of 5 μm to 50 μm at the center of the gap between the pixel parts is assumed to be in the range of 2.5 μm to 25 μm on one side in the plane direction from the center of the gap 22a. For example, when 10 μm at the center of the gap between the pixel portions is used as the base, the distance is 5 μm on each side from the center of the gap 22a in the plane direction. The base 22b varies depending on the size of the interval 22a between the pixel portions, and is appropriately selected within a range of 5 μm to 50 μm. When adjacent pixel portions are in contact with each other and there is no gap between the pixel portions, the range from 2.5 μm to 25 μm on one side is taken from the boundary between the pixel portions in the plane direction from the boundary between the pixel portions. To do.
Further, a difference in thickness of the optical interference intermediate layer 3 at both ends of the base 22b is defined as a height 22c.

このとき、上述したように底辺２２ｂの長さに対する高さ２２ｃの比が所定の範囲であることが好ましいのである。上記の比が大きすぎると、光学干渉中間層に急峻な部位が形成される可能性があるからである。光学干渉中間層に急峻な部分が存在すると、例えば本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を有機ＥＬ素子に用いた場合、電極層が形成されることとなるが、この電極層にも上記光学干渉中間層の急峻な部分が反映されることとなり、厚みの薄い有機ＥＬ素子に静電破壊等による欠陥が発生し易くなる。このような欠陥箇所は、発光不良箇所（ダークエリア）となり、表示品質を低下させる原因となる。また、画素部上にもダークエリアが発生するおそれがあり、有効画素部が小さくなる可能性がある。 At this time, as described above, the ratio of the height 22c to the length of the base 22b is preferably within a predetermined range. This is because if the ratio is too large, a steep portion may be formed in the optical interference intermediate layer. If there is a steep portion in the optical interference intermediate layer, for example, when the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used in an organic EL element, an electrode layer is formed. The steep portion of the intermediate layer is reflected, and defects due to electrostatic breakdown or the like are likely to occur in the thin organic EL element. Such a defective portion becomes a light emitting defective portion (dark area), which causes a reduction in display quality. In addition, a dark area may occur on the pixel portion, and the effective pixel portion may be reduced.

以下、このような機能層の例として、発光層、色変換層、カラーフィルタ層、および電極層について説明する。 Hereinafter, a light emitting layer, a color conversion layer, a color filter layer, and an electrode layer will be described as examples of such a functional layer.

（発光層）
本発明に用いられる発光層としては、蛍光を発する材料を含み発光する層であれば特に限定されないものである。 (Light emitting layer)
The light emitting layer used in the present invention is not particularly limited as long as it includes a material that emits fluorescence and emits light.

このような発光層に用いられる材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。 Examples of the material used for such a light emitting layer include a dye material, a metal complex material, and a polymer material.

上記色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。 Examples of the dye material include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine Examples thereof include a ring compound, a perinone derivative, a perylene derivative, an oligothiophene derivative, a trifumanylamine derivative, an oxadiazole dimer, and a pyrazoline dimer.

また、上記金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。 Examples of the metal complex materials include aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethyl zinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, etc. Or a metal complex having a rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy and having a ligand such as oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, or quinoline structure.

さらに、上記高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したもの等を挙げることができる。 Furthermore, the polymer materials include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, etc., polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, the above dye bodies, and metal complex light emitting materials. A polymerized product can be exemplified.

（色変換層）
本発明に用いられる色変換層は、発光層から発光される光を吸収し、可視光域蛍光を発光する蛍光材料を含有する層であり、発光層からの光を青色、赤色、緑色とすることができるものであれば、特に限定されるものではない。例えば、青色、赤色、緑色の３色の蛍光層をそれぞれ発光する色変換層が形成されていてもよく、また青色の発光層を用いて、青色の色変換層の代わりに透明樹脂層が形成されていてもよい。 (Color conversion layer)
The color conversion layer used in the present invention is a layer containing a fluorescent material that absorbs light emitted from the light emitting layer and emits fluorescence in the visible light region. The light from the light emitting layer is blue, red, and green. There is no particular limitation as long as it can be used. For example, a color conversion layer that emits light of three colors of blue, red, and green may be formed, and a transparent resin layer is formed in place of the blue color conversion layer using a blue light-emitting layer. May be.

上記色変換層には、通常、発光層からの光を吸収し、蛍光を発光する有機蛍光色素とマトリクス樹脂とが含有されるものである。 The color conversion layer usually contains an organic fluorescent dye that absorbs light from the light emitting layer and emits fluorescence and a matrix resin.

色変換層に用いられる有機蛍光色素は、発光層から発せられる近紫外領域または可視領域の光、特に青色または青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。通常、発光層としては、青色の発光層が用いられることから、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上を用いることが好ましく、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上と組み合わせることが好ましい。 The organic fluorescent dye used in the color conversion layer absorbs light in the near ultraviolet region or visible region emitted from the light emitting layer, particularly light in the blue or blue-green region, and emits visible light of different wavelengths as fluorescence. . Usually, since a blue light emitting layer is used as the light emitting layer, it is preferable to use at least one fluorescent dye that emits fluorescence in the red region, and it is combined with one or more fluorescent dyes that emit fluorescence in the green region. It is preferable.

すなわち、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する発光層を用いる場合、発光層からの光を単なる赤色カラーフィルタ層に通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまう。したがって、発光層からの青色ないし青緑色領域の光を、蛍光色素によって赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となるからである。 That is, when a light emitting layer that emits light in the blue or blue-green region is used as the light source, if light from the light emitting layer is simply passed through the red color filter layer to obtain light in the red region, the wavelength of the red region is originally Because there is little light, it becomes very dark output light. Therefore, by converting the light in the blue or blue-green region from the light emitting layer into the light in the red region by the fluorescent dye, the light in the red region having sufficient intensity can be output.

一方、緑色領域の光は、赤色領域の光と同様に、発光層からの光を別の有機蛍光色素によって緑色領域の光に変換させて出力してもよい。あるいはまた、発光層の発光が緑色領域の光を十分に含む場合には、発光層からの光を単に緑色カラーフィルタ層を通して出力してもよい。さらに、青色領域の光に関しては、発光層の光を蛍光色素を用いて変換させて出力させてもよいが、発光層の光を単なる青色カラーフィルタ層に通して出力させることが好ましい。 On the other hand, the light in the green region may be output by converting the light from the light emitting layer into the light in the green region by another organic fluorescent dye, similarly to the light in the red region. Alternatively, if the light emission of the light emitting layer sufficiently includes light in the green region, the light from the light emitting layer may be simply output through the green color filter layer. Furthermore, regarding the light in the blue region, the light in the light emitting layer may be converted and output using a fluorescent dye, but it is preferable to output the light in the light emitting layer through a simple blue color filter layer.

発光層から発する青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル〕−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。 Examples of fluorescent dyes that absorb light in the blue to blue-green region emitted from the light emitting layer and emit fluorescence in the red region include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, basic violet 11, Rhodamine dyes such as Basic Red 2, cyanine dyes, pyridine dyes such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium perchlorate (pyridine 1), Or an oxazine pigment | dye etc. are mentioned. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can be used if they are fluorescent.

また、発光層から発する青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば３−（２´−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２´−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、３−（２´−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。 Examples of fluorescent dyes that absorb blue to blue-green light emitted from the light emitting layer and emit green light include 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2'-Benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), 3- (2'-N-methylbenzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 30), 2, 3, 5 , 6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153) or the like, or coumarin dye-based basic yellow 51, and solvent Examples thereof include naphthalimide dyes such as yellow 11 and solvent yellow 116. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can be used if they are fluorescent.

なお、有機蛍光色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。また、これらの有機蛍光色素や有機蛍光顔料（以下、前記２つを合わせて有機蛍光色素と総称する）は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために２種以上を組み合わせて用いてもよい。 In addition, the organic fluorescent dye is previously added to polymethacrylic acid ester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, and a mixture of these resins. It may be kneaded into a pigment to obtain an organic fluorescent pigment. Further, these organic fluorescent dyes and organic fluorescent pigments (hereinafter collectively referred to as organic fluorescent dyes together) may be used alone or in combination of two or more in order to adjust the hue of fluorescence. May be.

上記有機蛍光色素は、色変換層に対して、その色変換層の重量を基準として０．０１〜５重量％、より好ましくは０．１〜２重量％含有される。有機蛍光色素の含有量が０．０１重量％未満の場合には、十分な波長変換を行うことができず、また上記含有量が５重量％を超える場合には、濃度消光等の効果により色変換効率が低下するからである。 The organic fluorescent dye is contained in the color conversion layer in an amount of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 2% by weight, based on the weight of the color conversion layer. When the content of the organic fluorescent dye is less than 0.01% by weight, sufficient wavelength conversion cannot be performed, and when the content exceeds 5% by weight, color quenching is caused by effects such as concentration quenching. This is because the conversion efficiency decreases.

また、マトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を、光および／または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものを用いることができ、色変換層のパターニングを行うために、上記光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。 In addition, the matrix resin is a photocurable or photothermal combination curable resin (resist) that is subjected to light and / or heat treatment to generate radical species or ionic species to be polymerized or crosslinked to be insoluble and infusible. In order to perform patterning of the color conversion layer, it is desirable that the photocurable or photothermal combination type curable resin is soluble in an organic solvent or an alkaline solution in an unexposed state.

このような光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、（ｉ）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物、（ii）ボリビニルケイ皮酸エステルと増感剤とからなる組成物、（iii）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物、および（iv）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物などを含む。特に（ｉ）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物が、高精細なパターニングが可能であること、および耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いことから好ましい。上述したように、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂に光および／または熱を作用させて、マトリクス樹脂を形成する。 Such a photocurable or photothermal combination type curable resin comprises (i) a composition comprising an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acryloyl groups and methacryloyl groups, and a photo or thermal polymerization initiator, (ii) A composition comprising a polyvinylcinnamic acid ester and a sensitizer, (iii) a composition comprising a chain or cyclic olefin and bisazide, and (iv) a composition comprising an epoxy group-containing monomer and an acid generator, etc. Including. In particular, the composition comprising the acrylic polyfunctional monomer and oligomer (i) and photo or thermal polymerization initiator is capable of high-definition patterning and has high reliability such as solvent resistance and heat resistance. To preferred. As described above, the matrix resin is formed by applying light and / or heat to the photocurable or photothermal combination type curable resin.

また、色変換層に用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。色変換層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。 The photopolymerization initiator, sensitizer and acid generator that can be used in the color conversion layer are preferably those that initiate polymerization by light having a wavelength that is not absorbed by the fluorescent conversion dye contained therein. In the color conversion layer, when the resin itself in the photocurable or photothermal combination type curable resin can be polymerized by light or heat, it is possible to add no photopolymerization initiator and thermal polymerization initiator. It is.

また、色変換層の膜厚は、５μｍ以上であることが好ましく、中でも８μｍ〜１５μｍの範囲内であることが好ましい。また、色変換層の形状は、目的とする電子表示媒体により適宜選択されるものであるが、例えば赤、青、および緑の矩形または円形の区域を１組としてそれぞれ基材上に形成してもよく、またストライプ状に形成してもよい。また、特定の色変換層を、他の色変換層より多く形成することも可能である。 The film thickness of the color conversion layer is preferably 5 μm or more, and more preferably in the range of 8 μm to 15 μm. The shape of the color conversion layer is appropriately selected depending on the target electronic display medium. For example, a red, blue, and green rectangular or circular area is formed as a set on the substrate. Alternatively, it may be formed in a stripe shape. It is also possible to form more specific color conversion layers than other color conversion layers.

（カラーフィルタ層）
本発明においては、必要に応じて、上記発光層上または上記色変換層上にカラーフィルタ層が形成されたものであってもよい。これにより、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて例えば有機ＥＬ素子等の電子表示媒体とした際に、色再現性の高い電子表示媒体とすることができるからである。 (Color filter layer)
In the present invention, a color filter layer may be formed on the light emitting layer or the color conversion layer as necessary. This is because when the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used to form an electronic display medium such as an organic EL element, an electronic display medium with high color reproducibility can be obtained.

本発明に用いられるカラーフィルタ層は、上述した発光層から発せられた光または色変換層を透過した光の色調をさらに調整する層であり、上述した発光層または色変換層の各色と対応した位置に、それぞれ青色、赤色、緑色のカラーフィルタ層が形成される。このようなカラーフィルタ層が形成されることにより、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を電子表示媒体に用いた場合、高純度な発色とすることができ、色再現性の高いものとすることができる。 The color filter layer used in the present invention is a layer that further adjusts the color tone of light emitted from the light emitting layer described above or transmitted through the color conversion layer, and corresponds to each color of the light emitting layer or color conversion layer described above. Blue, red, and green color filter layers are formed at the positions, respectively. By forming such a color filter layer, when the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used for an electronic display medium, it is possible to achieve high-purity color development and high color reproducibility. Can do.

上記カラーフィルタ層の形成材料としては、通常カラーフィルタに用いることが可能な顔料や樹脂を用いることができる。また、各色の間にブラックマトリックスが形成されるものであってもよい。 As a material for forming the color filter layer, pigments and resins that can be used for color filters can be used. Further, a black matrix may be formed between the colors.

（電極層）
本発明に用いられる電極層は、陽極であっても、陰極であってもよく、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の用途に応じて適宜選択されるものである。陽極としては、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく、また陰極としては、電子が注入しやすいように仕事関数の小さな導電性材料であることが好ましい。また、複数の材料を混合させてもよい。いずれの電極層も、抵抗はできるだけ小さいものが好ましく、一般には、金属材料が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。 (Electrode layer)
The electrode layer used in the present invention may be an anode or a cathode, and is appropriately selected according to the use of the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention. The anode is preferably a conductive material having a high work function so that holes can be easily injected, and the cathode is preferably a conductive material having a low work function so that electrons can be easily injected. A plurality of materials may be mixed. Each of the electrode layers preferably has a resistance as small as possible. Generally, a metal material is used, but an organic material or an inorganic compound may be used.

本発明に用いられる電極層が陽極である場合には、安定な電極層であり、かつ表面が平坦であり、さらに台形状の断面を有するものであることが好ましい。具体的な例としては、酸化錫膜、酸化インジウムと酸化錫との複合酸化物膜（ＩＴＯ膜）、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物膜（ＩＺＯ膜）等が挙げられる。 When the electrode layer used in the present invention is an anode, it is preferably a stable electrode layer, a flat surface, and a trapezoidal cross section. Specific examples include a tin oxide film, a composite oxide film of indium oxide and tin oxide (ITO film), a composite oxide film of indium oxide and zinc oxide (IZO film), and the like.

また、電極層が陰極である場合には、可視光を反射する性質を有し、かつ表面が平坦であり、酸化しにくく安定なものであることが好ましい。具体的な例としては、単体としてＡｌ、Ｃｓ、Ｅｒ等、合金として、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＡｌＬｉ、ＡｌＭｇ、ＣｓＴｅ等、積層として、Ｃａ／Ａｌ、ＭｇＡｌ、Ｌｉ／Ａｌ、Ｃｓ／Ａｌ、Ｃｓ_２Ｏ／Ａｌ、ＬｉＦ／Ａｌ、ＥｒＦ_３／Ａｌ等が挙げられる。 Further, when the electrode layer is a cathode, it is preferable that the electrode layer has a property of reflecting visible light, has a flat surface, is hardly oxidized, and is stable. As specific examples, Al, Cs, Er, etc. as a simple substance, MgAg, AlLi, AlLi, AlMg, CsTe, etc. as alloys, Ca / Al, MgAl, Li / Al, Cs / Al, Cs ₂ O as laminates, etc. / Al, LiF / Al, ErF ₃ / Al, and the like.

２．第１バリア層
次に、本発明に用いられる第１バリア層について説明する。本発明に用いられる第１バリア層としては、電気絶縁性を有し、かつ有機溶剤に対して耐性を有することが好ましく、さらに可視光に対して透過率が５０％以上、中でも８５％以上であることが好ましい。これにより、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて電子表示媒体とした際に、明度の高いものとすることができるからである。ここで、可視光に対する透過率は、スガ試験株式会社製全光線透過率装置（ＣＯＬＯＵＲＳ＆ＭＣＯＭＰＵＴＥＲＭＯＤＥＬＳＭ−Ｃ：型番）を用いて測定した値である。 2. First Barrier Layer Next, the first barrier layer used in the present invention will be described. The first barrier layer used in the present invention preferably has electrical insulation and resistance to organic solvents, and has a transmittance of 50% or more, more than 85% for visible light. Preferably there is. This is because, when the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used to form an electronic display medium, the brightness can be increased. Here, the transmittance | permeability with respect to visible light is the value measured using the Suga Test Co., Ltd. total light transmittance apparatus (COLOUR S & M COMPUTER MODEL SM-C: model number).

本発明に用いられる第１バリア層は、上述したような性質を有するものであれば、その材料は特に限定されるものではない。例えば、無機酸化膜、無機酸化窒化膜、無機窒化膜、または金属膜のいずれか１種または２種以上を組み合わせたものを使用することができる。上記無機酸化膜としては、酸化ケイ素膜、酸化窒化ケイ素膜、酸化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜、酸化チタン膜、酸化スズ膜、酸化インジウム合金膜が挙げられる。また、上記無機窒化膜としては、窒化ケイ素膜、窒化アルミニウム膜、窒化チタン膜が挙げられる。さらに、上記金属膜としては、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜が挙げられる。 The material of the first barrier layer used in the present invention is not particularly limited as long as it has the properties described above. For example, an inorganic oxide film, an inorganic oxynitride film, an inorganic nitride film, or a metal film that is a combination of one or more can be used. Examples of the inorganic oxide film include a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, an aluminum oxide film, a magnesium oxide film, a titanium oxide film, a tin oxide film, and an indium oxide alloy film. Examples of the inorganic nitride film include a silicon nitride film, an aluminum nitride film, and a titanium nitride film. Furthermore, examples of the metal film include an aluminum film, a silver film, a tin film, a chromium film, a nickel film, and a titanium film.

また、上記の材料の中でも、酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜であることが好ましい。これらの材料は、上記画素部との密着性が良好であるからである。このような酸化ケイ素の薄膜は、有機ケイ素化合物を原料として形成することができる。この有機ケイ素化合物として、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。 Among the above materials, a silicon oxide film or a silicon oxynitride film is preferable. This is because these materials have good adhesion to the pixel portion. Such a silicon oxide thin film can be formed using an organosilicon compound as a raw material. Specific examples of the organosilicon compound include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, and propylsilane. , Phenylsilane, vinyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane and the like. Among the organosilicon compounds, tetramethoxysilane (TMOS) and hexamethyldisiloxane (HMDSO) are preferably used. This is because these are excellent in handleability and vapor deposition film characteristics.

また、本発明においては、ガスバリア性を向上させるために、上記のバリア膜を複数層積層してもよく、その組み合わせは同種、異種を問わない。 Moreover, in this invention, in order to improve gas barrier property, you may laminate | stack two or more said barrier films, and the combination does not ask | require the same kind or a different kind.

ここで、本発明においては、上述したような第１バリア層の膜厚は、その材料により適宜選択されるものであるが、通常５ｎｍ〜５０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、特に上記酸化アルミニウム膜、または酸化ケイ素膜の場合には、１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。第１バリア層の膜厚が上記範囲よりも薄いと、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性の低下が見られるからである。また、第１バリア層の膜厚が上記範囲よりも厚い場合には、例えば本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を作製する際に、クラック等が入る可能性があり、これにより水蒸気、酸素ガス等に対するガスバリア性の劣化が見られるからである。 Here, in the present invention, the film thickness of the first barrier layer as described above is appropriately selected depending on the material, but it is usually preferably in the range of 5 nm to 5000 nm, and more preferably 5 nm to 500 nm. It is preferable to be within the range. In particular, in the case of the aluminum oxide film or the silicon oxide film, the thickness is preferably in the range of 10 nm to 300 nm. This is because if the thickness of the first barrier layer is thinner than the above range, a decrease in gas barrier properties against water vapor, oxygen and the like can be seen. Further, when the film thickness of the first barrier layer is thicker than the above range, for example, when the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is produced, cracks or the like may be generated. This is because deterioration of gas barrier properties against the above is observed.

３．第２バリア層
次に、本発明に用いられる第２バリア層について説明する。本発明に用いられる第２バリア層は、後述する光学干渉中間層上に形成されるものである。 3. Second Barrier Layer Next, the second barrier layer used in the present invention will be described. The second barrier layer used in the present invention is formed on an optical interference intermediate layer described later.

本発明において、第２バリア層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、１０ｎｍ以下であることが好ましく、中でも５〜７ｎｍの範囲内であることが好ましい。本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて例えば有機ＥＬ素子とする際に、この第２バリア層上に電極層が形成される場合があるが、第２バリア層に凹凸が存在すると、第２バリア層上に形成される電極層にもこの凹凸形状が反映されることとなり、厚みの薄い有機ＥＬ素子に静電破壊等による欠陥が発生し易くなる。このような欠陥箇所は不良箇所（ダークエリア）となり、表示品質を低下させる原因となる。よって、上記第２バリア層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）が上記範囲であることにより、上述したようなダークエリアの発生を抑制することができ、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて電子表示媒体とした場合に、良好な画像表示を得ることが可能となるからである。 In the present invention, the maximum surface roughness (Rmax) of the second barrier layer is preferably 10 nm or less, and more preferably in the range of 5 to 7 nm. When the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used to form, for example, an organic EL element, an electrode layer may be formed on the second barrier layer. This uneven shape is also reflected in the electrode layer formed on the two barrier layers, and defects due to electrostatic breakdown or the like are likely to occur in the thin organic EL element. Such a defective portion becomes a defective portion (dark area), which causes a reduction in display quality. Therefore, when the maximum surface roughness (Rmax) of the second barrier layer is in the above range, the occurrence of the dark area as described above can be suppressed, and the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used. This is because a good image display can be obtained when the electronic display medium is used.

また、本発明においては、第２バリア層表面の尖度が、６．０以下であることが好ましく、中でも３以下であることが好ましい。第２バリア層表面の尖度が上述した範囲であることにより、上述したように、例えば本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて有機ＥＬ素子とした際に、有機ＥＬ素子に静電破壊等を生じさせるような急峻な部位が形成されないため、ダークエリアの発生を抑制することができ、良好な画像表示を得ることが可能となる。 In the present invention, the kurtosis of the second barrier layer surface is preferably 6.0 or less, and more preferably 3 or less. When the kurtosis of the surface of the second barrier layer is in the above-described range, as described above, for example, when an organic EL element is formed using the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, the organic EL element is electrostatically broken. As a result, a steep portion that causes such a problem is not formed, so that the occurrence of dark areas can be suppressed and a good image display can be obtained.

ここで、上記尖度とは、表面に存在する突起の急峻の程度を示すパラメータであり、数値が低い程、突起形状はなだらかなものとなる。なお、上記尖度は、デジタルインストルメント社製のディメンジョン３０００シリーズ測定ソフトｖｅｒ．４．３１リリース３にて測定評価を行うものとする。 Here, the kurtosis is a parameter indicating the degree of steepness of the protrusions existing on the surface. The lower the numerical value, the gentler the protrusion shape. The kurtosis is measured with the Dimension 3000 series measurement software ver. Measurement evaluation shall be performed at 4.31 Release 3.

また、上記第２バリア層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）が１０ｎｍより大きくても、急峻な部位が存在しない場合は問題がなく、一方、Ｒｍａｘが１０ｎｍ以下であっても、急峻な部位が存在する場合、上述したように電子表示媒体に悪影響を与え、品質表示が低下するおそれがある。 In addition, even if the maximum surface roughness (Rmax) of the second barrier layer is larger than 10 nm, there is no problem when there is no steep portion, while there is a steep portion even when Rmax is 10 nm or less. In this case, as described above, the electronic display medium may be adversely affected and the quality display may be reduced.

なお、本発明において、上記第２バリア層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、走査型プローブ顕微鏡（デジタルインスツルメント（株）製ＳＰＭ：Ｄ−３０００）を用い、下記の条件にて観察範囲５μｍ^２で測定した値を用いるものとする。 In the present invention, the maximum surface roughness (Rmax) of the second barrier layer is an observation range using a scanning probe microscope (SPM: D-3000 manufactured by Digital Instruments Co., Ltd.) under the following conditions. The value measured at 5 μm ² shall be used.

（測定条件）
タッピングモード
設定ポイント：１．６程度
スキャンライン：２５６
周波数：０．８Ｈｚ (Measurement condition)
Tapping mode Setting point: about 1.6 Scan line: 256
Frequency: 0.8Hz

なお、第２バリア層のその他のことに関しては、上述した「２．第１バリア層」に記載したものと同様であるので、ここでの記載は省略する。 The other aspects of the second barrier layer are the same as those described in “2. First Barrier Layer” described above, and are not described here.

４．光学干渉中間層
次に、本発明に用いられる光学干渉中間層について説明する。本発明において、光学干渉中間層は、上記第１バリア層上に形成されるものであり、赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とを有し、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域が、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚を有することを特徴とするものである。 4). Next, the optical interference intermediate layer used in the present invention will be described. In the present invention, the optical interference intermediate layer is formed on the first barrier layer, and includes an R region in which a red (R) pixel portion is disposed and a green (G) pixel portion. A G region and a B region in which a blue (B) pixel portion is disposed, and the R region, the G region, and the B region have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color. It is a feature.

本発明に用いられる光学干渉中間層は、例えば図１に示すように、第１バリア層２と第２バリア層４との間に形成されており、赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域３Ｒと、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域３Ｇと、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域３Ｂとを有するものである。このＲ領域、Ｇ領域、およびＢ領域は、ＲＧＢ各色に対応する波長の光が干渉するような膜厚を有している。 For example, as shown in FIG. 1, the optical interference intermediate layer used in the present invention is formed between the first barrier layer 2 and the second barrier layer 4, and the red (R) pixel portion is disposed. It has an R region 3R, a G region 3G in which a green (G) pixel portion is disposed, and a B region 3B in which a blue (B) pixel portion is disposed. The R region, G region, and B region have film thicknesses such that light of wavelengths corresponding to RGB colors interfere with each other.

本発明によれば、上記第１バリア層、光学干渉中間層および上記第２バリア層が順次積層されていることにより、第１バリア層にピンホールが存在する場合でも、第１バリア層上に光学干渉中間層を形成することによりこのピンホールが埋められ、さらにその光学干渉中間層上に第２バリア層を形成することにより、第１バリア層から第２バリア層表面まで貫通するピンホールの発生を抑制することができ、酸素や水蒸気等の浸入を妨げることが可能となる。さらに、本発明においては、ＲＧＢ各色の画素部が配置される光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の膜厚が、その色の波長の光が干渉を起こし、強め合うような厚みとすることにより、光取出し効率が向上し、高輝度の画像表示を得ることが可能となる。 According to the present invention, the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer are sequentially stacked, so that even when a pinhole is present in the first barrier layer, the first barrier layer is formed on the first barrier layer. This pinhole is filled by forming the optical interference intermediate layer, and further, by forming the second barrier layer on the optical interference intermediate layer, pinholes penetrating from the first barrier layer to the surface of the second barrier layer are formed. Generation | occurrence | production can be suppressed and it becomes possible to prevent penetration | invasion of oxygen, water vapor | steam, etc. Furthermore, in the present invention, the thicknesses of the R region, G region, and B region of the optical interference intermediate layer in which the RGB color pixel portions are arranged are such that the light of the wavelengths of the colors cause interference and strengthen each other. As a result, the light extraction efficiency is improved, and a high-luminance image display can be obtained.

例えば、Ｒ領域では、赤色の波長の光が干渉を生じるような厚みとすることにより、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて有機ＥＬ素子とした際に、発光層から発光され、第２バリア層側から光学干渉中間層に透過する透過光と、基材側からの環境光（外光）とが干渉を起こし、強め合うため、赤色光がより赤色に観察されるのである。 For example, in the R region, by setting the thickness such that light with a red wavelength causes interference, when the organic EL element is formed using the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, light is emitted from the light emitting layer, 2) The transmitted light transmitted from the barrier layer side to the optical interference intermediate layer and the ambient light (external light) from the substrate side cause interference and strengthen each other, so that red light is observed in red.

本発明においては、光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の膜厚を下記式により求めることができる。
ｎｄ＝λ／４
（式中、ｎｄは光学膜厚、ｎは屈折率、ｄは膜厚、λは波長を表す。）
ここで、可視光線は３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内の電磁波であり、赤色の波長は６００〜７８０ｎｍの範囲内、緑色の波長は５００〜６００ｎｍの範囲内、青色の波長は３８０〜５８０ｎｍの範囲内である。このとき、赤色の波長の平均値を６９０ｎｍ、緑色の波長の平均値を５５０ｎｍ、青色の波長の平均値を４８０ｎｍとし、光学干渉中間層の屈折率を１．５と仮定する。
上記式より、光学干渉中間層のＲ領域の膜厚ｄ（Ｒ）、Ｇ領域の膜厚ｄ（Ｇ）およびＢ領域の膜厚ｄ（Ｂ）は、それぞれ次のように求められる。
ｄ（Ｒ）＝１３０ｎｍ
ｄ（Ｇ）＝９２ｎｍ
ｄ（Ｂ）＝６３ｎｍ In the present invention, the film thicknesses of the R region, the G region, and the B region of the optical interference intermediate layer can be obtained by the following formula.
nd = λ / 4
(In the formula, nd represents the optical film thickness, n represents the refractive index, d represents the film thickness, and λ represents the wavelength.)
Here, the visible light is an electromagnetic wave in the range of 380 nm to 780 nm, the red wavelength is in the range of 600 to 780 nm, the green wavelength is in the range of 500 to 600 nm, and the blue wavelength is in the range of 380 to 580 nm. is there. At this time, it is assumed that the average value of the red wavelength is 690 nm, the average value of the green wavelength is 550 nm, the average value of the blue wavelength is 480 nm, and the refractive index of the optical interference intermediate layer is 1.5.
From the above formula, the film thickness d (R) of the R region, the film thickness d (G) of the G region, and the film thickness d (B) of the B region of the optical interference intermediate layer are obtained as follows.
d (R) = 130 nm
d (G) = 92 nm
d (B) = 63 nm

また、上記光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の膜厚は、上記のようにして求めた膜厚の整数倍であってもよい。 The film thicknesses of the R region, G region, and B region of the optical interference intermediate layer may be an integral multiple of the film thickness obtained as described above.

このように光学干渉中間層の膜厚は、光学干渉中間層の屈折率等によって異なるものではあるが、具体的に５０ｎｍ〜６μｍ、中でも５０ｎｍ〜１８０ｎｍ、特に６０ｎｍ〜１３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記光学干渉中間層の膜厚が上述した範囲未満である場合、第１バリア層または第２バリア層に存在するピンホールを埋めることができず、十分なガスバリア性が得られない可能性があり、一方、上記光学干渉中間層の膜厚が上記範囲を超えて大きい場合、光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚の差が大きくなり、平坦性が損なわれ、ダークエリアが発生する可能性があるからである。 Thus, although the film thickness of the optical interference intermediate layer varies depending on the refractive index of the optical interference intermediate layer, it is specifically 50 nm to 6 μm, especially 50 nm to 180 nm, and particularly 60 nm to 130 nm. preferable. When the film thickness of the optical interference intermediate layer is less than the above range, pinholes existing in the first barrier layer or the second barrier layer cannot be filled, and sufficient gas barrier properties may not be obtained. On the other hand, if the film thickness of the optical interference intermediate layer is larger than the above range, the difference in film thickness between the RGB regions of the optical interference intermediate layer becomes large, flatness is impaired, and dark areas may occur. Because there is.

また、上述した光学干渉中間層の膜厚によって異なるものではあるが、光学干渉中間層の最大膜厚と最小膜厚との差が、１３０ｎｍ以下、中でも７０ｎｍ以下であることが好ましい。例えば図４に示すように、上記最大膜厚と最小膜厚との差２１が上述した範囲より大きい場合、膜厚の段差が大きくなり、急峻な部位が形成される可能性があるからである。光学干渉中間層に急峻な部分が存在すると、例えば本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を有機ＥＬ素子に用いた際に、第２バリア層上に電極層が形成される場合があるが、この電極層にも上記光学干渉中間層の急峻な部分が反映されることとなり、厚みの薄い有機ＥＬ素子に静電破壊等による欠陥、ダークエリアが発生し易くなる。 Further, although it varies depending on the film thickness of the optical interference intermediate layer described above, the difference between the maximum film thickness and the minimum film thickness of the optical interference intermediate layer is preferably 130 nm or less, particularly preferably 70 nm or less. For example, as shown in FIG. 4, when the difference 21 between the maximum film thickness and the minimum film thickness is larger than the above-described range, the step of the film thickness becomes large and a steep portion may be formed. . When a steep portion exists in the optical interference intermediate layer, for example, when the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used in an organic EL element, an electrode layer may be formed on the second barrier layer. The steep portion of the optical interference intermediate layer is also reflected in the electrode layer, and defects and dark areas due to electrostatic breakdown or the like are likely to occur in the thin organic EL element.

上記光学干渉中間層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、２０ｎｍ以下、中でも１０ｎｍ以下であることが好ましい。上述したように、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて例えば有機ＥＬ素子とする際に、上記第２バリア層上に電極層が形成されるが、光学干渉中間層に凹凸が存在すると、第２バリア層上に形成される電極層にもこの凹凸形状が反映されることとなり、厚みの薄い有機ＥＬ素子に静電破壊等による欠陥、すなわちダークエリアが発生し易くなる。よって、上記光学干渉中間層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）が上述した範囲であることにより、ダークエリアの発生を抑制することができ、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて電子表示媒体とした場合に、良好な画像表示を得ることが可能となるからである。 The maximum surface roughness (Rmax) of the optical interference intermediate layer is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less. As described above, when an organic EL element is formed using the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, for example, an electrode layer is formed on the second barrier layer, but there are irregularities in the optical interference intermediate layer. This uneven shape is also reflected in the electrode layer formed on the second barrier layer, and defects due to electrostatic breakdown or the like, that is, dark areas are likely to occur in the thin organic EL element. Therefore, when the maximum surface roughness (Rmax) of the optical interference intermediate layer is in the above-described range, the generation of dark areas can be suppressed, and the electronic display medium can be obtained using the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention. This is because a good image display can be obtained.

また、本発明においては、上記光学干渉中間層におけるＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の屈折率が、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順に小さくなることが好ましい。ＲＧＢ各領域において光学干渉を発生させるような膜厚とする場合、上述の式により膜厚を求めることができ、ＲＧＢ各領域の膜厚は、各色の波長を考慮して、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順に薄くなる。光学干渉を生じさせるには、元の光学干渉中間層の形成材料より屈折率の高い材料を用いて形成すれば、その膜厚は元の膜厚より薄くなる。一方、屈折率の低い材料を用いて形成すれば、その膜厚は厚くなる。よって、最も膜厚の厚いＲ領域の屈折率をより高くし、最も膜厚の薄いＢ領域の屈折率をより低くすることにより、Ｒ領域の膜厚は薄くなり、Ｂ領域の膜厚は厚くなるため、ＲＧＢ各領域の膜厚の差を小さくすることができ、光学干渉中間層を平坦化することが可能となる。これにより、上述したように、ダークエリアの発生を抑制することができ、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて電子表示媒体とした場合に、良好な画像表示を得ることが可能となる。 In the present invention, it is preferable that the refractive indexes of the R region, the G region, and the B region in the optical interference intermediate layer decrease in the order of the R region, the G region, and the B region. When the film thickness is such that optical interference is generated in each of the RGB regions, the film thickness can be obtained by the above-described formula. , B region becomes thinner in order. In order to cause optical interference, if a material having a refractive index higher than that of the original optical interference intermediate layer is formed, the film thickness becomes thinner than the original film thickness. On the other hand, if a material having a low refractive index is used, the film thickness increases. Therefore, by increasing the refractive index of the thickest R region and decreasing the refractive index of the thinnest B region, the R region is thinned and the B region is thick. Therefore, the difference in film thickness between the RGB regions can be reduced, and the optical interference intermediate layer can be flattened. Thereby, as described above, the occurrence of dark areas can be suppressed, and when an electronic display medium is formed using the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, a good image display can be obtained. .

本発明においては、光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の屈折率を下記式により求めることができる。
ｎｄ＝λ／４
（式中、ｎは屈折率、ｄは膜厚、λは波長を表す。）
このとき、赤色の波長の平均値を６９０ｎｍ、緑色の波長の平均値を５５０ｎｍ、青色の波長の平均値を４８０ｎｍとし、光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の膜厚を１００ｎｍと仮定する。
上記式より、光学干渉中間層のＲ領域の屈折率ｎ（Ｒ）、Ｇ領域の屈折率ｎ（Ｇ）およびＢ領域の屈折率ｎ（Ｂ）は、それぞれ次のように求められる。
ｎ（Ｒ）＝１．７
ｎ（Ｇ）＝１．３
ｎ（Ｂ）＝１．２
このように光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の屈折率が、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順に小さくなることにより、光学干渉中間層の膜厚を一定にすることができ、平坦化が可能となるのである。 In the present invention, the refractive indexes of the R region, G region, and B region of the optical interference intermediate layer can be obtained by the following formula.
nd = λ / 4
(In the formula, n represents the refractive index, d represents the film thickness, and λ represents the wavelength.)
At this time, the average value of the red wavelength is 690 nm, the average value of the green wavelength is 550 nm, the average value of the blue wavelength is 480 nm, and the film thicknesses of the R region, G region, and B region of the optical interference intermediate layer are 100 nm. Assume.
From the above formula, the refractive index n (R) of the R region, the refractive index n (G) of the G region, and the refractive index n (B) of the B region of the optical interference intermediate layer are obtained as follows.
n (R) = 1.7
n (G) = 1.3
n (B) = 1.2
Thus, the refractive index of the R region, G region, and B region of the optical interference intermediate layer decreases in the order of R region, G region, and B region, so that the film thickness of the optical interference intermediate layer can be made constant. It is possible to flatten.

この際、Ｒ領域とＧ領域との屈折率差、およびＧ領域とＢ領域との屈折率差は、目的とするＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域の膜厚によって異なるものではあるが、具体的には、Ｒ領域とＧ領域との屈折率としては０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上である。また、材料の選択性の観点から、上限は０．５程度である。一方、Ｇ領域とＢ領域との屈折率差としては０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上である。また、材料の選択性の観点から、上限は０．３程度である。この場合も同様に、屈折率差が上記範囲であることにより、光学干渉中間層を平坦化することができ、ダークエリアの発生を抑制することが可能となり、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜を用いて電子表示媒体とした場合に、良好な画像表示を得ることが可能となるからである。ここで、上記屈折率は、Ｒ領域、Ｇ領域またはＢ領域の形成材料をアッベ屈折率計を用いて測定した値とする。 At this time, the difference in refractive index between the R region and the G region and the difference in refractive index between the G region and the B region differ depending on the film thicknesses of the target R region, G region, and B region. The refractive index of the R region and the G region is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.2 or more. From the viewpoint of material selectivity, the upper limit is about 0.5. On the other hand, the difference in refractive index between the G region and the B region is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.2 or more. From the viewpoint of material selectivity, the upper limit is about 0.3. Similarly, in this case, since the refractive index difference is within the above range, the optical interference intermediate layer can be flattened, and the occurrence of dark areas can be suppressed. The gas barrier film for an electronic display medium of the present invention This is because a good image display can be obtained when an electronic display medium is used. Here, the refractive index is a value obtained by measuring the forming material of the R region, G region, or B region using an Abbe refractometer.

このような光学干渉中間層としては、第１バリア層および第２バリア層のピンホール等を埋めることができる材料であれば特に限定されるものではないが、例えばポリアミック酸、ポリエチレン樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオール樹脂、ポリ尿素樹脂、ポリアゾメチン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等の樹脂材料、二官能エポキシ樹脂と二官能フェノール類との重合体である高分子量エポキシ重合体を含有する硬化性エポキシ樹脂、および上述の基材の形成材料として用いることできる樹脂材料を使用することができる。また、アルキルチタネート等の有機チタン系樹脂、イソシアネート系樹脂、ポリエチレンイミン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、カゼイン、ワックス、ポリブタジエン系樹脂、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリブテンポリマー、ポリエチレン、またはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の樹脂材料も使用することができる。 Such an optical interference intermediate layer is not particularly limited as long as it is a material capable of filling the pinholes and the like of the first barrier layer and the second barrier layer. For example, polyamic acid, polyethylene resin, melamine resin , Polyurethane resin, polyester resin, polyol resin, polyurea resin, polyazomethine resin, polycarbonate resin, polyacrylate resin, polystyrene resin, polyacrylonitrile resin, polyethylene naphthalate resin, bifunctional epoxy resin and bifunctional phenols A curable epoxy resin containing a high-molecular-weight epoxy polymer that is a polymer, and a resin material that can be used as a material for forming the above-described base material can be used. Also, organic titanium resins such as alkyl titanates, isocyanate resins, polyethyleneimine resins, polybutadiene resins, polyamide resins, epoxy resins, polyacrylic resins, polyvinyl acetate resins, polyolefin resins, casein, waxes , Polybutadiene resin, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene -Polyolefin resins such as methyl methacrylate copolymer, ethylene-propylene copolymer, methyl pentene polymer, polybutene polymer, polyethylene, or polypropylene are treated with acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride Can fumaric acid, acid-modified polyolefin resin modified with an unsaturated carboxylic acid such as itaconic acid, polyvinyl acetate resin, polyacrylic resin, also resin material such as polyvinyl chloride resin used.

また、光学干渉中間層の形成材料として、感光性樹脂を用いることもできる。感光性樹脂としては、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を挙げることができる。光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、光および／または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものであり、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。 A photosensitive resin can also be used as a material for forming the optical interference intermediate layer. Examples of the photosensitive resin include photo-curable or photothermal combination type curable resins. A photocurable or photothermal combination type curable resin is a resin that has been subjected to light and / or heat treatment to generate radical species or ionic species to be polymerized or crosslinked to be insoluble and infusible, and in an unexposed state, an organic solvent. Or it is desirable to be soluble in an alkaline solution.

このような光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を含む感光性樹脂組成物としては、（ｉ）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる感光性樹脂組成物、（ii）ボリビニルケイ皮酸エステルと増感剤とからなる感光性樹脂組成物、（iii）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる感光性樹脂組成物、および（iv）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる感光性樹脂組成物などを挙げることができる。特に（ｉ）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる感光性樹脂組成物が、高精細なパターニングが可能であること、および耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いことから好ましい。上述したように、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂に光および／または熱を作用させて、感光性樹脂を形成する。 The photosensitive resin composition containing such a photocurable or photothermal combination type curable resin includes (i) an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acroyl groups and methacryloyl groups, and a photo or thermal polymerization initiator. (Ii) a photosensitive resin composition comprising a polyvinylcinnamic acid ester and a sensitizer, (iii) a photosensitive resin composition comprising a chain or cyclic olefin and bisazide, and (iv) And a photosensitive resin composition comprising a monomer having an epoxy group and an acid generator. In particular, the photosensitive resin composition comprising the acrylic polyfunctional monomer and oligomer (i) and light or thermal polymerization initiator can be patterned with high precision, and has reliability such as solvent resistance and heat resistance. Is preferable because it is high. As described above, the photosensitive resin is formed by applying light and / or heat to the photocurable or photothermal combination type curable resin.

さらに、光学干渉中間層の形成材料としては、金属アルコキシドを用いることもできる。金属アルコキシドの金属元素としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｎａ等を挙げることができる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメトキシメチルシラン、ジメチルジエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等のジルコニウムアルコキシド化合物；テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラブトキシチタニウム等のチタニウムアルコキシド化合物等を挙げることができる。これらの金属アルコキシドは、１種または２種以上を組み合わせて使用することもできる。上記の金属アルコキシドとしては、その取扱性、硬化反応性、経済性、その他等の点から、特に、アルコキシシラン化合物を使用することが好ましい。 Furthermore, a metal alkoxide can also be used as a material for forming the optical interference intermediate layer. Examples of the metal element of the metal alkoxide include Si, Al, Sr, Ba, Pb, Ti, Zr, La, and Na. Specifically, alkoxysilane compounds such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethyldimethoxysilane, trimethoxymethylsilane, dimethyldiethoxysilane; tetramethoxyzirconium, tetraethoxyzirconium, tetra Examples thereof include zirconium alkoxide compounds such as isopropoxyzirconium and tetrabutoxyzirconium; titanium alkoxide compounds such as tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium and tetrabutoxytitanium. These metal alkoxides can be used alone or in combination of two or more. As said metal alkoxide, it is preferable to use an alkoxysilane compound especially from points, such as the handleability, hardening reactivity, economical efficiency, etc.

また、上記金属アルコキシドには、シランカップリング剤を架橋剤等として添加することができる。シランカップリング剤としては、例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリコーンの１種または２種以上を組み合わせて使用することができる。その使用量としては、微量添加するだけでよい。 Moreover, a silane coupling agent can be added to the metal alkoxide as a crosslinking agent or the like. Examples of the silane coupling agent include γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyl silicone Also Can be used in combination of two or more. As the amount of use, it is only necessary to add a trace amount.

このような金属アルコキシドは、水またはアルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応を起こし、または、この反応の過程や反応終了後に有機物や触媒を添加し、高分子化して、加熱することにより、非晶質のセラミック質の透明な膜を形成することができる。この金属アルコキシドを用いて形成される膜は、ガスバリア性が高いことから、光学干渉中間層として有用である。 Such metal alkoxides undergo hydrolysis and polycondensation reactions in the presence of water or alcohol, or by adding an organic substance or catalyst after the reaction process or completion of the reaction, polymerizing it, and heating. An amorphous ceramic transparent film can be formed. A film formed using this metal alkoxide is useful as an optical interference intermediate layer because of its high gas barrier property.

本発明においては、後述する光学干渉中間層のパターニング方法により、用いる材料を適宜選択する必要がある。例えば、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングする場合は感光性樹脂を用いるが、光触媒を用いてパターニングする場合は特に限定されない。 In the present invention, it is necessary to appropriately select a material to be used by an optical interference intermediate layer patterning method described later. For example, in the case of patterning using a photolithography method, a photosensitive resin is used, but the patterning using a photocatalyst is not particularly limited.

また、本発明において、上述したように、光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域に屈折率の異なる材料を用いてもよいものである。よって、この場合も同様に、用いる材料を適宜選択する必要がある。 In the present invention, as described above, materials having different refractive indexes may be used for the R region, the G region, and the B region of the optical interference intermediate layer. Therefore, in this case as well, it is necessary to select a material to be used as appropriate.

本発明においては、上記光学干渉中間層と上記第１バリア層との間に、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層または光触媒含有濡れ性変化層が形成されていてもよい。上記濡れ性変化層または光触媒含有濡れ性変化層を有することにより、容易に濡れ性の変化したパターンを用いて、高精細な光学干渉中間層を形成することが可能となり、低コストで製造可能な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができるからである。以下、光触媒を含有しない濡れ性変化層および光触媒を含有する光触媒含有濡れ性変化層の２つの実施態様に分けて説明する。 In the present invention, a wettability changing layer or a photocatalyst-containing wettability changing layer in which the wettability is changed by the action of a photocatalyst may be formed between the optical interference intermediate layer and the first barrier layer. By having the wettability changing layer or the photocatalyst-containing wettability changing layer, it is possible to easily form a high-definition optical interference intermediate layer using a pattern having changed wettability, which can be manufactured at low cost. It is because it can be set as the gas barrier film for electronic display media. The following description will be divided into two embodiments: a wettability changing layer not containing a photocatalyst and a photocatalyst-containing wettability changing layer containing a photocatalyst.

（１）第１実施態様
本発明においては、上記第１バリア層と上記光学干渉中間層との間に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層が形成されており、上記濡れ性変化層は、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板を、上記濡れ性変化層と上記光触媒処理層とが所定の間隙をおいて配置された後、所定の方向からエネルギー照射されることにより、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることが好ましい。本発明によれば、上記濡れ性変化層を有することにより、容易に濡れ性の変化したパターンを用いて、高精細な光学干渉中間層を形成することが可能となり、低コストで製造可能な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができるからである。また、濡れ性変化層は光触媒を含有しないため、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜が経時的に光触媒の影響を受けることがないという利点も有するからである。 (1) First Embodiment In the present invention, a wettability changing layer in which wettability is changed by the action of a photocatalyst is formed between the first barrier layer and the optical interference intermediate layer. The layer is a photocatalyst treatment layer containing a photocatalyst and a photocatalyst treatment layer side substrate having a substrate. After the wettability changing layer and the photocatalyst treatment layer are arranged with a predetermined gap, energy irradiation is performed from a predetermined direction. By doing so, the layer is preferably a layer whose wettability changes so that the contact angle with the liquid is lowered. According to the present invention, by having the wettability changing layer, it is possible to easily form a high-definition optical interference intermediate layer using a pattern having changed wettability, and an electronic that can be manufactured at low cost. This is because a gas barrier film for a display medium can be obtained. In addition, since the wettability changing layer does not contain a photocatalyst, the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention has an advantage that it is not affected by the photocatalyst over time.

例えば図５に示すように、本実施態様に用いられる濡れ性変化層３１は第１バリア層２上に形成され（図５（ａ））、濡れ性変化層３１上に光触媒処理層３２と基体３３とを有する光触媒含有層側基板３４を所定の間隙をおいて配置し、フォトマスク３５を介してエネルギー３６を照射し（図５（ｂ））、撥液性から親液性に濡れ性を変化させて親液性領域３１´を形成し（図５（ｃ））、これにより濡れ性変化層上に濡れ性パターンが形成されるものである。 For example, as shown in FIG. 5, the wettability changing layer 31 used in this embodiment is formed on the first barrier layer 2 (FIG. 5A), and the photocatalyst processing layer 32 and the substrate are formed on the wettability changing layer 31. And a photocatalyst containing layer side substrate 34 having a predetermined gap, and irradiated with energy 36 through a photomask 35 (FIG. 5 (b)) to improve wettability from lyophobic to lyophilic. The lyophilic region 31 ′ is formed by changing the shape (FIG. 5C), whereby a wettability pattern is formed on the wettability changing layer.

以下、濡れ性変化層および光触媒処理層側基板について説明する。 Hereinafter, the wettability changing layer and the photocatalyst processing layer side substrate will be described.

（濡れ性変化層）
本実施態様に用いられる濡れ性変化層に用いられる材料としては、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する材料で、かつ光触媒の作用により劣化、分解しにくい主鎖を有するバインダであれば特に限定されるものではなく、具体的にはオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。本実施態様においては、中でも上記オルガノポリシロキサンが、フルオロアルキル基を含有するオルガノポリシロキサンであることが好ましい。 (Wettability change layer)
The material used for the wettability changing layer used in this embodiment may be a material whose wettability changes due to the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and a binder having a main chain that is not easily degraded or decomposed by the action of the photocatalyst. There is no particular limitation, and specific examples include organopolysiloxane. In this embodiment, the organopolysiloxane is preferably an organopolysiloxane containing a fluoroalkyl group.

このようなオルガノポリシロキサンとしては、例えば、（ｉ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、（ii）撥水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等のオルガノポリシロキサンを挙げることができる。 Examples of such an organopolysiloxane include (i) an organopolysiloxane that exhibits high strength by hydrolyzing and polycondensing chloro or alkoxysilane by sol-gel reaction or the like, and (ii) water repellency and oil repellency. Mention may be made of organopolysiloxanes such as organopolysiloxanes crosslinked with excellent reactive silicones.

上記の（ｉ）の場合、一般式：
Ｙ_ｎＳｉＸ_{（４−ｎ）}
（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）
で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでＹで示される基の炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。 In the case of (i) above, the general formula:
Y _n SiX _(4-n)
(Here, Y represents an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group, X represents an alkoxyl group, an acetyl group or a halogen. N is an integer from 0 to 3. )
It is preferable that it is the organopolysiloxane which is a 1 type, or 2 or more types of hydrolysis condensate or cohydrolysis condensate of the silicon compound shown by these. Here, the number of carbon atoms of the group represented by Y is preferably in the range of 1 to 20, and the alkoxy group represented by X is a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. preferable.

また、特にフルオロアルキル基を含有するオルガノポリシロキサンが好ましく用いることができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができる。 In particular, an organopolysiloxane containing a fluoroalkyl group can be preferably used, and specific examples thereof include one or two or more hydrolytic condensates and cohydrolytic condensates of the following fluoroalkylsilanes. In general, those known as fluorine-based silane coupling agents can be used.

ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_９ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
（ＣＦ_３）_２ＣＦ（ＣＦ_２）_４ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
（ＣＦ_３）_２ＣＦ（ＣＦ_２）_６ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
（ＣＦ_３）_２ＣＦ（ＣＦ_２）_８ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_９ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
（ＣＦ_３）_２ＣＦ（ＣＦ_２）_４ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
（ＣＦ_３）_２ＣＦ（ＣＦ_２）_６ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
（ＣＦ_３）_２ＣＦ（ＣＦ_２）_８ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７（Ｃ_６Ｈ_４）Ｃ_２Ｈ_４ＳｉＣＨ_３（ＯＣＨ_３）_２；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３；
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_９ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_３；および
ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＳＯ_２Ｎ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｃ_２Ｈ_４ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３。 _{_{_{_{CF 3 (CF 2) 3 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 5 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 7 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 9 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
(CF ₃ ) ₂ CF (CF ₂ ) ₄ CH ₂ CH ₂ Si (OCH ₃ ) ₃ ;
_{_{_{_{(CF 3) 2 CF (CF}}}} 2) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{(CF 3) 2 CF (CF}}}} 2) 8 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (C 6 H 4)}}}} C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 3 (}}}} C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 5 (}}}} C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 7 (}}}} C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 3 CH}}}} 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 5 CH}}}} 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 7 CH}}}} 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 9 CH}}}} 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{(CF 3) 2 CF (CF}}}} 2) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{(CF 3) 2 CF (CF}}}} 2) 6 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{(CF 3) 2 CF (CF}}}} 2) 8 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (C 6 H 4)}}}} C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 3 (}}}} C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 5 (}}}} C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 7 (}}}} C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 3 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 5 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 7 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
_{_{_{_{CF 3 (CF 2) 9 CH}}}} 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3; and _{_{_{_{CF 3 (CF 2) 7 SO}}}} 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH 2 Si (OCH 3) 3.

上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンをバインダとして用いることにより、濡れ性変化層のエネルギー未照射部の撥液性が大きく向上し、光学干渉中間層形成用塗工液を全面塗布した場合に、この光学干渉中間層形成用塗工液の付着を妨げることが可能となり、エネルギー照射部である親液性領域のみに光学干渉中間層形成用塗工液を付着させることが可能となる。 By using a polysiloxane containing a fluoroalkyl group as described above as a binder, the liquid repellency of the non-irradiated portion of the wettability changing layer is greatly improved, and the coating solution for forming the optical interference intermediate layer is applied to the entire surface. In this case, it is possible to prevent the optical interference intermediate layer forming coating liquid from adhering, and it is possible to attach the optical interference intermediate layer forming coating liquid only to the lyophilic region that is the energy irradiation part. .

また、上記の（ii）の反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。 Examples of the reactive silicone (ii) include compounds having a skeleton represented by the following general formula.

ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ^１，Ｒ^２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ^１、Ｒ^２がメチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。 However, n is an integer of 2 or more, R ^1, R ² are each a substituted or unsubstituted alkyl having 1 to 10 carbon atoms, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group, the total molar ratio of 40% or less Vinyl, phenyl and phenyl halide. Further, those in which R ¹ and R ² are methyl groups are preferable because the surface energy becomes the smallest, and the methyl groups are preferably 60% or more by molar ratio. In addition, the chain end or side chain has at least one reactive group such as a hydroxyl group in the molecular chain.

また、上記のオルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしない安定なオルガノシリコーン化合物を混合してもよい。 Moreover, you may mix the stable organosilicone compound which does not carry out a crosslinking reaction like dimethylpolysiloxane with said organopolysiloxane.

本実施態様においては、このようにオルガノポリシロキサン等の種々の材料を濡れ性変化層に用いることができるのであるが、上述したように、濡れ性変化層にフッ素を含有させることが、濡れ性のパターン形成に効果的である。したがって、光触媒の作用により劣化・分解しにくい材料にフッ素を含有させる、具体的にはオルガノポリシロキサン材料にフッ素を含有させて濡れ性変化層とすることが好ましいといえる。 In this embodiment, various materials such as organopolysiloxane can be used in the wettability changing layer as described above. However, as described above, it is possible to include fluorine in the wettability changing layer. It is effective for pattern formation. Therefore, it can be said that it is preferable that fluorine be contained in a material that is not easily deteriorated or decomposed by the action of the photocatalyst, specifically, that the organopolysiloxane material contains fluorine to form a wettability changing layer.

本実施態様における濡れ性変化層には、光触媒の作用により分解し、かつ分解されることにより濡れ性を変化させる機能を有する界面活性剤を含有させることができる。具体的には、日光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫＯＬＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社製ＺＯＮＹＬＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子（株）製サーフロンＳ−１４１、１４５、大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ−１４１、１４４、ネオス（株）製フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキン工業（株）製ユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリーエム（株）製フロラードＦＣ−１７０、１７６等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができ、また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもできる。 In the wettability changing layer in this embodiment, a surfactant having a function of decomposing by the action of the photocatalyst and changing the wettability by being decomposed can be contained. Specifically, hydrocarbons such as NIKKOL BL, BC, BO, BB series manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., ZONYL FSN, FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141, 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Dainippon Megafac F-141, 144 manufactured by Ink Chemical Industry Co., Ltd., Footgent F-200, F251 manufactured by Neos Co., Ltd., Unidyne DS-401, 402 manufactured by Daikin Industries, Ltd., Fluorard FC-170 manufactured by 3M Co., Ltd. Fluorine-based or silicone-based nonionic surfactants such as 176, and cationic surfactants, anionic surfactants, and amphoteric surfactants can also be used.

また、濡れ性変化層には上記の界面活性剤の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマー等を含有させることができる。 In addition to the above surfactants, the wettability changing layer includes polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin, polycarbonate. , Polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, oligomers, polymers, etc. Can be contained.

上記のような光触媒の作用により濡れ性を変化させる機能を有する分解物質を濡れ性変化層に含有させる場合は、濡れ性変化層に用いられるバインダとしては、特に光触媒の作用により濡れ性変化層上の濡れ性を変化させる機能を有さなくてもよい。このようなバインダとしては、バインダの主骨格が光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであれば特に限定されるものではない。例えば、無定形シリカ前駆体を用いることができる。この無定形シリカ前駆体は、一般式ＳｉＸ_４で表され、Ｘはハロゲン、メトキシ基、エトキシ基、またはアセチル基等であるケイ素化合物、それらの加水分解物であるシラノール、または平均分子量３０００以下のポリシロキサンが好ましい。具体的には、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメトキシシラン等が挙げられる。また、この場合には、無定形シリカの前駆体と光触媒の粒子とを非水性溶媒中に均一に分散させ、第１バリア層上に空気中の水分により加水分解させてシラノールを形成させた後、常温で脱水縮重合することにより濡れ性変化層を形成できる。シラノールの脱水縮重合を１００℃以上で行えば、シラノールの重合度が増し、膜表面の強度を向上できる。また、これらの結着剤は、単独あるいは２種以上を混合して用いることができる。 When the degradation substance having the function of changing the wettability by the action of the photocatalyst as described above is included in the wettability changing layer, the binder used in the wettability changing layer is, in particular, on the wettability changing layer by the action of the photocatalyst. It is not necessary to have a function of changing the wettability. Such a binder is not particularly limited as long as it has a high binding energy such that the main skeleton of the binder is not decomposed by photoexcitation of the photocatalyst. For example, an amorphous silica precursor can be used. This amorphous silica precursor is represented by the general formula SiX ₄ and X is a silicon compound such as halogen, methoxy group, ethoxy group, or acetyl group, silanol as a hydrolyzate thereof, or an average molecular weight of 3000 or less. Polysiloxane is preferred. Specific examples include tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetrabutoxysilane, and tetramethoxysilane. In this case, after the amorphous silica precursor and the photocatalyst particles are uniformly dispersed in a non-aqueous solvent and hydrolyzed with moisture in the air on the first barrier layer, silanol is formed. The wettability changing layer can be formed by dehydration condensation polymerization at room temperature. If dehydration condensation polymerization of silanol is carried out at 100 ° C. or higher, the degree of polymerization of silanol increases and the strength of the film surface can be improved. Moreover, these binders can be used individually or in mixture of 2 or more types.

本実施態様において、この濡れ性変化層の厚みは、光触媒による濡れ性の変化速度等の関係より、０．００１μｍ〜１μｍであることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．１μｍの範囲内である。 In this embodiment, the thickness of the wettability changing layer is preferably 0.001 μm to 1 μm, particularly preferably in the range of 0.01 to 0.1 μm, from the relationship of the wettability change rate due to the photocatalyst. It is.

また、濡れ性変化層上の親液性領域は、撥液性領域より水との接触角が小さい領域であれば、特に限定されるものではなく、親液性領域内の濡れ性が均一であっても、不均一であってもよい。 Further, the lyophilic region on the wettability changing layer is not particularly limited as long as the contact angle with water is smaller than that of the liquid repellent region, and the wettability in the lyophilic region is uniform. Or it may be non-uniform.

（光触媒処理層側基板）
本実施態様において、光触媒処理層側基板は、光触媒を含有する光触媒処理層と基体とを有するものである。本実施態様に用いられる光触媒処理層は、光触媒処理層中の光触媒が、所定の間隙をおいて配置された濡れ性変化層の濡れ性を変化させるような構成であれば、特に限定されるものではない。また、その表面の濡れ性は特に親液性であっても撥液性であってもよい。 (Photocatalyst treatment layer side substrate)
In this embodiment, the photocatalyst processing layer side substrate has a photocatalyst processing layer containing a photocatalyst and a substrate. The photocatalyst treatment layer used in the present embodiment is particularly limited as long as the photocatalyst in the photocatalyst treatment layer changes the wettability of the wettability changing layer arranged with a predetermined gap. is not. Further, the wettability of the surface may be particularly lyophilic or lyophobic.

本実施態様において用いられる光触媒処理層は、基体上に全面に形成されたものであってもよいが、基体上にパターン状に形成されたものであってもよい。このように光触媒処理層をパターン状に形成することにより、光触媒処理層を濡れ性変化層と所定の間隙をおいて配置してエネルギーを照射する際に、フォトマスク等を用いるパターン照射をする必要がなく、全面に照射することにより、濡れ性変化層上に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを形成することができる。 The photocatalyst treatment layer used in this embodiment may be formed on the entire surface of the substrate, or may be formed in a pattern on the substrate. By forming the photocatalyst treatment layer in a pattern in this way, it is necessary to irradiate the pattern using a photomask or the like when the photocatalyst treatment layer is arranged with a predetermined gap from the wettability change layer and irradiated with energy. By irradiating the entire surface, a wettability pattern composed of a lyophilic region and a liquid repellent region can be formed on the wettability changing layer.

また、上記光触媒処理層に用いられる光触媒としては、光半導体として知られる例えば二酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ_３）、酸化タングステン（ＷＯ_３）、酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）、および酸化鉄（Ｆｅ_２Ｏ_３）を挙げることができ、これらから選択して１種または２種以上を混合して用いることができる。 Examples of photocatalysts used in the photocatalyst treatment layer include titanium dioxide (TiO ₂ ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO ₂ ), strontium titanate (SrTiO ₃ ), tungsten oxide (known as photo semiconductors). WO ₃ ), bismuth oxide (Bi ₂ O ₃ ), and iron oxide (Fe ₂ O ₃ ) can be mentioned, and one or a mixture of two or more selected from these can be used.

本実施態様においては、特に二酸化チタンが、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、入手も容易であることから好適に使用される。二酸化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明ではいずれも使用することができるが、アナターゼ型の二酸化チタンが好ましい。アナターゼ型二酸化チタンは励起波長が３８０ｎｍ以下にある。 In this embodiment, titanium dioxide is particularly preferably used because it has a high band gap energy, is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. Titanium dioxide includes an anatase type and a rutile type, and both can be used in the present invention, but anatase type titanium dioxide is preferred. Anatase type titanium dioxide has an excitation wavelength of 380 nm or less.

このようなアナターゼ型二酸化チタンとしては、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（石原産業（株）製ＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）、石原産業（株）製ＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製ＴＡ−１５（平均粒径１２ｎｍ））等を挙げることができる。 Examples of such anatase type titanium dioxide include hydrochloric acid peptizer type anatase type titania sol (STS-02 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (average particle size 7 nm), ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), nitric acid solution An anatase type titania sol (TA-15 manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. (average particle size 12 nm)) and the like can be mentioned.

光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、平均粒径か５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下の光触媒を使用するのが特に好ましい。 The smaller the particle size of the photocatalyst, the more effective the photocatalytic reaction occurs. The average particle size is preferably 50 nm or less, and it is particularly preferable to use a photocatalyst of 20 nm or less.

また、本実施態様における光触媒処理層は、光触媒単独で形成されたものであってもよく、またバインダと混合して形成されたものであってもよい。光触媒のみからなる光触媒処理層の場合は、濡れ性変化層上の濡れ性の変化に対する効率が向上し、処理時間の短縮化等のコスト面で有利である。一方、光触媒とバインダとからなる光触媒処理層の場合は、光触媒処理層の形成が容易であるという利点を有する。光触媒処理層に用いられる材料としては、上述した濡れ性変化層に用いられる材料と同様のものを用いることができる。 In addition, the photocatalyst treatment layer in this embodiment may be formed of a photocatalyst alone or may be formed by mixing with a binder. In the case of a photocatalyst treatment layer composed of only a photocatalyst, the efficiency with respect to the change in wettability on the wettability change layer is improved, which is advantageous in terms of cost such as shortening of the treatment time. On the other hand, in the case of a photocatalyst processing layer comprising a photocatalyst and a binder, there is an advantage that the photocatalyst processing layer can be easily formed. As the material used for the photocatalyst treatment layer, the same materials as those used for the wettability changing layer described above can be used.

光触媒処理層が光触媒とバインダとを有する場合は、光触媒処理層中の光触媒の含有量は、５〜６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定することができる。 When a photocatalyst processing layer has a photocatalyst and a binder, content of the photocatalyst in a photocatalyst processing layer can be set in the range of 5 to 60 weight%, Preferably it is 20 to 40 weight%.

また、上記光触媒処理層が形成される基体としては、可撓性を有するもの、例えば樹脂製フィルム等であってもよいし、可撓性を有さないもの、例えばガラス基板等であってもよい。このように、本態様において、光触媒処理層側基板に用いられる基体は、特にその材料を限定されるものではないが、この光触媒処理層側基板は、繰り返し用いられるものであることから、所定の強度を有し、かつその表面が光触媒処理層との密着性が良好である材料が好適に用いられる。具体的には、ガラス、セラミック、金属、プラスチック等を挙げることができる。 The substrate on which the photocatalyst treatment layer is formed may be a flexible substrate such as a resin film, or may be a non-flexible substrate such as a glass substrate. Good. Thus, in this embodiment, the substrate used for the photocatalyst processing layer side substrate is not particularly limited in its material, but since this photocatalyst processing layer side substrate is used repeatedly, a predetermined substrate is used. A material having strength and having a surface with good adhesion to the photocatalyst treatment layer is preferably used. Specific examples include glass, ceramic, metal, and plastic.

なお、基体表面と光触媒処理層との密着性を向上させるために、基体上にプライマー層を形成するようにしてもよい。このようなプライマー層としては、例えば、シラン系、チタン系のカップリング剤等を挙げることができる。 In order to improve the adhesion between the substrate surface and the photocatalyst treatment layer, a primer layer may be formed on the substrate. Examples of such a primer layer include silane-based and titanium-based coupling agents.

なお、濡れ性変化層の形成方法に関しては、後述する「Ｃ．電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法」の項で説明するため、ここでの説明は省略する。 The method for forming the wettability changing layer will be described in the section of “C. Method for manufacturing gas barrier film for electronic display medium” described later, and thus the description thereof is omitted here.

（２）第２実施態様
本発明においては、上記第１バリア層と上記光学干渉中間層との間に、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層が形成されており、上記光触媒含有濡れ性変化層は、光触媒を含有し、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層を有することにより、容易に濡れ性の変化したパターンを用いて、高精細な光学干渉中間層を形成することが可能となり、低コストで製造可能な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができるからである。 (2) Second Embodiment In the present invention, a photocatalyst-containing wettability changing layer in which wettability is changed by the action of a photocatalyst is formed between the first barrier layer and the optical interference intermediate layer. The photocatalyst-containing wettability changing layer preferably contains a photocatalyst and is a layer whose wettability changes so that the contact angle with the liquid is lowered by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. By having the photocatalyst-containing wettability changing layer, it is possible to easily form a high-definition optical interference intermediate layer using a pattern having changed wettability, and it can be manufactured at a low cost. It is because it can be set as a film | membrane.

例えば図６に示すように、本実施態様における光触媒含有濡れ性変化層３１は、第１バリア層２上に形成され（図６（ａ））、フォトマスク３５を介してエネルギー３６を照射し（図６（ｂ））、撥液性から親液性に濡れ性を変化させて親液性領域３１´を形成し（図６（ｃ））、これにより光触媒含有濡れ性変化層上に濡れ性パターンが形成されるものである。 For example, as shown in FIG. 6, the photocatalyst-containing wettability changing layer 31 in this embodiment is formed on the first barrier layer 2 (FIG. 6A), and is irradiated with energy 36 through the photomask 35 ( 6 (b)), the wettability is changed from lyophobic to lyophilic to form a lyophilic region 31 ′ (FIG. 6 (c)), thereby wettability on the photocatalyst-containing wettability changing layer. A pattern is formed.

このような光触媒含有濡れ性変化層は、光触媒を含有していればよいものである。光触媒と光触媒の作用により濡れ性が変化する材料とを有する光触媒含有層であっても、光触媒により濡れ性が変化する材料を有する濡れ性変化層と光触媒を有する光触媒処理層とが積層されたものであってもよい。以下、このような２つの態様に分けて説明する。 Such a photocatalyst-containing wettability changing layer only needs to contain a photocatalyst. Even if it is a photocatalyst and a photocatalyst-containing layer having a material whose wettability is changed by the action of the photocatalyst, a wettability changing layer having a material whose wettability is changed by the photocatalyst and a photocatalyst treatment layer having a photocatalyst are laminated It may be. Hereinafter, the description will be divided into these two modes.

ａ．第１の態様
本態様においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有層であることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒含有層であることにより、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒含有層は、上記光触媒含有層自体に含有される光触媒の作用により濡れ性が変化することから、製造工程が少なく、効率的に電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することが可能となるからである。 a. 1st aspect In this aspect, it is preferable that the said photocatalyst containing wettability change layer is a photocatalyst containing layer from which a photocatalyst contains and wettability changes by the effect | action of a photocatalyst. Since the photocatalyst-containing wettability changing layer is the photocatalyst-containing layer, the part irradiated with energy can be made a lyophilic region, and the part not irradiated with energy can be made a liquid-repellent region. This is because the optical interference intermediate layer can be formed using the difference between the two. In addition, the photocatalyst-containing layer has a low wettability due to the action of the photocatalyst contained in the photocatalyst-containing layer itself, and thus it is possible to efficiently produce a gas barrier film for an electronic display medium with few manufacturing steps. Because it becomes.

このような光触媒含有層に用いられる材料としては、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する材料で、かつ光触媒の作用により劣化、分解しにくい主鎖を有するバインダであれば特に限定されるものではなく、上述した第１実施態様の濡れ性変化層と同様の材料を用いることができるため、ここでの説明は省略する。 The material used for such a photocatalyst-containing layer is not particularly limited as long as it is a material whose wettability changes due to the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation and has a main chain that is not easily degraded or decomposed by the action of the photocatalyst. However, since the same material as the wettability changing layer of the first embodiment described above can be used, description thereof is omitted here.

上記光触媒含有層に用いられる光触媒としては、上述した第１実施態様の光触媒処理層と同様のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。また、光触媒含有層中の光触媒の含有量は、５〜６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定することができる。 As the photocatalyst used in the photocatalyst-containing layer, since the same photocatalyst treatment layer as that of the first embodiment described above can be used, description thereof is omitted here. Moreover, content of the photocatalyst in a photocatalyst content layer can be set in the range of 5 to 60 weight%, Preferably it is 20 to 40 weight%.

本態様において、この光触媒含有層の厚みは、光触媒による濡れ性の変化速度等の関係より、０．００１μｍから１μｍであることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．１μｍの範囲内である。 In this embodiment, the thickness of the photocatalyst-containing layer is preferably 0.001 μm to 1 μm, particularly preferably in the range of 0.01 to 0.1 μm, from the relationship of the wettability change rate due to the photocatalyst. .

また、光触媒含有層上の親液性領域は、撥液性領域より水との接触角が小さい領域であれば、特に限定されるものではなく、親液性領域内の濡れ性が均一であっても、不均一であってもよい。 Further, the lyophilic region on the photocatalyst-containing layer is not particularly limited as long as the contact angle with water is smaller than that of the lyophobic region, and the wettability in the lyophilic region is uniform. Or it may be non-uniform.

ｂ．第２の態様
本態様においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層と、上記光触媒処理層上に形成され、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層とからなることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒処理層および上記濡れ性変化層から構成されることにより、上記濡れ性変化層中に光触媒が含有されていない場合であっても、エネルギー照射した際に、光触媒処理層の作用により、上記濡れ性変化層を、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒処理層は、濡れ性変化層と第１バリア層との間に形成されるため、光学干渉中間層が経時的に光触媒の影響を受けることを抑制できるからである。 b. Second Aspect In this aspect, the photocatalyst-containing wettability changing layer includes a photocatalyst-treated layer containing a photocatalyst, and a wettability-changing layer that is formed on the photocatalyst-treated layer and changes in wettability by the action of the photocatalyst. Preferably it consists of. When the photocatalyst-containing wettability changing layer is composed of the photocatalyst treatment layer and the wettability changing layer, even when the photocatalyst is not contained in the wettability changing layer, when the energy is irradiated By the action of the photocatalyst treatment layer, it becomes possible to make the wettability changing layer the lyophilic area in the part irradiated with energy and the lyophobic part in the part not irradiated with energy. This is because the optical interference intermediate layer can be formed by using. Moreover, since the said photocatalyst processing layer is formed between a wettability change layer and a 1st barrier layer, it can suppress that an optical interference intermediate | middle layer receives the influence of a photocatalyst with time.

このような濡れ性変化層に用いられる材料としては、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する材料で、かつ光触媒の作用により劣化、分解しにくい主鎖を有するバインダであれば特に限定されるものではない。なお、濡れ性変化層に関しては、上記第１実施態様の濡れ性変化層と同様であるため、ここでの説明は省略する。 The material used for such a wettability changing layer is not particularly limited as long as it is a material whose wettability changes due to the action of a photocatalyst upon irradiation with energy and has a main chain that is not easily degraded or decomposed by the action of the photocatalyst. Is not to be done. Since the wettability changing layer is the same as the wettability changing layer of the first embodiment, description thereof is omitted here.

また、光触媒処理層に関しては、上記第１実施態様の光触媒処理層と同様であるため、ここでの説明は省略する。 Further, the photocatalyst treatment layer is the same as the photocatalyst treatment layer of the first embodiment, and the description thereof is omitted here.

５．その他
本発明において、上述したように、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層が順次積層された三層構造を有していることから、ガスバリア性が付与されるものである。この三つの層が積層された積層体のガスバリア性としては、水蒸気透過率が０．０５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、中でも０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましく、酸素透過率が０．２ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ以下、中でも０．１ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましい。 5. Others In the present invention, as described above, the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer have a three-layer structure in which the gas barrier property is provided. The gas barrier laminate these three layers are laminated, the water vapor permeability 0.05g ^/ m 2 ^/ day or less, is preferably from among them 0.01g ^/ m 2 ^/ day, the oxygen permeability 0.2cc ^/ m 2 ^/ day or less, and preferably less inter alia 0.1cc ^/ m 2 ^/ day.

ここで、酸素透過率は、測定温度２３℃、湿度９０％Ｒｈの条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０：商品名）を用いて測定した値であり、水蒸気透過率は、測定温度３７．８℃、湿度１００％Ｒｈの条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１：商品名）を用いて測定した値である。 Here, the oxygen permeability is a value measured using an oxygen gas permeability measuring device (manufactured by MOCON, OX-TRAN 2/20: trade name) under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% Rh. Yes, the water vapor transmission rate is a value measured using a water vapor transmission rate measuring device (manufactured by MOCON, PERMATRAN-W 3/31: trade name) under the conditions of a measurement temperature of 37.8 ° C. and a humidity of 100% Rh. is there.

また、本発明においては、上記第２バリア層上に中間層およびバリア層が、この順序で２層〜１０層の範囲内で積層されており、最外層が上記バリア層であることが好ましい。例えば図７に示すように、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜は、基材１上に第１バリア層２を形成し、この第１バリア層２上に光学干渉中間層３を形成し、この光学干渉中間層３上に第２バリア層４を形成し、この第２バリア層４上に中間層４１を形成し、この中間層４１上にバリア層４２が形成されており、最表面にある層がバリア層４２となっているものである。このように、第２バリア層上に中間層およびバリア層を積層することにより、ガスバリア性が向上するからである。また、ＲＧＢ各領域で膜厚の異なる光学干渉中間層上に、バリア層および中間層が積層されることにより、電子表示媒体用ガスバリア膜が平坦化され、ダークエリア等の発生を抑制することができるからである。一方、中間層およびバリア層が上記範囲を超えて積層されると、電子表示媒体用ガスバリア膜の膜厚が厚くなり、透過性が低下する可能性があるからである。 Moreover, in this invention, it is preferable that the intermediate | middle layer and the barrier layer are laminated | stacked in the range of 2-10 layers in this order on the said 2nd barrier layer, and an outermost layer is the said barrier layer. For example, as shown in FIG. 7, in the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, a first barrier layer 2 is formed on a substrate 1, an optical interference intermediate layer 3 is formed on the first barrier layer 2, A second barrier layer 4 is formed on the optical interference intermediate layer 3, an intermediate layer 41 is formed on the second barrier layer 4, and a barrier layer 42 is formed on the intermediate layer 41. A certain layer is the barrier layer 42. This is because the gas barrier property is improved by laminating the intermediate layer and the barrier layer on the second barrier layer. In addition, by stacking the barrier layer and the intermediate layer on the optical interference intermediate layer having a different thickness in each of the RGB regions, the gas barrier film for the electronic display medium is flattened, and generation of dark areas and the like can be suppressed. Because it can. On the other hand, if the intermediate layer and the barrier layer are laminated beyond the above range, the thickness of the gas barrier film for an electronic display medium is increased, and the permeability may be lowered.

ここで、第１バリア層とは、光学干渉中間層の直下に形成された層であり、第２バリア層とは、光学干渉中間層の直上に形成された層である。また、バリア層とは、第１バリア層および第２バリア層以外の無機化合物からなる層であり、中間層とは、光学干渉中間層以外の樹脂からなる層である。 Here, the first barrier layer is a layer formed immediately below the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer is a layer formed immediately above the optical interference intermediate layer. The barrier layer is a layer made of an inorganic compound other than the first barrier layer and the second barrier layer, and the intermediate layer is a layer made of a resin other than the optical interference intermediate layer.

上記中間層の形成材料としては、第２バリア層またはバリア層のピンホール等を埋めることができる材料であれば特に限定されないものであり、上述した光学干渉中間層と同様のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。 The material for forming the intermediate layer is not particularly limited as long as it is a material that can fill the pinhole or the like of the second barrier layer or the barrier layer, and the same material as the optical interference intermediate layer described above may be used. Since it can do, description here is abbreviate | omitted.

また、中間層の膜厚としては、５０ｎｍ〜６μｍ、中でも５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。中間層の膜厚が、上述した範囲より小さい場合、ガスバリア性を向上させるには不十分であり、また上述した範囲より大きい場合、電子表示媒体用ガスバリア膜の膜厚が厚くなり、透過性が低下する可能性があるからである。 The thickness of the intermediate layer is preferably in the range of 50 nm to 6 μm, particularly 50 nm to 150 nm. When the thickness of the intermediate layer is smaller than the above range, it is insufficient to improve the gas barrier property. When it is larger than the above range, the thickness of the gas barrier film for an electronic display medium becomes thick and the permeability is high. This is because it may decrease.

なお、バリア層に関しては、上述した第１バリア層および第２バリア層と同様であるので、ここでの説明は省略する。 Since the barrier layer is the same as the first barrier layer and the second barrier layer described above, description thereof is omitted here.

本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜が用いられる電子表示媒体としては、液晶表示装置のようなバックライトの明るさをシャッターすることにより階調をつけて表示を行う非発光型ディスプレイと、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ）のように蛍光体を何らかのエネルギーによって光らせて表示を行う自己発光型ディスプレイとを挙げることができる。本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜は、中でも有機ＥＬ素子に好適に用いられる。 Examples of the electronic display medium in which the gas barrier film for an electronic display medium of the present invention is used include a non-luminous display such as a liquid crystal display device that performs display with gradation by shuttering the brightness of a backlight, and a plasma display. (PDP), field emission display (FED), electroluminescence display (EL), and the like can be cited as self-luminous displays that display by illuminating a phosphor with some energy. Especially the gas barrier film for electronic display media of this invention is used suitably for an organic EL element.

Ｂ．有機ＥＬ素子
次に、本発明の有機ＥＬ素子について説明する。本発明の有機ＥＬ素子は、上記電子表示媒体用ガスバリア膜を有するものである。 B. Organic EL Element Next, the organic EL element of the present invention will be described. The organic EL device of the present invention has the gas barrier film for electronic display media.

本発明の有機ＥＬ素子は、上記電子表示媒体用ガスバリア膜の欄で説明したように、基材と第１バリア層と光学干渉中間層と第２バリア層とを有しており、さらに電極層と、上記電極層上に形成された有機ＥＬ層と、上記有機ＥＬ層上に形成された対向電極とを有するものであれば、特に層構成等は限定されるものではなく、有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜選択されるものである。本発明においては、上述したように、基材は、基板のみから構成されていてもよく、基板と機能層とから構成されていてもよいものである。よって、基材が基板のみからなる場合は、上記第２バリア層上に電極層、有機ＥＬ層および対向電極が形成されるものであり、基材が基板と機能層とからなる場合は、上記電極層、有機ＥＬ層および対向電極は機能層として形成されていてもよく、機能層として色変換層やカラーフィルタ層が形成されている電子表示媒体用ガスバリア膜の第２バリア層上に電極層、有機ＥＬ層および対向電極が形成されていてもよい。 The organic EL device of the present invention has a base material, a first barrier layer, an optical interference intermediate layer, and a second barrier layer as described in the column of the gas barrier film for electronic display medium, and further an electrode layer. And the organic EL layer formed on the electrode layer and the counter electrode formed on the organic EL layer, the layer configuration is not particularly limited. It is appropriately selected according to the use. In this invention, as above-mentioned, the base material may be comprised only from the board | substrate, and may be comprised from the board | substrate and the functional layer. Therefore, when the base material consists only of the substrate, the electrode layer, the organic EL layer and the counter electrode are formed on the second barrier layer, and when the base material consists of the substrate and the functional layer, The electrode layer, the organic EL layer, and the counter electrode may be formed as a functional layer, and the electrode layer is formed on the second barrier layer of the gas barrier film for an electronic display medium in which a color conversion layer or a color filter layer is formed as the functional layer. An organic EL layer and a counter electrode may be formed.

本発明によれば、上述した利点を有する電子表示媒体用ガスバリア膜を有することから、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることがなく、高輝度の画像表示が可能である高品質な有機ＥＬ素子とすることができるのである。 According to the present invention, since it has a gas barrier film for an electronic display medium having the above-described advantages, it is not affected by oxygen, water vapor or the like over time, and a high-quality organic EL capable of displaying a high-luminance image. It can be an element.

本発明に用いられる有機ＥＬ層とは、通常有機ＥＬ素子に用いられるものを用いることが可能であり、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層から形成されるものである。すなわち、有機ＥＬ層とは、少なくとも発光層を含む層であり、その層構成が有機層１層以上の層をいう。通常、塗布による湿式法で有機ＥＬ層を形成する場合は、溶媒との関係で多数の層を積層することが困難であることから、１層もしくは２層の有機層で形成される場合が多いが、有機材料を工夫したり、真空蒸着法を組み合わせたりすることにより、さらに多数層とすることも可能である。 As the organic EL layer used in the present invention, those usually used in organic EL elements can be used, and the organic EL layer is formed from one or a plurality of organic layers including at least a light emitting layer. That is, the organic EL layer is a layer including at least a light emitting layer, and the layer configuration is a layer having one or more organic layers. Usually, when an organic EL layer is formed by a wet method by coating, it is often difficult to stack a large number of layers in relation to a solvent, so that it is often formed of one or two organic layers. However, it is possible to further increase the number of layers by devising organic materials or combining vacuum deposition methods.

発光層以外に有機ＥＬ層内に形成される有機層としては、通常有機ＥＬ層に用いられる層を用いることが可能であり、例えば正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層を挙げることができる。さらに、その他の有機層としては、発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を挙げることができるが、通常これらは上記電荷注入層に電荷輸送の機能を付与することにより、電荷注入層と一体化されて形成される場合が多い。その他、有機ＥＬ層内に形成される有機層としては、キャリアブロック層のような正孔あるいは電子の突き抜けを防止し、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。 As the organic layer formed in the organic EL layer other than the light emitting layer, a layer usually used for the organic EL layer can be used, and examples thereof include a charge injection layer such as a hole injection layer and an electron injection layer. it can. Furthermore, examples of the other organic layers include a charge transport layer such as a hole transport layer that transports holes to the light-emitting layer and an electron transport layer that transports electrons to the light-emitting layer. In many cases, it is formed integrally with the charge injection layer by imparting a charge transporting function. In addition, examples of the organic layer formed in the organic EL layer include a layer for preventing the penetration of holes or electrons, such as a carrier block layer, and improving the recombination efficiency.

また、本発明に用いられる電極層および対向電極としては、反対の電極を有し、対向するように形成されていればよいものである。このような電極層および対向電極は、どちらが陽極であっても、陰極であってもよく、本発明の有機ＥＬ素子の用途に応じて適宜選択されるものである。陽極としては、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく、また陰極としては、電子が注入しやすいように仕事関数の小さな導電性材料であることが好ましい。また、複数の材料を混合させてもよい。いずれの電極層も、抵抗はできるだけ小さいものが好ましく、一般には、金属材料が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。 Moreover, as an electrode layer and a counter electrode used for this invention, it has an opposite electrode and should just be formed so that it may oppose. Such an electrode layer and a counter electrode may be either an anode or a cathode, and are appropriately selected according to the use of the organic EL device of the present invention. The anode is preferably a conductive material having a high work function so that holes can be easily injected, and the cathode is preferably a conductive material having a low work function so that electrons can be easily injected. A plurality of materials may be mixed. Each of the electrode layers preferably has a resistance as small as possible. Generally, a metal material is used, but an organic material or an inorganic compound may be used.

本発明に用いられる電極層または対向電極が陽極である場合には、安定な電極層または対向電極であり、かつ表面が平坦であり、さらに台形状の断面を有するものであることが好ましい。具体的な例としては、酸化錫膜、酸化インジウムと酸化錫との複合酸化物膜（ＩＴＯ膜）、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物膜（ＩＺＯ膜）等が挙げられる。 When the electrode layer or counter electrode used in the present invention is an anode, it is preferable that the electrode layer or counter electrode is a stable electrode layer or counter electrode, has a flat surface, and has a trapezoidal cross section. Specific examples include a tin oxide film, a composite oxide film of indium oxide and tin oxide (ITO film), a composite oxide film of indium oxide and zinc oxide (IZO film), and the like.

また、電極層または対向電極が陰極である場合には、可視光を反射する性質を有し、かつ表面が平坦であり、酸化しにくく安定なものであることが好ましい。具体的な例としては、単体としてＡｌ、Ｃｓ、Ｅｒ等、合金として、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＡｌＬｉ、ＡｌＭｇ、ＣｓＴｅ等、積層として、Ｃａ／Ａｌ、ＭｇＡｌ、Ｌｉ／Ａｌ、Ｃｓ／Ａｌ、Ｃｓ_２Ｏ／Ａｌ、ＬｉＦ／Ａｌ、ＥｒＦ_３／Ａｌ等が挙げられる。 In the case where the electrode layer or the counter electrode is a cathode, it is preferable that the electrode layer or the counter electrode has a property of reflecting visible light, has a flat surface, is hardly oxidized, and is stable. As specific examples, Al, Cs, Er, etc. as a simple substance, MgAg, AlLi, AlLi, AlMg, CsTe, etc. as alloys, Ca / Al, MgAl, Li / Al, Cs / Al, Cs ₂ O as laminates, etc. / Al, LiF / Al, ErF ₃ / Al, and the like.

本発明に用いられる電極層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法等により形成することができる。 The electrode layer used in the present invention can be formed by a PVD method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method.

電極層の膜厚としては、５０ｎｍ〜５００ｎｍ位の範囲が好ましい。電極層の膜厚が上記範囲よりも薄いと、導電性の低下が見られ、また電極層の膜厚が上記範囲を超えて厚い場合には、後加工の工程が進むにつれ、クラックなどにより導電性の劣化が見られるので好ましくないからである。 The thickness of the electrode layer is preferably in the range of about 50 nm to 500 nm. If the thickness of the electrode layer is thinner than the above range, a decrease in conductivity is observed, and if the thickness of the electrode layer exceeds the above range, it becomes conductive due to cracks or the like as the post-processing step proceeds. This is because it is not preferable since deterioration of the property is observed.

なお、本発明に用いられる基材、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層に関しては、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 The substrate, the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer used in the present invention are the same as those described in the above-mentioned “A. Gas barrier film for electronic display medium”. The description in is omitted.

Ｃ．電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法
次に、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法について説明する。 C. Next, a method for producing a gas barrier film for an electronic display medium according to the present invention will be described.

本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法は、基材上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程と、
上記第１バリア層上に赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とからなるパターンを有する光学干渉中間層を形成する光学干渉中間層形成工程と、
上記光学干渉中間層上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程とを有しており、
上記光学干渉中間層形成工程では、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域が、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚となるように形成されることを特徴とするものである。 The method for producing a gas barrier film for an electronic display medium of the present invention includes a first barrier layer forming step of forming a first barrier layer on a substrate,
An R region in which a red (R) pixel portion is disposed on the first barrier layer, a G region in which a green (G) pixel portion is disposed, and a B region in which a blue (B) pixel portion is disposed. An optical interference intermediate layer forming step of forming an optical interference intermediate layer having a pattern consisting of:
A second barrier layer forming step of forming a second barrier layer on the optical interference intermediate layer,
In the optical interference intermediate layer forming step, the R region, the G region, and the B region are formed to have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color.

本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法について図面を用いて説明する。図８は、本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法の一例を示す工程図である。図８（ａ）に示すように、まず基材１上に第１バリア層２を形成する（第１バリア層形成工程）。次に、図８（ｂ）に示すように、第１バリア層２上に光学干渉中間層３を形成する（光学干渉中間層形成工程）。光学干渉中間層３は、赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域３Ｒと、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域３Ｇと、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域３Ｂとからなるパターンを有しており、このＲ領域、Ｇ領域、およびＢ領域は、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚となるように形成されるものである。さらに、図８（ｃ）に示すように、光学干渉中間層３上に第２バリア層４を形成する（第２バリア層形成工程）。 The manufacturing method of the gas barrier film for electronic display media of this invention is demonstrated using drawing. FIG. 8 is a process diagram showing an example of a method for producing a gas barrier film for an electronic display medium according to the present invention. As shown to Fig.8 (a), the 1st barrier layer 2 is first formed on the base material 1 (1st barrier layer formation process). Next, as shown in FIG. 8B, the optical interference intermediate layer 3 is formed on the first barrier layer 2 (optical interference intermediate layer forming step). The optical interference intermediate layer 3 includes an R region 3R in which a red (R) pixel portion is disposed, a G region 3G in which a green (G) pixel portion is disposed, and a blue (B) pixel portion. The R region, the G region, and the B region are formed so as to have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color. Further, as shown in FIG. 8C, the second barrier layer 4 is formed on the optical interference intermediate layer 3 (second barrier layer forming step).

本発明によれば、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層が順次積層されていることにより、第１バリア層にピンホールが存在する場合でも、第１バリア層上に光学干渉中間層を形成することによりこのピンホールが埋められ、さらにその光学干渉中間層上に第２バリア層を形成することにより、第１バリア層から第２バリア層表面まで貫通するピンホールの発生を抑制することができ、酸素や水蒸気等の浸入を妨げることが可能となる。また、ＲＧＢ各色の画素部が配置される光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚が、配置された画素部に対応する色の波長の光が干渉を起こし、強め合うような厚みであることにより、光取出し効率を向上させることができる。ＲＧＢ各色の波長で光取出し効率が向上するようにＲＧＢ各領域の膜厚を調整することにより、より高輝度の画像表示を得ることが可能となる。したがって、本発明においては、ガスバリア性が高く、高輝度で良好な画像表示を得ることができる電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することが可能となる。 According to the present invention, since the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer are sequentially laminated, even when a pinhole is present in the first barrier layer, the optical interference is formed on the first barrier layer. By forming the intermediate layer, this pinhole is filled, and further, by forming the second barrier layer on the optical interference intermediate layer, generation of a pinhole penetrating from the first barrier layer to the surface of the second barrier layer is generated. It is possible to suppress the intrusion of oxygen, water vapor or the like. Also, the thickness of each RGB region of the optical interference intermediate layer in which the RGB color pixel portions are arranged is such that the light of the wavelength of the color corresponding to the arranged pixel portion causes interference and strengthens. Thus, the light extraction efficiency can be improved. By adjusting the film thickness of each RGB region so that the light extraction efficiency is improved at the wavelength of each RGB color, it is possible to obtain a higher-luminance image display. Therefore, in the present invention, it is possible to produce a gas barrier film for an electronic display medium that has a high gas barrier property and can obtain a high-brightness and good image display.

以下、このような電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法について各工程にわけて説明する。なお、本発明に用いられる基材、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層に関しては、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 Hereinafter, a method for manufacturing such a gas barrier film for an electronic display medium will be described in each step. The substrate, the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer used in the present invention are the same as those described in the above-mentioned “A. Gas barrier film for electronic display medium”. The description in is omitted.

１．第１バリア層形成工程
本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法においては、まず基材上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程が行われる。 1. First Barrier Layer Formation Step In the method for producing a gas barrier film for an electronic display medium according to the present invention, first, a first barrier layer formation step for forming a first barrier layer on a substrate is performed.

本発明において、第１バリア層の形成は、蒸着法により行なわれるものであれば、特に限定されるものではない。例えば無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物または金属等を加熱して基材上に蒸着させる真空蒸着法、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、または金属を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、基材上に蒸着させる酸化反応蒸着法、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、または金属をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより基材に蒸着させるスパッタリング法、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、または金属にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、基材上に蒸着させるイオンプレーティング法、また酸化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマＣＶＤ法等が挙げられる。 In the present invention, the formation of the first barrier layer is not particularly limited as long as it is performed by a vapor deposition method. For example, an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic oxynitride, a metal or the like is used as a raw material by using a vacuum deposition method in which a metal is heated and deposited on a substrate, an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic oxynitride, or a metal, Oxidation reaction deposition method that oxidizes by introducing oxygen gas and deposits on substrate, inorganic oxide, inorganic nitride, inorganic oxynitride, or metal is used as target raw material, argon gas and oxygen gas are introduced Then, sputtering is performed on the substrate by sputtering, inorganic oxide, inorganic nitride, inorganic oxynitride, or metal is heated by a plasma beam generated by a plasma gun and deposited on the substrate. In the case of forming an ion plating method or a vapor deposition film of silicon oxide, a plasma CVD method using an organosilicon compound as a raw material may be used.

また、本発明に用いられる基材が、例えば図３に示すように、基板１１と画素部１２とを有するものであり、この画素部１２は、赤色を呈する赤色画素部１２Ｒと、緑色を呈する緑色画素部１２Ｇと、青色を呈する青色画素部１２Ｂとからなる場合、このような画素部の形成は、基板上に画素部形成用塗工液を塗布し、パターニングすることにより形成することができる。上記パターニングは、公知の方法により行うことができる。 Moreover, the base material used for this invention has the board | substrate 11 and the pixel part 12, as shown, for example in FIG. 3, and this pixel part 12 exhibits the red pixel part 12R which exhibits red, and green. When the green pixel portion 12G and the blue pixel portion 12B exhibiting blue are formed, such a pixel portion can be formed by applying and patterning a pixel portion forming coating solution on a substrate. . The patterning can be performed by a known method.

このように基材が基板と機能層とから構成される場合、機能層の形成方法としては、機能層を構成する各層に応じて、公知の方法により行うことができる。 Thus, when a base material is comprised from a board | substrate and a functional layer, as a formation method of a functional layer, it can carry out by a well-known method according to each layer which comprises a functional layer.

２．光学干渉中間層形成工程
次に、本発明における光学干渉中間層形成工程について説明する。本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法においては、第１バリア層上に赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とからなるパターンを有する光学干渉中間層を形成する光学干渉中間層形成工程が行われる。また、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域は、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚となるように形成されるものである。 2. Optical interference intermediate layer forming step Next, the optical interference intermediate layer forming step in the present invention will be described. In the method for manufacturing a gas barrier film for an electronic display medium according to the present invention, an R region in which a red (R) pixel portion is disposed on a first barrier layer, and a G region in which a green (G) pixel portion is disposed. Then, an optical interference intermediate layer forming step is performed for forming an optical interference intermediate layer having a pattern composed of a B region where the blue (B) pixel portion is disposed. The R region, the G region, and the B region are formed so as to have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color.

本発明によれば、ＲＧＢ各色の画素部が配置される光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚が、配置された画素部に対応する色の波長の光が干渉を起こし、強め合うような厚みであることにより、光取出し効率を向上させることができる。ＲＧＢ各色の波長で光取出し効率が向上するようにＲＧＢ各領域の膜厚を調整することにより、より高輝度な画像表示を得ることが可能となる。 According to the present invention, the film thickness of each RGB region of the optical interference intermediate layer in which the RGB color pixel portions are arranged is such that the light of the color wavelength corresponding to the arranged pixel portions interferes and strengthens. The light extraction efficiency can be improved due to the thickness. By adjusting the film thickness of each RGB region so that the light extraction efficiency is improved at the wavelength of each RGB color, it is possible to obtain a higher-luminance image display.

このような光学干渉中間層の形成は、光学干渉中間層形成用塗工液を第１バリア層上に塗布し、パターニングすることにより形成することができる。上記パターニングは、公知の方法を用いることができ、例えば、フォトリソグラフィー法、インクジェット法、スクリーン印刷法、光触媒を用いる方法等により行うことができる。 Such an optical interference intermediate layer can be formed by applying an optical interference intermediate layer forming coating solution on the first barrier layer and patterning it. The patterning can be performed by a known method, for example, by a photolithography method, an inkjet method, a screen printing method, a method using a photocatalyst, or the like.

本発明においては、光学干渉中間層の形成方法の中でも、パターニング方法として光触媒を用いる方法またはフォトリソグラフィー法を使用することが好ましい。光触媒を用いるパターニング方法は、エネルギー照射されると、それに伴う光触媒の作用から、濡れ性が変化することを利用したものである。すなわち、この濡れ性の違いによるパターンを利用することにより、光学干渉中間層をパターン状に形成するのである。このように光触媒を用いる光学干渉中間層の形成方法は、エネルギーの照射のみで濡れ性の違いによるパターンを形成することができることから、光学干渉中間層のパターニングに要する手間を大幅に省略することができる点で有用な方法である。一方、フォトリソグラフィー法を用いた場合、光学干渉中間層の形成材料として感光性樹脂組成物を用いることにより、容易に光学干渉中間層をパターニングすることができる。 In the present invention, among the methods for forming the optical interference intermediate layer, it is preferable to use a method using a photocatalyst or a photolithography method as a patterning method. The patterning method using a photocatalyst utilizes the fact that the wettability changes due to the action of the photocatalyst accompanying the irradiation of energy. That is, the optical interference intermediate layer is formed in a pattern by using a pattern resulting from the difference in wettability. As described above, the method for forming an optical interference intermediate layer using a photocatalyst can form a pattern due to a difference in wettability only by energy irradiation, and therefore, the labor required for patterning the optical interference intermediate layer can be greatly reduced. This is a useful method. On the other hand, when the photolithography method is used, the optical interference intermediate layer can be easily patterned by using the photosensitive resin composition as a material for forming the optical interference intermediate layer.

以下、光触媒を用いる方法およびフォトリソグラフィー法にわけて説明する。 Hereinafter, the method using a photocatalyst and the photolithography method will be described separately.

（１）光触媒を用いる方法
本発明において、光触媒を用いる方法としては、上記光学干渉中間層と上記第１バリア層との間に、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層または光触媒含有濡れ性変化層が形成し、濡れ性パターンを形成する。この濡れ性の変化したパターンを用いて、容易に高精細な光学干渉中間層を形成することが可能となり、低コストで製造可能な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができるからである。以下、光触媒を含有しない濡れ性変化層および光触媒を含有する光触媒含有濡れ性変化層の２つの実施態様に分けて説明する。 (1) Method using a photocatalyst In the present invention, a method using a photocatalyst includes a wettability changing layer in which the wettability is changed by the action of the photocatalyst or the photocatalyst-containing layer between the optical interference intermediate layer and the first barrier layer. A wettability changing layer is formed to form a wettability pattern. This is because it is possible to easily form a high-definition optical interference intermediate layer by using the pattern having changed wettability, and to obtain a gas barrier film for an electronic display medium that can be manufactured at low cost. The following description will be divided into two embodiments: a wettability changing layer not containing a photocatalyst and a photocatalyst-containing wettability changing layer containing a photocatalyst.

ａ．第３実施態様
本発明においては、光学干渉中間層形成工程は、上記第１バリア層上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、
上記濡れ性変化層と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、上記濡れ性変化層および上記光触媒処理層が所定の間隙をおいて配置した後、パターン状にエネルギーを照射し、上記濡れ性変化層に液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と、
上記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程とを有することが好ましい。 a. In the third embodiment of the present invention, the optical interference intermediate layer forming step forms a wettability changing layer forming step of changing the wettability changing layer by the action of the photocatalyst on the first barrier layer, and
The wettability changing layer, the photocatalyst processing layer containing the photocatalyst, and the photocatalyst processing layer side substrate having the substrate are arranged in a pattern after the wettability changing layer and the photocatalyst processing layer are arranged with a predetermined gap. A wettability pattern forming step of irradiating energy and forming a wettability pattern in which the wettability is changed so that the contact angle with the liquid is reduced in the wettability changing layer;
It is preferable to have an optical interference intermediate layer forming coating liquid application step of applying an optical interference intermediate layer forming coating liquid along the wettability pattern.

本実施態様において、光学干渉中間層形成工程は、例えば図５（ａ）に示すように、まず第１バリア層２上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層３１を形成する（濡れ性変化層形成工程）。次に、図５（ｂ）に示すように、濡れ性変化層３１と、光触媒を含有する光触媒処理層３２および基体３３を有する光触媒処理層側基板３４とを、上記濡れ性変化層３１および上記光触媒処理層３２が所定の間隙となるように配置した後、フォトマスク３５を介してエネルギー３６を照射し、図５（ｃ）に示すように、上記濡れ性変化層３１に液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した親液性領域３１´を形成し、濡れ性パターンを形成する（濡れ性パターン形成工程）。さらに、図５（ｄ）に示すように、上記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液３を塗布する（光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程）。 In this embodiment, in the optical interference intermediate layer forming step, for example, as shown in FIG. 5A, first, a wettability changing layer 31 whose wettability is changed by the action of a photocatalyst is formed on the first barrier layer 2 ( Wettability change layer forming step). Next, as shown in FIG. 5B, the wettability changing layer 31, the photocatalyst processing layer 32 containing the photocatalyst, and the photocatalyst processing layer side substrate 34 having the base 33 are combined with the wettability changing layer 31 and the above. After the photocatalyst processing layer 32 is arranged so as to have a predetermined gap, energy 36 is irradiated through the photomask 35, and as shown in FIG. 5C, the wettability changing layer 31 is contacted with the liquid. Forming a lyophilic region 31 ′ having changed wettability so as to decrease the wettability pattern to form a wettability pattern (wetability pattern forming step). Further, as shown in FIG. 5D, the optical interference intermediate layer forming coating solution 3 is applied along the wettability pattern (optical interference intermediate layer forming coating solution applying step).

本実施態様によれば、上記光触媒処理層と上記濡れ性変化層とを所定の間隙をおいて配置し、エネルギー照射することにより、上記濡れ性変化層表面の濡れ性がパターン状に変化した濡れ性パターンを形成することが可能であり、この濡れ性パターンの濡れ性の差を利用して、容易にパターン状に光学干渉中間層を形成することが可能となることから、高精細な電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができるからである。また、上記濡れ性変化層は光触媒を含有しないことから、光触媒の影響を受けることなく、高品質な電子表示媒体用ガスバリア膜とすることが可能となるからである。 According to this embodiment, the photocatalyst-treated layer and the wettability changing layer are arranged with a predetermined gap and irradiated with energy, whereby the wettability of the wettability changing layer surface in a pattern is changed. A high-definition electronic display is possible because an optical interference intermediate layer can be easily formed into a pattern using the difference in wettability of this wettability pattern. This is because a gas barrier film for a medium can be manufactured. In addition, since the wettability changing layer does not contain a photocatalyst, it is possible to obtain a high-quality gas barrier film for an electronic display medium without being affected by the photocatalyst.

以下、このような光学干渉中間層形成工程における各工程について説明する。なお、本実施態様に用いられる濡れ性変化層、光触媒処理層側基板に関しては、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 Hereinafter, each step in the optical interference intermediate layer forming step will be described. The wettability changing layer and the photocatalyst processing layer side substrate used in the present embodiment are the same as those described in the above-mentioned “A. Gas barrier film for electronic display medium”, and thus the description thereof is omitted here. .

（濡れ性変化層形成工程）
本実施態様の光学干渉中間層形成工程においては、まず第１バリア層上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程が行われる。 (Wettability change layer forming process)
In the optical interference intermediate layer forming step of this embodiment, a wettability changing layer forming step of first forming a wettability changing layer in which the wettability is changed by the action of the photocatalyst is performed on the first barrier layer.

本実施態様に用いられる濡れ性変化層の形成材料としては、光触媒の作用により濡れ性が変化するものであればよく、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」の濡れ性変化層の欄で説明したものと同様のものを用いることができる。また、上記濡れ性変化層は、上述した形成材料を必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を第１バリア層上に塗布することにより形成することができる。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことができる。また、紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理を行うことにより濡れ性変化層を形成することができる。 As the material for forming the wettability changing layer used in the present embodiment, any material may be used as long as the wettability is changed by the action of the photocatalyst, and the column of the wettability changing layer of “A. Gas barrier film for electronic display medium” described above. The thing similar to what was demonstrated in (4) can be used. The wettability changing layer is formed by preparing a coating solution by dispersing the above-described forming material in a solvent together with other additives as necessary, and coating the coating solution on the first barrier layer. can do. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The application can be performed by a known application method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. In the case where an ultraviolet curable component is contained, the wettability changing layer can be formed by performing a curing treatment by irradiating ultraviolet rays.

（濡れ性パターン形成工程）
本実施態様の光学干渉中間層形成工程においては、上記濡れ性変化層と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、上記濡れ性変化層および上記光触媒処理層が所定の間隙をおいて配置した後、パターン状にエネルギーを照射し、上記濡れ性変化層に液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程が行なわれる。 (Wettability pattern forming process)
In the optical interference intermediate layer forming step of the present embodiment, the wettability changing layer, the photocatalyst processing layer containing a photocatalyst and the photocatalyst processing layer side substrate having a substrate are combined with the wettability changing layer and the photocatalyst processing layer. A wettability pattern forming step of forming a wettability pattern in which the wettability is changed so that the contact angle with the liquid is reduced in the wettability changing layer by irradiating energy in a pattern after being arranged with a predetermined gap. Is done.

本実施態様において、光触媒処理層および濡れ性変化層は、光触媒処理層と濡れ性変化層とを光触媒の作用が及ぶように所定の間隙をおいて配置するものである。ここでいう配置とは、実質的に光触媒の作用が濡れ性変化層表面に及ぶような状態で配置された状態をいうこととし、実際に物理的に接触している状態の他、所定の間隙を隔てて上記光触媒処理層と濡れ性変化層とが配置された状態とする。 In the present embodiment, the photocatalyst processing layer and the wettability changing layer are arranged with a predetermined gap so that the photocatalyst processing layer and the wettability changing layer are affected by the photocatalyst. The term “arrangement” as used herein refers to a state where the action of the photocatalyst substantially reaches the surface of the wettability changing layer. In addition to the actual physical contact, a predetermined gap The photocatalyst processing layer and the wettability changing layer are arranged with a gap therebetween.

また、本実施態様において上記間隙は、２００μｍ以下であることが好ましい。中でも、パターン精度が極めて良好であり、光触媒の感度も高く、したがって濡れ性変化層の濡れ性変化の効率が良好である点を考慮すると、特に０．２μｍ〜１０μｍの範囲内、好ましくは１μｍ〜５μｍの範囲内とすることが好ましい。このような間隙の範囲は、特に間隙を高い精度で制御することが可能である小面積の濡れ性変化層に対して特に有効である。 In the present embodiment, the gap is preferably 200 μm or less. Among them, in consideration of the fact that the pattern accuracy is very good and the photocatalyst sensitivity is high, and therefore the efficiency of wettability change of the wettability changing layer is good, it is particularly within the range of 0.2 μm to 10 μm, preferably 1 μm to It is preferable to be within the range of 5 μm. Such a gap range is particularly effective for a small-area wettability changing layer capable of controlling the gap with high accuracy.

一方、例えば３００ｍｍ×３００ｍｍ以上といった大面積の濡れ性変化層に対して処理を行う場合は、接触することなく、かつ上述したような微細な間隙を光触媒処理層と濡れ性変化層との間に形成することは極めて困難である。したがって、濡れ性変化層が比較的大面積である場合は、上記間隙は、１０〜１００μｍの範囲内、特に５０〜７５μｍの範囲内とすることが好ましい。間隙をこのような範囲内とすることにより、パターンがぼやける等のパターン精度の低下の問題や、光触媒の感度が悪化して濡れ性変化の効率が悪化する等の問題が生じることなく、さらに濡れ性変化層上の濡れ性変化にムラが発生しないといった効果を有するからである。 On the other hand, when the treatment is performed on a wettability changing layer having a large area of, for example, 300 mm × 300 mm or more, there is no contact between the photocatalyst processing layer and the wettability changing layer with a fine gap as described above. It is extremely difficult to form. Therefore, when the wettability changing layer has a relatively large area, the gap is preferably in the range of 10 to 100 μm, particularly in the range of 50 to 75 μm. By setting the gap within such a range, there is no problem of pattern accuracy deterioration such as blurring of the pattern, or problems such as deterioration of the photocatalyst sensitivity and deterioration of wettability change efficiency. This is because there is an effect that unevenness does not occur in the wettability change on the property change layer.

このように比較的大面積の濡れ性変化層をエネルギー照射する際には、エネルギー照射装置内の光触媒処理層と濡れ性変化層との位置決め装置における間隙の設定を、１０μｍ〜２００μｍの範囲内、特に２５μｍ〜７５μｍの範囲内に設定することが好ましい。設定値をこのような範囲内とすることにより、パターン精度の大幅な低下や光触媒の感度の大幅な悪化を招くことなく、かつ光触媒処理層と濡れ性変化層とが接触することなく配置することが可能となるからである。 Thus, when the wettability changing layer having a relatively large area is irradiated with energy, the setting of the gap in the positioning device between the photocatalyst processing layer and the wettability changing layer in the energy irradiation device is within a range of 10 μm to 200 μm, In particular, it is preferable to set within a range of 25 μm to 75 μm. By setting the set value within such a range, it is possible to arrange the photocatalyst treatment layer and the wettability changing layer without contact with each other without causing a significant decrease in pattern accuracy or a significant deterioration in the sensitivity of the photocatalyst. This is because it becomes possible.

このように光触媒処理層と濡れ性変化層表面とを所定の間隔で離して配置することにより、酸素と水および光触媒作用により生じた活性酸素種が脱着しやすくなる。すなわち、上記範囲より光触媒処理層と濡れ性変化層との間隔を狭くした場合は、上記活性酸素種の脱着がしにくくなり、結果的に濡れ性変化速度を遅くしてしまう可能性があることから好ましくない。また、上記範囲より間隔を離して配置した場合は、生じた活性酸素種が濡れ性変化層に届き難くなり、この場合も濡れ性変化の速度を遅くしてしまう可能性があることから好ましくない。 Thus, by disposing the photocatalyst processing layer and the wettability changing layer surface at a predetermined interval, oxygen, water, and active oxygen species generated by the photocatalytic action are easily desorbed. That is, when the interval between the photocatalyst treatment layer and the wettability changing layer is narrower than the above range, it is difficult to desorb the active oxygen species, and as a result, the wettability change rate may be reduced. Is not preferable. In addition, when it is arranged at a distance from the above range, the generated active oxygen species are difficult to reach the wettability changing layer, which is not preferable because the rate of wettability change may be slowed in this case as well. .

また、このような極めて狭い間隙を均一に形成して光触媒処理層と濡れ性変化層とを配置する方法としては、例えばスペーサを用いる方法を挙げることができる。そして、このようにスペーサを用いることにより、均一な間隙を形成することができると共に、このスペーサが接触する部分は、光触媒の作用が濡れ性変化層表面に及ばないことから、このスペーサを目的とする濡れ性変化パターンと同様のパターンを有するものとすることにより、濡れ性変化層上に所定の濡れ性変化パターンを形成することが可能となる。また、このようなスペーサを用いることにより、光触媒の作用により生じた活性酸素種が拡散することなく、高濃度で濡れ性変化層表面に到達することから、効率よく高精細な濡れ性変化パターンを形成することができる。 Moreover, as a method of forming such a very narrow gap uniformly and arranging the photocatalyst processing layer and the wettability changing layer, for example, a method using a spacer can be mentioned. By using the spacer in this way, a uniform gap can be formed, and the portion in contact with the spacer does not reach the surface of the wettability changing layer because the photocatalytic action does not reach the surface of the wettability changing layer. A predetermined wettability change pattern can be formed on the wettability change layer by having the same pattern as the wettability change pattern. In addition, by using such a spacer, the active oxygen species generated by the action of the photocatalyst reaches the wettability changing layer surface at a high concentration without diffusing, so that an efficient and fine wettability change pattern can be formed. Can be formed.

本実施態様においては、このような光触媒処理層と濡れ性変化層との配置状態は、少なくともエネルギー照射の間だけ維持されればよい。 In this embodiment, the arrangement state of the photocatalyst treatment layer and the wettability changing layer only needs to be maintained at least during the energy irradiation.

また、本実施態様においては、濡れ性変化層と光触媒処理層とを所定の間隙をおいて配置し、エネルギー照射することにより濡れ性を変化させるものであるので、エネルギー照射後は光触媒処理層側基板を取り外すものであることから、光触媒の影響を受けない電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができる。 In the present embodiment, the wettability changing layer and the photocatalyst treatment layer are arranged with a predetermined gap and the wettability is changed by irradiating energy. Since the substrate is removed, a gas barrier film for an electronic display medium that is not affected by the photocatalyst can be manufactured.

本態様でいうエネルギー照射とは、光触媒による濡れ性変化層の濡れ性を変化させることが可能ないかなるエネルギー線の照射をも含む概念であり、可視光の照射に限定されるものではない。 The energy irradiation referred to in this embodiment is a concept including irradiation of any energy beam capable of changing the wettability of the wettability changing layer by the photocatalyst, and is not limited to visible light irradiation.

通常このようなエネルギー照射に用いる光の波長は、４００ｎｍ以下の範囲、好ましくは３８０ｎｍ以下の範囲から設定される。これは、上述したように濡れ性変化層に用いられる好ましい光触媒が二酸化チタンであり、この二酸化チタンにより光触媒作用を活性化させるエネルギーとして、上述した波長の光が好ましいからである。 Usually, the wavelength of light used for such energy irradiation is set in the range of 400 nm or less, preferably in the range of 380 nm or less. This is because, as described above, the preferred photocatalyst used in the wettability changing layer is titanium dioxide, and light having the above-described wavelength is preferable as energy for activating the photocatalytic action by the titanium dioxide.

このようなエネルギー照射に用いることができる光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマランプ、その他種々の光源を挙げることができる。 Examples of light sources that can be used for such energy irradiation include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, excimer lamps, and various other light sources.

上述したような光源を用い、フォトマスクを介したパターン照射により行う方法の他、エキシマ、ＹＡＧ等のレーザを用いてパターン状に描画照射する方法を用いることも可能である。 In addition to the method of performing pattern irradiation through a photomask using the light source as described above, it is also possible to use a method of drawing and irradiating in a pattern using a laser such as excimer or YAG.

また、エネルギー照射に際してのエネルギーの照射量は、濡れ性変化層表面が光触媒処理層中の光触媒の作用により濡れ性変化層表面の濡れ性の変化が行われるのに必要な照射量とする。 In addition, the energy irradiation amount at the time of energy irradiation is an irradiation amount necessary for the wettability changing layer surface to change the wettability of the wettability changing layer surface by the action of the photocatalyst in the photocatalyst treatment layer.

また、本実施態様においては、光触媒処理層と濡れ性変化層とを対向させてエネルギー照射を行うものであり、光触媒処理層が基体上にパターン状に形成されている場合は、実際に光触媒処理層の形成された部分のみの濡れ性が変化するものであるので、エネルギーの照射方向は上記光触媒処理層と濡れ性変化層とが対向する部分にエネルギーが照射されるものであれば、いかなる方向から照射されてもよく、さらには、照射されるエネルギーも特に平行光等の平行なものに限定されないという利点を有するものとなる。 In this embodiment, energy irradiation is performed with the photocatalyst treatment layer and the wettability changing layer facing each other. When the photocatalyst treatment layer is formed in a pattern on the substrate, the photocatalyst treatment is actually performed. Since the wettability of only the portion where the layer is formed changes, the energy irradiation direction is any direction as long as the photocatalyst treatment layer and the wettability changing layer are irradiated with energy. Further, the irradiation energy is not particularly limited to parallel light such as parallel light.

（光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程）
本実施態様の光学干渉中間層形成工程においては、上記濡れ性変化層上の濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程が行われる。 (Coating liquid application process for optical interference intermediate layer formation)
In the optical interference intermediate layer forming step of this embodiment, there is an optical interference intermediate layer forming coating liquid application step of applying an optical interference intermediate layer forming coating liquid along the wettability pattern on the wettability changing layer. Done.

本発明においては、光学干渉中間層が赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とからなるパターンを有するものであり、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域は、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚となるように形成されるものである。よって、上記光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する際には、ＲＧＢ各領域の厚みを制御する必要があり、目的とする厚みの±２５ｎｍ程度、中でも±２０ｎｍ程度となるように塗布することが好ましい。目的とする厚みに対して実際の厚みが大きくずれると、対応する波長が変化するので、所望の波長に対応する光学干渉が起こらなくなる可能性があるからである。 In the present invention, the R region in which the red (R) pixel portion is disposed in the optical interference intermediate layer, the G region in which the green (G) pixel portion is disposed, and the blue (B) pixel portion are disposed. The R region, the G region, and the B region are formed to have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color. Therefore, when applying the coating liquid for forming the optical interference intermediate layer, it is necessary to control the thickness of each of the RGB regions, and it is applied so that the target thickness is about ± 25 nm, particularly about ± 20 nm. It is preferable. This is because if the actual thickness deviates greatly from the target thickness, the corresponding wavelength changes, so that optical interference corresponding to the desired wavelength may not occur.

光学干渉中間層形成用塗工液の塗布方法としては、上記濡れ性変化層表面に塗布することができる方法であれば特に限定されないが、具体的にはロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート、スピンコートのような濡れ性変化層全面に塗布する方法であってもよく、吐出法のように、目的とするパターン状に光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する方法であってもよい。本発明においては、中でも吐出法を用いることが好ましい。上記濡れ性変化層上の濡れ性の違いによるパターンを利用して高精細なパターンを形成することができるからである。また、吐出法の中ではインクジェット法であることが好ましい。 The application method of the coating liquid for forming the optical interference intermediate layer is not particularly limited as long as it can be applied to the surface of the wettability changing layer, and specifically, roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating. A method of coating the entire surface of the wettability changing layer such as coating, spray coating, spin coating, etc., and a method of coating a coating solution for forming an optical interference intermediate layer in a desired pattern like a discharge method It may be. In the present invention, it is particularly preferable to use a discharge method. This is because a high-definition pattern can be formed using a pattern due to the difference in wettability on the wettability changing layer. Of the discharge methods, an inkjet method is preferable.

また、光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の形成材料として同様の材料を用いる場合、濡れ性変化層全面に光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する方法では、ＲＧＢ各領域の厚みを考慮して塗布すればよい。例えば、膜厚がＲ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順に小さくなる場合は、まず濡れ性変化層上のＲ領域が形成される部分に親液性領域を形成し、光学干渉中間層形成用塗工液をＲ領域とＧ領域との厚み差分だけ塗布し、次にＧ領域が形成される部分に親液性領域を形成し、Ｒ領域およびＧ領域が形成される部分に光学干渉中間層形成用塗工液をＧ領域とＢ領域と厚み差分だけ塗布し、最後にＢ領域が形成される部分に親液性領域を形成し、全面に光学干渉中間層形成用塗工液をＢ領域の厚み分塗布すればよい。 In addition, when the same material is used as the material for forming each RGB region of the optical interference intermediate layer, the thickness of each RGB region is taken into account in the method of applying the optical interference intermediate layer forming coating solution over the entire wettability changing layer. And apply. For example, when the film thickness decreases in the order of R region, G region, and B region, a lyophilic region is first formed in the portion where the R region is formed on the wettability changing layer, and the optical interference intermediate layer forming coating is formed. Apply the working fluid by the thickness difference between the R region and the G region, then form a lyophilic region in the portion where the G region is formed, and form an optical interference intermediate layer in the portion where the R region and the G region are formed The coating liquid for coating is applied by a thickness difference between the G region and the B region, and finally the lyophilic region is formed in the portion where the B region is formed. What is necessary is just to apply | coat for thickness.

一方、光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の形成材料として同様の材料を用いる場合で、吐出法を用いて光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する方法では、ＲＧＢ各領域に対応させて塗布すればよい。 On the other hand, when the same material is used as the material for forming each RGB region of the optical interference intermediate layer, the method of applying the coating liquid for forming the optical interference intermediate layer using the discharge method is applied corresponding to each RGB region. do it.

また、光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の形成材料として異なる材料を用いる場合は、光学干渉中間層形成用塗工液の塗布方法は、吐出法のように、目的とするパターン状に塗布する方法であることが好ましい。 In addition, when different materials are used as the forming materials for the RGB regions of the optical interference intermediate layer, the application method of the coating liquid for forming the optical interference intermediate layer is a method of applying the target pattern like a discharge method. It is preferable that

また、上記光学干渉中間層形成用塗工液は、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」に記載した光学干渉中間層の形成材料を溶剤や希釈剤等に分散して調製することができる。 The optical interference intermediate layer forming coating solution may be prepared by dispersing the optical interference intermediate layer forming material described in “A. Gas barrier film for electronic display medium” in a solvent or a diluent. it can.

上記光学干渉中間層形成用塗工液を塗布した後は、溶剤や希釈剤等を乾燥除去するウェット形成法により光学干渉中間層を形成することができる。 After the optical interference intermediate layer forming coating solution is applied, the optical interference intermediate layer can be formed by a wet forming method in which a solvent, a diluent or the like is removed by drying.

本実施態様においては、光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域およびＢ領域を形成するために、上記濡れ性パターン形成工程および光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程を繰り返して、パターニングする必要がある。 In this embodiment, in order to form the R region, the G region, and the B region of the optical interference intermediate layer, the wettability pattern forming step and the optical interference intermediate layer forming coating liquid coating step need to be repeated and patterned. There is.

ｂ．第４実施態様
本発明においては、光学干渉中間層形成工程は、第１バリア層上に、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層を形成する光触媒含有濡れ性変化層形成工程と、
上記光触媒含有濡れ性変化層に、パターン状にエネルギーを照射し、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と
上記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程とを有することが好ましい。 b. Fourth Embodiment In the present invention, the optical interference intermediate layer forming step includes forming a photocatalyst-containing wettability changing layer containing a photocatalyst and changing the wettability by the action of the photocatalyst on the first barrier layer. A property change layer forming step;
A wettability pattern forming step of irradiating the photocatalyst-containing wettability changing layer with energy in a pattern to form a wettability pattern in which the wettability is changed so that the contact angle with the liquid is reduced, and along the wettability pattern And an optical interference intermediate layer forming coating solution coating step of applying an optical interference intermediate layer forming coating solution.

本実施態様において、光学干渉中間層形成工程は、例えば図６（ａ）に示すように、まず第１バリア層２上に光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層３１を形成する（光触媒含有濡れ性変化層形成工程）。次に、図６（ｂ）に示すように、光触媒含有濡れ性変化層３１に、フォトマスク３５を介してエネルギー３６を照射し、図６（ｃ）に示すように、上記光触媒含有濡れ性変化層３１に液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した親液性領域３１´を形成し、濡れ性パターンを形成する（濡れ性パターン形成工程）。さらに、図６（ｄ）に示すように、上記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液３を塗布する（光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程）。 In this embodiment, in the optical interference intermediate layer forming step, for example, as shown in FIG. 6A, first, the photocatalyst-containing wettability changing layer 31 in which the wettability is changed by the action of the photocatalyst is formed on the first barrier layer 2. (Photocatalyst-containing wettability changing layer forming step). Next, as shown in FIG. 6B, the photocatalyst-containing wettability changing layer 31 is irradiated with energy 36 through the photomask 35, and as shown in FIG. 6C, the photocatalyst-containing wettability change layer is irradiated. A lyophilic region 31 ′ whose wettability is changed so that the contact angle with the liquid is reduced is formed on the layer 31 to form a wettability pattern (wetability pattern forming step). Further, as shown in FIG. 6D, the optical interference intermediate layer forming coating solution 3 is applied along the wettability pattern (optical interference intermediate layer forming coating solution applying step).

本実施態様によれば、上記光触媒含有濡れ性変化層にエネルギー照射することにより、上記光触媒含有濡れ性変化層表面の濡れ性がパターン状に変化した濡れ性パターンを形成することが可能であり、この濡れ性パターンの濡れ性の差を利用して、容易にパターン状に光学干渉中間層を形成することが可能となることから、高精細な電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することができるからである。 According to this embodiment, it is possible to form a wettability pattern in which the wettability of the photocatalyst-containing wettability changing layer surface is changed into a pattern by irradiating the photocatalyst-containing wettability changing layer with energy. By utilizing the difference in wettability of the wettability pattern, it becomes possible to easily form an optical interference intermediate layer in a pattern, and thus a high-definition gas barrier film for an electronic display medium can be manufactured. It is.

また、本実施態様においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有層であることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒含有層であることにより、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒含有層は、上記光触媒含有層自体に含有される光触媒の作用により濡れ性が変化することから、製造工程が少なく、効率的に電子表示媒体用ガスバリア膜を製造することが可能となるからである。 Moreover, in this embodiment, it is preferable that the said photocatalyst containing wettability change layer is a photocatalyst containing layer from which a photocatalyst is contained and wettability changes by the effect | action of a photocatalyst. Since the photocatalyst-containing wettability changing layer is the photocatalyst-containing layer, the part irradiated with energy can be made a lyophilic region, and the part not irradiated with energy can be made a liquid-repellent region. This is because the optical interference intermediate layer can be formed using the difference between the two. In addition, the photocatalyst-containing layer has a low wettability due to the action of the photocatalyst contained in the photocatalyst-containing layer itself, and thus it is possible to efficiently produce a gas barrier film for an electronic display medium with few manufacturing steps. Because it becomes.

さらに、本実施態様においては、上記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層と、上記光触媒処理層上に形成され、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層とからなることが好ましい。上記光触媒含有濡れ性変化層が、上記光触媒処理層および上記濡れ性変化層から構成されることにより、上記濡れ性変化層中に光触媒が含有されていない場合であっても、エネルギー照射した際に、光触媒処理層の作用により、上記濡れ性変化層を、エネルギー照射された部分を親液性領域、エネルギー照射されていない部分を撥液性領域とすることが可能となり、この濡れ性の差を利用して、光学干渉中間層を形成することができるからである。また、上記光触媒処理層は、濡れ性変化層と第１バリア層との間に形成されるため、光学干渉中間層が経時的に光触媒の影響を受けることを抑制することができるからである。 Furthermore, in this embodiment, the photocatalyst-containing wettability changing layer includes a photocatalyst processing layer containing a photocatalyst, and a wettability changing layer that is formed on the photocatalyst processing layer and changes wettability by the action of the photocatalyst. It is preferable to become. When the photocatalyst-containing wettability changing layer is composed of the photocatalyst-treated layer and the wettability changing layer, even when the photocatalyst is not contained in the wettability changing layer, when the energy is irradiated By the action of the photocatalyst treatment layer, it becomes possible to make the wettability changing layer the lyophilic area in the part irradiated with energy and the lyophobic part in the part not irradiated with energy. This is because the optical interference intermediate layer can be formed by using. In addition, since the photocatalyst treatment layer is formed between the wettability changing layer and the first barrier layer, the optical interference intermediate layer can be prevented from being influenced by the photocatalyst over time.

以下、このような光学干渉中間層形成工程の各工程について説明する。なお、本実施態様に用いられる光触媒含有濡れ性変化層に関しては、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 Hereinafter, each step of the optical interference intermediate layer forming step will be described. The photocatalyst-containing wettability changing layer used in the present embodiment is the same as that described in the above-mentioned “A. Gas barrier film for electronic display medium”, and thus the description thereof is omitted here.

（光触媒含有濡れ性変化層形成工程）
本実施態様の光学干渉中間層形成工程においては、まず第１バリア層上に光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程が行われる。 (Photocatalyst-containing wettability changing layer forming step)
In the optical interference intermediate layer forming step of this embodiment, a wettability changing layer forming step of first forming a photocatalyst-containing wettability changing layer that contains a photocatalyst on the first barrier layer and changes the wettability by the action of the photocatalyst. Done.

本実施態様に用いられる光触媒含有濡れ性変化層の形成材料としては、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化するものであればよく、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」の光触媒含有濡れ性変化層の欄で説明したものと同様のものを用いることができる。また、上記光触媒含有濡れ性変化層は、上述した形成材料を必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を第１バリア層上に塗布することにより形成することができる。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことができる。また、紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理を行うことにより光触媒含有濡れ性変化層を形成することができる。 The material for forming the photocatalyst-containing wettability changing layer used in the present embodiment may be any material that contains a photocatalyst and whose wettability is changed by the action of the photocatalyst. The thing similar to what was demonstrated in the column of the photocatalyst containing wettability change layer of (1) can be used. The photocatalyst-containing wettability changing layer is prepared by dispersing the above-described forming material in a solvent together with other additives as necessary to prepare a coating solution, and coating the coating solution on the first barrier layer. Can be formed. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The application can be performed by a known application method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. In addition, when an ultraviolet curable component is contained, the photocatalyst-containing wettability changing layer can be formed by irradiating ultraviolet rays to perform a curing treatment.

（濡れ性パターン形成工程）
本実施態様の光学干渉中間層形成工程においては、上記光触媒含有濡れ性変化層に、パターン状にエネルギーを照射し、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程が行なわれる。 (Wettability pattern forming process)
In the optical interference intermediate layer forming step of this embodiment, the photocatalyst-containing wettability changing layer is irradiated with energy in a pattern to form a wettability pattern in which the wettability is changed so that the contact angle with the liquid decreases. A wettability pattern forming step is performed.

なお、エネルギー照射等に関しては、上記第３実施態様に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 In addition, since energy irradiation etc. are the same as that of what was described in the said 3rd embodiment, description here is abbreviate | omitted.

（光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程）
本実施態様の光学干渉中間層形成工程においては、上記光触媒含有濡れ性変化層上の濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程が行われる。なお、本工程に関しては、上記第３実施態様に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 (Coating liquid application process for optical interference intermediate layer formation)
In the optical interference intermediate layer forming step of the present embodiment, the optical interference intermediate layer forming coating solution is applied to apply the optical interference intermediate layer forming coating solution along the wettability pattern on the photocatalyst-containing wettability changing layer. A process is performed. In addition, about this process, since it is the same as that of what was described in the said 3rd embodiment, description here is abbreviate | omitted.

（２）フォトリソグラフィー法
本発明においては、上記光学干渉中間層形成工程は、
感光性樹脂組成物を塗布する感光性樹脂組成物塗布工程、塗布された感光性樹脂組成物に対してパターン状に露光する露光工程、および上記感光性樹脂組成物の未硬化部分を除去してパターンを形成する現像工程を少なくとも有するものであり、
上記各工程は、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に対して行われ、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に厚みの異なる感光性樹脂層を形成する工程であることが好ましい。 (2) Photolithographic method In the present invention, the optical interference intermediate layer forming step comprises:
A photosensitive resin composition coating step for applying the photosensitive resin composition, an exposure step for exposing the applied photosensitive resin composition in a pattern, and removing an uncured portion of the photosensitive resin composition It has at least a development step for forming a pattern,
Each of the above steps is preferably performed on the R region, G region, and B region, and is a step of forming photosensitive resin layers having different thicknesses in the R region, G region, and B region.

本発明において、光学干渉中間層形成工程では、例えば図９（ａ）に示すように、まず第１バリア層２上に感光性樹脂組成物５１を塗布する（感光性樹脂組成物塗布工程）。次に、図９（ｂ）に示すように、塗布された感光性樹脂組成物５１に対してフォトマスク３５を介してエネルギー３６を照射する（露光工程）。さらに、図９（ｃ）および（ｄ）に示すように、上記感光性樹脂組成物５１の未硬化部分５２を除去してパターン５３を形成する（現像工程）。 In the present invention, in the optical interference intermediate layer forming step, for example, as shown in FIG. 9A, first, a photosensitive resin composition 51 is applied on the first barrier layer 2 (photosensitive resin composition applying step). Next, as shown in FIG. 9B, the applied photosensitive resin composition 51 is irradiated with energy 36 through a photomask 35 (exposure process). Further, as shown in FIGS. 9C and 9D, the uncured portion 52 of the photosensitive resin composition 51 is removed to form a pattern 53 (development process).

以下、このような光学干渉中間層形成工程の各工程について説明する。 Hereinafter, each step of the optical interference intermediate layer forming step will be described.

（感光性樹脂組成物塗布工程）
本発明において、光学干渉中間層形成工程では、まず第１バリア層上に感光性樹脂組成物を塗布する感光性樹脂組成物塗布工程が行われる。 (Photosensitive resin composition coating process)
In the present invention, in the optical interference intermediate layer forming step, first, a photosensitive resin composition coating step of coating a photosensitive resin composition on the first barrier layer is performed.

本発明において用いることができる感光性樹脂組成物は、ポジ型であってもネガ型であっても特に限定されるものではなく、上述した「Ａ．電子表示媒体用ガスバリア膜」の光学干渉中間層の欄で説明したものを用いることができる。 The photosensitive resin composition that can be used in the present invention is not particularly limited, whether it is a positive type or a negative type, and the optical interference intermediate of the above-mentioned “A. Gas barrier film for electronic display medium”. What was demonstrated in the column of a layer can be used.

感光性樹脂組成物を塗布する際には、溶媒に分散して塗工液を調製する。このような溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトンをはじめとするケトン類、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、をはじめとするセロソルブアセテート類、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルをはじめとするセロソルブ類、メタノール、エタノール、１−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノールをはじめとするアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、シクロヘキサン、デカリン等が挙げられる、２種以上の混合溶媒であってもよい。 When applying the photosensitive resin composition, a coating liquid is prepared by dispersing in a solvent. Such solvents include acetone, ketones such as methyl ethyl ketone, cellosolve acetates such as propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate. , Cellosolves including propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, alcohols including methanol, ethanol, 1-butanol, 2-butanol, cyclohexanol, Examples include ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, cyclohexane and decalin. It is, or may be a mixture of two or more solvents.

また、感光性樹脂組成物の塗布方法としては、感光性樹脂組成物を全面に塗布する方法であれば特に限定されるものではなく、具体的には、スピンコート法、キャスティング法、ディップコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スプレーコート法等の塗布方法が用いられる。 In addition, the method for applying the photosensitive resin composition is not particularly limited as long as it is a method for applying the photosensitive resin composition to the entire surface. Specifically, a spin coating method, a casting method, a dip coating method is used. Application methods such as a bar coating method, a blade coating method, a roll coating method, a gravure coating method, and a spray coating method are used.

（露光工程）
本発明において、光学干渉中間層形成工程では、上記塗布された感光性樹脂組成物に対してパターン状に露光する露光工程が行われる。 (Exposure process)
In the present invention, in the optical interference intermediate layer forming step, an exposure step of exposing the coated photosensitive resin composition in a pattern is performed.

露光方法等に関しては、一般的に用いられている露光方法により行うことができる。また、図９に示す例においては、感光性樹脂組成物がネガ型であるため、光学干渉中間層に該当する部分にのみが露光するようなフォトマスクを用いているが、逆に、ポジ型の感光性樹脂組成物を用いる場合には、光学干渉中間層に該当する部分が遮光するようなフォトマスクが用いられる。 As for the exposure method and the like, it can be performed by a commonly used exposure method. In the example shown in FIG. 9, since the photosensitive resin composition is a negative type, a photomask that exposes only a portion corresponding to the optical interference intermediate layer is used. When the photosensitive resin composition is used, a photomask that shields light from a portion corresponding to the optical interference intermediate layer is used.

（現像工程）
本発明において、光学干渉中間層形成工程では、上記感光性樹脂組成物の未硬化部分を除去してパターンを形成する現像工程が行われる。現像工程においては、露光された感光性樹脂組成物を現像液により、光学干渉中間層が形成される部分の感光性樹脂組成物のみが残存するように現像する。 (Development process)
In the present invention, in the optical interference intermediate layer forming step, a developing step is performed in which an uncured portion of the photosensitive resin composition is removed to form a pattern. In the development step, the exposed photosensitive resin composition is developed with a developer so that only the photosensitive resin composition in the portion where the optical interference intermediate layer is formed remains.

このような現像に用いることが可能な現像液としては、上記光学干渉中間層を形成する材料を溶解するものでなければ特に限定されるものではない。具体的には、一般的に使用されている有機アルカリ系現像液を使用できるが、そのほかに、無機アルカリ、または感光性樹脂層の現像が可能な水溶液を使用することができる。感光性樹脂組成物の現像を行った後は水で洗浄するのが望ましい。 The developer that can be used for such development is not particularly limited as long as it does not dissolve the material for forming the optical interference intermediate layer. Specifically, a commonly used organic alkaline developer can be used, but in addition, an inorganic alkali or an aqueous solution capable of developing the photosensitive resin layer can be used. It is desirable to wash with water after developing the photosensitive resin composition.

本発明においては、上記一連の工程（感光性樹脂組成物塗布工程、露光工程および現像工程）を光学干渉中間層のＲ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に対してそれぞれ行うものである。また、フォトリソグラフィー法を用いた光学干渉中間層形成工程は、上記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に厚みの異なる感光性樹脂層を形成する工程であることが好ましい。ＲＧＢ各色の画素部が配置される光学干渉中間層のＲＧＢ各領域の膜厚が、配置された画素部に対応する色の波長の光が干渉を起こし、強め合うような厚みとすることにより、光取出し効率を向上させることができ、より高輝度の画像表示を得ることが可能となるからである。 In the present invention, the above series of steps (photosensitive resin composition coating step, exposure step and development step) is performed on the R region, G region, and B region of the optical interference intermediate layer. Moreover, it is preferable that the optical interference intermediate | middle layer formation process using a photolithographic method is a process of forming the photosensitive resin layer from which thickness differs in the said R area | region, G area | region, and B area | region. By setting the film thickness of each RGB region of the optical interference intermediate layer in which the pixel portions of each RGB color are arranged so that the light of the wavelength of the color corresponding to the arranged pixel portion causes interference and strengthens, This is because the light extraction efficiency can be improved and an image display with higher brightness can be obtained.

３．第２バリア層形成工程
本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法においては、上記光学干渉中間層上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程が行われる。 3. Second Barrier Layer Forming Step In the method for producing a gas barrier film for an electronic display medium of the present invention, a second barrier layer forming step of forming a second barrier layer on the optical interference intermediate layer is performed.

本発明によれば、第１バリア層、光学干渉中間層および第２バリア層が順次積層されていることにより、第１バリア層にピンホールが存在する場合でも、第１バリア層上に光学干渉中間層を形成することによりこのピンホールが埋められ、さらにその光学干渉中間層上に第２バリア層を形成することにより、第１バリア層から第２バリア層表面まで貫通するピンホールの発生を抑制することができ、酸素や水蒸気等の浸入を妨げることが可能となり、ガスバリア性の高い電子表示媒体用ガスバリア膜とすることができる。 According to the present invention, since the first barrier layer, the optical interference intermediate layer, and the second barrier layer are sequentially laminated, even when a pinhole is present in the first barrier layer, the optical interference is formed on the first barrier layer. By forming the intermediate layer, this pinhole is filled, and further, by forming the second barrier layer on the optical interference intermediate layer, generation of a pinhole penetrating from the first barrier layer to the surface of the second barrier layer is generated. It is possible to suppress the intrusion of oxygen, water vapor, and the like, and a gas barrier film for an electronic display medium having a high gas barrier property can be obtained.

なお、第２バリア層形成工程に関しては、上述した「１．第１バリア層形成工程」に記載したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。 The second barrier layer forming step is the same as that described in “1. First barrier layer forming step” described above, and thus the description thereof is omitted here.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜に用いられる基材の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the base material used for the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜に用いられる基材の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the base material used for the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法における光学干渉中間層形成工程の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the optical interference intermediate | middle layer formation process in the manufacturing method of the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法における光学干渉中間層形成工程の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the optical interference intermediate | middle layer formation process in the manufacturing method of the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the gas barrier film for electronic display media of this invention. 本発明の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法における光学干渉中間層形成工程の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the optical interference intermediate | middle layer formation process in the manufacturing method of the gas barrier film for electronic display media of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１…基材
２…第１バリア層
３…光学干渉中間層
３Ｒ…Ｒ領域
３Ｇ…Ｇ領域
３Ｂ…Ｂ領域
４…第２バリア層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2 ... 1st barrier layer 3 ... Optical interference intermediate | middle layer 3R ... R area | region 3G ... G area | region 3B ... B area | region 4 ... 2nd barrier layer

Claims

基材と、前記基材上に形成された第１バリア層と、前記第１バリア層上に形成された光学干渉中間層と、前記光学干渉中間層上に形成された第２バリア層とを有する電子表示媒体用ガスバリア膜であって、
前記光学干渉中間層は、赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とを有し、
前記光学干渉中間層におけるＲ領域、Ｇ領域、およびＢ領域が、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚を有することを特徴とする電子表示媒体用ガスバリア膜。 A base material; a first barrier layer formed on the base material; an optical interference intermediate layer formed on the first barrier layer; and a second barrier layer formed on the optical interference intermediate layer. A gas barrier film for an electronic display medium,
The optical interference intermediate layer includes an R region in which a red (R) pixel portion is disposed, a G region in which a green (G) pixel portion is disposed, and a B region in which a blue (B) pixel portion is disposed. And
A gas barrier film for an electronic display medium, wherein the R region, the G region, and the B region in the optical interference intermediate layer have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color.

前記Ｒ領域、Ｇ領域およびＢ領域の屈折率が、Ｒ領域、Ｇ領域、Ｂ領域の順に小さくなることを特徴とする請求項１に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 2. The gas barrier film for an electronic display medium according to claim 1, wherein refractive indexes of the R region, the G region, and the B region decrease in the order of the R region, the G region, and the B region.

前記第１バリア層と前記光学干渉中間層との間に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層が形成されており、
前記濡れ性変化層は、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板を、前記濡れ性変化層と前記光触媒処理層とが所定の間隙をおいて配置された後、所定の方向からエネルギー照射されることにより、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 A wettability changing layer is formed between the first barrier layer and the optical interference intermediate layer, the wettability changing layer is changed by the action of a photocatalyst,
The wettability changing layer includes a photocatalyst processing layer containing a photocatalyst and a photocatalyst processing layer side substrate having a substrate, the wettability changing layer and the photocatalyst processing layer being arranged with a predetermined gap, 3. The gas barrier film for an electronic display medium according to claim 1, wherein the gas barrier film is a layer whose wettability changes so that a contact angle with a liquid is lowered by energy irradiation from a direction.

前記第１バリア層と前記光学干渉中間層との間に、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層が形成されており、
前記光触媒含有濡れ性変化層は、光触媒を含有し、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 Between the first barrier layer and the optical interference intermediate layer, a photocatalyst-containing wettability changing layer in which wettability is changed by the action of a photocatalyst is formed,
The photocatalyst-containing wettability changing layer is a layer containing a photocatalyst and having wettability changed so that a contact angle with a liquid is lowered by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. The gas barrier film for electronic display media according to claim 2.

前記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有層であることを特徴とする請求項４に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 5. The gas barrier film for an electronic display medium according to claim 4, wherein the photocatalyst-containing wettability changing layer is a photocatalyst-containing layer containing a photocatalyst and having wettability changed by the action of the photocatalyst.

前記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層と、前記光触媒処理層上に形成され、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層とからなることを特徴とする請求項４に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 The photocatalyst-containing wettability changing layer is composed of a photocatalyst-treated layer containing a photocatalyst and a wettability-changing layer formed on the photocatalyst-treated layer and having wettability changed by the action of the photocatalyst. 5. A gas barrier film for an electronic display medium according to 4.

前記第２バリア層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）が、１０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 7. The gas barrier film for an electronic display medium according to claim 1, wherein a maximum surface roughness (Rmax) of the second barrier layer is 10 nm or less.

前記光学干渉中間層の最大膜厚と最小膜厚との差が１３０ｎｍ以下であり、前記画素部間の間隙の中心部の５μｍ〜５０μｍの範囲内を底辺とし、前記底辺の両端における前記光学干渉中間層の厚みの差を高さとしたとき、前記底辺の長さに対する前記高さの比が１／５以下であることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 The difference between the maximum film thickness and the minimum film thickness of the optical interference intermediate layer is 130 nm or less, and the optical interference at both ends of the base is defined as a base in the range of 5 μm to 50 μm at the center of the gap between the pixel portions. The ratio of the height to the length of the bottom side is 1/5 or less when the difference in thickness of the intermediate layer is defined as height. The gas barrier film for electronic display media as described.

前記第２バリア層表面の尖度が、６．０以下であることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 The gas barrier film for an electronic display medium according to any one of claims 1 to 8, wherein the kurtosis of the surface of the second barrier layer is 6.0 or less.

前記光学干渉中間層の膜厚が、５０ｎｍ〜６μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれかの請求項に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 10. The gas barrier film for an electronic display medium according to claim 1, wherein the optical interference intermediate layer has a thickness in a range of 50 nm to 6 μm.

前記第２バリア層上に中間層およびバリア層が、この順序で２層〜１０層の範囲内で積層されており、最外層が前記バリア層であることを特徴とする請求項１から請求項１０までのいずれかの請求項に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜。 The intermediate layer and the barrier layer are laminated on the second barrier layer in the order of 2 to 10 layers in this order, and the outermost layer is the barrier layer. The gas barrier film for an electronic display medium according to any one of claims 10 to 10.

請求項１から請求項１１までのいずれかの請求項に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜を有することを特徴とする有機ＥＬ素子。 An organic EL element comprising the gas barrier film for an electronic display medium according to any one of claims 1 to 11.

基材上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程と、
前記第１バリア層上に赤色（Ｒ）の画素部が配置されるＲ領域と、緑色（Ｇ）の画素部が配置されるＧ領域と、青色（Ｂ）の画素部が配置されるＢ領域とからなるパターンを有する光学干渉中間層を形成する光学干渉中間層形成工程と、
前記光学干渉中間層上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程とを有する電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法であって、
前記光学干渉中間層形成工程では、前記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域が、各色の波長に対応する光学干渉が生じる膜厚となるように形成されることを特徴とする電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法。 A first barrier layer forming step of forming a first barrier layer on a substrate;
An R region in which a red (R) pixel portion is disposed on the first barrier layer, a G region in which a green (G) pixel portion is disposed, and a B region in which a blue (B) pixel portion is disposed. An optical interference intermediate layer forming step of forming an optical interference intermediate layer having a pattern consisting of:
A method for producing a gas barrier film for an electronic display medium, comprising a second barrier layer forming step of forming a second barrier layer on the optical interference intermediate layer,
In the optical interference intermediate layer forming step, the R region, the G region, and the B region are formed so as to have a film thickness that causes optical interference corresponding to the wavelength of each color. A method for producing a membrane.

前記光学干渉中間層形成工程は、
前記第１バリア層上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、
前記濡れ性変化層と、光触媒を含有する光触媒処理層および基体を有する光触媒処理層側基板とを、前記濡れ性変化層および前記光触媒処理層が所定の間隙をおいて配置した後、パターン状にエネルギーを照射し、前記濡れ性変化層に液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と、
前記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程と
を有することを特徴とする請求項１３に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法。 The optical interference intermediate layer forming step includes
A wettability changing layer forming step of forming a wettability changing layer in which the wettability is changed by the action of a photocatalyst on the first barrier layer;
The wettability changing layer, the photocatalyst processing layer containing the photocatalyst, and the photocatalyst processing layer side substrate having the substrate are arranged in a pattern after the wettability changing layer and the photocatalyst processing layer are arranged with a predetermined gap. A wettability pattern forming step of irradiating energy and forming a wettability pattern in which the wettability is changed so that a contact angle with the liquid is reduced in the wettability changing layer;
The gas barrier film for an electronic display medium according to claim 13, further comprising: an optical interference intermediate layer forming coating liquid application step of applying an optical interference intermediate layer forming coating liquid along the wettability pattern. Manufacturing method.

前記光学干渉中間層形成工程は、
前記第１バリア層上に、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有濡れ性変化層を形成する光触媒含有濡れ性変化層形成工程と、
前記光触媒含有濡れ性変化層に、パターン状にエネルギーを照射し、液体との接触角が低下するように濡れ性が変化した濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と
前記濡れ性パターンに沿って光学干渉中間層形成用塗工液を塗布する光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程と
を有することを特徴とする請求項１３に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法。 The optical interference intermediate layer forming step includes
On the first barrier layer, a photocatalyst-containing wettability changing layer forming step of forming a photocatalyst-containing wettability changing layer that contains a photocatalyst and changes wettability by the action of the photocatalyst;
A wettability pattern forming step of irradiating the photocatalyst-containing wettability changing layer with energy in a pattern to form a wettability pattern in which the wettability is changed so that the contact angle with the liquid is reduced, and along the wettability pattern The method for producing a gas barrier film for an electronic display medium according to claim 13, further comprising: applying a coating liquid for forming an optical interference intermediate layer.

前記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有し、光触媒の作用により濡れ性が変化する光触媒含有層であることを特徴とする請求項１５に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法。 The method for producing a gas barrier film for an electronic display medium according to claim 15, wherein the photocatalyst-containing wettability changing layer is a photocatalyst-containing layer containing a photocatalyst and having wettability changed by the action of the photocatalyst.

前記光触媒含有濡れ性変化層が、光触媒を含有する光触媒処理層と、前記光触媒処理層上に形成され、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層とからなることを特徴とする請求項１５に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法。 The photocatalyst-containing wettability changing layer is composed of a photocatalyst-treated layer containing a photocatalyst and a wettability-changing layer formed on the photocatalyst-treated layer and having wettability changed by the action of the photocatalyst. 15. A method for producing a gas barrier film for an electronic display medium according to 15.

前記光学干渉中間層形成用塗工液塗布工程において、吐出法により光学干渉中間層形成用塗工液を塗布することを特徴とする請求項１４から請求項１７までのいずれかの請求項に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法。 18. The optical interference intermediate layer forming coating liquid is applied by a discharge method in the optical interference intermediate layer forming coating liquid application step. Of manufacturing a gas barrier film for an electronic display medium.

前記光学干渉中間層形成工程は、
感光性樹脂組成物を塗布する感光性樹脂組成物塗布工程、塗布された感光性樹脂組成物に対してパターン状に露光する露光工程、および前記感光性樹脂組成物の未硬化部分を除去してパターンを形成する現像工程を少なくとも有するものであり、
前記各工程は、前記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に対して行われ、前記Ｒ領域、Ｇ領域、およびＢ領域に厚みの異なる感光性樹脂層を形成する工程であることを特徴とする請求項１３に記載の電子表示媒体用ガスバリア膜の製造方法。

The optical interference intermediate layer forming step includes
Removing the uncured portion of the photosensitive resin composition, a photosensitive resin composition application step of applying the photosensitive resin composition, an exposure step of exposing the applied photosensitive resin composition in a pattern; It has at least a development step for forming a pattern,
Each of the steps is performed on the R region, the G region, and the B region, and a photosensitive resin layer having a different thickness is formed on the R region, the G region, and the B region. The manufacturing method of the gas barrier film for electronic display media of Claim 13.