JP2006085916A - 有機elディスプレイ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プラスチックフィルム40の上に、接着層32を介して、保護層30、保護層30に埋設された透明電極28、透明電極28上に開口部26xが設けられた有機絶縁層パターン26が形成されている。さらに、有機絶縁層パターン26の開口部26xの透明電極28上にインクジェット法で形成された赤色発光層36R、緑色発光層36G及び青色発光層36Bを含む有機EL層3が形成され、その上に金属電極42及び封止層44が形成されている。有機絶縁層パターン26の直下にバリア絶縁層パターン25を設けてもよい。
【選択図】 図7
Description
図1〜図6は本発明の実施形態の有機ELディスプレイの製造方法を順に示す断面図である。本発明の第1実施形態の有機ELディスプレイの製造方法は、図1(a)に示すように、まず、仮基板としてのガラス基板20を用意し、このガラス基板20上にポリイミド樹脂などからなる剥離層22を形成する。
図7は本発明の第2実施形態の有機ELディスプレイを示す断面図である。図7に示すように、第2実施形態の有機ELディスプレイ1aは、第1実施形態の図6において、複数の透明電極28の間の保護層30上(有機絶縁層パターン26の直下)にバリア絶縁層パターン25が形成された形態である。その他の要素は第1実施形態の図6と同一であるのでその説明を省略する。このバリア絶縁層パターン25は、外気に含まれる水蒸気やプラスチックフィルム40に含まれる水分が有機EL素子2に侵入することをブロックするバリア層として機能する。さらに、有機EL層3の下に形成された透明電極28(ITO)も水蒸気をブロックするバリア層として機能する。
図8及び図9は本発明の第3実施形態の有機ELディスプレイを示す断面図である。
Claims (16)
- プラスチックフィルムと、
前記プラスチックフィルム上に形成された接着層と、
前記接着層上に形成された保護層と、
前記保護層に埋設された複数の透明電極と、
前記複数の透明電極の間の前記保護層上に形成され、前記透明電極上に開口部が設けられた有機絶縁層パターンと、
前記有機絶縁層パターンの複数の開口部内の前記複数の透明電極上にインクジェット法でそれぞれ形成された発光層を含む有機EL層と、
前記有機EL層上に形成された金属電極と、
前記金属電極を被覆する封止層とを有することを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 前記複数の透明電極は、赤色画素部、緑色画素部及び青色画素部に画定されており、前記発光層は、前記赤色画素部に形成された赤色(R)発光層、前記緑色画素部に形成された緑色(G)発光層、及び前記青色画素部に形成された青色(B)発光層により構成されることを特徴とする請求項1に記載の有機ELディスプレイ。
- 前記接着層と前記保護層との間に形成され、前記接着層に埋設されたカラーフィルタ層をさらに有し、前記発光層は白色発光層であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELディスプレイ。
- 前記透明電極の間の前記保護層上であって、かつ前記有機絶縁層パターンの下に形成されたバリア絶縁層パターンをさらに有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイ。
- 前記有機絶縁層パターンは、テーパー角度が60°以下の順テーパー形状を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイ。
- 前記有機絶縁層パターンは、表面が撥水化されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイ。
- 前記透明電極と前記発光層との間には前記インクジェット法で形成されたホール輸送層が形成されており、前記有機EL層は前記ホール輸送層と前記発光層とにより構成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイ。
- 前記有機絶縁層パターンは、ポリイミド樹脂、PMMA樹脂、及びアクリル樹脂のいずれかよりなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイ。
- 仮基板上に剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上にマスク層をパターニングする工程と、
前記剥離層及び前記マスク層上に有機絶縁層を形成する工程と、
前記有機絶縁層上に複数の透明電極を形成する工程と、
前記透明電極を被覆する保護層を形成する工程と、
前記保護層上に、接着層を介して、プラスチックフィルムを接着する工程と、
前記仮基板を前記剥離層との界面から剥離し、前記剥離層、前記マスク層、前記有機絶縁層、前記透明電極、及び前記保護層を前記プラスチックフィルム上に転写する工程と、
前記剥離層を除去すると共に、前記マスク層をマスクにして前記有機絶縁層をエッチングすることにより、前記複数の透明電極上に開口部がそれぞれ設けられた有機絶縁層パターンを前記透明電極の間の前記保護層上に形成する工程と、
前記マスク層を除去する工程と、
前記有機絶縁層パターンの複数の開口部内に露出する前記複数の透明電極の上に、インクジェット法により発光層を含む有機EL層をそれぞれ形成する工程と、
前記有機EL層上に金属電極を形成する工程と、
前記金属電極を被覆する封止層を形成する工程とを有することを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記発光層を含む有機EL層を形成する工程において、赤色画素部の前記透明電極上に赤色(R)発光層を形成し、緑色画素部の前記透明電極上に緑色(G)発光層を形成し、青色画素部の前記透明電極上に青色(B)発光層を形成することを特徴とする請求項9に記載の有機ELディスプレイの製造方法。
- 前記保護層を形成する工程の後に、
前記保護層上にカラーフィルタ層を形成する工程をさらに有し、
前記発光層として、白色発光層を形成することを特徴とする請求項9に記載の有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記透明電極を形成する工程の前に、前記有機絶縁層上にバリア絶縁層を形成する工程と、
前記有機絶縁層パターンを形成する工程の後、又は前記マスク金属層を除去する工程の後に、前記有機絶縁層パターンをマスクにして前記バリア絶縁層をエッチングする工程とをさらに有することを特徴とする請求項9乃至11のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記インクジェット法により有機EL層を形成する工程の直前に、前記有機絶縁層パターンの表面を、フッ素原子を含むガスのプラズマに曝して撥水化する工程をさらに有することを特徴とする請求項9乃至12のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイの製造方法。
- 前記有機EL層を形成する工程は、
前記透明電極上にホール輸送層を形成する工程と、
前記ホール輸送層上に前記発光層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項9乃至13のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイの製造方法。 - 前記有機絶縁層パターンは、ポリイミド樹脂、PMMA樹脂、及びアクリル樹脂のいずれかよりなることを特徴とする請求項9乃至13のいずれか一項に記載の有機ELディスプレイの製造方法。
- 前記有機絶縁層パターンを形成する工程において、酸素ガスのプラズマ、又はフッ素原子を含むガスと酸素ガスとの混合ガスのプラズマにより、前記有機絶縁層をエッチングし、それによって、前記有機絶縁層パターンは、テーパー角度が60°以下の順テーパー形状となって形成されることを請求項15に記載の有機ELディスプレイの製造方法。
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