JP2006107836A

JP2006107836A - Color conversion filter, its manufacturing method, and organic el display using it

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Publication number: JP2006107836A
Application number: JP2004290525A
Authority: JP
Inventors: Toshio Hama; 敏夫濱
Original assignee: Fuji Electric Holdings Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 2004-10-01
Filing date: 2004-10-01
Publication date: 2006-04-20

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color conversion filter and an organic EL display with such a structure that reduces ineffective fluorescent light component generated at color conversion without degrading display quality of a display. <P>SOLUTION: The color conversion filter is provided with a transparent substrate, one or a plural kinds of color conversion filter layers, a black matrices arranged between the color conversion layers, and texture-structure overcoat layers on the color conversion layers. The texture-structure overcoat layers are composed of texture parts located at upper parts of the color conversion filter layers and flat parts, and an extended line of a texture face is so structured to overlook between layers of the color conversion filter layers. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、高精細で視認性に優れ、広範囲な応用可能性を有する有機エレクトロルミネセンス（以下、有機ＥＬと称する）ディスプレイに関する。本発明の有機ＥＬディスプレイは、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、テレビ、オーディオ、ビデオ、カーナビゲーション、電話機、携帯端末、ならびに産業用計測器の表示などに使用することができる。 The present invention relates to an organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) display having high definition, excellent visibility, and a wide range of applicability. The organic EL display of the present invention can be used for display of personal computers, word processors, televisions, audio, video, car navigation, telephones, portable terminals, and industrial measuring instruments.

有機ＥＬディスプレイは、陽極および陰極からキャリアを注入して有機ＥＬ層において発光させる自発光型素子であり、現在フラットパネルディスプレイの主流である液晶ディスプレイに比較して広い視野角および高い応答速度を有するため、携帯電話あるいは携帯パソコン用の次世代のフラットパネルディスプレイとして開発が進められている。 An organic EL display is a self-luminous element that injects carriers from an anode and a cathode to emit light in an organic EL layer, and has a wider viewing angle and a higher response speed than a liquid crystal display that is currently the mainstream of flat panel displays. Therefore, development as a next-generation flat panel display for a mobile phone or a personal computer is being promoted.

また、近年では、有機ＥＬ層の発光域の光を吸収して可視光域の蛍光を発光する蛍光材料による波長分布変換を用いる色変換方式が開発されてきている（たとえば、特許文献１および２参照）。たとえば、青色発光の有機ＥＬ素子を用いた色変換方式においては、青色光を緑色光および赤色光に波長分布変換している（特許文献２〜４参照）。このような蛍光材料を含む蛍光変換膜を高精細にパターニングし、ＲＧＢそれぞれの発光領域をマトリクス状に配置することによって、発光体の近紫外光ないし可視光のような弱いエネルギー線を用いてもフルカラー表示が可能な発光型ディスプレイを構築することができる。 In recent years, a color conversion method using wavelength distribution conversion using a fluorescent material that absorbs light in the light emission region of the organic EL layer and emits fluorescence in the visible light region has been developed (for example, Patent Documents 1 and 2). reference). For example, in a color conversion method using a blue light-emitting organic EL element, the wavelength distribution of blue light is converted into green light and red light (see Patent Documents 2 to 4). Even by using weak energy rays such as near-ultraviolet light or visible light of the light emitter by patterning such a fluorescent conversion film containing a fluorescent material with high definition and arranging the light emitting regions of RGB in a matrix. A light emitting display capable of full color display can be constructed.

色変換方式を用いた有機ＥＬディスプレイにおいて、有機ＥＬ素子の発光は蛍光変換膜中で吸収され、所望の波長を有する蛍光へと変換される。この際に、蛍光は等方的に放射されるため、全ての蛍光が有機ＥＬディスプレイの表示面から出射されず、無効な蛍光成分が存在することが知られている。 In an organic EL display using a color conversion method, light emitted from an organic EL element is absorbed in a fluorescence conversion film and converted into fluorescence having a desired wavelength. At this time, since the fluorescence is emitted isotropically, it is known that not all the fluorescence is emitted from the display surface of the organic EL display, and there is an invalid fluorescence component.

このような無効な蛍光成分を利用して有機ＥＬディスプレイの輝度を向上させる方法が提案されてきている。たとえば、面状発光体と、その発光面側の透光性層と、透光性層よりも大きな屈折率を有する蛍光変換膜（色変換層）とを積層した光学的表示装置において、透光性層と色変換層との界面に凹凸形状を形成することが提案されている（特許文献５参照）。また、面状発光体、透光性層、中間層および色変換層が積層された光学的表示装置において、色変換層の屈折率を中間層の屈折率より大きくし、かつ中間層と透光性層との界面に凹凸形状を形成することが提案されている（特許文献５参照）。 A method for improving the luminance of an organic EL display using such an ineffective fluorescent component has been proposed. For example, in an optical display device in which a planar light-emitting body, a light-transmitting layer on the light-emitting surface side, and a fluorescence conversion film (color conversion layer) having a refractive index larger than that of the light-transmitting layer are stacked. It has been proposed to form a concavo-convex shape at the interface between the color layer and the color conversion layer (see Patent Document 5). In an optical display device in which a planar light emitter, a translucent layer, an intermediate layer, and a color conversion layer are laminated, the refractive index of the color conversion layer is made larger than the refractive index of the intermediate layer, and the intermediate layer and the translucent layer It has been proposed to form a concavo-convex shape at the interface with the conductive layer (see Patent Document 5).

特開平５−２５８８６０号公報JP-A-5-258860 特開平３−１５２８９７号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-152897 特開平６−２８６０３３号公報JP-A-6-286033 特開平９−２０８９４４号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-208944 特開２０００−２８４７０５号公報JP 2000-284705 A

フルカラー表示を行うディスプレイ装置においては、１つの画素（ピクセル）中に、数十〜数百μｍオーダーの間隔で配置されたＲＧＢの副画素（サブピクセル）が形成されている。ここで、ＲＧＢそれぞれの光の相互混合による表示色の品質の低下を防止することが問題となってきている。特許文献５に記載されるような色変換層と透光性層との界面または中間層と透光性層との界面に凹凸形状を設けることは、界面における散乱が横方向に広がりを持つことを意味し、１つの副画素に相当する発光が界面で散乱されて隣接する副画素へと入射してしまい、色のにじみなどが出てディスプレイとしての品質が低下するという問題があった。 In a display device that performs full-color display, RGB sub-pixels (sub-pixels) arranged at intervals of the order of several tens to several hundreds of μm are formed in one pixel (pixel). Here, it has become a problem to prevent deterioration of display color quality due to mutual mixing of RGB light. Providing a concavo-convex shape at the interface between the color conversion layer and the translucent layer or the interface between the intermediate layer and the translucent layer as described in Patent Document 5 means that scattering at the interface has a lateral spread. There is a problem that light emission corresponding to one sub-pixel is scattered at the interface and incident on an adjacent sub-pixel, resulting in color blurring and lowering the display quality.

したがって、色のにじみなどのディスプレイの表示品質を低下させることなしに、色変換層において発生する無効な蛍光成分を減少させるような構造を提供することが、本発明の課題である。 Accordingly, it is an object of the present invention to provide a structure that reduces the ineffective fluorescent component generated in the color conversion layer without degrading the display quality of the display such as color bleeding.

本発明の第１の実施形態の色変換フィルタは、透明基板と、１つまたは複数種の色変換フィルタ層と、前記色変換層の層間に配設されるブラックマトリクスと、前記色変換フィルタ層上のテクスチャ構造オーバーコート層とを有することを特徴とする。ここで、前記テクスチャ構造オーバーコート層は、前記色変換フィルタ層上方に位置するテクスチャ部と、平坦部とから構成されていてもよい。好ましくは、前記テクスチャ部のテクスチャ面の延長線が、前記色変換フィルタ層の層間を俯瞰する。 The color conversion filter according to the first embodiment of the present invention includes a transparent substrate, one or more types of color conversion filter layers, a black matrix disposed between the color conversion layers, and the color conversion filter layer. It has the above texture structure overcoat layer. Here, the texture structure overcoat layer may include a texture portion located above the color conversion filter layer and a flat portion. Preferably, an extension line of the texture surface of the texture portion overlooks the interlayer of the color conversion filter layer.

本発明の第２の実施形態である、透明基板と、１つまたは複数種の色変換フィルタ層と、前記色変換層の層間に配設されるブラックマトリクスと、前記色変換フィルタ層上のテクスチャ構造オーバーコート層とを有する色変換フィルタの製造方法は、１つまたは複数種の色変換フィルタ層および前記色変換層の層間のブラックマトリクスが配設された透明基板を準備する工程と、平坦部と凹部とを有する仮基板上に剥離層を堆積させる工程と、前記剥離層上にテクスチャ構造オーバーコート層を堆積させる工程と、前記テクスチャ構造オーバーコート層と前記色変換フィルタ層とを対向させて、２００℃以下の温度において、前記色変換フィルタ層に前記テクスチャ構造オーバーコート層を圧着させる工程と、前記剥離層および前記仮基板を除去する工程とを含むことを特徴とする。 A transparent substrate, one or a plurality of types of color conversion filter layers, a black matrix disposed between the color conversion layers, and a texture on the color conversion filter layer according to the second embodiment of the present invention A method of manufacturing a color conversion filter having a structural overcoat layer includes a step of preparing a transparent substrate in which one or a plurality of types of color conversion filter layers and a black matrix between the color conversion layers are arranged, and a flat portion And a step of depositing a release layer on a temporary substrate having a recess, a step of depositing a texture structure overcoat layer on the release layer, and the texture structure overcoat layer and the color conversion filter layer facing each other. And a step of pressure-bonding the textured overcoat layer to the color conversion filter layer at a temperature of 200 ° C. or lower, and the release layer and the temporary substrate. Characterized in that it comprises the step of removed by.

本発明の第３の実施形態の有機ＥＬディスプレイは、基板上に反射電極、有機ＥＬ層および透明電極を少なくとも含む有機ＥＬ素子と、第１の実施形態の色変換フィルタとを、前記透明電極と前記テクスチャ構造オーバーコート層とを対向させて貼り合わせることによって形成されていることを特徴とする。 An organic EL display according to a third embodiment of the present invention includes an organic EL element including at least a reflective electrode, an organic EL layer, and a transparent electrode on a substrate, the color conversion filter according to the first embodiment, and the transparent electrode. The texture structure overcoat layer is formed so as to be opposed to each other.

以上のような構成を採ることによって、色変換フィルタ層中で発生する蛍光の利用効率を高め、高い輝度を含む優れた表示性能を有する色変換フィルタおよびそれを用いた有機ＥＬディスプレイを作製することが可能となる。 By adopting the configuration as described above, the use efficiency of fluorescence generated in the color conversion filter layer is increased, and a color conversion filter having excellent display performance including high luminance and an organic EL display using the color conversion filter are manufactured. Is possible.

本発明の色変換フィルタの模式的断面図を図１に示す。本発明の色変換フィルタは、透明基板１の上に、１つまたは複数の色変換フィルタ層（赤色：２、緑色：３、青色：４）およびブラックマトリクス６が積層され、その上にテクスチャ構造オーバーコート層５が積層された構造を有する。 A schematic cross-sectional view of the color conversion filter of the present invention is shown in FIG. In the color conversion filter of the present invention, one or a plurality of color conversion filter layers (red: 2, green: 3, blue: 4) and a black matrix 6 are laminated on a transparent substrate 1, and a texture structure is formed thereon. The overcoat layer 5 has a laminated structure.

透明基板１は、色変換フィルタ層によって変換された光に対して透明であることが必要である。透明基板１は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の透過率を有することが好ましい。また、透明基板１は、色変換フィルタ層およびブラックマスクの形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板１の材料として好ましいものは、ガラス、シリコン、ならびにポリエチレンテレフタレートおよびポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、透明基板１として用いてもよい。 The transparent substrate 1 needs to be transparent to the light converted by the color conversion filter layer. The transparent substrate 1 preferably has a transmittance of 50% or more with respect to light having a wavelength of 400 to 800 nm. Further, the transparent substrate 1 should be able to withstand the conditions (solvent, temperature, etc.) used for forming the color conversion filter layer and the black mask, and is preferably excellent in dimensional stability. Preferred materials for the transparent substrate 1 include glass, silicon, and resins such as polyethylene terephthalate and polymethyl methacrylate. Borosilicate glass or blue plate glass is particularly preferable. Alternatively, a flexible film formed from polyolefin, acrylic resin, polyester resin, polyimide resin, or the like may be used as the transparent substrate 1.

色変換フィルタ層（２，３，４）は、色変換層の単一層であってもよく、または色変換層とカラーフィルタ層との積層構造であってもよい。複数種の色変換フィルタ層を用いる場合は、少なくとも１種の色変換フィルタ層が前述の構造を有することを条件として、他の色変換フィルタ層をカラーフィルタ層のみから構成してもよい。 The color conversion filter layer (2, 3, 4) may be a single layer of the color conversion layer, or may be a laminated structure of the color conversion layer and the color filter layer. When a plurality of types of color conversion filter layers are used, the other color conversion filter layers may be composed of only the color filter layers on condition that at least one type of color conversion filter layer has the above-described structure.

色変換層は、有機ＥＬ素子から発せられる近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色の光を吸収して、異なる波長の可視光への波長分布変換を行う層である。色変換層は、少なくとも１種の蛍光色素と、マトリクス樹脂とを含む。 The color conversion layer is a layer that absorbs light in the near ultraviolet region or visible region, particularly blue or blue-green light emitted from the organic EL element, and performs wavelength distribution conversion to visible light having a different wavelength. The color conversion layer includes at least one fluorescent dye and a matrix resin.

カラーフィルタ層は、有機ＥＬ素子または色変換層からの光の一部のみを透過させ、所望の色の光を高い色純度で得るための層である。カラーフィルタ層は、たとえば、市販のフラットパネルディスプレイ（液晶ディスプレイなど）用の材料を用いて形成することができる。 The color filter layer is a layer for transmitting only part of the light from the organic EL element or the color conversion layer and obtaining light of a desired color with high color purity. The color filter layer can be formed using, for example, a material for a commercially available flat panel display (liquid crystal display or the like).

本発明においては、少なくとも赤色領域の蛍光を発する赤色変換層を含むことが好ましく、必要に応じて緑色領域の蛍光を発する緑色変換層を組み合わせて用いてもよい。 In the present invention, it is preferable to include at least a red conversion layer that emits fluorescence in the red region, and if necessary, a green conversion layer that emits fluorescence in the green region may be used in combination.

赤色変換層に用いて、青色ないし青緑色の領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素は、たとえば、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２等のローダミン系色素；シアニン系色素；１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）等のピリジン系色素；およびオキサジン系色素を含む。 Fluorescent dyes that are used in the red conversion layer and absorb blue to blue-green region light and emit red region fluorescence include, for example, rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, sulforhodamine, basic violet 11 Rhodamine dyes such as Basic Red 2; cyanine dyes; pyridine dyes such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] pyridinium perchlorate (pyridine 1); And an oxazine dye.

緑色変換層に用いて、青色ないし青緑色の領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素は、たとえば、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチル−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）等のクマリン系色素；クマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１；およびソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド系色素を含む。 A fluorescent dye that absorbs light in the blue to blue-green region and emits fluorescence in the green region used in the green conversion layer is, for example, 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2′-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), 3- (2′-N-methyl-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 30), 2, A coumarin dye such as 3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidino (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153); a basic yellow 51 which is a coumarin dye; And naphthalimide dyes such as Solvent Yellow 11 and Solvent Yellow 116.

なお、前述の色変換色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、色変換顔料として用いてもよい。 In addition, the above-mentioned color conversion dyes include polymethacrylic acid ester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, and a mixture of these resins. May be previously kneaded into a pigment to be used as a color conversion pigment.

色変換層を形成するのに用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性樹脂または光熱併用硬化型樹脂を、光および／または熱処理して硬化させ、不溶不融化させたものである。前述の色変換色素と樹脂とを溶剤中に溶解ないし分散させ、それを透明基板１上に塗布した後に、乾燥および硬化させることによって色変換層を形成することができる。この際に、フォトリソグラフ法等を用いて、高精細度のパターニングを行うことができる。また、光硬化性樹脂または光熱併用硬化型樹脂の硬化物は、耐溶剤性および耐熱性などの信頼性が高い点でも好ましいものである。 The matrix resin used to form the color conversion layer is obtained by curing a photocurable resin or a photothermal combination curable resin by light and / or heat treatment to make it insoluble and infusible. The color conversion layer can be formed by dissolving or dispersing the above-described color conversion pigment and resin in a solvent, applying the solution on the transparent substrate 1, and drying and curing. At this time, high-definition patterning can be performed using a photolithographic method or the like. In addition, a cured product of a photocurable resin or a photothermal combination curable resin is preferable from the viewpoint of high reliability such as solvent resistance and heat resistance.

色変換層は、色変換層の重量を基準として０．０１〜５質量％、好ましくは０．１〜２質量％の色変換色素を含む。この範囲内の含有量とすることによって、濃度消光などによる色変換色素の効率低下を伴うことなしに、高い効率で波長分布変換を行って所望の色の光を得ることが可能となる。色変換層は、通常は５μｍ以上、好ましくは８〜１５μｍの膜厚を有して形成される。 The color conversion layer contains 0.01 to 5 mass%, preferably 0.1 to 2 mass% of a color conversion pigment based on the weight of the color conversion layer. By setting the content within this range, it is possible to obtain light of a desired color by performing wavelength distribution conversion with high efficiency without causing a decrease in efficiency of the color conversion dye due to concentration quenching or the like. The color conversion layer is usually formed to have a film thickness of 5 μm or more, preferably 8 to 15 μm.

カラーフィルタ層は、通常は１〜１．５μｍの膜厚を有する。但し、色変換フィルタ層をカラーフィルタ層のみから構成する場合には、０．５〜１０μｍの膜厚を有してもよい。 The color filter layer usually has a thickness of 1 to 1.5 μm. However, when the color conversion filter layer is composed of only the color filter layer, it may have a thickness of 0.5 to 10 μm.

本発明の色変換フィルタにおいては、好ましくは、赤色変換フィルタ層２、緑色変換フィルタ層３および青色変換フィルタ層４の３種の色変換フィルタ層を含む。このような構成の色変換フィルタを制御可能な光源（好ましくは青色ないし青緑色の光を発光する光源）と組み合わせることによって、フルカラー表示が可能なディスプレイを形成することができる。これら色変換フィルタ層のうち、赤色変換フィルタ層２は色変換層を含む。緑色変換フィルタ層３においては、色変換層を含むことが好ましいが、組み合わせられる光源が充分な量の緑色成分を含む場合には、カラーフィルタ層のみから構成されていてもよい。色変換層を含む赤色変換フィルタ層２および緑色変換フィルタ層３においては、得られる光の色純度の向上を目的としてカラーフィルタ層を設けることが好ましい。青色変換フィルタ層４については、カラーフィルタ層のみから構成することが好ましいが、組み合わせられる光源（たとえば近紫外光を発する光源）の場合には色変換層を含んでもよい。 The color conversion filter of the present invention preferably includes three types of color conversion filter layers, a red conversion filter layer 2, a green conversion filter layer 3, and a blue conversion filter layer 4. By combining the color conversion filter having such a configuration with a controllable light source (preferably a light source emitting blue or blue-green light), a display capable of full color display can be formed. Of these color conversion filter layers, the red conversion filter layer 2 includes a color conversion layer. The green conversion filter layer 3 preferably includes a color conversion layer. However, when the combined light source includes a sufficient amount of the green component, the green conversion filter layer 3 may include only the color filter layer. In the red conversion filter layer 2 and the green conversion filter layer 3 including the color conversion layer, it is preferable to provide a color filter layer for the purpose of improving the color purity of the obtained light. The blue conversion filter layer 4 is preferably composed of only a color filter layer, but in the case of a combined light source (for example, a light source that emits near ultraviolet light), a color conversion layer may be included.

本発明の色変換フィルタにおいては、色変換フィルタ層を設けられていない領域に、ブラックマトリクス６を形成することが好ましい。ブラックマトリクス６を設けることによって、隣接するサブピクセルの色変換フィルタ層への光の漏れを防止して、にじみのない所望される蛍光変換色のみを得ることが可能となる。ブラックマトリクス６は、好ましくは０．５〜１５μｍの膜厚を有する。本発明におけるブラックマトリクス６は、カラーフィルタ層と同様に、フラットパネルディスプレイ用途に市販されている材料を用いて形成することができる。 In the color conversion filter of the present invention, it is preferable to form the black matrix 6 in a region where the color conversion filter layer is not provided. By providing the black matrix 6, it is possible to prevent leakage of light to the color conversion filter layer of the adjacent sub-pixel and obtain only a desired fluorescence conversion color without blur. The black matrix 6 preferably has a film thickness of 0.5 to 15 μm. The black matrix 6 in the present invention can be formed using a material that is commercially available for flat panel display use, as with the color filter layer.

色変換フィルタ層は、各画素の副画素に相当する位置に設けられ、好ましくは矩形の底面形状を有する。あるいはまた、特定色の複数の副画素が１つの方向に整列している場合には、該方向に延びるストライプ形状を有してもよい。 The color conversion filter layer is provided at a position corresponding to a sub-pixel of each pixel, and preferably has a rectangular bottom shape. Alternatively, when a plurality of sub-pixels of a specific color are aligned in one direction, they may have a stripe shape extending in that direction.

テクスチャ構造オーバーコート層５は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、色変換フィルタ層の機能を低下させない材料から形成される。例えば、ＳｉＯ_ｘ、ＳｎＯ_２、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ、ＡｌＯ_ｘ、ＴｉＯ_ｘ、ＴａＯ_ｘ、ＺｎＯ_ｘ等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用することができる。 The texture structure overcoat layer 5 is formed of a material that has high transparency in the visible region (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm) and does not deteriorate the function of the color conversion filter layer. For example, materials such as inorganic oxides and inorganic nitrides such as SiO _x , SnO ₂ , SiN _x , SiN _x O _y , AlO _x , TiO _x , TaO _x , and ZnO _x can be used.

テクスチャ構造オーバーコート層５は、均一な膜厚を有する平坦部と、副画素に相当する位置（すなわち色変換フィルタ層の上方）に設けられるテクスチャ部とで構成される。テクスチャ部は、好ましくは四角錐（底面が色変換フィルタ層に対向する）または三角柱（側面の１つが色変換フィルタ層に対向する）の形状を有する。特定の副画素の位置において、隣接する副画素が別の色の副画素である場合、テクスチャ部は該副画素に向かって傾斜する側面を有することが望ましい。たとえば、ある副画素の上下左右に隣接する副画素が別の色の物である場合には、テクスチャ部は四角錐の形状を有することが好ましい。あるいはまた、ある副画素の上下（または左右）に隣接する副画素が別の色の物であるが、左右（または上下）に隣接する副画素が同色である場合には、テクスチャ部は三角柱の形状を有することが好ましい。 The texture structure overcoat layer 5 includes a flat portion having a uniform film thickness and a texture portion provided at a position corresponding to the sub-pixel (that is, above the color conversion filter layer). The texture portion preferably has a shape of a quadrangular pyramid (the bottom surface faces the color conversion filter layer) or a triangular prism (one of the side surfaces faces the color conversion filter layer). When the adjacent subpixel is a subpixel of another color at the position of the specific subpixel, it is desirable that the texture portion has a side surface inclined toward the subpixel. For example, when the subpixels adjacent to the upper, lower, left, and right of a certain subpixel are of different colors, the texture portion preferably has a quadrangular pyramid shape. Alternatively, if the subpixels adjacent to the top and bottom (or left and right) of a certain subpixel are of different colors, but the subpixels adjacent to the left and right (or top and bottom) are the same color, the texture portion is a triangular prism. It preferably has a shape.

テクスチャ部の底面（すなわち、色変換フィルタ層に対向する面）は、副画素と同等以上の寸法を有するべきであり、好ましくは同一の寸法を有する。テクスチャ部の高さは、テクスチャ部側面（以下、テクスチャ面と称する）の延長線が、色変換フィルタ層間を俯瞰するように設定される。「テクスチャ面の延長線が色変換フィルタ層間を俯瞰する」は、図１に示したように、テクスチャ面の延長線が隣接する色変換フィルタ層に到達せず、色変換フィルタ層の間に設けられたブラックマトリクス６の上面に到達することを意味する。テクスチャ面をこのように形成することによって、色変換フィルタ層中で発生し、テクスチャ面で反射する光が、隣接する別の色の副画素に再入射しないようにして、色のにじみを抑制することが可能となる。 The bottom surface of the texture portion (that is, the surface facing the color conversion filter layer) should have a size equal to or greater than that of the subpixel, and preferably has the same size. The height of the texture portion is set so that an extension line of the side surface of the texture portion (hereinafter referred to as the texture surface) overlooks the color conversion filter layer. As shown in FIG. 1, “the texture line extension line looks down between the color conversion filter layers” is provided between the color conversion filter layers without extending the texture surface extension line to the adjacent color conversion filter layer. It means that the upper surface of the black matrix 6 is reached. By forming the textured surface in this way, light that is generated in the color conversion filter layer and reflected by the textured surface is prevented from re-entering another adjacent subpixel of color, thereby suppressing color bleeding. It becomes possible.

テクスチャ構造オーバーコート層５の膜厚（テクスチャ部が設けられていない平坦部の膜厚を意味する）は、０．３〜１．０μｍの範囲内であることが好ましい。テクスチャ部の高さ（平坦部の上面から、テクスチャ部頂点または頂部稜辺までの高さ）は、副画素寸法および隣接する副画素間の間隔に依存するが、通常の場合１．０〜３．０μｍであることが好ましい。 The film thickness of the texture structure overcoat layer 5 (meaning the film thickness of a flat part where no texture part is provided) is preferably in the range of 0.3 to 1.0 μm. The height of the texture portion (the height from the upper surface of the flat portion to the top of the texture portion or the top edge) depends on the subpixel size and the interval between adjacent subpixels, but is usually 1.0 to 3 in the normal case. It is preferably 0.0 μm.

テクスチャ構造オーバーコート層５は、所望する形状を有する仮基板１２上で形成し、それを色変換フィルタ層上に転写することによって形成される。 The texture structure overcoat layer 5 is formed by forming on the temporary substrate 12 having a desired shape and transferring it onto the color conversion filter layer.

図２に本発明において用いることができる仮基板１２の１例の模式的断面図を示す。仮基板１２は、シリコン基板またはガラス基板であることが好ましく、その表面上にテクスチャ構造オーバーコート層５の雌型となる凹部が設けられている。凹部として、エッチング法で形成されるエッチピットを用いることができる。仮基板１２の凹部を設けた表面上に剥離層１３を設けて、色変換フィルタ層上へのテクスチャ構造オーバーコート層５の転写を容易にしてもよい。剥離層１３は、テクスチャ構造オーバーコート層５を構成する材料に対して、テクスチャ構造オーバーコート層５／色変換層の密着力よりも低い密着力を有する材料で構成することが望ましい。あるいはまた、材料剥離層１３を、たとえば、特定の薬剤に対してテクスチャ構造オーバーコート層５を構成する材料に優先して溶解する材料から形成してもよい。 FIG. 2 shows a schematic sectional view of an example of the temporary substrate 12 that can be used in the present invention. The temporary substrate 12 is preferably a silicon substrate or a glass substrate, and a concave portion serving as a female mold of the texture structure overcoat layer 5 is provided on the surface thereof. As the recess, an etch pit formed by an etching method can be used. A release layer 13 may be provided on the surface of the temporary substrate 12 provided with the recesses to facilitate the transfer of the texture structure overcoat layer 5 onto the color conversion filter layer. The release layer 13 is preferably made of a material having lower adhesion than that of the texture structure overcoat layer 5 / color conversion layer with respect to the material constituting the texture structure overcoat layer 5. Or you may form the material peeling layer 13 from the material which preferentially melt | dissolves with respect to the material which comprises the texture structure overcoat layer 5 with respect to a specific chemical | medical agent, for example.

剥離層１３を設けた仮基板１２上に、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により所望の形状を有するテクスチャ構造オーバーコート層５を堆積させ、次に図３に示すような状態で圧力および／または熱を印加してテクスチャ構造オーバーコート層５を色変換フィルタ層上に密着させ、最後に剥離層１３および仮基板１２を除去して、テクスチャ構造オーバーコート層５を形成することができる。ここで、剥離層が優先溶解可能な材料から形成されている場合、剥離層１３を溶解させて仮基板１２を剥離除去してもよい。 A textured structure overcoat layer 5 having a desired shape is deposited on a temporary substrate 12 provided with a release layer 13 by a conventional method such as sputtering, CVD, vacuum deposition, dip, or sol-gel. Next, pressure and / or heat is applied in the state as shown in FIG. 3 to bring the texture structure overcoat layer 5 into close contact with the color conversion filter layer. Finally, the release layer 13 and the temporary substrate 12 are removed to remove the texture. A structural overcoat layer 5 can be formed. Here, when the peeling layer is formed of a material that can be preferentially dissolved, the temporary layer 12 may be peeled and removed by dissolving the peeling layer 13.

テクスチャ構造オーバーコート層５の形成後、バリア層２０を形成し、平坦化を行ってもよい。バリア層２０は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、電気絶縁性を有し、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有する材料から形成することができる。例えば、ＳｉＯ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ、ＡｌＯ_ｘ、ＴｉＯ_ｘ、ＴａＯ_ｘ、ＺｎＯ_ｘ等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用し、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により形成することが可能である。ただし、バリア層２０は、その屈折率がテクスチャ構造オーバーコート層５の屈折率よりも小さい材料から形成される。 After the formation of the texture structure overcoat layer 5, the barrier layer 20 may be formed and planarized. The barrier layer 20 is formed from a material having high transparency in the visible region (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm), electrical insulation, and barrier properties against moisture, oxygen, and low molecular components. Can do. For example, materials such as inorganic oxides and inorganic nitrides such as SiO _x , SiN _x , SiN _x O _y , AlO _x , TiO _x , TaO _x , ZnO _x are used, and sputtering, CVD, vacuum deposition, It can be formed by a conventional method such as a dip method or a sol-gel method. However, the barrier layer 20 is formed of a material whose refractive index is smaller than that of the texture structure overcoat layer 5.

本発明において、有機ＥＬディスプレイを形成するために用いられる有機ＥＬ素子は、基板１４上に、反射電極１７と、有機ＥＬ層７と、透明電極１８とを少なくとも含む。 In the present invention, an organic EL element used to form an organic EL display includes at least a reflective electrode 17, an organic EL layer 7, and a transparent electrode 18 on a substrate 14.

反射電極１７は、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。あるいはまた、前述の高反射率の金属を含む他の合金（たとえばＭｇ／Ａｇ合金など）を用いることができる。反射電極１７を陽極として用いる場合には、正孔の注入効率を向上させるために、高反射率材料の上に、仕事関数が大きなＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの透明導電性金属酸化物を積層した複層構造とすることが望ましい。あるいはまた、反射電極１７を陰極として用いる場合には、有機ＥＬ層７中に電子注入層を設けて反射電極１７と接触させることが好ましい。反射電極１７は、蒸着、スパッタなどの当該技術において知られている任意の方法で形成することができる。 The reflective electrode 17 is preferably formed using a highly reflective metal, amorphous alloy, or microcrystalline alloy. High reflectivity metals include Al, Ag, Mo, W, Ni, Cr, and the like. High reflectivity amorphous alloys include NiP, NiB, CrP, CrB, and the like. The highly reflective microcrystalline alloy includes NiAl and the like. Alternatively, other alloys (for example, Mg / Ag alloy) containing the above-described highly reflective metal can be used. When the reflective electrode 17 is used as an anode, SnO ₂ , In ₂ O ₃ , ITO, IZO, ZnO: Al, etc. having a high work function are formed on a highly reflective material in order to improve hole injection efficiency. A multilayer structure in which transparent conductive metal oxides are laminated is desirable. Alternatively, when the reflective electrode 17 is used as a cathode, it is preferable that an electron injection layer is provided in the organic EL layer 7 and brought into contact with the reflective electrode 17. The reflective electrode 17 can be formed by any method known in the art such as vapor deposition or sputtering.

透明電極１８は、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物をスパッタ法を用いて積層することにより形成される。透明電極１８は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。透明電極１８は、通常５０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍの範囲内の厚さを有することが望ましい。透明電極１８を陰極として用いる場合には、有機ＥＬ層７中に電子注入層を設けて透明電極１８と接触させることが好ましい。 The transparent electrode 18 is formed by laminating conductive metal oxides such as SnO ₂ , In ₂ O ₃ , ITO, IZO, and ZnO: Al using a sputtering method. The transparent electrode 18 preferably has a transmittance of 50% or more, more preferably 85% or more with respect to light having a wavelength of 400 to 800 nm. The transparent electrode 18 has a thickness of usually 50 nm or more, preferably 50 nm to 1 μm, more preferably 100 to 300 nm. When the transparent electrode 18 is used as a cathode, it is preferable to provide an electron injection layer in the organic EL layer 7 and contact the transparent electrode 18.

本発明において、図４に示すように基板１４上に複数のスイッチング素子１５（ＴＦＴなど）を設け、複数のスイッチング素子１５に１対１で対応する複数の部分電極から反射電極１７を構成して、アクティブマトリクス駆動を行うようにしてもよい。この場合には透明電極１８は一体型の電極として形成される。あるいはまた、透明電極１８および反射電極１７のそれぞれを複数のストライプ形状部分電極から形成して、パッシブマトリクス駆動を行うようにしてもよい。この場合、透明電極１８のストライプ形状部分電極の延びる方向は、反射電極１７のストライプ形状部分電極の延びる方向と交差し、好ましくは直交する。 In the present invention, as shown in FIG. 4, a plurality of switching elements 15 (TFTs, etc.) are provided on a substrate 14, and a reflective electrode 17 is formed from a plurality of partial electrodes corresponding to the plurality of switching elements 15 on a one-to-one basis. Active matrix driving may be performed. In this case, the transparent electrode 18 is formed as an integral electrode. Alternatively, each of the transparent electrode 18 and the reflective electrode 17 may be formed from a plurality of stripe-shaped partial electrodes to perform passive matrix driving. In this case, the extending direction of the stripe-shaped partial electrode of the transparent electrode 18 intersects, preferably orthogonally, with the extending direction of the stripe-shaped partial electrode of the reflective electrode 17.

有機ＥＬ層７は、透明電極１８と反射電極１７との間に挟持され、少なくとも有機発光層を含む。必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、および／または電子注入層を介在させた構造を有する。より具体的には、たとえば以下に示すような構造が挙げられる。
（１）有機発光層
（２）正孔注入層／有機発光層
（３）有機発光層／電子輸送層
（４）正孔注入層／有機発光層／電子輸送層
（５）正孔注入層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層 The organic EL layer 7 is sandwiched between the transparent electrode 18 and the reflective electrode 17 and includes at least an organic light emitting layer. If necessary, it has a structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer are interposed. More specifically, for example, the following structures are exemplified.
(1) Organic light emitting layer (2) Hole injection layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron transport layer (4) Hole injection layer / organic light emitting layer / electron transport layer (5) Hole injection layer / Organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer

有機ＥＬ層を構成する各層は、当該技術において知られている任意の材料および成膜方法（たとえば、蒸着法）を用いて形成することができる。 Each layer constituting the organic EL layer can be formed using any material and film formation method (for example, vapor deposition method) known in the art.

正孔注入層の材料としては、フタロシアニン（Ｐｃ）類（銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）などを含む）またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。 As a material for the hole injection layer, phthalocyanines (Pc) (including copper phthalocyanine (CuPc) and the like) or indanthrene compounds can be used.

正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料（たとえばＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ＰＢＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡなど）を用いて形成することができる。 The hole transport layer can be formed using a material having a triarylamine partial structure, a carbazole partial structure, or an oxadiazole partial structure (eg, TPD, α-NPD, PBD, m-MTDATA, etc.).

電子輸送層の材料としては、ＰＢＤ、ＴＰＯＢのようなオキサジアゾール誘導体；
ＴＡＺのようなトリアゾール誘導体；トリアジン誘導体；フェニルキノキサリン類；ＢＭＢ−２Ｔ、ＢＭＢ−３Ｔのようなチオフェン誘導体；アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ_３）のようなアルミニウム錯体などを用いることができる。 As a material for the electron transport layer, oxadiazole derivatives such as PBD and TPOB;
Triazole derivatives such as TAZ; triazine derivatives; phenylquinoxalines; thiophene derivatives such as BMB-2T and BMB-3T; aluminum complexes such as aluminum tris (8-quinolinolato) (Alq ₃ ), and the like can be used.

電子注入層の材料としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、Ｂａ、Ｓｒなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などの用いることができるが、それらに限定されるものではない。本発明の構成においては、電子注入効率の改善の観点から、電子注入層を設けることが好ましい。電子注入層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができるが、通常の場合には１０ｎｍ以下であることが好ましい。あるいはまた、アルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体を用いてもよい。 As the material for the electron injection layer, alkali metals such as Li, Na, K, or Cs, alkaline earth metals such as Ba and Sr, alloys containing them, rare earth metals, or fluorides of these metals may be used. Yes, but not limited to them. In the configuration of the present invention, it is preferable to provide an electron injection layer from the viewpoint of improving the electron injection efficiency. The film thickness of the electron injection layer can be appropriately selected in consideration of the driving voltage, transparency, and the like, but in a normal case, it is preferably 10 nm or less. Alternatively, an aluminum quinolinol complex doped with an alkali metal or an alkaline earth metal may be used.

有機発光層の材料は、所望する色調に応じて選択することが可能であり、例えば青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリデイン系化合物などを使用することが可能である。 The material of the organic light emitting layer can be selected according to the desired color tone. For example, in order to obtain light emission from blue to blue-green, fluorescent whitening such as benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole Agents, styrylbenzene compounds, aromatic dimethylidene compounds, and the like can be used.

前述のような色変換フィルタと有機ＥＬ素子とを貼り合わせることによって、図４に示すような有機ＥＬディスプレイを構築することができる。紫外線硬化型接着剤などの封止樹脂１９を用いて貼り合わせを行うことが可能である。封止樹脂１９は、直径２０〜６０μｍ、好ましくは直径３５〜５５μｍのガラスビーズまたはシリカビーズなどのスペーサを含んでもよい。スペーサは、色変換フィルタと有機ＥＬ素子との貼り合わせ距離を規定するとともに、接着のために印加される圧力を負担する。 An organic EL display as shown in FIG. 4 can be constructed by bonding the color conversion filter and the organic EL element as described above. Bonding can be performed using a sealing resin 19 such as an ultraviolet curable adhesive. The sealing resin 19 may include spacers such as glass beads or silica beads having a diameter of 20 to 60 μm, preferably 35 to 55 μm. The spacer defines a bonding distance between the color conversion filter and the organic EL element and bears a pressure applied for adhesion.

また、任意選択的に、色変換フィルタまたは有機ＥＬ素子の上部表面に支柱１６を形成してもよい。支柱１６は有機ＥＬディスプレイの駆動時に発生する応力を負担して、故障の発生を防止するためのものである。支柱１６は、０．１〜３．０ＧＰａ、より好ましくは０．５〜１．０ＧＰａのヤング率を有する材料から形成される。用いることができる材料は、ナイロン６、ナイロン６・６をはじめとするポリアミド樹脂、アクリル樹脂のように単位構造の中に剛直基を含まない高分子材料、シリコーンゴム、フォトレジスト類および各種合成ゴム等を含む。 Further, optionally, the support column 16 may be formed on the upper surface of the color conversion filter or the organic EL element. The column 16 bears a stress generated when the organic EL display is driven, and prevents a failure from occurring. The support column 16 is formed of a material having a Young's modulus of 0.1 to 3.0 GPa, more preferably 0.5 to 1.0 GPa. Materials that can be used are nylon 6, nylon 6,6 and other polyamide resins, acrylic resins, polymer materials that do not contain rigid groups, silicone rubber, photoresists, and various synthetic rubbers. Etc.

寸法３３０×３３０μｍの画素を、３２０×２４０配列した有機ＥＬディスプレイを形成した。各画素はＲＧＢの副画素を含み、各副画素は１００×３３０μｍの寸法を有し、隣接する副画素間の間隔を１０μｍとした。 An organic EL display in which pixels having dimensions of 330 × 330 μm were arranged in 320 × 240 was formed. Each pixel includes RGB sub-pixels, each sub-pixel has a size of 100 × 330 μm, and an interval between adjacent sub-pixels is 10 μm.

透明基板１（コーニングガラス）上に、黒色のインキ組成物を用いた印刷法にて、厚さ１０μｍ程度のブラックマトリクス６を所定のパターンに形成した。さらに、その上に、青色フィルタ材料（富士フイルムアーチ製、カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、幅１００μｍ、ピッチ３３０μｍおよび膜厚１０μｍの複数のストライプからなる青色カラーフィルタ（青色変換フィルタ層４）を形成した。 On a transparent substrate 1 (Corning glass), a black matrix 6 having a thickness of about 10 μm was formed in a predetermined pattern by a printing method using a black ink composition. Furthermore, a blue filter material (manufactured by Fujifilm Arch, color mosaic CB-7001) is applied thereon using a spin coat method, and patterning is performed by a photolithographic method. A blue color filter (blue conversion filter layer 4) composed of a plurality of stripes was formed.

蛍光色素であるクマリン６（０．７重量部）を、溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＥＧＭＡ）１２０重量部に溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５（新日鐵化成工業株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。青色変換フィルタ層４を形成した基板に対して、スピンコート法を用いてこの塗布液を塗布し、幅１００μｍ、ピッチ３３０μｍおよび膜厚１０μｍの複数のストライプからなる緑色変換層（緑色変換フィルタ層３）を形成した。 Coumarin 6 (0.7 parts by weight), which is a fluorescent dye, was dissolved in 120 parts by weight of propylene glycol monoethyl acetate (PEGMA) as a solvent. To this solution, 100 parts by weight of a photopolymerizable resin V259PA / P5 (Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved to obtain a coating solution. The coating liquid is applied to the substrate on which the blue color conversion filter layer 4 is formed by using a spin coating method, and a green color conversion layer (green color conversion filter layer 3 having a width of 100 μm, a pitch of 330 μm, and a film thickness of 10 μm is formed. ) Was formed.

次に、クマリン６（０．６重量部）、ローダミン６Ｇ（０．３重量部）およびベーシックバイオレット１１（０．３重量部）を、溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＥＧＭＡ）１２０重量部に溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５（新日鐵化成工業株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。前述の基板に対して、スピンコート法を用いてこの塗布液を塗布し、幅１００μｍ、ピッチ３３０μｍおよび膜厚１０μｍの複数のストライプからなる赤色変換層（赤色変換フィルタ層２）を形成した。 Next, coumarin 6 (0.6 parts by weight), rhodamine 6G (0.3 parts by weight) and basic violet 11 (0.3 parts by weight) are dissolved in 120 parts by weight of propylene glycol monoethyl acetate (PEGMA) as a solvent. I let you. To this solution, 100 parts by weight of a photopolymerizable resin V259PA / P5 (Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution was applied to the substrate using a spin coating method to form a red conversion layer (red conversion filter layer 2) composed of a plurality of stripes having a width of 100 μm, a pitch of 330 μm, and a thickness of 10 μm.

次に、あらかじめ２．０μｍサイズのピラミッド（四角錐）状のテクスチャ形状を有する仮基板１２（シリコン）に、スパッタ法を用いてＩＺＯを堆積させ剥離層１３を形成した。剥離層１３の上に、スパッタ法を用いて膜厚２．３μｍのＳｎＯ_２を堆積させ、平坦部の膜厚が０．３μｍとなるようにＳｎＯ_２を研磨し、テクスチャ構造オーバーコート層５を形成した。 Next, IZO was deposited on the temporary substrate 12 (silicon) having a 2.0 μm sized pyramid (quadratic pyramid) texture in advance by using a sputtering method to form a release layer 13. On the release layer 13, SnO ₂ having a film thickness of 2.3 μm is deposited by sputtering, and SnO ₂ is polished so that the film thickness of the flat part becomes 0.3 μm. Formed.

テクスチャ構造オーバーコート層５の上に、アクリル樹脂系の透明接着剤をスピンナー（３０００ｒｐｍ、３０秒間）によって塗布し、厚さ０．１μｍの透明接着剤層を形成した。その上に、色変換フィルタ層を対向させて重ね合わせ、８０℃において０．５ｋｇ／ｃｍ^２の圧力を印加して、それらを圧着させた。引き続いて、塩酸を用いて剥離層１３をエッチングして仮基板１２を除去して、色変換フィルタ層上へのテクスチャ構造オーバーコート層５の転写を完了した。 On the textured overcoat layer 5, an acrylic resin-based transparent adhesive was applied by a spinner (3000 rpm, 30 seconds) to form a transparent adhesive layer having a thickness of 0.1 μm. On top of this, the color conversion filter layers were placed facing each other, and a pressure of 0.5 kg / cm ² was applied at 80 ° C. to pressure-bond them. Subsequently, the release layer 13 was etched using hydrochloric acid to remove the temporary substrate 12, and the transfer of the texture structure overcoat layer 5 onto the color conversion filter layer was completed.

次に、テクスチャ構造オーバーコート層５の上にアクリル系透明樹脂（ＪＳＲ株式会社製：ＮＮ８１０）をスピンコートし、高圧水銀灯からの光を照射して平坦化層を得た。平坦化層膜厚は、テクスチャ構造オーバーコート層５と平坦化層を合わせて膜厚５μｍとなるようにした。さらに、スパッタ法にて膜厚３００ｎｍのＳｉＯｘＮｙを平坦化層を覆うように堆積させてバリア層を形成した。次に、表面上に支柱の雌型を形成した仮基板／剥離層積層体を別途用意し、該表面上にアクリル系透明樹脂（ＪＳＲ株式会社製：ＮＮ８１０）をスピンコートし、高圧水銀灯からの光を照射して支柱を得た。この支柱を、平坦化層と対向させて重ね合わせ、８０℃において０．５ｋｇ／ｃｍ^２の圧力を印加して、それらを圧着させた。この圧力を維持したまま、３０分間にわたって温度を１６０℃に維持し、支柱を硬化させた。引き続いて、塩酸を用いて剥離層をエッチングして仮基板／剥離層積層体を除去し、平坦化層の上に支柱が形成された色変換フィルタを得た。 Next, an acrylic transparent resin (manufactured by JSR Corporation: NN810) was spin coated on the texture structure overcoat layer 5 and irradiated with light from a high-pressure mercury lamp to obtain a flattened layer. The thickness of the planarizing layer was adjusted to 5 μm by combining the texture structure overcoat layer 5 and the planarizing layer. Further, a barrier layer was formed by depositing SiOxNy having a film thickness of 300 nm so as to cover the planarizing layer by sputtering. Next, a temporary substrate / peeling layer laminate in which a female mold of a support is formed on the surface is prepared separately, and acrylic transparent resin (manufactured by JSR Co., Ltd .: NN810) is spin-coated on the surface. A support was obtained by irradiating light. This support was overlapped with the flattening layer, and a pressure of 0.5 kg / cm ² was applied at 80 ° C. to pressure-bond them. While maintaining this pressure, the temperature was maintained at 160 ° C. for 30 minutes to cure the struts. Subsequently, the release layer was etched using hydrochloric acid to remove the temporary substrate / release layer stack, thereby obtaining a color conversion filter in which a support was formed on the planarizing layer.

得られたテクスチャ構造オーバーコート層５／平坦化層／バリア層２０の積層構造は、色変換フィルタ層上方において５．４μｍの膜厚を有し、表面の最大高低差は０．２μｍであった。支柱１６の高さは１．９μｍであった。この際に、色変換フィルタ層のパターンに変形は発生しなかった。 The laminated structure of the obtained texture structure overcoat layer 5 / flattening layer / barrier layer 20 had a film thickness of 5.4 μm above the color conversion filter layer, and the maximum height difference of the surface was 0.2 μm. . The height of the column 16 was 1.9 μm. At this time, no deformation occurred in the pattern of the color conversion filter layer.

基板１４（コーニングガラス）上に、スイッチング素子１５として複数のボトムゲート型のＴＦＴを形成したＴＦＴ基板を準備した。この基板に対して、Ａｌ／ＩＺＯ積層構造を有する反射電極１７を形成した。下層であるＡｌ（膜厚３００ｎｍ）は、ＴＦＴの絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介してＴＦＴのソースに接続されている。Ａｌは、発光層からの発光を反射して基板上方から光を効率よく放出することを可能にし、かつ反射電極の電気抵抗低減のために設けられる。上層であるＩＺＯ（膜厚２００ｎｍ）は、大きな仕事関数を有し、有機ＥＬ層に対する正孔注入効率を向上させるための層である。 A TFT substrate having a plurality of bottom gate TFTs formed as switching elements 15 on a substrate 14 (Corning glass) was prepared. A reflective electrode 17 having an Al / IZO laminated structure was formed on this substrate. The lower layer, Al (thickness 300 nm), is connected to the TFT source through a contact hole formed in the TFT insulating film. Al is provided for reflecting light emitted from the light emitting layer to efficiently emit light from above the substrate and for reducing the electric resistance of the reflective electrode. The upper layer IZO (thickness 200 nm) has a large work function and is a layer for improving the hole injection efficiency for the organic EL layer.

次いで、蒸着装置中で、真空を破ることなしに、有機ＥＬ層７（正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層の５層構成）を反射電極１７の上に順次成膜した。成膜に際して、蒸着装置の真空槽内を１×１０^−４Ｐａまで減圧した。正孔注入層として膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニンを積層し、正孔輸送層として膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を積層し、有機発光層として膜厚３０ｎｍの４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を積層し、電子輸送層として膜厚２０ｎｍのＡｌｑ_３を積層し、そして電子注入層として膜厚２ｎｍのＭｇ／Ａｇを共蒸着法を用いて積層した。 Next, the organic EL layer 7 (a five-layer structure of a hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer) is formed on the reflective electrode 17 without breaking the vacuum in a vapor deposition apparatus. A film was sequentially formed on top. During film formation, the inside of the vacuum chamber of the vapor deposition apparatus was depressurized to 1 × 10 ⁻⁴ Pa. Copper phthalocyanine with a film thickness of 100 nm is laminated as a hole injection layer, and 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD) with a film thickness of 20 nm as a hole transport layer. 30 nm thick 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) as an organic light emitting layer, 20 nm thick Alq ₃ as an electron transport layer, and an electron As the injection layer, Mg / Ag having a thickness of 2 nm was stacked using a co-evaporation method.

さらに、スパッタ法を用いて膜厚２００ｎｍのＩＺＯを成膜して、透明電極１８を形成し、有機ＥＬ素子を得た。ここでＭｇ／Ａｇは、小さい仕事関数を有し、有機ＥＬ層に対する電子注入を容易にするための層である。 Further, an IZO film having a thickness of 200 nm was formed by sputtering to form a transparent electrode 18 to obtain an organic EL element. Here, Mg / Ag is a layer that has a small work function and facilitates electron injection into the organic EL layer.

以上のようにして得られた色変換フィルタと有機ＥＬ素子とを、乾燥窒素雰囲気（酸素濃度および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）のグローブボックス内に配置した。そして、ＵＶ硬化性の封止樹脂１９を用いて、色変換フィルタと有機ＥＬ素子とを貼り合わせて、有機ＥＬディスプレイを得た。色変換フィルタおよび有機ＥＬ素子は、支柱１６および封止樹脂１９以外の部分では互いに接触しておらず、封止状態も良好であった。 The color conversion filter and organic EL device obtained as described above were placed in a glove box in a dry nitrogen atmosphere (both oxygen concentration and water concentration were 10 ppm or less). And the color conversion filter and the organic EL element were bonded together using the UV curable sealing resin 19 to obtain an organic EL display. The color conversion filter and the organic EL element were not in contact with each other except for the support column 16 and the sealing resin 19, and the sealing state was good.

得られた有機ＥＬディスプレイについて輝度の評価を行った結果、本実施例のディスプレイは、テクスチャ構造なしのオーバーコート層を用いた同様のディスプレイよりも、２０〜３０％高い輝度を有した。また、本実施例のディスプレイは、左右方向にて約１６０度、上下方向にて１５０度の視野角を有し、視野角特性も良好であった。 As a result of evaluating the luminance of the obtained organic EL display, the display of this example had a luminance 20 to 30% higher than a similar display using an overcoat layer without a texture structure. The display of this example had a viewing angle of about 160 degrees in the left-right direction and 150 degrees in the up-down direction, and the viewing angle characteristics were also good.

本発明の色変換フィルタを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the color conversion filter of this invention. テクスチャ構造オーバーコート層の形成に用いられる仮基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the temporary board | substrate used for formation of a texture structure overcoat layer. テクスチャ構造オーバーコート層の貼り合わせを示す図である。It is a figure which shows bonding of a texture structure overcoat layer. 本発明の有機ＥＬディスプレイを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the organic electroluminescent display of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１透明基板
２赤色変換フィルタ
３緑色変換フィルタ
４青色変換フィルタ
５テクスチャ構造オーバーコート層
６ブラックマトリクス
７有機ＥＬ層
１２仮基板
１３剥離層
１４基板
１５スイッチング素子
１６支柱
１７反射電極
１８透明電極
１９封止樹脂
２０バリア層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Red conversion filter 3 Green conversion filter 4 Blue conversion filter 5 Texture structure overcoat layer 6 Black matrix 7 Organic EL layer 12 Temporary substrate 13 Peeling layer 14 Substrate 15 Switching element 16 Prop 17 Reflective electrode 18 Transparent electrode 19 Sealing Resin 20 Barrier layer

Claims

透明基板と、１つまたは複数種の色変換フィルタ層と、前記色変換層の層間に配設されるブラックマトリクスと、前記色変換フィルタ層上のテクスチャ構造オーバーコート層とを有することを特徴とする色変換フィルタ。 A transparent substrate, one or a plurality of types of color conversion filter layers, a black matrix disposed between the color conversion layers, and a textured overcoat layer on the color conversion filter layers, Color conversion filter.

前記テクスチャ構造オーバーコート層は、前記色変換フィルタ層上方に位置するテクスチャ部と、平坦部とから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の色変換フィルタ。 The color conversion filter according to claim 1, wherein the texture structure overcoat layer includes a texture portion located above the color conversion filter layer and a flat portion.

前記テクスチャ部のテクスチャ面の延長線が、前記色変換フィルタ層の層間を俯瞰することを特徴とする請求項２に記載の色変換フィルタ。 The color conversion filter according to claim 2, wherein an extension line of the texture surface of the texture portion overlooks the interlayer of the color conversion filter layer.

透明基板と、１つまたは複数種の色変換フィルタ層と、前記色変換層の層間に配設されるブラックマトリクスと、前記色変換フィルタ層上のテクスチャ構造オーバーコート層とを有する色変換フィルタの製造方法であって、
１つまたは複数種の色変換フィルタ層および前記色変換層の層間のブラックマトリクスが配設された透明基板を準備する工程と、
平坦部と凹部とを有する仮基板上に剥離層を堆積させる工程と、
前記剥離層上にテクスチャ構造オーバーコート層を堆積させる工程と、
前記テクスチャ構造オーバーコート層と前記色変換フィルタ層とを対向させて、２００℃以下の温度において、前記色変換フィルタ層に前記テクスチャ構造オーバーコート層を圧着させる工程と、
前記剥離層および前記仮基板を除去する工程と
を含むことを特徴とする色変換フィルタの製造方法。 A color conversion filter comprising a transparent substrate, one or more types of color conversion filter layers, a black matrix disposed between the color conversion layers, and a textured overcoat layer on the color conversion filter layer A manufacturing method comprising:
Preparing a transparent substrate in which one or a plurality of color conversion filter layers and a black matrix between the color conversion layers are disposed;
Depositing a release layer on a temporary substrate having a flat portion and a concave portion;
Depositing a textured overcoat layer on the release layer;
A step of pressing the texture structure overcoat layer to the color conversion filter layer at a temperature of 200 ° C. or less with the texture structure overcoat layer and the color conversion filter layer facing each other;
And a step of removing the release layer and the temporary substrate.

基板上に反射電極、有機ＥＬ層および透明電極を少なくとも含む有機ＥＬ素子と、請求項１から３のいずれかに記載の色変換フィルタとを、前記透明電極と前記テクスチャ構造オーバーコート層とを対向させて貼り合わせることによって形成されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。 An organic EL element including at least a reflective electrode, an organic EL layer, and a transparent electrode on a substrate, and the color conversion filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the transparent electrode and the textured structure overcoat layer are opposed to each other. An organic EL display, which is formed by bonding together.