JP2006216466A

JP2006216466A - Organic el display panel and its manufacturing method

Info

Publication number: JP2006216466A
Application number: JP2005029687A
Authority: JP
Inventors: Makoto Uchiumi; 誠内海
Original assignee: Fuji Electric Holdings Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 2005-02-04
Filing date: 2005-02-04
Publication date: 2006-08-17

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of simply manufacturing an organic EL display panel which has a large numerical aperture of an " effective aperture part "and does not have deterioration of contrast ratio occurring at the time of incidence of the external light. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the organic EL display panel comprises a process for preparing a transparent substrate, a process of forming a black matrix on the transparent substrate, a process of forming a plurality of kinds of color conversion filter layers in the gaps of the black matrix, a process of forming a transparent electrode consisting of a plurality of portions on the plurality of kinds of color conversion filter layers, a process in which the positive type photoresist is exposed from the transparent substrate side, an unexposed portion is formed at a position corresponding to the black matrix, and an exposed portion is formed at a position corresponding to the plurality of kinds of color conversion filter layers, a process of removing the exposed portions, a process of forming an organic EL layer on the transparent electrode, and a process of forming a reflecting electrode on the organic EL layer. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は有機ＥＬ（エレクトロルミネセント）ディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、テレビ、オーディオ、ビデオ、カーナビゲーション、電話機、携帯端末ならびに商業用計測器等の表示などに使用することが可能である。 The present invention relates to an organic EL (electroluminescent) display panel and a manufacturing method thereof. The organic EL display panel of the present invention can be used for display of personal computers, word processors, televisions, audios, videos, car navigation systems, telephones, portable terminals, commercial measuring instruments, and the like.

有機ＥＬディスプレイパネルの作製方式としては、電界をかけることにより赤・青・緑にそれぞれ発光する有機ＥＬ素子を配列する「３色発光方式」、および、有機ＥＬ素子の発する白色の発光を、カラーフィルタでカットし、赤・青・緑を表現する「カラーフィルタ方式」、さらに、有機ＥＬ素子の発する近紫外光、青色光、青緑色光または白色光を吸収し、波長分布変換を行って可視光域の光を発光する色変換色素を含む色変換層を用いる「色変換方式」が提案されている。 The organic EL display panel can be manufactured using the “three-color light emission method” in which organic EL elements that emit light in red, blue, and green are arranged by applying an electric field, and the white light emitted by the organic EL elements in color. “Color filter method” that expresses red, blue, and green by cutting with a filter, absorbs near-ultraviolet light, blue light, blue-green light, or white light emitted by organic EL elements, and converts the wavelength distribution to visible A “color conversion method” using a color conversion layer including a color conversion dye that emits light in the light region has been proposed.

これらの方式の内、「カラーフィルタ方式」および「色変換方式」において用いられる複数の発光部を有する有機ＥＬ素子は、透明電極と、複数の開口部を有する絶縁膜と、該透明電極および該絶縁膜上に設けられる有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に設けられる反射電極とを少なくとも含み、該絶縁膜の複数の開口部のそれぞれは透明電極上に設けられ、該開口部によって複数の発光部の位置が規定される。 Among these methods, the organic EL element having a plurality of light emitting portions used in the “color filter method” and the “color conversion method” includes a transparent electrode, an insulating film having a plurality of openings, the transparent electrode, and the transparent electrode. It includes at least an organic EL layer provided on the insulating film and a reflective electrode provided on the organic EL layer, and each of the plurality of openings of the insulating film is provided on the transparent electrode, and a plurality of light emission is performed by the openings. The position of the part is defined.

一方、「カラーフィルタ方式」および「色変換方式」に用いられるフィルタから発せられる光の色純度の向上を目的として、隣接する各色のカラーフィルタ層および／または色変換層の間隙に遮光材としてのブラックマトリクスを形成し、ならびにカラーフィルタ層および／または色変換層の上面の平坦度を２．０μｍ以下にすることが提案されている（特許文献１参照）。このようなフィルタを用いた場合、複数の発光部を有する有機ＥＬ素子を発した光は、カラーフィルタおよび／または色変換層を通過し、最後にブラックマトリクスの開口部から外部へと放射される。 On the other hand, for the purpose of improving the color purity of the light emitted from the filters used in the “color filter system” and “color conversion system”, a light shielding material is provided in the gap between the color filter layer and / or the color conversion layer of each adjacent color. It has been proposed to form a black matrix and to make the flatness of the upper surface of the color filter layer and / or the color conversion layer 2.0 μm or less (see Patent Document 1). When such a filter is used, the light emitted from the organic EL element having a plurality of light emitting portions passes through the color filter and / or the color conversion layer, and is finally emitted to the outside from the opening portion of the black matrix. .

ディスプレイパネルの輝度は、開口部の明るさと開口率との積で決定される（ここで、開口率は、開口部の面積と、（開口部の面積＋遮光部（ブラックマトリクス）の面積）との比である）。したがって、開口率を大きくすると、同一の輝度を得るために必要な開口部の明るさを低く抑えることが可能となり、特に有機ＥＬディスプレイパネルの場合には、このことによって長寿命化を図ることが可能となる。 The brightness of the display panel is determined by the product of the brightness of the opening and the opening ratio (where the opening ratio is the area of the opening, (the area of the opening + the area of the light shielding portion (black matrix)) Ratio). Therefore, when the aperture ratio is increased, the brightness of the opening necessary for obtaining the same luminance can be kept low. In particular, in the case of an organic EL display panel, this can extend the life. It becomes possible.

前述のような「カラーフィルタ方式」および「色変換方式」の有機ＥＬディスプレイパネルの場合、「有効開口部」およびその開口率は、ブラックマトリクスの開口部と、有機ＥＬ素子の絶縁膜の開口部とによって決定され、一般的には、絶縁膜は所定のフォトマスクを用いたフォトリソグラフ法によってブラックマトリクスの開口部に対して位置合わせを行いつつ形成される。 In the case of the organic EL display panel of the “color filter method” and “color conversion method” as described above, the “effective opening” and the opening ratio thereof are the opening of the black matrix and the opening of the insulating film of the organic EL element. In general, the insulating film is formed while being aligned with the opening of the black matrix by a photolithographic method using a predetermined photomask.

特開平１０−２４１８６０号公報JP-A-10-241860

従来の方法において形成される絶縁膜の形状は、以下の４つの場合が想定される。
（１）絶縁膜の開口部をブラックマトリクスの開口部より広く形成する
（２）絶縁膜の開口部をブラックマトリクスの開口部と同一の形状で形成する
（３）絶縁膜の開口部をブラックマトリクスの開口部より狭く形成する
（４）ブラックマトリクスを用いずに、絶縁膜によって開口率を決定する The following four cases are assumed as the shape of the insulating film formed in the conventional method.
(1) The opening of the insulating film is formed wider than the opening of the black matrix. (2) The opening of the insulating film is formed in the same shape as the opening of the black matrix. (3) The opening of the insulating film is black matrix. (4) The aperture ratio is determined by the insulating film without using the black matrix.

上記の（１）の場合、「有効開口部」の開口率は、ブラックマトリクスの開口部によって決定される。光出力側から見た場合に、絶縁膜の端部がブラックマトリクスに覆い隠されるため、外光が入射した際に光散乱が発生しにくく、高コントラスト比を達成する利点を有する。しかしながら、絶縁膜の形成時に、ブラックマトリクスに対するフォトマスクのアライニングのズレを見込んで絶縁膜の開口部寸法を設計する必要がある。また、絶縁膜開口部の周縁の有機ＥＬ層はブラックマトリクス上方に位置するために、外部に取り出せない発光が発生し、実質的な発光効率が低下するという問題点がある。 In the case of (1) above, the aperture ratio of the “effective aperture” is determined by the aperture of the black matrix. When viewed from the light output side, since the end of the insulating film is covered with the black matrix, light scattering hardly occurs when external light is incident, and there is an advantage of achieving a high contrast ratio. However, when forming the insulating film, it is necessary to design the opening size of the insulating film in consideration of the misalignment of the photomask with respect to the black matrix. In addition, since the organic EL layer at the periphery of the opening of the insulating film is located above the black matrix, there is a problem in that light emission that cannot be extracted to the outside occurs and the substantial light emission efficiency is lowered.

上記（２）の場合には、絶縁膜の形成時のブラックマトリクスに対するフォトマスクのアライニングのズレを０にできないため、そのズレの量に依存して「有効開口部」の開口率が変化する。これによって輝度ムラまたは色相ムラなどの表示品質の低下を招く恐れがある。 In the case of (2) above, since the misalignment of the photomask with respect to the black matrix during the formation of the insulating film cannot be made zero, the aperture ratio of the “effective opening” varies depending on the amount of the misalignment. . As a result, the display quality may be deteriorated such as luminance unevenness or hue unevenness.

上記（３）の場合には、「有効開口部」の開口率は、絶縁膜の開口部によって決定される。この場合には、光出力側から見るとブラックマトリクス開口部の周縁において絶縁膜の端部が見える構造となり、外光入射時に絶縁膜端部における光散乱が発生し、コントラスト比の低下を招く恐れがある。 In the case of (3) above, the aperture ratio of the “effective opening” is determined by the opening of the insulating film. In this case, when viewed from the light output side, the edge of the insulating film can be seen at the periphery of the black matrix opening, and light scattering occurs at the edge of the insulating film when external light is incident, which may lead to a decrease in contrast ratio. There is.

最後に、上記（４）の場合には、「有効開口部」の開口率は、絶縁膜の開口部によって決定される。 Finally, in the case of (4) above, the aperture ratio of the “effective opening” is determined by the opening of the insulating film.

したがって、本発明の目的は、「有効開口部」の開口率が大きく、外光入射時のコントラスト比の低下が発生しない有機ＥＬディスプレイパネルの簡便な製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a simple method for manufacturing an organic EL display panel in which the aperture ratio of the “effective opening” is large and the contrast ratio does not decrease when external light is incident.

本発明の第１の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルは、透明基板と、該透明基板上に形成された複数種の色変換フィルタ層と、該複数種の色変換フィルタ層の間隙に設けられるブラックマトリクスと、該複数種の色変換フィルタ層上に形成された複数の部分からなる透明電極と、該透明電極の複数の部分の間隙に設けられる絶縁膜と、該透明電極上に形成される有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に形成される反射電極とを含む有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記絶縁膜は、可視光全領域に感光性を有し、前記ブラックマトリクスの上方に配置され、および前記ブラックマトリクスと同一の寸法を有することを特徴とする。本実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルは、透明基板を準備する工程と；前記透明基板上にブラックマトリクスを形成する工程と；前記ブラックマトリクスの間隙に複数種の色変換フィルタ層を形成する工程と；前記複数種の色変換フィルタ層上に複数の部分からなる透明電極を形成する工程と；前記透明電極を覆うようにポジ型フォトレジストを付着させる工程と；前記透明基板の側から前記ポジ型フォトレジストを露光して、前記ブラックマトリクスに相当する位置に未露光部分を形成し、前記複数種の色変換フィルタ層に相当する位置に露光部分を形成する工程と；前記露光部分を除去する工程と；前記透明電極上に有機ＥＬ層を形成する工程と；前記有機ＥＬ層上に反射電極を形成する工程とを含むことを特徴とする方法によって製造することができる。 An organic EL display panel according to a first embodiment of the present invention includes a transparent substrate, a plurality of types of color conversion filter layers formed on the transparent substrate, and a black provided in a gap between the plurality of types of color conversion filter layers. A matrix, a transparent electrode composed of a plurality of portions formed on the plurality of kinds of color conversion filter layers, an insulating film provided in a gap between the plurality of portions of the transparent electrode, and an organic formed on the transparent electrode An organic EL display panel including an EL layer and a reflective electrode formed on the organic EL layer, wherein the insulating film has photosensitivity in the entire visible light region, and is disposed above the black matrix. And having the same dimensions as the black matrix. The organic EL display panel of the present embodiment includes a step of preparing a transparent substrate; a step of forming a black matrix on the transparent substrate; a step of forming a plurality of types of color conversion filter layers in the gaps of the black matrix; Forming a transparent electrode having a plurality of portions on the plurality of types of color conversion filter layers; attaching a positive photoresist so as to cover the transparent electrode; and forming the positive photo from the transparent substrate side. Exposing a resist to form an unexposed portion at a position corresponding to the black matrix, and forming an exposed portion at a position corresponding to the plurality of types of color conversion filter layers; removing the exposed portion; A method of forming an organic EL layer on the transparent electrode; and a step of forming a reflective electrode on the organic EL layer. It is possible to elephants.

本発明の第２の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルは、透明基板と、該透明基板上に形成された複数種の色変換フィルタ層と、該複数種の色変換フィルタ層の間隙に設けられる高透過率層と、該複数種の色変換フィルタ層上に形成された複数の部分からなる透明電極と、該透明電極の複数の部分の間隙に設けられる絶縁膜と、該透明電極上に形成される有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に形成される反射電極とを含む有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記絶縁膜は、前記高透過率層の上方に配置され、および前記高透過率層と同一の寸法を有することを特徴とする。本実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルは、透明基板を準備する工程と；前記透明基板上に複数種の色変換フィルタ層を形成する工程と；前記複数種の色変換フィルタ層の間隙に高透過率層を形成する工程と；前記複数種の色変換フィルタ層上に複数の部分からなる透明電極を形成する工程と；前記透明電極を覆うようにネガ型フォトレジストを付着させる工程と；前記透明基板の側から前記ネガ型フォトレジストを露光して、前記高透過率層に相当する位置に露光部分を形成し、前記複数種の色変換フィルタ層に相当する位置に未露光部分を形成する工程と；前記未露光部分を除去する工程と；前記透明電極上に有機ＥＬ層を形成する工程と；前記有機ＥＬ層上に反射電極を形成する工程とを含むことを特徴とする方法によって製造することができる。 An organic EL display panel according to a second embodiment of the present invention includes a transparent substrate, a plurality of types of color conversion filter layers formed on the transparent substrate, and a height provided in a gap between the plurality of types of color conversion filter layers. A transmissivity layer; a transparent electrode comprising a plurality of portions formed on the plurality of types of color conversion filter layers; an insulating film provided in a gap between the plurality of portions of the transparent electrode; and formed on the transparent electrode. An organic EL display panel including an organic EL layer and a reflective electrode formed on the organic EL layer, wherein the insulating film is disposed above the high transmittance layer, and the high transmittance layer They have the same dimensions. The organic EL display panel according to this embodiment includes a step of preparing a transparent substrate; a step of forming a plurality of types of color conversion filter layers on the transparent substrate; and a high transmittance in a gap between the plurality of types of color conversion filter layers. A step of forming a layer; a step of forming a transparent electrode comprising a plurality of portions on the plurality of types of color conversion filter layers; a step of attaching a negative photoresist so as to cover the transparent electrode; and the transparent substrate Exposing the negative photoresist from the side, forming an exposed portion at a position corresponding to the high transmittance layer, and forming an unexposed portion at a position corresponding to the plurality of types of color conversion filter layers; Manufacturing by a method comprising: removing the unexposed portion; forming an organic EL layer on the transparent electrode; and forming a reflective electrode on the organic EL layer. Door can be.

以上の構成を採って、ブラックマトリクスまたは高透過率層に対するセルフアライメント的手法を用いて絶縁膜を形成することにより、フォトマスクのアライニングの必要性を排除し、「有効開口部」の開口率が大きく、外光入射時のコントラスト比の低下が発生せず、かつ高い色純度の光を放射することが可能な有機ＥＬディスプレイパネルを製造することが可能となる。「有効開口部」の開口率が大きいことによって、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、パネル全体としての発光効率が向上し、所定の輝度を得るために必要な電流密度を低下させ、それによって長期間にわたる安定的な駆動が可能となる。また、コントラスト比の低下がないので、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、高品位の表示が可能である。 By adopting the above configuration and forming an insulating film using a self-alignment method for the black matrix or high transmittance layer, the need for aligning the photomask is eliminated, and the aperture ratio of the “effective aperture” Therefore, it is possible to manufacture an organic EL display panel capable of emitting light of high color purity without causing a decrease in contrast ratio when external light is incident. Due to the large aperture ratio of the “effective aperture”, the organic EL display panel of the present invention improves the luminous efficiency of the panel as a whole, lowers the current density necessary for obtaining a predetermined luminance, and thereby increases the length. Stable driving over a period becomes possible. Further, since there is no reduction in contrast ratio, the organic EL display panel of the present invention can display with high quality.

図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの第１の実施態様の構成例を示す図であり、図３は、その製造工程の主要部を説明する図である。図１の構成例において、透明基板１の上に、３種の色変換フィルタ層（赤色変換フィルタ層２、緑色変換フィルタ層３および青色変換フィルタ層４）と、隣接する色変換フィルタ層の間隙に設けられたブラックマトリクス５とを含み、色変換フィルタ層およびブラックマトリクス５を覆うように平坦化層７およびパッシベーション層８が設けられている。そして、パッシベーション層８の上に透明電極９、有機ＥＬ層１０、および反射電極１１が順次積層されており、複数の部分からなる透明電極９の間隙およびその端部に重なるように絶縁膜１２が設けられている。 FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of the first embodiment of the organic EL display panel of the present invention, and FIG. 3 is a diagram for explaining a main part of the manufacturing process. In the configuration example of FIG. 1, three kinds of color conversion filter layers (a red conversion filter layer 2, a green conversion filter layer 3, and a blue conversion filter layer 4) and a gap between adjacent color conversion filter layers on the transparent substrate 1. The flattening layer 7 and the passivation layer 8 are provided so as to cover the color conversion filter layer and the black matrix 5. Then, the transparent electrode 9, the organic EL layer 10, and the reflective electrode 11 are sequentially laminated on the passivation layer 8, and the insulating film 12 is formed so as to overlap the gap and the end of the transparent electrode 9 composed of a plurality of portions. Is provided.

透明基板１は可視光（波長４００〜７００ｎｍ）および絶縁膜１２のパターニングに用いられる光に対して透明であり、積層される層の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい透明基板は、ガラス基板、およびポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などの樹脂で形成された剛直性の樹脂基板を含む。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、基板として用いてもよい。ガラス、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。 The transparent substrate 1 is transparent to visible light (wavelength 400 to 700 nm) and light used for patterning the insulating film 12, and can withstand the conditions (solvent, temperature, etc.) used to form the laminated layers. Should be excellent in dimensional stability. Preferred transparent substrates include glass substrates and rigid resin substrates formed of resins such as polyolefins, acrylic resins (including polymethyl methacrylate), polyester resins (including polyethylene terephthalate), polycarbonate resins, or polyimide resins. . Alternatively, a flexible film formed from polyolefin, acrylic resin (including polymethyl methacrylate), polyester resin (including polyethylene terephthalate), polycarbonate resin, polyimide resin, or the like may be used as the substrate. Glass and resins such as polyethylene terephthalate and polymethyl methacrylate are included. Borosilicate glass or blue plate glass is particularly preferable.

本発明の色変換フィルタ層２〜４は、色変換層、カラーフィルタ層または色変換層とカラーフィルタ層との積層体からなる群から選択される。本発明の色変換フィルタ層２〜４は、一般的に５〜１５μｍの膜厚を有することが望ましい。カラーフィルタ層は、入射光の一部を透過させて所望の色の出力光を得るための層である。カラーフィルタは、たとえば、液晶表示装置などに用いられる市販の液晶用カラーフィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製カラーモザイクなど）を用いて形成することができる。色変換層は、マトリクス樹脂と、入射光を吸収して波長分布変換を行い、異なる波長の可視光を放射する色変換色素とを含む層である。色変換層は１種または複数種の色変換色素を含んでもよい。 The color conversion filter layers 2 to 4 of the present invention are selected from the group consisting of a color conversion layer, a color filter layer, or a laminate of a color conversion layer and a color filter layer. Generally, the color conversion filter layers 2 to 4 of the present invention desirably have a film thickness of 5 to 15 μm. The color filter layer is a layer for transmitting a part of incident light and obtaining output light of a desired color. The color filter can be formed using, for example, a commercially available color filter material for liquid crystal (such as a color mosaic manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) used for a liquid crystal display device or the like. The color conversion layer is a layer containing a matrix resin and a color conversion dye that absorbs incident light and performs wavelength distribution conversion to emit visible light having different wavelengths. The color conversion layer may contain one or more color conversion dyes.

本発明の有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、赤色変換フィルタ層２および緑色変換フィルタ層３は、色変換層を含むことが望ましく、より好ましくは、出力光の色純度を向上させるために、色変換層と、該色変換層の出力側に設けられるカラーフィルタ層との積層体から形成されることが望ましい。緑色変換フィルタ層３については、光源として用いる有機ＥＬ素子が充分な強度の緑色成分を含む場合には、カラーフィルタ層のみで構成されてもよい。青色変換フィルタ層３については、カラーフィルタ層のみで構成されることが一般的である。 In the organic EL display panel of the present invention, the red color conversion filter layer 2 and the green color conversion filter layer 3 desirably include a color conversion layer, and more preferably, in order to improve the color purity of output light, It is desirable to form a laminate with a color filter layer provided on the output side of the color conversion layer. About the green conversion filter layer 3, when the organic EL element used as a light source contains the green component of sufficient intensity | strength, you may be comprised only with a color filter layer. The blue color conversion filter layer 3 is generally composed of only a color filter layer.

光源から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の光を放射する赤色変換色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。 Examples of red conversion dyes that absorb blue to blue-green light emitted from a light source and emit red light include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, basic violet. 11, Rhodamine dyes such as Basic Red 2, cyanine dyes, pyridines such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium perchlorate (pyridine 1) Examples thereof include dyes and oxazine dyes.

光源から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の光を放射する緑色変換色素としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。 Examples of a green conversion dye that absorbs light in a blue to blue-green region emitted from a light source and emits light in the green region include 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 6), 3 -(2'-Benzimidazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 7), 3- (2'-N-methylbenzimidazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 30), 2,3,5,6-1H, Coumarin dyes such as 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), or basic yellow 51 which is a coumarin dye dye, and solvent yellow 11 and solvent yellow. And naphthalimide dyes such as 116.

あるいはまた、前述の色変換色素を樹脂中に練り込んで顔料化してもよい。用いることができる樹脂は、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などを含む。 Alternatively, the aforementioned color conversion dye may be kneaded into a resin to form a pigment. Resins that can be used include polymethacrylates, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, alkyd resins, aromatic sulfonamide resins, urea resins, melamine resins, benzoguanamine resins and mixtures of these resins. .

色変換層をフォトリソグラフィ法などによってパターニングする必要がある場合には、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を用いて色変換層を形成してもよい。この場合、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）の硬化物がマトリクス樹脂として機能する。また、色変換層のパターニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性ないし分散性であることが望ましい。 When it is necessary to pattern the color conversion layer by a photolithography method or the like, the color conversion layer may be formed using a photocurable or photothermal combination type curable resin (resist). In this case, a cured product of a photocurable or photothermal combination type curable resin (resist) functions as a matrix resin. In order to perform patterning of the color conversion layer, the photocurable or photothermal combination type curable resin is desirably soluble or dispersible in an organic solvent or an alkaline solution in an unexposed state.

用いることができる光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）は、具体的には、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物、（２）ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物、（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物（ナイトレンが発生して、オレフィンを架橋させる）、および（４）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物などを含む。特に、（１）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物を用いることが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、および重合して硬化した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。ここで、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。 The photocurable or photothermal combined type curable resin (resist) that can be used is specifically (1) an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acroyl groups and methacryloyl groups, and a photo or thermal polymerization initiator. (2) a composition comprising a polyvinylcinnamic ester and a sensitizer, (3) a composition comprising a chain or cyclic olefin and bisazide (nitrene is generated to crosslink the olefin) And (4) a composition comprising a monomer having an epoxy group and an acid generator. In particular, it is preferable to use a composition comprising the acrylic polyfunctional monomer and oligomer (1) and a light or thermal polymerization initiator. This is because the composition can be patterned with high definition and has high reliability such as solvent resistance and heat resistance after being polymerized and cured. Here, in the case where the resin itself in the photocurable or photothermal combination type curable resin can be polymerized by light or heat, it is also possible not to add a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator. .

あるいはまた、色変換色素およびマトリクス樹脂を含む溶液を調製し、該溶液をスクリーン印刷し、そして乾燥させることによって色変換層を形成してもよい。この場合には、マトリクス樹脂として、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、またはこれらの樹脂混合物を用いることができる。 Alternatively, a color conversion layer may be formed by preparing a solution containing a color conversion dye and a matrix resin, screen printing the solution, and drying. In this case, as the matrix resin, polymethacrylate, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, or a mixture of these resins Can be used.

ブラックマトリクス５は、光源として用いる有機ＥＬ素子の発光、色変換フィルタ層２〜４の出力光、および絶縁膜１２のパターニングに用いられる光（紫外線を含む）に対して不透明な層である。ブラックマトリクス５は、フラットパネルディスプレイ用のブラックマトリクス材料として一般的に市販されているレジスト材料、またはカーボンブラックなどの黒色色素をポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネートなどのバインダー樹脂中に分散した材料を用いて形成することができる。ブラックマトリクス５は、可視光全領域において吸光度が９７％以上（光学濃度（ＯＤ値）が１．５以上）となる膜厚を有することが望ましい。 The black matrix 5 is a layer that is opaque to light emitted from the organic EL elements used as a light source, output light from the color conversion filter layers 2 to 4, and light (including ultraviolet rays) used for patterning the insulating film 12. The black matrix 5 is a resist material that is generally commercially available as a black matrix material for flat panel displays, or a material in which a black pigment such as carbon black is dispersed in a binder resin such as polymethyl methacrylate, polyacrylate, or polycarbonate. Can be formed. The black matrix 5 desirably has a film thickness with an absorbance of 97% or more (optical density (OD value) of 1.5 or more) in the entire visible light region.

平坦化層７は、色変換フィルタ上に発光部の透明電極と反射電極間の短絡の原因となる色変換フィルタ層の凹凸を平滑化するために、任意選択的に設けることができる層である。光出力部を覆う平坦化層７は、光出力部の機能を損なうことなく形成することができ、かつ適度な弾力性を有する材料から形成することができる。平坦化層７は、単層から構成されてもよいし、複数の材料を積層したものであってもよい。好ましい材料は、表面硬度が鉛筆硬度２Ｈ以上であり、０．３ＭＰａ以上のヤング率を有し、光出力部上に平滑な塗膜を形成することができ、色変換フィルタ層の機能を低下させないポリマー材料である。より好ましくは、該材料は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、電気絶縁性を有するポリマー材料である。 The flattening layer 7 is a layer that can be optionally provided on the color conversion filter to smooth the unevenness of the color conversion filter layer that causes a short circuit between the transparent electrode and the reflective electrode of the light emitting unit. . The planarization layer 7 covering the light output portion can be formed without impairing the function of the light output portion, and can be formed from a material having appropriate elasticity. The planarization layer 7 may be composed of a single layer or may be a laminate of a plurality of materials. A preferable material has a pencil hardness of 2H or more, a Young's modulus of 0.3 MPa or more, can form a smooth coating film on the light output portion, and does not deteriorate the function of the color conversion filter layer. It is a polymer material. More preferably, the material is a polymer material having high transparency in the visible region (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm) and electrical insulation.

そのようなポリマー材料の例は、イミド変性シリコーン樹脂、無機金属化合物（ＴｉＯ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２等）をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料、アクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂、フッ素系樹脂、または高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂などの光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂を挙げることができる。 Examples of such polymer materials include imide-modified silicone resins, materials in which inorganic metal compounds (TiO, Al ₂ O ₃ , SiO _2, etc.) are dispersed in acrylic, polyimide, silicone resins, etc., acrylate monomers / oligomers / polymers And a photocurable resin and / or a thermosetting resin such as a resin having a reactive vinyl group, a resist resin, a fluorine resin, or an epoxy resin having a mesogenic structure having a high thermal conductivity.

任意選択的に設けてもよいパッシベーション層８をさらに設けて、酸素、水分およびアルカリに対するバリア性を付加することによって光源の信頼性を向上させるための層である。そのようなパッシベーション層８を形成する場合、例えば、ＳｉＯ_ｘ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ、ＡｌＯ_ｘ、ＴｉＯ_ｘ、ＴａＯ_ｘまたはＺｎＯ_ｘのような無機酸化物または無機窒化物を使用することができる。 It is a layer for further improving the reliability of the light source by further providing a passivation layer 8 which may be optionally provided, and adding barrier properties against oxygen, moisture and alkali. When such a passivation layer 8 is formed, for example, an inorganic oxide or an inorganic nitride such as SiO _x , SiN _x , SiN _x O _y , AlO _x , TiO _x , TaO _x or ZnO _x may be used. it can.

透明電極９は、有機ＥＬ層１０に対して効率よく電子または正孔を注入することとともに、有機ＥＬ層１０の発光波長域において透明であることが求められる。透明電極９は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の透過率を有することが好ましい。透明電極９は、透明導電性材料である、ＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）、ＳｎＯ_２、ＺｎＯ_２などの導電性無機化合物を用いて形成することができる。 The transparent electrode 9 is required to inject electrons or holes efficiently into the organic EL layer 10 and to be transparent in the emission wavelength region of the organic EL layer 10. The transparent electrode 9 preferably has a transmittance of 50% or more with respect to light having a wavelength of 400 to 800 nm. The transparent electrode 9 can be formed by using a conductive inorganic compound such as ITO (indium / tin oxide), IZO (indium / zinc oxide), SnO ₂ , or ZnO _{2 which} is a transparent conductive material.

透明電極９を陰極として用いる場合、有機ＥＬ層１０と接触する部位にバッファ層を設けて電子注入効率を向上させることが好ましい。バッファ層としては、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物の極薄膜（１０ｎｍ）を用いることができる。これらの仕事関数の小さい材料を用いることにより効率のよい電子注入を可能とし、さらに極薄膜とすることによりこれら材料による透明性低下を最低限とすることが可能となる。 When the transparent electrode 9 is used as a cathode, it is preferable to provide a buffer layer at a site in contact with the organic EL layer 10 to improve electron injection efficiency. The buffer layer is made of an alkali metal such as lithium or sodium, an alkaline earth metal such as potassium, calcium, magnesium, or strontium, or an electron injecting metal such as a fluoride thereof, or an alloy or compound with other metals. An extremely thin film (10 nm) can be used. By using these materials having a low work function, efficient electron injection can be performed, and by using an ultrathin film, it is possible to minimize the decrease in transparency due to these materials.

本発明の第１の実施態様においては、絶縁膜１２はポジ型フォトレジストを用いて形成することができる。用いることができるポジ型フォトレジストは、ノボラック樹脂またはポリイミド樹脂をベースとするものを用いることができる。本実施態様において、透明基板１、平坦化層７およびパッシベーション層８が可視光全領域（４００〜７００ｎｍの領域）の光に対して充分な透明性（５０％以上、好ましくは８０％以上の透過率）を有する場合には、可視光全領域の光に対して感光性を有するポジ型フォトレジストを用いることができる。この場合には、色変換フィルタ層２〜４を透過する波長域の光（たとえば、水銀ランプのｅ線（５７７ｎｍ）、ｆ線（５４６ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）またはｉ線（３６５ｎｍ））を用いて、該ポジ型フォトレジストのパターニングを行うことができる。 In the first embodiment of the present invention, the insulating film 12 can be formed using a positive photoresist. As the positive photoresist that can be used, a photoresist based on a novolac resin or a polyimide resin can be used. In this embodiment, the transparent substrate 1, the planarization layer 7 and the passivation layer 8 are sufficiently transparent (50% or more, preferably 80% or more) to all visible light (400 to 700 nm region). A positive photoresist having photosensitivity to light in the entire visible light region can be used. In this case, light in a wavelength range that passes through the color conversion filter layers 2 to 4 (for example, e-ray (577 nm), f-ray (546 nm), g-ray (436 nm), h-ray (405 nm), or i of a mercury lamp) or i The positive photoresist can be patterned using a line (365 nm).

有機ＥＬ層１０は、青色から青緑色領域の光を発する。本発明においては、有機ＥＬ層１０は、少なくとも発光層を含み、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および／または電子注入層を介在させた構造を有する。あるいはまた、正孔の注入および輸送の両方の機能を有する正孔注入輸送層、電子の注入および輸送の両方の機能を有する電子注入輸送層を用いてもよい。具体的には、下記のような層構成からなるものが採用される。
（１）発光層
（２）正孔注入層／発光層
（３）発光層／電子注入層
（４）正孔注入層／発光層／電子注入層
（５）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層
（上記において、陽極は発光層または正孔注入層に接続され、陰極は発光層または電子注入層に接続される） The organic EL layer 10 emits light in a blue to blue-green region. In the present invention, the organic EL layer 10 includes at least a light emitting layer, and has a structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer and / or an electron injection layer are interposed as required. Alternatively, a hole injection / transport layer having both hole injection and transport functions and an electron injection / transport layer having both electron injection and transport functions may be used. Specifically, those having the following layer structure are employed.
(1) Light emitting layer (2) Hole injection layer / light emitting layer (3) Light emitting layer / electron injection layer (4) Hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer (5) Hole injection layer / hole transport layer / Light emitting layer / electron injection layer (6) hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer (in the above, the anode is connected to the light emitting layer or the hole injection layer, and the cathode emits light) Layer or electron injection layer)

上記各層の材料としては、公知のものが使用される。青色から青緑色の発光を得るためには、発光層中に、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。 Known materials are used as the material for each of the above layers. In order to obtain light emission from blue to blue-green, in the light emitting layer, for example, optical brighteners such as benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole, metal chelated oxonium compounds, styrylbenzene compounds, aromatics Group dimethylidin compounds are preferably used.

反射電極１１は、好ましくは可視光に対して８０％以上の光反射率を有し、高反射率の金属（Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなど）、アモルファス合金（ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰ、ＣｒＢなど）または微結晶性合金（ＮｉＡｌなど）を用いて形成することができる。 The reflective electrode 11 preferably has a light reflectance of 80% or more with respect to visible light, and is a highly reflective metal (Al, Ag, Mo, W, Ni, Cr, etc.), amorphous alloy (NiP, NiB, CrP, CrB, etc.) or a microcrystalline alloy (NiAl, etc.) can be used.

反射電極１１を陽極として用いる場合、有機ＥＬ層１０と接触する側に、仕事関数が大きなＩＴＯ、ＩＺＯなどの導電性金属酸化物の層を有する積層構造として、正孔注入効率を向上させてもよい。 When the reflective electrode 11 is used as an anode, the hole injection efficiency can be improved as a laminated structure having a layer of a conductive metal oxide such as ITO or IZO having a large work function on the side in contact with the organic EL layer 10. Good.

一方、反射電極１１を陰極として用いる場合、前述の高反射率金属、アモルファス合金または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。あるいはまた、前述のようなバッファ層を有機ＥＬ層１０との界面に形成してもよい。 On the other hand, when the reflective electrode 11 is used as a cathode, an alkali metal such as lithium, sodium, or potassium, which is a material having a low work function, potassium, calcium, Electron injection efficiency can be improved by adding an alkaline earth metal such as magnesium or strontium to form an alloy. Alternatively, the buffer layer as described above may be formed at the interface with the organic EL layer 10.

本発明において、透明電極９および反射電極１１をそれぞれストライプ形状を有する複数の部分電極で構成し、透明電極９のストライプが延びる方向と反射電極１１のストライプが延びる方向とを交差する方向（好ましくは、直交する方向）とすることによって、パッシブマトリクス駆動型有機ＥＬ素子を形成してもよい。あるいはまた、透明電極９または反射電極１１の一方を、ＴＦＴ等のスイッチング素子と１対１に接続される複数の部分電極で構成し、他方を一体として形成される共通電極で構成することによってアクティブマトリクス型有機ＥＬ素子を形成してもよい。 In the present invention, the transparent electrode 9 and the reflective electrode 11 are each composed of a plurality of partial electrodes having a stripe shape, and the direction in which the stripe of the transparent electrode 9 extends and the direction in which the stripe of the reflective electrode 11 extends (preferably , A passive matrix driving type organic EL element may be formed. Alternatively, one of the transparent electrode 9 and the reflective electrode 11 is constituted by a plurality of partial electrodes connected to a switching element such as a TFT in a one-to-one relationship, and the other is constituted by a common electrode formed integrally. A matrix type organic EL element may be formed.

次に、図３を参照して、本実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法を説明する。 Next, with reference to FIG. 3, the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of this embodiment is demonstrated.

次いで、図３（ａ）に示すように、透明基板１上に、ブラックマトリクス５を形成する。ブラックマトリクス５は、スピンコート、ディップコート、ロールコート、キャスト法などを用いて透明基板１の全面上に形成した後にフォトリソグラフィ法などを用いて所望の形状および配置のものを得てもよいし、あるいはスクリーン印刷法を用いてパターニングの必要なしに所望の形状および配置のものを得てもよい。 Next, as shown in FIG. 3A, a black matrix 5 is formed on the transparent substrate 1. The black matrix 5 may be formed on the entire surface of the transparent substrate 1 using spin coating, dip coating, roll coating, casting, or the like, and then obtained in a desired shape and arrangement using photolithography. Alternatively, a screen printing method may be used to obtain a desired shape and arrangement without the need for patterning.

最初に、図３（ｂ）に示すように、透明基板１上の、ブラックマトリクス５の間隙に色変換フィルタ層２〜４を形成する。色変換フィルタ層２〜４のそれぞれは、スピンコート、ディップコート、ロールコート、キャスト法などを用いて透明基板１の全面上に形成した後にフォトリソグラフィ法などを用いて所望の形状および配置のものを得てもよいし、あるいはスクリーン印刷法を用いてパターニングの必要なしに所望の形状および配置のものを得てもよい。 First, as shown in FIG. 3B, color conversion filter layers 2 to 4 are formed in the gaps of the black matrix 5 on the transparent substrate 1. Each of the color conversion filter layers 2 to 4 has a desired shape and arrangement using a photolithographic method after being formed on the entire surface of the transparent substrate 1 using a spin coat, dip coat, roll coat, cast method or the like. Alternatively, a screen printing method may be used to obtain a desired shape and arrangement without the need for patterning.

なお、前述の２つの工程において、透明基板１の上に最初に色変換フィルタ層２〜４を形成し、その後にブラックマトリクス５を形成してもよい。 In the two steps described above, the color conversion filter layers 2 to 4 may be first formed on the transparent substrate 1 and then the black matrix 5 may be formed.

次いで、図３（ｃ）に示すように、色変換層２〜４およびブラックマトリクス５を覆う平坦化層７およびパッシベーション層８を形成し、その上に透明電極９を形成する。平坦化層７は、前述のポリマー材料をスピンコート、ディップコート、ロールコート、キャスト法などの慣用の方法を用いて塗布することにより形成することができる。また、パッシベーション層８についても、前述の無機酸化物または無機窒化物をスパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法などの慣用の方法で堆積させることによって形成することができる。透明電極９は、前述の透明導電性酸化物をスパッタ法などを用いて堆積させることにより形成される。全面に堆積された透明導電性酸化物をフォトリソグラフィ法などを用いてパターニングすること、あるいは、堆積時にマスクを用いることによって、所望の形状および配置を有する透明電極９を得ることができる。 Next, as shown in FIG. 3C, the planarization layer 7 and the passivation layer 8 that cover the color conversion layers 2 to 4 and the black matrix 5 are formed, and the transparent electrode 9 is formed thereon. The planarizing layer 7 can be formed by applying the above-described polymer material using a conventional method such as spin coating, dip coating, roll coating, or casting. The passivation layer 8 can also be formed by depositing the above-described inorganic oxide or inorganic nitride by a conventional method such as sputtering, CVD, or vacuum evaporation. The transparent electrode 9 is formed by depositing the above-described transparent conductive oxide using a sputtering method or the like. The transparent electrode 9 having a desired shape and arrangement can be obtained by patterning the transparent conductive oxide deposited on the entire surface using a photolithography method or the like, or by using a mask at the time of deposition.

次に、図３（ｄ）に示すように、透明電極９を覆って絶縁膜１２を形成し、その後に、ブラックマトリクス５を用いたセルフアライメント的手法を用いて絶縁膜のパターニングを行う。最初に絶縁膜１２を形成するポジ型フォトレジストを、スピンコート、ロールコート法などの慣用の方法を用いて全面に付着させる。付着の後に、必要に応じてプリベークなどの工程を施した後に、塗布物を露光装置中に搬入する。露光装置中において、塗布物は、透明基板１の周囲と、反りを発生させないために必要最低限の透明基板１の中央の部位とにおいて、支持部材（ステージ）によって支持されることが望ましい。このような支持を行う場合、支持部材は露光に用いる光に対して不透明であってもよい。 Next, as shown in FIG. 3D, the insulating film 12 is formed so as to cover the transparent electrode 9, and then the insulating film is patterned using a self-alignment method using the black matrix 5. First, a positive photoresist for forming the insulating film 12 is deposited on the entire surface using a conventional method such as spin coating or roll coating. After the adhesion, the coated material is carried into the exposure apparatus after performing a pre-baking process or the like as necessary. In the exposure apparatus, it is desirable that the coated material is supported by a support member (stage) around the transparent substrate 1 and at the minimum central portion of the transparent substrate 1 in order to prevent warping. When such support is performed, the support member may be opaque to light used for exposure.

そして、透明基板１の側からポジ型フォトレジストを露光する。露光に用いる光は、用いられるポジ型フォトレジストの種類に依存して決定される。たとえば、ポジ型フォトレジストが紫外〜紫色領域の光（たとえば水銀ランプのｇ線、ｈ線またはｉ線）感光性である場合、紫外〜紫色領域の光が用いられる。あるいはまた、ポジ型フォトレジストが可視光全領域の光に対して感光性である場合、色変換フィルタ層２〜４を透過する光を用いることができる。露光に用いられる光は、ブラックマトリクス５に相当する位置以外のポジ型フォトレジストに入射し、露光部分のレジストを現像液に対して溶解性または分散性にする。ブラックマトリクス５に相当する位置の未露光のレジストの特性は変化せず、現像液に対して不溶性および非分散性のままである。ここで、ブラックマトリクス５とポジ型フォトレジストとの間の距離は、平坦化層７、パッシベーション層８および部分的には透明電極９の膜厚によって規定され、約２〜２０μｍ程度である。したがって、露光に用いられる光は色変換フィルタ層２〜４などを透過するが、遮光材として機能するブラックマトリクス５との間隔が小さく、かつ光の直進性が高いために、ブラックマトリクス５とほぼ同等の寸法を有する未露光部分がフォトレジスト中に形成される。 Then, the positive photoresist is exposed from the transparent substrate 1 side. The light used for exposure is determined depending on the type of positive photoresist used. For example, when the positive photoresist is sensitive to light in the ultraviolet to purple region (for example, g-line, h-line or i-line of a mercury lamp), light in the ultraviolet to purple region is used. Alternatively, when the positive photoresist is sensitive to light in the entire visible light region, light transmitted through the color conversion filter layers 2 to 4 can be used. The light used for exposure is incident on a positive photoresist other than the position corresponding to the black matrix 5 to make the exposed resist soluble or dispersible in the developer. The properties of the unexposed resist at the position corresponding to the black matrix 5 remain unchanged and remain insoluble and non-dispersible in the developer. Here, the distance between the black matrix 5 and the positive photoresist is defined by the film thicknesses of the planarization layer 7, the passivation layer 8, and partially the transparent electrode 9, and is about 2 to 20 μm. Therefore, although the light used for exposure is transmitted through the color conversion filter layers 2 to 4 and the like, the distance from the black matrix 5 functioning as a light shielding material is small and the straightness of the light is high. Unexposed portions having equivalent dimensions are formed in the photoresist.

次いで、現像液によって露光部分のレジストを除去することによって、図３（ｅ）に示すようにブラックマトリクス５に相当する位置にのみ絶縁膜１２が残存する構造が得られる。この構造に対して、慣用の方法で有機ＥＬ層１０および反射電極１１を形成することによって、本発明の第１の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルを得ることができる。 Next, the resist in the exposed portion is removed with a developing solution to obtain a structure in which the insulating film 12 remains only at a position corresponding to the black matrix 5 as shown in FIG. With respect to this structure, the organic EL display panel of the first embodiment of the present invention can be obtained by forming the organic EL layer 10 and the reflective electrode 11 by a conventional method.

図２は、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの第１の実施態様の構成例を示す図であり、図４は、その製造工程の主要部を説明する図である。図２に示す第２の実施態様は、１）ブラックマトリクス５に代えて高透過率層６を用いること、２）絶縁膜１２を形成する材料がネガ型フォトレジストであること、３）該ネガ型フォトレジストの露光に用いる光に対する色変換フィルタ層２〜４の要件が、第１の実施態様と異なるものである。 FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of the first embodiment of the organic EL display panel of the present invention, and FIG. 4 is a diagram for explaining a main part of the manufacturing process. In the second embodiment shown in FIG. 2, 1) the high transmittance layer 6 is used in place of the black matrix 5, 2) the material for forming the insulating film 12 is a negative photoresist, and 3) the negative. The requirements of the color conversion filter layers 2 to 4 for the light used for the exposure of the mold photoresist are different from those of the first embodiment.

高透過率層６は、紫外〜紫色の領域の光に対して５０％以上、好ましくは８０％以上の透過率を有する層であり、アクリル系材料などを用いて作製することができる。高透過率層６は、色変換フィルタ層２〜４と同等の５〜１５μｍの膜厚を有することが望ましい。高透過率層６は、絶縁膜１２を形成するネガ型フォトレジストをパターン露光する際の光を透過する層として機能する。 The high transmittance layer 6 is a layer having a transmittance of 50% or more, preferably 80% or more, with respect to light in the ultraviolet to purple region, and can be manufactured using an acrylic material or the like. The high transmittance layer 6 desirably has a film thickness of 5 to 15 μm, which is equivalent to the color conversion filter layers 2 to 4. The high transmittance layer 6 functions as a layer that transmits light when the negative photoresist forming the insulating film 12 is subjected to pattern exposure.

絶縁膜１２は、ネガ型フォトレジストから形成される。絶縁膜のパターニングは、高透過率層６を光透過部、色変換フィルタ層２〜４を遮光部として使用して行われるため、ネガ型フォトレジストは、色変換フィルタ層によって少なくとも減衰される波長を有する光に対して、感光性を有することが要求される。好ましくは、本発明に用いられるネガ型フォトレジストは、紫外〜紫色領域の光（たとえば、水銀ランプのｇ線、ｈ線、ｉ線など）に対して感光性を有することが望ましい。ネガ型フォトレジストは、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレートなどをベースとするものを用いることができる。 The insulating film 12 is formed from a negative photoresist. Since the patterning of the insulating film is performed using the high transmittance layer 6 as the light transmission part and the color conversion filter layers 2 to 4 as the light shielding part, the negative photoresist has a wavelength at least attenuated by the color conversion filter layer. It is required to have photosensitivity with respect to the light having Preferably, the negative photoresist used in the present invention is sensitive to light in the ultraviolet to purple region (for example, g-line, h-line, i-line, etc. of a mercury lamp). As the negative photoresist, those based on polymethyl methacrylate, polyacrylate or the like can be used.

前述のように、本実施態様においては、色変換フィルタ層２〜４は、絶縁膜１２をパターニングする際の遮光部として機能する必要がある。したがって、色変換フィルタ層２〜４は、絶縁膜１２のパターニングに用いられる光（紫外〜紫色領域の光）に対して、３０％以下、好ましくは１０％以下の透過率を有する材料を用いて形成される。本実施態様の色変換フィルタ層２〜４は、前述の範囲の透過率を有するマトリクス樹脂を用いて形成されてもよいし、あるいは前述の領域の光を吸収する色素が添加されていてもよい。 As described above, in the present embodiment, the color conversion filter layers 2 to 4 need to function as a light shielding portion when the insulating film 12 is patterned. Therefore, the color conversion filter layers 2 to 4 are made of a material having a transmittance of 30% or less, preferably 10% or less, with respect to the light used for patterning the insulating film 12 (light in the ultraviolet to violet region). It is formed. The color conversion filter layers 2 to 4 of this embodiment may be formed using a matrix resin having a transmittance in the above-described range, or a dye that absorbs light in the above-described region may be added. .

図４を参照して、本実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法を説明する。最初に、図４（ａ）に示すように、透明基板１の上に色変換フィルタ層２〜４を形成する。色変換フィルタ層２〜４のそれぞれは、スピンコート、ディップコート、ロールコート、キャスト法などを用いて透明基板１の全面上に形成した後にフォトリソグラフィ法などを用いて所望の形状および配置のものを得てもよいし、あるいはスクリーン印刷法を用いてパターニングの必要なしに所望の形状および配置のものを得てもよい。 With reference to FIG. 4, the manufacturing method of the organic electroluminescence display panel of this embodiment is demonstrated. First, as shown in FIG. 4A, color conversion filter layers 2 to 4 are formed on the transparent substrate 1. Each of the color conversion filter layers 2 to 4 has a desired shape and arrangement using a photolithographic method after being formed on the entire surface of the transparent substrate 1 using a spin coat, dip coat, roll coat, cast method or the like. Alternatively, a screen printing method may be used to obtain a desired shape and arrangement without the need for patterning.

図４（ａ）の工程に続いて、図４（ｂ）に示すように、色変換フィルタ層２〜４の間隙に高透過率層６を形成する。ブラックマトリクス５の場合と同様に、高透過率層６は、スピンコート、ディップコート、ロールコート、キャスト法などを用いて透明基板１の全面上に形成した後にフォトリソグラフィ法などを用いて所望の形状および配置のものを得てもよいし、あるいはスクリーン印刷法を用いてパターニングの必要なしに所望の形状および配置のものを得てもよい。 Following the step of FIG. 4A, as shown in FIG. 4B, the high transmittance layer 6 is formed in the gap between the color conversion filter layers 2-4. As in the case of the black matrix 5, the high-transmittance layer 6 is formed on the entire surface of the transparent substrate 1 using spin coating, dip coating, roll coating, casting, or the like, and then desired using photolithography or the like. A shape and arrangement may be obtained, or a screen printing method may be used to obtain a desired shape and arrangement without the need for patterning.

なお、前述の２つの工程において、透明基板１の上に最初に高透過率層６を形成し、その後に色変換フィルタ層２〜４を形成してもよい。 In the above-described two steps, the high transmittance layer 6 may be first formed on the transparent substrate 1 and then the color conversion filter layers 2 to 4 may be formed.

図４（ｃ）に示す、色変換層２〜４および高透過率層６を覆う平坦化層７およびパッシベーション層８を形成し、その上に透明電極９を形成する工程は、第１の実施態様の図３（ｃ）と同様にして実施することができる。 The step of forming the planarization layer 7 and the passivation layer 8 covering the color conversion layers 2 to 4 and the high transmittance layer 6 and forming the transparent electrode 9 thereon as shown in FIG. The embodiment can be carried out in the same manner as in FIG.

図４（ｄ）に示す工程の内、透明電極９を覆って絶縁膜１２を形成する段階は、ポジ型フォトレジストに代えてネガ型フォトレジストを用いることを除いて、第１の実施態様と同様に行うことができる。露光段階は、第１の実施態様と同様の装置を用いて実施することができるが、本実施態様の場合、露光に用いられる光は、高透過率層６、平坦化層７およびパッシベーション層８を透過し、色変換フィルタ層２〜４にて遮断または少なくとも減衰される。露光は、紫外〜紫色領域の光を用いて行われる。露光の結果、高透過率層６に相当する位置では、ネガ型フォトレジストに光が入射し、該レジストが現像液に対して不溶性かつ非分散性に変化する。本実施態様においても、色変換フィルタ層２〜４とネガ型フォトレジストとの間の距離は、平坦化層７、パッシベーション層８および透明電極９の膜厚によって規定され、約２〜１０μｍ程度である。したがって、露光に用いられる光は高透過率層６などを透過するが、遮光材として機能する色変換フィルタ層２〜４との間隔が小さく、かつ光の直進性が高いために、高透過率層６とほぼ同等の寸法を有する露光部分がフォトレジスト中に形成される。 Of the steps shown in FIG. 4D, the step of forming the insulating film 12 covering the transparent electrode 9 is the same as that of the first embodiment except that a negative photoresist is used instead of the positive photoresist. The same can be done. The exposure step can be performed using an apparatus similar to that of the first embodiment. In this embodiment, the light used for the exposure is the high transmittance layer 6, the planarization layer 7, and the passivation layer 8. And is blocked or at least attenuated by the color conversion filter layers 2 to 4. The exposure is performed using light in the ultraviolet to violet region. As a result of the exposure, light is incident on the negative photoresist at a position corresponding to the high transmittance layer 6, and the resist changes to insoluble and non-dispersible with respect to the developer. Also in this embodiment, the distance between the color conversion filter layers 2 to 4 and the negative photoresist is defined by the film thicknesses of the planarization layer 7, the passivation layer 8, and the transparent electrode 9, and is about 2 to 10 μm. is there. Therefore, although the light used for exposure is transmitted through the high transmittance layer 6 and the like, the distance from the color conversion filter layers 2 to 4 functioning as a light shielding material is small, and the straightness of light is high. An exposed portion having substantially the same dimensions as layer 6 is formed in the photoresist.

次いで、現像液によって露光部分のレジストを除去することによって、図４（ｅ）に示すように高透過率層６に相当する位置にのみ絶縁膜１２が残存する構造が得られる。この構造に対して、慣用の方法で有機ＥＬ層１０および反射電極１１を形成することによって、本発明の第２の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルを得ることができる。 Next, the resist in the exposed portion is removed with a developing solution to obtain a structure in which the insulating film 12 remains only at a position corresponding to the high transmittance layer 6 as shown in FIG. With respect to this structure, the organic EL display panel of the second embodiment of the present invention can be obtained by forming the organic EL layer 10 and the reflective electrode 11 by a conventional method.

［実施例１］
本実施例は、本発明の第１の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルを作製する例である。画素数１６０×１２０（ＲＧＢ）、画素ピッチ０．３３ｍｍの有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。 [Example 1]
In this example, the organic EL display panel according to the first embodiment of the present invention is manufactured. An organic EL display panel having a pixel number of 160 × 120 (RGB) and a pixel pitch of 0.33 mm was produced.

透明基板１としてのフュージョンガラス（コーニング製１７３７ガラス、１００×１００×１．１ｍｍ）上に、スピンコート法を用いて青色フィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製：カラーモザイクＣＢ−７００１）を塗布し、フォトリソグラフィ法によってパターニングを実施し、幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍの複数のストライプからなる青色変換フィルタ層４（カラーフィルタ層のみで構成されている）を得た。 On a fusion glass (Corning 1737 glass, 100 × 100 × 1.1 mm) as a transparent substrate 1, a blue filter material (Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd .: Color Mosaic CB-7001) is applied using a spin coating method. Coating and patterning by photolithography were performed to obtain a blue conversion filter layer 4 (consisting of only a color filter layer) composed of a plurality of stripes having a width of 0.1 mm, a pitch of 0.33 mm, and a film thickness of 10 μm. .

蛍光色素としてクマリン６（０．７重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。該溶液に対して１００重量部の新日鐵化学製Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を塗布し、フォトリソグラフ法にてパターニングを実施して、幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍの複数のストライプからなる緑色変換フィルタ層３（色変換層のみで構成されている）を得た。 Coumarin 6 (0.7 parts by weight) as a fluorescent dye was dissolved in 120 parts by weight of a solvent, propylene glycol monoethyl acetate (PGMEA). To this solution, 100 parts by weight of V259PA / P5 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. was added and dissolved to obtain a coating solution. The coating solution is applied and patterned by a photolithographic method to form a green color conversion filter layer 3 (consisting of only a color conversion layer) having a plurality of stripes having a width of 0.1 mm, a pitch of 0.33 mm, and a film thickness of 10 μm. Got).

蛍光色素としてクマリン６（０．６重量部）、ローダミン６Ｇ（０．３重量部）およびベーシックバイオレット１１（０．３重量部）を、１２０重量部のＰＧＭＥＡ中へ溶解させた。該溶液に対して１００重量部の新日鐵化学製Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を塗布し、フォトリソグラフ法にてパターニングを実施して、幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍの複数のストライプからなる赤色変換フィルタ層２（色変換層のみで構成されている）を得た。 Coumarin 6 (0.6 parts by weight), rhodamine 6G (0.3 parts by weight) and basic violet 11 (0.3 parts by weight) were dissolved in 120 parts by weight of PGMEA as fluorescent dyes. To this solution, 100 parts by weight of V259PA / P5 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. was added and dissolved to obtain a coating solution. The coating liquid is applied, and patterning is performed by a photolithographic method, and the red conversion filter layer 2 (consisting of only the color conversion layer is formed by a plurality of stripes having a width of 0.1 mm, a pitch of 0.33 mm, and a film thickness of 10 μm. Got).

次いで、ブラックマトリクス材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製：カラーモザイクＣＫ−７８００）を塗布し、フォトリソグラフィ法によってパターニングを実施し、色変換フィルタ層２〜４の間隙に設けられた、幅０．０１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍ、膜厚１０μｍの複数のストライプからなるブラックマトリクス５を得た。 Next, a black matrix material (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd .: color mosaic CK-7800) is applied, patterning is performed by photolithography, and the width 0 provided in the gap between the color conversion filter layers 2 to 4 is applied. A black matrix 5 composed of a plurality of stripes having a thickness of 0.01 mm, a pitch of 0.11 mm, and a thickness of 10 μm was obtained.

次に、ＵＶ硬化型樹脂（エポキシ変性アクリレート）をスピンコート法を用いて塗布し、高圧水銀灯の光を照射して、膜厚８μｍ（色変換フィルタ層２〜４上において）の平坦化層７を形成した。この際、色変換フィルタ層２〜４およびブラックマトリクス５のストライプに変形などの欠陥は発生せず、かつ平坦化層７の上面は平坦であった。 Next, a UV curable resin (epoxy-modified acrylate) is applied using a spin coating method, and irradiated with light from a high-pressure mercury lamp, and the planarizing layer 7 having a film thickness of 8 μm (on the color conversion filter layers 2 to 4). Formed. At this time, defects such as deformation did not occur in the color conversion filter layers 2 to 4 and the stripes of the black matrix 5, and the upper surface of the flattening layer 7 was flat.

次いで、ターゲットとしてＳｉＯ_２を用いるスパッタ法を用いて、膜厚３００ｎｍのＳｉＯ_２膜を堆積させ、パッシベーション層８を得た。スパッタガスとして、ＡｒおよびのＯ_２の混合ガスを用いた。 Next, a 300 nm-thickness SiO ₂ film was deposited using a sputtering method using SiO ₂ as a target to obtain a passivation layer 8. A mixed gas of Ar and O ₂ was used as the sputtering gas.

次に、ＤＣスパッタ法（ターゲット：Ｉｒ−Ｚｎ酸化物、スパッタガス：酸素およびＡｒ）を用い、室温において２００ｎｍのＩＺＯをパッシベーション層８上の全面に堆積させた。次いで、シュウ酸水溶液をエッチング液として用いるフォトリソグラフィ法によってパターニングして、色変換フィルタ層２〜４の上方に位置し、色変換フィルタ２〜４のストライプと同一方向に延びる、幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍの複数のストライプからなる透明電極９を得た。 Next, 200 nm of IZO was deposited on the entire surface of the passivation layer 8 at room temperature using a DC sputtering method (target: Ir—Zn oxide, sputtering gas: oxygen and Ar). Next, patterning is performed by a photolithography method using an aqueous oxalic acid solution as an etching solution, and positioned above the color conversion filter layers 2 to 4 and extending in the same direction as the stripes of the color conversion filters 2 to 4, a width of 0.1 mm, A transparent electrode 9 composed of a plurality of stripes having a pitch of 0.33 mm was obtained.

透明電極９を覆うように、ポジ型フォトレジスト（ＪＳＲ製ＪＥＭ７００Ｒ２に対してｅ線およびｆ線感光剤を添加した混合物、感光域およそ５８０ｎｍ）をスピンコート法によって塗布し、１５０秒間にわたってホットプレート上で１１０℃に加熱してプリベーク処理を行った。プリベーク処理を行った後に、塗布物を露光装置内に搬入し、約１２０秒間にわたって透明基板１の側から高圧水銀ランプの光を照射して、露光を行った。続いて、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液を現像液として用いて現像処理を行って、ブラックマトリクス５に相当する位置に、ブラックマトリクス５と同等の寸法を有する絶縁膜１２を形成した。 A positive photoresist (a mixture of JEM 700R2 made by JSR with the addition of e- and f-line photosensitizers and a photosensitive area of about 580 nm) is applied by a spin coat method so as to cover the transparent electrode 9, and is applied on a hot plate for 150 seconds. The prebaking process was performed by heating to 110 ° C. After performing the pre-baking treatment, the coated material was carried into the exposure apparatus, and exposure was performed by irradiating light from a high-pressure mercury lamp from the transparent substrate 1 side for about 120 seconds. Subsequently, development processing was performed using a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution as a developer to form an insulating film 12 having a size equivalent to that of the black matrix 5 at a position corresponding to the black matrix 5.

絶縁膜１２以下の構造が形成された基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層を、真空を破らずに順次成膜して、有機ＥＬ層１０を得た。成膜に際して真空槽内圧は１×１０^−４Ｐａまで減圧した。正孔注入層は銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を１００ｎｍ積層した。正孔輸送層は４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）を２０ｎｍ積層した。発光層は４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を３０ｎｍ積層した。電子注入層はアルミニウムキレート（Ａｌｑ_３）を２０ｎｍ積層した。 A substrate on which the structure below the insulating film 12 is formed is mounted in a resistance heating vapor deposition apparatus, and a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron injection layer are sequentially formed without breaking the vacuum. The organic EL layer 10 was obtained. During film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 ⁻⁴ Pa. As the hole injection layer, copper phthalocyanine (CuPc) was laminated to a thickness of 100 nm. As the hole transport layer, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD) was laminated to 20 nm. The light emitting layer was formed by laminating 30 nm of 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi). The electron injection layer was formed by laminating aluminum chelate (Alq ₃ ) at 20 nm.

この後、真空を破ることなしに、透明電極９のストライプと直交する幅０．３０ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍのストライプパターンが得られるマスクを用いて、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（１０：１の重量比率）層を堆積させ、反射電極１１（陰極）を形成した。 Thereafter, using a mask that can obtain a stripe pattern having a width of 0.30 mm and a pitch of 0.33 mm orthogonal to the stripe of the transparent electrode 9 without breaking the vacuum, a 200 nm thick Mg / Ag (10: 1) is obtained. (Weight ratio) layer was deposited to form a reflective electrode 11 (cathode).

最後に、グローブボックス内乾燥窒素雰囲気（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）下において、反射電極１１以下の構造が形成された基板を、封止ガラス（図示せず）とＵＶ硬化接着剤を用いて封止して、有機ＥＬディスプレイパネルを得た。 Finally, the substrate on which the structure below the reflective electrode 11 is formed in a dry nitrogen atmosphere in the glove box (both oxygen and moisture concentrations are 10 ppm or less) is formed using a sealing glass (not shown) and a UV curable adhesive. Sealing was performed to obtain an organic EL display panel.

［実施例２］
本実施例は、本発明の第２の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルを作製する例である。ブラックマトリクス５に代えて高透過率層６を形成したこと、および絶縁膜を形成する材料としてネガ型フォトレジストを用いたことを除いて、実施例１の手順に従って、有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。 [Example 2]
In this example, an organic EL display panel according to the second embodiment of the present invention is produced. An organic EL display panel was produced according to the procedure of Example 1 except that the high transmittance layer 6 was formed in place of the black matrix 5 and that a negative photoresist was used as a material for forming the insulating film. .

実施例１の手順に従って、透明基板１上に赤色、緑色および青色の色変換フィルタ層２〜４を形成した。次いで、アクリル系材料（ＪＳＲ製、ＮＮ８１０）をスピンコート法によって塗布し、１８０秒間にわたってホットプレート上１００℃でプリベーク処理を行った。その後にフォトリソグラフィ法によってパターニングを実施し、ポストベーク処理を行うことによって、色変換フィルタ層２〜４の間隙に設けられ、幅０．０１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍ、膜厚１０μｍの複数のストライプからなる高透過率層６を得た。このように形成された高透過率層６および色変換フィルタ層２〜４の上面は平坦であった。 According to the procedure of Example 1, red, green and blue color conversion filter layers 2 to 4 were formed on the transparent substrate 1. Next, an acrylic material (manufactured by JSR, NN810) was applied by spin coating, and prebaked at 100 ° C. on a hot plate for 180 seconds. After that, patterning is performed by photolithography, and post-baking is performed, so that the color conversion filter layers 2 to 4 are provided in the gaps, and are formed from a plurality of stripes having a width of 0.01 mm, a pitch of 0.11 mm, and a film thickness of 10 μm. A high transmittance layer 6 was obtained. The upper surfaces of the high transmittance layer 6 and the color conversion filter layers 2 to 4 thus formed were flat.

続いて、実施例１の手順に従って、平坦化層７、パッシベーション層８および透明電極９を形成した。次いで、アクリル系材料であるネガ型フォトレジスト（ＪＳＲ製、ＮＮ８１０、感光域３００〜３７０ｎｍ）をスピンコート法によって塗布し、１８０秒間にわたってホットプレート上１００℃でプリベーク処理を行った。プリベーク処理を行った後に、フォトリソグラフィ法によってパターニングを実施し、ポストベーク処理を行うことによって、高透過率層６に相当する位置に、高透過率層６と同等の寸法を有する絶縁膜１２を形成した。 Subsequently, according to the procedure of Example 1, a planarizing layer 7, a passivation layer 8, and a transparent electrode 9 were formed. Next, a negative photoresist (manufactured by JSR, NN810, photosensitive area of 300 to 370 nm), which is an acrylic material, was applied by spin coating, and prebaked at 100 ° C. on a hot plate for 180 seconds. After performing the pre-baking process, patterning is performed by a photolithography method, and the post-baking process is performed, so that the insulating film 12 having the same dimensions as the high transmittance layer 6 is formed at a position corresponding to the high transmittance layer 6. Formed.

そして、実施例１の手順に従って、有機ＥＬ層１０および反射電極１１を形成し、および封止を行って、有機ＥＬディスプレイパネルを得た。 And according to the procedure of Example 1, the organic electroluminescent layer 10 and the reflective electrode 11 were formed, and sealing was performed, and the organic electroluminescent display panel was obtained.

本発明の第１の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the organic electroluminescent display panel of the 1st embodiment of this invention. 本発明の第２の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the organic electroluminescent display panel of the 2nd embodiment of this invention. 本発明の第１の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程の主要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of the manufacturing process of the organic electroluminescent display panel of the 1st embodiment of this invention. 本発明の第２の実施態様の有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程の主要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of the manufacturing process of the organic electroluminescent display panel of the 2nd embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１透明基板
２赤色変換フィルタ層
３緑色変換フィルタ層
４青色変換フィルタ層
５ブラックマトリクス
６高透過率層
７平坦化層
８パッシベーション層
９透明電極
１０有機ＥＬ層
１１反射電極
１０絶縁膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Red conversion filter layer 3 Green conversion filter layer 4 Blue conversion filter layer 5 Black matrix 6 High transmittance layer 7 Flattening layer 8 Passivation layer 9 Transparent electrode 10 Organic EL layer 11 Reflective electrode 10 Insulating film

Claims

透明基板と、該透明基板上に形成された複数種の色変換フィルタ層と、該複数種の色変換フィルタ層の間隙に設けられるブラックマトリクスと、該複数種の色変換フィルタ層上に形成された複数の部分からなる透明電極と、該透明電極の複数の部分の間隙に設けられる絶縁膜と、該透明電極上に形成される有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に形成される反射電極とを含む有機ＥＬディスプレイパネルであって、
前記絶縁膜は、可視光全領域に感光性を有し、前記ブラックマトリクスの上方に配置され、および前記ブラックマトリクスと同一の寸法を有する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。 Formed on a transparent substrate, a plurality of types of color conversion filter layers formed on the transparent substrate, a black matrix provided in a gap between the plurality of types of color conversion filter layers, and the plurality of types of color conversion filter layers A transparent electrode comprising a plurality of portions, an insulating film provided in a gap between the plurality of portions of the transparent electrode, an organic EL layer formed on the transparent electrode, and a reflective electrode formed on the organic EL layer An organic EL display panel comprising:
The organic EL display panel, wherein the insulating film has photosensitivity in the entire visible light region, is disposed above the black matrix, and has the same dimensions as the black matrix.

透明基板と、該透明基板上に形成された複数種の色変換フィルタ層と、該複数種の色変換フィルタ層の間隙に設けられる高透過率層と、該複数種の色変換フィルタ層上に形成された複数の部分からなる透明電極と、該透明電極の複数の部分の間隙に設けられる絶縁膜と、該透明電極上に形成される有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に形成される反射電極とを含む有機ＥＬディスプレイパネルであって、
前記絶縁膜は、前記高透過率層の上方に配置され、および前記高透過率層と同一の寸法を有する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。 A transparent substrate, a plurality of types of color conversion filter layers formed on the transparent substrate, a high transmittance layer provided in a gap between the plurality of types of color conversion filter layers, and the plurality of types of color conversion filter layers A transparent electrode composed of a plurality of parts formed, an insulating film provided in a gap between the plurality of parts of the transparent electrode, an organic EL layer formed on the transparent electrode, and a reflection formed on the organic EL layer An organic EL display panel including an electrode,
The organic EL display panel, wherein the insulating film is disposed above the high transmittance layer and has the same dimensions as the high transmittance layer.

透明基板を準備する工程と、
前記透明基板上にブラックマトリクスを形成する工程と、
前記ブラックマトリクスの間隙に複数種の色変換フィルタ層を形成する工程と、
前記複数種の色変換フィルタ層上に複数の部分からなる透明電極を形成する工程と、
前記透明電極を覆うようにポジ型フォトレジストを付着させる工程と、
前記透明基板の側から前記ポジ型フォトレジストを露光して、前記ブラックマトリクスに相当する位置に未露光部分を形成し、前記複数種の色変換フィルタ層に相当する位置に露光部分を形成する工程と、
前記露光部分を除去する工程と、
前記透明電極上に有機ＥＬ層を形成する工程と、
前記有機ＥＬ層上に反射電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。 Preparing a transparent substrate;
Forming a black matrix on the transparent substrate;
Forming a plurality of types of color conversion filter layers in the gaps of the black matrix;
Forming a transparent electrode comprising a plurality of portions on the plurality of types of color conversion filter layers;
Attaching a positive photoresist so as to cover the transparent electrode;
Exposing the positive photoresist from the transparent substrate side, forming an unexposed portion at a position corresponding to the black matrix, and forming an exposed portion at a position corresponding to the plurality of types of color conversion filter layers; When,
Removing the exposed portion;
Forming an organic EL layer on the transparent electrode;
And a step of forming a reflective electrode on the organic EL layer.

透明基板を準備する工程と、
前記透明基板上に複数種の色変換フィルタ層を形成する工程と、
前記複数種の色変換フィルタ層の間隙に高透過率層を形成する工程と、
前記複数種の色変換フィルタ層上に複数の部分からなる透明電極を形成する工程と、
前記透明電極を覆うようにネガ型フォトレジストを付着させる工程と、
前記透明基板の側から前記ネガ型フォトレジストを露光して、前記高透過率層に相当する位置に露光部分を形成し、前記複数種の色変換フィルタ層に相当する位置に未露光部分を形成する工程と、
前記未露光部分を除去する工程と、
前記透明電極上に有機ＥＬ層を形成する工程と、
前記有機ＥＬ層上に反射電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
Preparing a transparent substrate;
Forming a plurality of types of color conversion filter layers on the transparent substrate;
Forming a high transmittance layer in the gap between the plurality of types of color conversion filter layers;
Forming a transparent electrode comprising a plurality of portions on the plurality of types of color conversion filter layers;
Attaching a negative photoresist so as to cover the transparent electrode;
The negative photoresist is exposed from the transparent substrate side, an exposed portion is formed at a position corresponding to the high transmittance layer, and an unexposed portion is formed at a position corresponding to the plurality of types of color conversion filter layers. And a process of
Removing the unexposed portion;
Forming an organic EL layer on the transparent electrode;
And a step of forming a reflective electrode on the organic EL layer.