JP2006073570A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
半導体装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006073570A JP2006073570A JP2004251637A JP2004251637A JP2006073570A JP 2006073570 A JP2006073570 A JP 2006073570A JP 2004251637 A JP2004251637 A JP 2004251637A JP 2004251637 A JP2004251637 A JP 2004251637A JP 2006073570 A JP2006073570 A JP 2006073570A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- semiconductor device
- section
- sealing body
- tab
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48095—Kinked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【課題】 ワイヤとリードとの接続信頼性が高いノンリード型半導体装置の提供。
【解決手段】 封止体の内部に位置する半導体チップと、封止体の下面に下面を露出させるリードと、封止体内において半導体チップの電極とリードを接続するワイヤとを有するノンリード型半導体装置である。リードは四角形状断面の狭小部と、前記狭小部よりは幅が広いワイヤが接続される先端の幅広部と、狭小部と幅広部を連結するテーパ部とからなる。幅広部は上面の両側が上面と所定の角度をなす加工面を有する逆台形状断面となり、逆台形状断面の下面と側面のなす角度が110°である。狭小部の両側面には狭小部の上面の部分的な潰しプレス加工によって側方に変形して張り出した突部を有する。リードの先端にはプレス成形によって形成されたリードよりも薄い張出部が設けられている。狭小部と幅広部の境界部分は所定長さに亘って薄くなっている。
【選択図】 図1
【解決手段】 封止体の内部に位置する半導体チップと、封止体の下面に下面を露出させるリードと、封止体内において半導体チップの電極とリードを接続するワイヤとを有するノンリード型半導体装置である。リードは四角形状断面の狭小部と、前記狭小部よりは幅が広いワイヤが接続される先端の幅広部と、狭小部と幅広部を連結するテーパ部とからなる。幅広部は上面の両側が上面と所定の角度をなす加工面を有する逆台形状断面となり、逆台形状断面の下面と側面のなす角度が110°である。狭小部の両側面には狭小部の上面の部分的な潰しプレス加工によって側方に変形して張り出した突部を有する。リードの先端にはプレス成形によって形成されたリードよりも薄い張出部が設けられている。狭小部と幅広部の境界部分は所定長さに亘って薄くなっている。
【選択図】 図1
Description
本発明はプレス成形またはエッチングによって形成されたリードフレームを用いた樹脂封止型の半導体装置及びその半導体装置を組み込んだ電子装置の製造技術に関し、特に、SON(Small Outline Non-Leaded Package),QFN(Quad Flat Non-Leaded Package)のように、パッケージの側方に意図的に外部電極端子を突出させることなく実装面側に露出させる半導体装置(ノンリード型半導体装置)の製造に適用して有効な技術に関する。
樹脂封止型半導体装置は、その製造においてリードフレームが使用される。リードフレームは、金属板を精密プレスによる打ち抜きやエッチングによって所望パターンに形成することによって製造される。リードフレームは半導体素子(半導体チップ)を固定するためのタブ,ダイパッド等と呼称される支持部や、前記支持部の周囲に先端(内端)を臨ませる複数のリードを有する。前記タブはリードフレームの枠部から延在するタブ吊りリードによって支持されている。
このようなリードフレームを使用して樹脂封止型半導体装置を製造する場合、前記リードフレームのタブに半導体チップを固定するとともに、前記半導体チップの電極と前記リードの先端を導電性のワイヤで接続し、その後ワイヤや半導体チップを含むリード内端側を絶縁性の樹脂(レジン)で封止して封止体(パッケージ)を形成し、ついで不要なリードフレーム部分を切断除去するとともにパッケージから突出するリードやタブ吊りリードを切断する。
このようなリードフレームを使用して樹脂封止型半導体装置を製造する場合、前記リードフレームのタブに半導体チップを固定するとともに、前記半導体チップの電極と前記リードの先端を導電性のワイヤで接続し、その後ワイヤや半導体チップを含むリード内端側を絶縁性の樹脂(レジン)で封止して封止体(パッケージ)を形成し、ついで不要なリードフレーム部分を切断除去するとともにパッケージから突出するリードやタブ吊りリードを切断する。
一方、リードフレームを用いて製造する樹脂封止型半導体装置の一つとして、リードフレームの一面側に片面モールドを行ってパッケージを形成し、パッケージの一面に外部電極端子であるリードを露出させ、パッケージの周面から意図的にリードを突出させない半導体装置構造(ノンリード型半導体装置)が知られている。この半導体装置は、パッケージの一面の両側縁にリードを露出させるSONや、四角形状のパッケージの一面の4辺側にリードを露出させるQFNが知られている。
ノンリード型半導体装置はパッケージ(封止体)の下面(実装面)にリードの下面を露出させて外部電極端子とする簡易なパッケージ構造となっている。更に説明すると、その断面形状が四角形のリードは、実装面と反対側の上面と、側面で封止体と接触する。ここで、リードが長方形または正方形のように直角を有する形状の場合、側面は封止体の実装面から垂直に配置されるため、リードには封止体で挟み込む力しか加わらないことから、リードがパッケージから脱落するおそれが高い。そこで、リードがパッケージから抜け難くするため、パッケージ内に入るリード、即ちインナーリードの断面を逆台形断面としている。この逆台形断面はエッチングまたはプレス加工によって形成される(例えば、特許文献1)。
ノンリード型半導体装置はパッケージ(封止体)の下面(実装面)にリードの下面を露出させて外部電極端子とする簡易なパッケージ構造となっている。更に説明すると、その断面形状が四角形のリードは、実装面と反対側の上面と、側面で封止体と接触する。ここで、リードが長方形または正方形のように直角を有する形状の場合、側面は封止体の実装面から垂直に配置されるため、リードには封止体で挟み込む力しか加わらないことから、リードがパッケージから脱落するおそれが高い。そこで、リードがパッケージから抜け難くするため、パッケージ内に入るリード、即ちインナーリードの断面を逆台形断面としている。この逆台形断面はエッチングまたはプレス加工によって形成される(例えば、特許文献1)。
ノンリード型半導体装置の製造に用いる金属製のリードフレームは、薄い金属板をプレスによって選択的に打ち抜き、あるいはエッチングによって選択的に除去してパターン化し、所望のリードパターンを形成している。ノンリード型の半導体装置では、封止体の下面にリードの下面が露出し、封止体の側面にリードの外端面が露出する構造となり、残りの面は封止体で覆われる構造になっている。このため、リードが封止体から脱落しないように、リードを逆台形状断面とし、封止体から抜け難いようにしている。
逆台形状断面をエッチングで形成した場合、リードの側面はエッチング面となり、側面がエッチングによって凹凸となる点、また側面が鏡面ではなく粗面となることから、封止体を形成する樹脂との接着性がプレス成形で形成したリードに比較して良好である。
しかし、エッチングで製造したリードフレーム(以下、エッチングリードフレームと呼称)は、プレス成形で形成したリードフレーム(以下、プレスリードフレームと呼称)に比較して製造コストが高くなる。
本出願人においては、プレス成形でリードを逆台形状断面とするプレスリードフレームを使用して製造したノンリード型半導体装置の製造技術を既に提案(WO02−061835号)している。この提案によるノンリード型半導体装置では、逆台形状断面となるリード部分上面の両側をそれぞれ潰しプレス加工して上面と所定の角度をなす加工面を形成し、封止体の下面から露出するリード幅を狭くし、これによって封止体を形成する樹脂によるリードの保持力を増大させている。逆台形状断面では上面の両側は三角形断面状に突出するが、この加工面の形成で先端の鋭利な部分は押し潰される結果、リード幅が狭くなり、その分リード間の樹脂が存在する幅(長さ)が長くなり、樹脂によるリードの保持力が増大することになる。この加工面を有する逆台形状断面のリードの使用によって、リードは0.36mmまたは0.35mm程度と加工しない場合よりも細くすることができる。
半導体装置は小型化の要請からよりリードピッチは狭小化が望まれている。リードピッチの狭小化によって、隣接するリード間が狭くなり、リード間に存在する樹脂の量が少なくなり(樹脂幅が短くなり)、樹脂によるリードの保持力が低下し、リードが封止体から抜け易くなる。リード幅が0.35mm程度の場合、樹脂によるリードの保持力を考えた場合、リードピッチを0.4mmとすることは難しい。
本出願人が既に提案したプレスリードフレームを用いて製造した前記ノンリード型半導体装置は、半導体装置自体の信頼性、半導体装置を実装基板に実装した状態で行う基板実装温度サイクル試験における信頼性の点においては、プレス加工しないリードフレームを用いて製造したノンリード型半導体装置に比べて高い信頼性を確保している。
一方、半導体装置は一層厳しい環境で使用されることから、電子装置に組み込んだ状態での信頼性向上も要請される。例えば、携帯電話機では、半導体装置等の電子部品を実装基板に実装した後、この実装基板を落下させて信頼性の良否を検査する落下試験、実装基板に実装された半導体装置に、例えば基板を意図的に曲げて、反らせるような外力(ストレス)を一定時間加え、その後半導体装置の信頼性の良否を検査する機械強度試験等が行われている。
そこで、本出願人においては、半導体装置の実装強度及び実装信頼性を高めるべく、またリード幅をさらに細くするべく実験、分析を繰り返した。実験、分析において、機械強度試験では外観上は何ら不良と認められない状態であっても、封止体内でワイヤの断線不良を起こすものがあった。これら断線不良を起こした製品を調べてみると、ワイヤとリードとの接続部分に問題があり、リードがワイヤから離れる方向にリード及びワイヤに応力が作用し、この応力に抗しきれずに相対的にワイヤがリードから離れてワイヤの断線が発生したものであることが判明した。
本発明の目的は、ワイヤとリードとの接続信頼性が高いノンリード型半導体装置及びその製造方法並びにその半導体装置を組み込んだ電子装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、リードピッチの狭小化を図ることができるノンリード型半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、半導体装置の信頼性を向上できる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであろう。
本発明の他の目的は、リードピッチの狭小化を図ることができるノンリード型半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、半導体装置の信頼性を向上できる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)絶縁性樹脂からなる封止体と、前記封止体に封止されるタブと、前記封止体の実装面に露出するとともに前記タブに連なるタブ吊りリードと、前記封止体の実装面に一面を露出する複数のリードと、前記封止体内に位置し、前記タブの一面に接着剤を介して固定される半導体素子と、前記半導体素子の表面に形成された電極と前記リードとを電気的に接続する導電性のワイヤとを有し、
前記リードの少なくとも一部は、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面となり、かつ前記上面の両側縁には、一端が前記上面に連なり、他端が前記側面に連なり、前記上面及び前記側面とは延在方向が異なる加工面が設けられている半導体装置であって、
前記ワイヤを接続する部分が前記加工面を有する前記逆台形状断面となり、前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分は四角形状断面となり、かつ前記四角形状断面の両側面には前記リードの上面の部分的な潰しプレス加工によって側方に変形して張り出した突部を有することを特徴とする。
前記リードの少なくとも一部は、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面となり、かつ前記上面の両側縁には、一端が前記上面に連なり、他端が前記側面に連なり、前記上面及び前記側面とは延在方向が異なる加工面が設けられている半導体装置であって、
前記ワイヤを接続する部分が前記加工面を有する前記逆台形状断面となり、前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分は四角形状断面となり、かつ前記四角形状断面の両側面には前記リードの上面の部分的な潰しプレス加工によって側方に変形して張り出した突部を有することを特徴とする。
また、前記逆台形状断面の下面と側面とのなす角度は110°である。また、前記逆台形状断面であるリード部分の幅に較べて前記四角形状断面であるリード部分の幅が狭くなり、前記逆台形状断面であるリード部分と前記四角形状断面であるリード部分の境界部分は所定長さに亘って他のリード部分に比較して薄いリード部分になっている。また、前記封止体に覆われる前記リードの先端には、潰しプレス加工によって形成され、かつ前記リードよりも薄い張出部が設けられている。また、前記リードの下面には溝や窪みが設けられている。なお、前記リードの両側面の突部は、例えば、前記リードの上面中央にリードの延在方向に沿う溝(V溝)を潰しプレス加工によって形成した際、リード上面表層部分が側方に変形して張り出した結果形成されたものである。
このような半導体装置は以下の方法で製造される。
このような半導体装置は以下の方法で製造される。
(a)複数のリードと、半導体素子固定面を有するタブと、前記タブに連なる複数のタブ吊りリードと、前記リード及び前記タブ吊りリードを連結する枠部とを有する金属からなるリードフレームを製造する工程と、
(b)前記半導体素子固定面上に接着剤を介して半導体素子を搭載する工程と、
(c)前記半導体素子の電極と前記リードをワイヤを介して電気的に接続する工程と、 (d)前記半導体素子、前記ワイヤ、前記リード及び前記タブ吊りリードを絶縁性樹脂で封止し、かつ前記タブ吊りリード、前記リードの裏面が前記絶縁性樹脂から露出するように前記絶縁性樹脂による封止体を形成する工程と、
(e)前記枠部からリード及びタブ吊りリードを分離する工程とを有し、
前記リードフレームは、その製造において、金属板を複数回繰り返す打ち抜きプレス加工でパターンを形成した後、潰しプレス加工によって所定部の潰し加工を行って形成し、前記潰し加工では、プレス加工による下金型と上金型によって、リードフレームのリードの少なくとも一部分を、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面に形成し、かつ前記上面の両側縁を、一端が前記上面に連なり他端が前記側面に連なり前記上面及び前記側面とは延在方向が異なる加工面に形成する半導体装置の製造方法であって、
前記リードフレームの製造において、前記タブに先端を臨ませる前記リードの先端の前記ワイヤを接続する部分を前記加工面を有する前記逆台形状断面に形成し、前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分を四角形状断面に形成し、前記四角形状断面であるリード部分の上面を部分的に潰しプレス加工して前記リードの両側面に張り出した突部を形成することを特徴とする。
(b)前記半導体素子固定面上に接着剤を介して半導体素子を搭載する工程と、
(c)前記半導体素子の電極と前記リードをワイヤを介して電気的に接続する工程と、 (d)前記半導体素子、前記ワイヤ、前記リード及び前記タブ吊りリードを絶縁性樹脂で封止し、かつ前記タブ吊りリード、前記リードの裏面が前記絶縁性樹脂から露出するように前記絶縁性樹脂による封止体を形成する工程と、
(e)前記枠部からリード及びタブ吊りリードを分離する工程とを有し、
前記リードフレームは、その製造において、金属板を複数回繰り返す打ち抜きプレス加工でパターンを形成した後、潰しプレス加工によって所定部の潰し加工を行って形成し、前記潰し加工では、プレス加工による下金型と上金型によって、リードフレームのリードの少なくとも一部分を、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面に形成し、かつ前記上面の両側縁を、一端が前記上面に連なり他端が前記側面に連なり前記上面及び前記側面とは延在方向が異なる加工面に形成する半導体装置の製造方法であって、
前記リードフレームの製造において、前記タブに先端を臨ませる前記リードの先端の前記ワイヤを接続する部分を前記加工面を有する前記逆台形状断面に形成し、前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分を四角形状断面に形成し、前記四角形状断面であるリード部分の上面を部分的に潰しプレス加工して前記リードの両側面に張り出した突部を形成することを特徴とする。
また、前記逆台形状断面の下面と側面とのなす角度を110°に形成する。また、前記逆台形状断面であるリード部分の幅に較べて前記四角形状断面であるリード部分の幅を狭く形成し、前記逆台形状断面であるリード部分と前記四角形状断面であるリード部分の境界部分に所定長さに亘って他の部分に比較して薄いリード部分を形成する。また、前記リードの先端を潰しプレス加工してリードよりも薄い張出部を形成する。また、前記リードの下面に溝や窪みを形成する。なお、前記リードの両側面の突部は、例えば、前記リードの上面中央にリードの延在方向に沿う溝(V溝)を潰しプレス加工によって形成する際形成するものである。即ち、V溝形成によってリード上面表層部分が側方に張り出すように変形することによって突部が形成される。
このようにして製造されたノンリード型の半導体装置は、封止体の下面に露出するリードを導電性接着剤によって実装基板の上面のランドに接続することによって所望の電子装置に組み込まれる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
前記(1)の手段によれば、(a)封止体内に入るリードの少なくとも一部は、加工面を有する逆台形状断面となることから加工面の存在によって隣接するリードとリードとの間隔が広くなり、封止樹脂によるリードを保持する強度(端子強度)が大きくなる。また、逆台形状断面に連なる四角形状断面のリード部分には四角形状断面の両側面に張り出した突部を有することから、この突部は封止体を形成する樹脂内に食い込みリードの抜けを防止することなり、樹脂によるリードの保持力の増大が図れ、半導体装置の実装強度向上及び実装の信頼性を高めることができる。従って、本発明による半導体装置を組み込んだ電子装置の信頼性が高くなる。
前記(1)の手段によれば、(a)封止体内に入るリードの少なくとも一部は、加工面を有する逆台形状断面となることから加工面の存在によって隣接するリードとリードとの間隔が広くなり、封止樹脂によるリードを保持する強度(端子強度)が大きくなる。また、逆台形状断面に連なる四角形状断面のリード部分には四角形状断面の両側面に張り出した突部を有することから、この突部は封止体を形成する樹脂内に食い込みリードの抜けを防止することなり、樹脂によるリードの保持力の増大が図れ、半導体装置の実装強度向上及び実装の信頼性を高めることができる。従って、本発明による半導体装置を組み込んだ電子装置の信頼性が高くなる。
(b)加工面を有する逆台形状断面の下面と側面のなす角度は110になることから、なす角度を120°の場合に比較してリード幅を狭くすることができ、隣接するリードとリードとの間の樹脂量の増大、換言するならば介在樹脂幅を広くできることから、樹脂によるリードの保持力を増大させることができる。
(c)封止体に覆われるリードの先端の薄い張出部は、上下面及び両側面並びに先端面が封止体を形成する樹脂内に食い込むように位置することから、リードが封止体から脱落し難くなり、樹脂によるリードの保持力が増大する。
(d)リードの下面には溝や窪みが設けられていることから、半導体装置を実装基板に実装した際、実装基板のランドと半導体装置のリードを接着する接合材が前記溝や窪み内に入り、接着面積の増大により、半導体装置の実装強度が増大する。
(e)加工面を有する逆台形状断面であるリード部分の幅に較べて四角形状断面であるリード部分の幅が狭くなっていることから、隣接するリードにおいて四角形状断面であるリード部分間の間隔が広くなる。従って、四角形状断面であるリード間での樹脂の強度が増大し、結果的に樹脂によるリードの保持力が増大する。
(f)リードの先端である加工面を有する逆台形状断面のリード部分と四角形状断面であるリード部分の境界部分は所定長さに亘って他の部分に比較して薄い薄肉リード部分になっていることから、リード先端部分に応力が作用した場合、薄肉リード部分は応力を緩和する緩衝部材(バッファ部材)として働いて撓む。例えば、逆台形状断面であるリード部分にはワイヤが接続される。従って、ワイヤがリードから離れる方向に応力が作用した場合、その応力を緩和するように前記薄肉リード部分が撓み、ワイヤのリードからの断線が抑止できることになる。この結果、リードに対するワイヤの接続信頼性を高めることができ、半導体装置の実装強度の向上を達成することができる。
(g)リードを加工面を有する逆台形状断面となるリード部分と、この逆台形状断面にテーパ部を介して連なる四角形状断面となるリード部分でリードを構成することによって樹脂によるリードの保持力の増大が達成できる。また、逆台形状断面の下面と側面のなす角度を110°と急峻な面とすることにより、リード幅を狭くすることができ、樹脂によるリードの保持力の増大が達成できる。また、四角形状断面のリード部分の側面には樹脂に食い込む突部を設け、リード先端には樹脂に食い込む張出部を設けることによって樹脂によるリードの保持力の増大が達成できる。また、突部を形成するために形成されたV溝に樹脂が入り込むことから樹脂とリードの接着性が向上する。また、薄肉リード部分を形成する潰しプレス加工によって形成された溝も樹脂との接着面積の増大を図ることができる。これらにより、半導体装置の実装強度の向上を達成することができる。
(h)上記(g)に記載のとおり樹脂によるリードの保持力の増大が図れること、リードの最も幅広い部分(逆台形状断面のリード部分)の側面の急峻化によるリード幅の狭小化によって、リードピッチのさらなる狭小化が可能となる半導体装置を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。なお、発明の実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図1乃至図25は本発明の実施例1である半導体装置、特にノンリード型半導体装置及びその製造方法に係わる図である。本実施例1では四角形の封止体(パッケージ)の裏面の実装面側にリード及びタブ吊りリードが露出するQFN型の半導体装置に本発明を適用した例について説明する。
図1乃至図3は半導体装置の外観及び内部構造を示す図である。図4乃至図11はリードの外観及び各部の断面構造を示す図である。図12は半導体装置の実装状態即ち電子装置の一部を示す図である。また、図13乃至図25は半導体装置の製造方法に係わる図である。
QFN型の半導体装置1は、図1乃至図3に示すように、偏平の四角形体(矩形体)からなる絶縁性樹脂で形成される封止体(パッケージ)2を有している。パッケージ2の内部には半導体素子(半導体チップ:チップ)3が埋め込まれている。この半導体チップ3は四角形のタブ(支持体)4のタブ表面(主面)に接着剤5によって固定されている(図3参照)。
図3に示すように、パッケージ2の裏面(下面12)は実装側の面となる。パッケージ2の実装面側には、図2にも示すように、前記タブ4に連なるタブ吊りリード6及びリード7の一面(実装面14)が露出する構造となっている。
図3に示すように、パッケージ2の裏面(下面12)は実装側の面となる。パッケージ2の実装面側には、図2にも示すように、前記タブ4に連なるタブ吊りリード6及びリード7の一面(実装面14)が露出する構造となっている。
図2に示すように、タブ4の4隅は放射状に延在するタブ吊りリード6に連なり、リードフレームの状態ではタブ吊りリード6はタブ4を支持する部材となっている。これらタブ4及びタブ吊りリード6並びにリード7は、同じ金属材料、即ち、一枚の金属板をパターニングして形成したリードフレームから形成される(図14、図15参照)。例えば、リードフレームは銅板から形成される。なお、42アロイ等他の金属板でもよい。
本実施例1では、タブ吊りリード6は押し出し成形によって途中で一段階、実装面とは反対方向に押し出す(屈曲:屈曲部6a)ように成形されている。この押し出し方向はタブ4の半導体素子を固定する半導体素子固定面側に押し出されている。従って、タブ4の下面はパッケージ2の実装面には露出しない構造になっている。
また、タブ4の周辺には、内端(先端)をタブ4の周縁に近接させるリード7が四角形のパッケージ2の各辺に沿って所定間隔で複数配置されている。タブ吊りリード6及びリード7の外端はパッケージ2の周縁にまで延在している。
本実施例1では、タブ吊りリード6は押し出し成形によって途中で一段階、実装面とは反対方向に押し出す(屈曲:屈曲部6a)ように成形されている。この押し出し方向はタブ4の半導体素子を固定する半導体素子固定面側に押し出されている。従って、タブ4の下面はパッケージ2の実装面には露出しない構造になっている。
また、タブ4の周辺には、内端(先端)をタブ4の周縁に近接させるリード7が四角形のパッケージ2の各辺に沿って所定間隔で複数配置されている。タブ吊りリード6及びリード7の外端はパッケージ2の周縁にまで延在している。
パッケージ2は偏平な四角形体となっているとともに、角部(隅部)は面取り加工が施されて斜面10となっている。一箇所の斜面10はパッケージ2の形成時レジン(樹脂)を注入するゲートに連なっていた箇所であり、また、他の3箇所の斜面10はパッケージ2の形成時空気が逃げるエアーベント箇所に連なっていた箇所である。
また、パッケージ2の側面は成形金型からパッケージ2が抜け易くるすように傾斜面11となっている。従って、図3に示すように、パッケージ2の下面12の大きさに比較して上面13は小さくなっている。タブ吊りリード6の外端はパッケージ2の斜面10で露出している(図1参照)。
また、パッケージ2の側面は成形金型からパッケージ2が抜け易くるすように傾斜面11となっている。従って、図3に示すように、パッケージ2の下面12の大きさに比較して上面13は小さくなっている。タブ吊りリード6の外端はパッケージ2の斜面10で露出している(図1参照)。
図1及び図3に示すように、リード7及びタブ吊りリード6のパッケージ2に覆われる面では、パッケージ2の立ち上がり縁2aから外側にわずかにリード7及びタブ吊りリード6が突出する。これは、リード7及びタブ吊りリード6を切断する際、パッケージ2から外れたリード7とタブ吊りリード6の部分で切断する結果であり、例えば、リード7及びタブ吊りリード6のパッケージ2の側面からの突出長さは0.1mm以下の長さになっている。
また、図1及び図3に示すように、各リード7とリード7との間及びリード7とタブ吊りリード6との間にはレジンバリ9が存在するが、このレジンバリ9もダイとパンチによって切断されるため、パッケージ2の周縁では、レジンバリ9の縁とリード7及びタブ吊りリード6の外端が凹凸することなく直線的に揃えられている。レジンバリ9は立ち上がり縁2aの外側のレジン部分であり、リード4の厚さと同じかまたは少し薄い厚さとなっている。
また、図1及び図3に示すように、各リード7とリード7との間及びリード7とタブ吊りリード6との間にはレジンバリ9が存在するが、このレジンバリ9もダイとパンチによって切断されるため、パッケージ2の周縁では、レジンバリ9の縁とリード7及びタブ吊りリード6の外端が凹凸することなく直線的に揃えられている。レジンバリ9は立ち上がり縁2aの外側のレジン部分であり、リード4の厚さと同じかまたは少し薄い厚さとなっている。
本実施例1ではレジンバリ9はリード7の厚さよりも薄い構造になっている。これは、トランスファモールディングにおける片面モールドにおいて、成形金型の上下型間に樹脂製のシートを張り、このシートにリードフレームの一面が接触するようにしてモールディングを行うことからリードがシートに食い込むようになるため、リード間のレジンバリ9は薄くなり、パッケージの裏面とリードやタブとの間でわずかな段差が発生する(図3参照)。シートを使用しない場合はレジンバリ9の厚さとリード7の厚さは同じ、またはクリアランスの程度によっては厚くなる。
また、トランスファモールディングによる片面モールド後、リード7及びタブ吊りリード6の表面にめっき膜15(図3及び図9参照)を形成するため、このめっき膜15の存在によってさらにパッケージ2の下面12とリード7及びタブ4との段差は大きくなる。図9において点々を施した部分がめっき膜15が形成された領域である。
また、トランスファモールディングによる片面モールド後、リード7及びタブ吊りリード6の表面にめっき膜15(図3及び図9参照)を形成するため、このめっき膜15の存在によってさらにパッケージ2の下面12とリード7及びタブ4との段差は大きくなる。図9において点々を施した部分がめっき膜15が形成された領域である。
このようにリード7やタブ吊りリード6の下面である実装面14がオフセットされた構造では、実装基板等の配線基板に半導体装置1を表面実装する場合、半田の濡れ領域が特定されるため半田実装が良好となる特長がある。
一方、図3に示すように、パッケージ2内のタブ4の表面(上面)には接着剤5を介して半導体チップ3が固定されている。接着剤5は、例えば、Agペーストが使用されている。
タブ4は、図2及び図3に示すように、四角形状となるとともに、パッケージ2を形成する樹脂16内に完全に覆われている。タブ4の下面には溝17が設けられている。この溝17はプレス加工によって形成されている。そして、例えば、溝17は、図2に示すように、タブ4の下面において、四角形の各辺に沿うようにそれぞれ設けられている。
タブ4は、図2及び図3に示すように、四角形状となるとともに、パッケージ2を形成する樹脂16内に完全に覆われている。タブ4の下面には溝17が設けられている。この溝17はプレス加工によって形成されている。そして、例えば、溝17は、図2に示すように、タブ4の下面において、四角形の各辺に沿うようにそれぞれ設けられている。
前記溝17内には樹脂(封止樹脂)16が充填されている。この溝17の存在によって、タブ4とパッケージ2を構成するビフエニール系樹脂(樹脂16)との接着面積(密着面積)が増大する。また、タブ4の溝17にレジンが食い込む構造となることもあってタブ4がレジンから剥離し難くなり、界面に水分が溜まり難くなる。この結果、QFNの実装時の熱によってタブ4と封止樹脂16との間での水分の熱膨張に起因する爆発損傷も起き難くなる。
半導体素子3の上面には、図1に示すように、四角形の各辺に沿って電極19が設けられている。この電極19と、タブ4の周縁に先端を近接させるリード7は、導電性のワイヤ20によって接続されている。
半導体素子3の上面には、図1に示すように、四角形の各辺に沿って電極19が設けられている。この電極19と、タブ4の周縁に先端を近接させるリード7は、導電性のワイヤ20によって接続されている。
本実施例1の半導体装置1は、リード7の構造と、リード7と封止体2を形成する樹脂との接触状態(噛み合い状態)を本発明の特徴とする。図4乃至図11はパッケージ2から取り外した状態のリード7の各部を示す拡大図である。これらの図面と、図13乃至図25の半導体装置の製造方法を参照しながら封止体2を形成する樹脂16に対するリード7の噛み合いについて説明する。
本実施例1の半導体装置1は、図13のフローチャートに示すように、リードフレーム形成(S01)、チップボンディング(S02)、ワイヤボンディング(S03)、封止(モールド:S04)、デフラッシュ(S05)、めっき(S06)、マーキング(S07)、切断(S08)の各工程(ステップ)を経て製造される。
最初にリードフレームが製造される。図14はQFN型の半導体装置1を製造する際使用するマトリクス構成のリードフレーム45の上面を示す模式的平面図であり、図15は下面を示す底面図である。ここで上面、下面とは製品(半導体装置1)となった状態での位置関係を示すものであり、例えば、上面は第1の面であり、下面は第2の面である。従って、図14は第1の面を示す平面図であり、図15は第2の面を示す平面図である。
最初にリードフレームが製造される。図14はQFN型の半導体装置1を製造する際使用するマトリクス構成のリードフレーム45の上面を示す模式的平面図であり、図15は下面を示す底面図である。ここで上面、下面とは製品(半導体装置1)となった状態での位置関係を示すものであり、例えば、上面は第1の面であり、下面は第2の面である。従って、図14は第1の面を示す平面図であり、図15は第2の面を示す平面図である。
このリードフレーム45は、図14に示すように、単位リードパターン46が長手(長辺)方向に沿って20行、幅(短辺)方向に沿って4列配置され、1枚のリードフレーム45から80個の半導体装置1を製造することができる。リードフレーム45の両側には、リードフレーム45の搬送や位置決め等に使用するガイド孔47a〜47cが設けられている。
また、各列の左側には、トランスファモールディング時、ランナーが位置する。そこでランナー部分で硬化したレジンをエジェクターピンの突き出しによってリードフレーム45から引き剥がすため、エジェクターピンが貫通できるエジェクターピン孔48が設けられている。また、このランナーから分岐し、キャビティに流れるゲート部分で硬化したレジンをエジェクターピンの突き出しによってリードフレーム45から引き剥がすため、エジェクターピンが貫通できるエジェクターピン孔49が設けられている。
また、各列の左側には、トランスファモールディング時、ランナーが位置する。そこでランナー部分で硬化したレジンをエジェクターピンの突き出しによってリードフレーム45から引き剥がすため、エジェクターピンが貫通できるエジェクターピン孔48が設けられている。また、このランナーから分岐し、キャビティに流れるゲート部分で硬化したレジンをエジェクターピンの突き出しによってリードフレーム45から引き剥がすため、エジェクターピンが貫通できるエジェクターピン孔49が設けられている。
図16はリードフレーム45の第1の面(上面)におけるリードパターン46を示す図であり、図17はリードフレーム45の第2の面(下面)におけるリードパターン46を示す図である。図1及び図2に示す半導体装置1は本発明に係わる半導体装置を概念的に示す部分もあることから、リードの数は図14及び図15のものとは異なっている。
図16及び図17に示すように、単一の半導体装置1を製造するためのリードパターン46は、矩形枠状の枠部50を有している。この枠部50の4隅から枠の中央に向かってタブ吊りリード6が延在し、中央のタブ4を支持するパターンとなっている。タブ吊りリード6は、押し出し成形によって途中で一段階、実装面とは反対方向に押し出されている(屈曲部6a)。この結果、タブ吊りリード6で支持されるタブ4の半導体素子固定面側はリードフレーム45の上面方向に突出面となっている。タブ4の第2の面(下面)には前述した溝17が形成されている。
一方、枠部50の各辺の内側から内方に向かって複数のリード7が延在し、その内端は四角形のタブ4の外周縁に近接している。図16及び図17では、リード7の各加工部分の符号は省略してある。リード7の各加工部分は図4乃至図11にて説明する。
このようなリードフレーム45は、薄い金属板、例えば、リールに巻かれたフープ材(銅板)を解き出し、間欠的に順送プレス内を移動させ、順送プレスの各加工ステーションで加工を加えることによって製造される。順送プレスにおいてはリード素材部分を順次プレス成形してリードパターンを形成し、つぎに、ワイヤや半導体チップを接続(固定)する箇所にAgのスポットめっきを行い、ついでタブ吊りリード6の押し出し曲げ加工を行い、さらにフープ材を所定長さに切断を行って図14及び図15に示すリードフレーム45を製造する。
このようなリードフレーム45は、薄い金属板、例えば、リールに巻かれたフープ材(銅板)を解き出し、間欠的に順送プレス内を移動させ、順送プレスの各加工ステーションで加工を加えることによって製造される。順送プレスにおいてはリード素材部分を順次プレス成形してリードパターンを形成し、つぎに、ワイヤや半導体チップを接続(固定)する箇所にAgのスポットめっきを行い、ついでタブ吊りリード6の押し出し曲げ加工を行い、さらにフープ材を所定長さに切断を行って図14及び図15に示すリードフレーム45を製造する。
図18は順送プレスのプレス金型の一部を示す模式図である。順送プレスのプレス金型51は、下型51aと上型51bとで構成され、これら下型51aと上型51bとの間を、例えば、左から右にフープ材(素材)52が間欠的に移動させられる。フープ材52が停止する毎に下型51aと上型51bの型締めが行われ、かつそれぞれ所定のプレス加工が行われる。本実施例1では厚さ0.2mmの銅板がフープ材52として使用される。
つぎに、フープ材52の移動方向に沿って順次行われるプレス加工について説明する。図19はプレス成形の一つである打ち抜き加工の状態と、打ち抜き加工によって形成された枠部50から突出するリード7の形状を示す図である。即ち、複数箇所の加工ステーションで順次打ち抜き加工が行われてリード形成は勿論のことタブ及びタブ吊りリード等が形成される。この打ち抜き加工は、図19(a)に示すように、ダイ53a上に載ったフープ材52をストリッパ53bで押さえ、かつパンチ53cを降下させることによってフープ材52の所定部分が打ち抜かれる。この選択的な打ち抜きを繰り返すことによって単位リードフレームパターンが形成される。図19(b)はこのような打ち抜きによって形成されたリード7部分を示す平面図である。枠部50の内側の縁から片持梁状に突出するリード7は、その付け根部分が一定長さに亘って設けられる幅の狭い狭小部25と、先端(内端)の一定長さに亘って設けられる幅の広い幅広部26と、狭小部25と幅広部26を繋ぐ幅が徐々に変化するテーパ部27とからなっている。
本実施例1では、リード7とリード7との間の封止体2を形成する樹脂16によるリード7の保持力を増大させるため、狭小部25の幅dを0.20mmに形成し、幅広部26の幅rを0.26mmに形成する。狭小部25の長さは0.25mm程度、幅広部26の長さは0.27mm程度、テーパ部27の長さは0.08mm程度である。
図19(b)のような先端幅広のストレートなリード7のテーパ部27に対して、図20に示すように、潰しプレス加工が行われる。図20に示すように、上面が平坦面となるダイ60a上に載ったリード7を、下面に逆台形状状突条60bを有するパンチ60cを降下させてコイニングすることによってリード7の上面に溝21を形成する。この溝21はリード7を横切るようにテーパ部27に形成される(図4、図10参照)。溝21はリード7の幅広部26の上面(ワイヤ接続部分となる上面)に連なり溝21の一方の側面となる第1の面と、この第1の面に連なり溝底面となる第2の面と、第2の面及びリード7の狭小部25の上面に連なり溝21の他方の側面となる第3の面とからなっている。第2の面は平坦でリード7の下面に略平行な面となっている。この第2の面のリード部分は他のリード部分に比較して薄い薄肉リード部分となり、リードの先端側に応力が加わった際、その応力を緩和すべく撓むことができる薄い緩衝部となっている。リード7の厚さは0.2mmであることから、溝21の深さは例えば、0.1mmとなり、緩衝部材は0.1mmの厚さとなる。また、第1の面及び第2の面とのなす角度は90°以上になっている。これは、プレス加工時の加工性向上及び応力集中を回避するためである。溝21の深さは、前記深さに限定されるものではなく、50μm〜0.1mm程度が選ばれる。また、薄肉リード部分の長さは0.1mm〜0.25mm程度が選択される。V溝は応力集中によるリード7の破損を嫌うため、溝21は前述のような逆台形断面溝が採用される。
順送プレスでは断面がV溝となるV溝加工が行われる。このV溝加工は、前述のタブ4の下面の溝17の形成であり(図17参照)、図8及び図11に示すようにリード7の下面において幅広部26の途中部分からテーパ部27を越え狭小部25に亘る部分の溝70の形成である。また、図4及び図11に示すように、リード7のテーパ部27に設けた溝21から狭小部25の途中までの長手方向に対してもV溝加工が行われ溝(突部形成用溝)71が形成される。この伏突部形成用溝71はリード7の上面の中央に沿って形成され、前記溝70よりも深くかつ幅広に形成される。溝70の幅が0.05mmであるのに対して突部形成用溝71の幅は0.1mmである。また、溝70の深さが0.03mmであるのに対して突部形成用溝71の深さは0.08mmである。
リード7の下面の溝70の形成やタブ4の下面の溝17の形成は、図21(a),(b)に示す潰しプレス加工によって行われる。図21(a)は、タブやリードの下面にV溝を形成する金型であり、例えば、逆V字状断面の突条62bを有するダイ62a上にリード7を載せ、下面が平坦なパンチ62cを降下させてリード7の下面に溝70を形成する。突条62bを矩形枠状に不連続に配置するダイ62aを使用することによって、図17に示すような矩形枠状に不連続で繋がる溝17を形成することができる。溝70は溝幅が狭く、かつ溝は浅いことから、図7に示すように、四角形状断面となる狭小部25の幅dは変化せず、上面の幅fの寸法と同じ0.20mmを維持する。
図21(b)は、リード7の上面中央に深くかつ幅広の溝(突部形成用溝)71を形成する金型であり、上面が平坦なダイ63a上にリード7を載せ、下面にV字状断面の突条63bを有するパンチ63cを降下させてリード7の上面にV字状断面となる溝71を形成する。この溝71の形成時、狭小部25の上面の表層部分は押圧力によって両側に押し出されるように変形し上面側が最も突出した突部72が形成される。突部72は溝(突部形成用溝)71に沿って形成される。この突部72形成は、幅が0.20mmと細い狭小部25の上面に、V字状断面を有する突条63bで、溝幅が0.8mmで溝深さが0.15mmとなる大きい突部形成用溝71を形成することによってリード7上面表層部分の変形をもたらすことによって形成される。狭小部25の中央を突条63bで押圧することによって、狭小部25の両側に同程度の突出長さで突部72が突出する。
この突部72が形成されることから、図6に示すように、四角形状断面となる狭小部25の上面の幅eは0.20から0.24と幅が広くなる。突部形成用溝71の両側に均等に突部72が突出したとすると、突部72の突出長さは0.02mmとなる。この部分が封止体2を形成する樹脂16内に食い込み(噛み合い)、樹脂16によるリードの保持力が増大される。
順送プレスではリード7の先端部分を加工面を有する逆台形状断面に形成するプレス成形加工が行われる。加工面を有する逆台形状断面の形成は、図22(a)に示す逆台形状断面形成と、図22(b)に示す加工面形成とによって形成される。最初に、図22(a)に示すように、上面に逆台形状断面(V字状断面でもよい)の溝65bを有するダイ65aの前記溝65b内にリード7の先端部分である幅広部26を位置決めして挿入する。その後、下面が平坦面となるパンチ65cを降下させてリード7の潰しプレス加工を行う。この潰しプレス加工によって、図22(a)において一点鎖線で示す四角形断面のリード7は、パンチ65cで押し下げられる過程で溝65bに対応するように変形して傾斜した側面74を形成し、実線で示すように逆台形状断面となる。この際、リード7の上面の両側の加圧されない部分は膨らんだ曲面となる。側面74とリード7の下面とのなす角度は従来の120°に変えて110°程度と急峻な面となる。この結果、リード7の幅広部26の幅を狭くすることができる。側面74とリード7の下面とのなす角度は、100°〜120°程度としてもよい。しかし、なす角度を90°に近づけすぎると、リード7の下面の幅と上面の幅との差が小さくなり、リード7が樹脂16内に食い込む長さが小さくなり、封止体2からリード7が抜け易くなる。
つぎに、図22(b)に示すように、逆台形状断面となったリード7の幅広部26を平坦面となるダイ66a上に載置する。その後、下面に台形状断面の溝66bを有するパンチ66cを降下させて逆台形状断面となった幅広部26の上面両側の曲面部分を台形状断面の両側面で加圧して平坦化して加工面75を形成する。この加工面75とリード7の上面とのなす角度は、例えば120°である。逆台形状断面の上面両側の加工面75は逆台形状断面の中心線に対して対称になっている。しかし、本発明はこの対称構造に限定されるものではなく、一方の突出長さが他方の突出長さよりも長くてもよい。
2度に亘る潰しプレス加工によってリード7の幅広部26は、図5に示すように、加工面75を有する逆台形状断面に形成される。このリード部分は、下面幅cが0.18mm、上面幅bが0.26mm、側面74と加工面75とで形成される側先端間幅aが0.3mm、厚さが0.2mmとなる。従来のこの種のリードの幅が0.36mmあるいは0.35mmであることから、本実施例1による半導体装置1の場合はリード7の幅を0.06mm〜0.05狭くすることができる。隣接するリードの間隔が広くなり、封止体を形成する樹脂によるリードの保持力を増大させることができる。
順送プレスではリード7の先端部分にリードよりも薄い張出部を形成するプレス成形加工が行われる。図23(a)に示すように、上面が平坦面となるダイ67a上にリード7を載置し、このリード7を降下させたクランパー67bでダイ67aとの間に挟持させる。そして、図23(b)に示すように、下方からパンチ67cを上昇させてリード7の先端を途中高さまで突き上げて潰しプレス加工(コイニング)を行い、リード7の先端面の途中高さに板状の張出部76を形成する。この張出部76は上下面、左右側面及び先端面が封止体2を形成する樹脂16内に覆われる結果、リード7が封止体2の下面から抜け難くする。この張出部76の存在によって樹脂によるリードの保持力もさらに増大する。張出部76を形成するためのリード7の先端の潰し深さは50μm〜0.1mmであり、潰し長さは0.1mm〜0.2mmである。この潰しプレス加工によって潰し変形した部分がさらにリード先端側に突出することから、張出部76の突出長さは潰し長さよりは若干長くなる。
以上の一連のプレス成形加工によって、図16及び図17に示すようなリードパターン46が形成される。
つぎに、図示しないが、Agスポットめっきが行われ、めっき膜22が形成される。このスポットめっきは、半導体素子を固定するタブ4の半導体素子固定面及びワイヤを接続するリード7のワイヤボンディング領域に行われる(図3、図24参照)。
つぎに、図示しないが、Agスポットめっきが行われ、めっき膜22が形成される。このスポットめっきは、半導体素子を固定するタブ4の半導体素子固定面及びワイヤを接続するリード7のワイヤボンディング領域に行われる(図3、図24参照)。
つぎに、図示しないが、切断(曲げ加工含)が行われる。このステップでは、曲げ加工(押し出しプレス加工)によってタブ上げが行われる。この押し出しプレス加工では、組立時使用するリードフレームの上面(第1の面)が下面となった状態で、タブ4を含みタブ4に連なる部分を、パンチを下方に押し下げることによって成形する。その後、フープ材(素材)52を所定長さ毎に切断する。
以上の順送プレスによる一連のプレス成形加工によって、図14及び図15に示すようなリードフレーム45を製造する(リードフレーム形成:S01)。
このようなリードフレーム45を用いて半導体装置1を製造する場合、図24に示すように、Agペースト等の接着剤5を用いてタブ4の上面に半導体チップ3を固定する(チップボンディング:S02)。接着剤5は所定の温度で所定の時間ベーキングされて硬化処理される。
このようなリードフレーム45を用いて半導体装置1を製造する場合、図24に示すように、Agペースト等の接着剤5を用いてタブ4の上面に半導体チップ3を固定する(チップボンディング:S02)。接着剤5は所定の温度で所定の時間ベーキングされて硬化処理される。
つぎに、図24に示すように、半導体チップ3の上面に設けられた図24では示されていない電極19(図1参照)と、リード7の溝21よりも先端のリード7部分(幅広部26)の上面を導電性のワイヤ20で電気的に接続する(ワイヤボンディング:S03)。ワイヤ20はめっき膜22上に接続される。ワイヤ接続領域にはAgめっきからなるめっき膜22が設けられていることから、ワイヤの接続強度は高いものとなる。
つぎに、常用のトランスファモールディングによってリードフレーム45の所定領域に片面モールドが行われ、図25に示すように、絶縁性樹脂で構成される封止体(パッケージ)2が形成される(封止:S04)。タブ4、半導体チップ3及びワイヤ20は完全にパッケージ2に覆われる。リード7の下面はパッケージ2の下面12から露出する。図示はしないが、タブ吊りリード6の一部もその下面がパッケージ2の下面12から露出する。このトランスファモールディング時、リードフレームの下面側にシートを配置し、このリードフレームの上面側にパッケージ2を形成するように封止が行われる。この結果、リード7の下面である実装面14よりもパッケージ2の下面12が引っ込んだ構造になる。
つぎに、前記封止において、パッケージ2を構成する封止樹脂16の樹脂成分がリード7の露出面に付着していることもあることから、この樹脂成分を除去する(デフラッシュ:S05)。このデフラッシュは、例えば、高圧で水をパッケージ2の下面12から露出しているリード7の表面に吹きつけて除去する。
つぎに、リードフレームの状態でリード7の表面にめっき膜15を形成する(S06)。このめっき膜15は、例えばPbSn半田からなる(図9参照)。
つぎに、図示はしないが、パッケージ2の上面に所定のマークをマーキングする(S07)。
つぎに、リードフレームの状態でリード7の表面にめっき膜15を形成する(S06)。このめっき膜15は、例えばPbSn半田からなる(図9参照)。
つぎに、図示はしないが、パッケージ2の上面に所定のマークをマーキングする(S07)。
つぎに、パッケージ2の外周に沿ってリード7及びタブ吊りリード6並びにリード7間あるいはリード7とタブ吊りリード6との間に存在する封止樹脂16(レジンバリ9)を切断し、不要なリードフレーム部分を除去し、図1乃至図3に示されるような半導体装置1を製造する(S08)。この場合、リードフレーム45の下面側から上面側にパンチを動作させて切断を行う。従って、半導体装置1のパッケージ2の下面12に露出するリード7の外縁は下面では丸みを帯びるようになり、実装時切断縁による不都合は発生しなくなる。
このような半導体装置1を実装基板に搭載することによって、図12に示す電子装置を製造する。電子装置の製造においては、先ず半導体装置1の封止体2の実装面側に露出したリード7のそれぞれと対向する位置に電極(ランド)41を有する実装基板(配線基板)40を用意し、その後、前記実装基板40上のランド41と、前記複数のリード7とを対向させ、熱処理(リフロー)を施す。リード7の下面はめっき膜15で覆われているが、このめっき膜15はPbSn半田からなることから、リフローによって半田が溶融し、溶けた半田が接合材42を形成して前記リード7とランド41接続することになる。
本実施例1によれば以下の効果を有する。
本実施例1によれば以下の効果を有する。
(1)封止体2内に入るリード7の少なくとも一部は、加工面75を有する逆台形状断面となることから加工面75の存在によって隣接するリード7とリード7との間隔が広くなり、封止樹脂16によるリード7を保持する強度(端子強度)が大きくなる。また、逆台形状断面に連なる四角形状断面のリード部分には四角形状断面の両側面に張り出した突部72を有することから、この突部72は封止体2を形成する樹脂16内に食い込みリード7の抜けを防止することなり、樹脂16によるリード7の保持力の増大が図れ、半導体装置1の実装強度向上及び実装の信頼性を高めることができる。従って、本発明による半導体装置1を組み込んだ電子装置の信頼性が高くなる。この結果、携帯電話機に組み込む半導体装置を本実施例1の製造方法によって製造することにより、実装の信頼性が高い携帯電話機を製造することができる。
(2)加工面75を有する逆台形状断面の下面(実装面14)と側面74のなす角度は110°になることから、なす角度を120°の場合に比較してリード幅を狭くすることができ、隣接するリード7とリード7との間の樹脂量の増大、換言するならば介在樹脂幅を広くできることから、樹脂16によるリード7の保持力を増大させることができる。
(3)封止体2に覆われるリード7の先端の薄い張出部76は、上下面及び両側面並びに先端面が封止体を形成する樹脂16内に食い込むことから、リード7が封止体2から脱落し難くなり、樹脂16によるリード7の保持力が増大する。
(4)リード7の下面には溝70が設けられていることから、半導体装置1を実装基板40に実装した際、実装基板40のランド41と半導体装置1のリード7を接着する接合材42が溝70内に入り、接着面積の増大により、半導体装置1の実装強度が増大する。なお、溝70に変えてまたは追加して窪みを設けても前記同様な趣旨から半導体装置1の実装強度を増大させることができる。
(5)加工面75を有する逆台形状断面であるリード部分(幅広部26)の幅に較べて四角形状断面であるリード部分(狭小部25)の幅が狭くなっていることから、隣接するリード7において四角形状断面であるリード部分(狭小部25)間の間隔が広くなる。従って、狭小部25間での樹脂16の強度が増大し、樹脂16によるリード7の保持力が増大する。
(6)リード7の先端である加工面75を有する逆台形状断面のリード部分(幅広部26)と、四角形状断面であるリード部分(狭小部25)の境界部分(テーパ部27)は所定長さに亘ってリード7よりも薄い薄肉リード部分になっていることから、リード先端部分に応力が作用した場合、薄肉リード部分は応力を緩和する緩衝部材(バッファ部材)として働いて撓む。例えば、逆台形状断面であるリード部分(幅広部26)にはワイヤ20が接続される。従って、ワイヤ20がリード7から離れる方向に応力が作用した場合、その応力を緩和するように前記薄肉リード部分が撓み、ワイヤ20のリード7からの断線が抑止できることになる。この結果、リード7に対するワイヤ20の接続信頼性を高めることができ、半導体装置1の実装強度の向上を達成することができる。
(7)リード7を加工面75を有する逆台形状断面となるリード部分(幅広部26)と、この幅広部26にテーパ部27を介して連なる四角形状断面となるリード部分(狭小部25)でリード7を構成することによって樹脂16によるリード7の保持力の増大が達成できる。また、逆台形状断面の下面と側面74のなす角度を110°と急峻な面とすることにより、リード幅を狭くすることができ、樹脂16によるリード7の保持力の増大が達成できる。また、四角形状断面のリード部分の側面には樹脂に食い込む突部72を設け、リード先端には樹脂に食い込む張出部76を設けることによって樹脂16によるリード7の保持力の増大が達成できる。また、突部72を形成するために形成された突部形成用溝71に樹脂16が入り込むことから樹脂16とリード7の接着性が向上する。また、薄肉リード部分を形成する潰しプレス加工によって形成された溝21も樹脂16との接着面積の増大を図ることができる。これらにより、半導体装置1の実装強度の向上を達成することができる。
(8)上記(7)に記載のとおり樹脂16によるリード7の保持力の増大が図れること、リード7の最も幅広い部分(逆台形状断面のリード部分:幅広部26)の側面74の急峻化によるリード幅の狭小化によって、リードピッチのさらなる狭小化が可能となる半導体装置1を提供することができる。
例えば、リードフレーム45の製造時、一定の厚さ(0.2mm)の金属板を打ち抜いてリードパターン46を形成した段階では、リード部分は、幅の広い先端の幅広部26と、幅の狭い狭小部25と、狭小部25と幅広部26とを繋ぐ幅が徐々に変化するテーパ部27とからなっている。幅広部26は幅0.26mm、高さ0.2mmの四角形状断面となり、狭小部25は幅0.20mm、高さ0.2mmの四角形状断面となっている。幅広部26はプレスによって加工面75を有する逆台形状断面となり、逆台形状断面の下面の幅は0.18mm、上面の幅は0.26mm、加工面75と側面74とによって形成される張り出し部分間の幅は0.3mmとなる。また、狭小部25においては一部で上面側に突部72が形成されるが、実装面14となる狭小部25の下面の幅は0.20mmを維持する。
このようなリード断面構造とすることにより、リード7の実装幅を一部短い範囲で0.18mmとすることにはなるが、全体的には0.2mm幅を維持したリードピッチが0.4mmとなるノンリード型半導体装置1を製造することができる。この半導体装置1はリード7をピッチを0.4mmとしても、リード7の実装面の幅が0.2mmを維持することと、前述のように前記突部72を始めとする各個所の作用によって樹脂16によるリード7の保持力の増大を図ることできるため、十分なる実装強度を有するノンリード型の半導体装置1となる。
図26は本発明の実施例2であるノンリード型半導体装置の一部を切り欠いた正面図である。本実施例2ではタブ吊りリード6を屈曲させない平坦なリードフレームを使用して半導体装置1を製造する。この結果、タブ4の下面80はパッケージ2の下面である実装面12から露出する。この構造はパッケージ2の高さを低くできることと、半導体チップ3で発生した熱を速やかにタブ4を介して実装基板に逃がすことができる特長がある。
図27乃至図31は本発明の実施例3であるノンリード型半導体装置に係わる図である。図27は半導体装置のリードの上面を示す平面図、図28は半導体装置のリードの下面を示す底面図、図29は図27のA−A線に沿う拡大断面図、図30は図27のB−B線に沿う拡大断面図、図31は図27のC−C線に沿う拡大断面図である。
本実施例3の半導体装置1のリード7は、狭小部25に設ける突部81の形成構造が異なる点を除いては実施例1の半導体装置1のリード7と同様な構造になっている。実施例1の場合は、狭小部25の上面両側に突出させる突部72は、狭小部25の上面中央にプレス成形によってリード7の上面における長手方向に突部形成用溝71を形成したが、本実施例3の場合は、図27及び図30に示すように、狭小部25(リード7)の上面の側縁部分を潰しプレス加工によってそれぞれ潰して窪み82を形成することによって、狭小部25の上面側の側面に突部81を形成する。図示しないが、パンチで狭小部25の上面の両側の側縁を含む部分をプレス成形加工によって押し潰して窪み82を形成する。この窪み82の形成時、側面は自由な状態にあることから、押し出されて側方に張り出て突部81が形成されることになる。
本実施例3の半導体装置1のリード7は、狭小部25に設ける突部81の形成構造が異なる点を除いては実施例1の半導体装置1のリード7と同様な構造になっている。実施例1の場合は、狭小部25の上面両側に突出させる突部72は、狭小部25の上面中央にプレス成形によってリード7の上面における長手方向に突部形成用溝71を形成したが、本実施例3の場合は、図27及び図30に示すように、狭小部25(リード7)の上面の側縁部分を潰しプレス加工によってそれぞれ潰して窪み82を形成することによって、狭小部25の上面側の側面に突部81を形成する。図示しないが、パンチで狭小部25の上面の両側の側縁を含む部分をプレス成形加工によって押し潰して窪み82を形成する。この窪み82の形成時、側面は自由な状態にあることから、押し出されて側方に張り出て突部81が形成されることになる。
この突部81は封止体2を形成する樹脂16内に食い込む(噛み合う)ことから、リード7の封止体2からの脱落を抑止するようになる。従って、本実施例3の半導体装置1においても実装強度が高くかつ実装信頼性が高い半導体装置となる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
前記実施例では、QFN型の半導体装置の製造に本発明を適用した例について説明したが、例えば、SON型半導体装置の製造に対しても本発明を同様に適用でき、同様の効果を有することができる。
また、本発明は、プレスリードフレームにおける潰し加工だけでなく、エッチングによってリードパターンを形成したもの(エッチングリードフレーム)に対して、本発明の潰し成形加工を施すことも可能である。即ち、金属板をエッチングしてリードパターンを形成した後、各リード部分に対して本発明による潰し成形加工を行って、溝21の成形、突部形成用溝71の成形による突部72の形成、溝70の成形、張出部76の成形、側面74の成形、加工面75の成形のいずれかあるいは全てを行う。これにより、樹脂によるリードの保持力の増大、リードピッチの狭小化が可能になる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
前記実施例では、QFN型の半導体装置の製造に本発明を適用した例について説明したが、例えば、SON型半導体装置の製造に対しても本発明を同様に適用でき、同様の効果を有することができる。
また、本発明は、プレスリードフレームにおける潰し加工だけでなく、エッチングによってリードパターンを形成したもの(エッチングリードフレーム)に対して、本発明の潰し成形加工を施すことも可能である。即ち、金属板をエッチングしてリードパターンを形成した後、各リード部分に対して本発明による潰し成形加工を行って、溝21の成形、突部形成用溝71の成形による突部72の形成、溝70の成形、張出部76の成形、側面74の成形、加工面75の成形のいずれかあるいは全てを行う。これにより、樹脂によるリードの保持力の増大、リードピッチの狭小化が可能になる。
1…半導体装置、2…封止体(パッケージ)、2a…立ち上がり縁、3…半導体チップ、4…タブ、5…接着剤、6…タブ吊りリード、6a…屈曲部、7…リード、9…レジンバリ、10…斜面、11…傾斜面、12…下面、13…上面、14…実装面、15…めっき膜、16…樹脂、17…溝、19…電極、20…ワイヤ、21…溝、22…めっき膜、25…狭小部、26…幅広部、27…テーパ部、40…実装基板(配線基板)、41…電極(ランド)、42…接合材、45…リードフレーム、46…リードパターン、47a〜47c…ガイド孔、48,49…エジェクターピン孔、50…枠部、51…プレス金型、51a…下型、51b…上型、52…フープ材(素材)、53a…ダイ、53b…ストリッパ、53c…パンチ、60a…ダイ、60b…逆台形状状突条、60c…パンチ、62a…ダイ、62b…突条、62c…パンチ、63a…ダイ、63b…突条、63c…パンチ、65a…ダイ、65b…溝、65c…パンチ、66a…ダイ、66b…台形状断面の溝、66c…パンチ、67a…ダイ、67b…クランパー、67c…パンチ、70…溝、71…溝(突部形成用溝)、72…突部、74…側面、75…加工面、76…張出部、80…下面、81…突部、82…窪み。
Claims (24)
- 絶縁性樹脂からなる封止体と、
前記封止体に封止されるタブと、
前記封止体の実装面に露出するとともに前記タブに連なるタブ吊りリードと、
前記封止体の実装面に一面を露出する複数のリードと、
前記封止体内に位置し、前記タブの一面に接着剤を介して固定される半導体素子と、
前記半導体素子の表面に形成された電極と前記リードとを電気的に接続する導電性のワイヤとを有し、
前記リードの少なくとも一部は、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面となり、
かつ前記上面の両側縁には、一端が前記上面に連なり、他端が前記側面に連なり、前記上面及び前記側面とは延在方向が異なる加工面が設けられている半導体装置であって、
前記ワイヤを接続する部分が前記加工面を有する前記逆台形状断面となり、
前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分は四角形状断面となり、
かつ前記四角形状断面の両側面には前記リードの上面の部分的な潰しプレス加工によって側方に変形して張り出した突部を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記リードの両側面の突部は、前記リードの前記上面における長手方向に潰しプレス加工によって溝を形成した際側方に変形して張り出して形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記リードの両側面の突部は、前記リードの前記上面の側縁を含む部分に潰しプレス加工によって窪みを形成した際側方に変形して張り出して形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記逆台形状断面であるリード部分の幅に較べて前記四角形状断面であるリード部分の幅が狭くなり、
前記逆台形状断面であるリード部分と前記四角形状断面であるリード部分の境界部分は、所定長さに亘って他のリード部分に比較して薄い薄肉リード部分になっていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記境界部分では、前記ワイヤを接続する部分のリード上面に連なる第1の面、前記第1の面に連なる第2の面、前記第2の面に連なりかつ前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分のリード上面に連なる第3の面によって前記リードを横切るような溝が設けられ、前記第2の面が存在するリード部分が前記薄肉リード部分を形成していることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 前記逆台形状断面の下面と側面のなす角度は100°〜120°であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記封止体に覆われる前記リードの先端には、潰しプレス加工によって形成され、かつ前記リードよりも薄い張出部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記リードの下面の幅寸法は隣接する前記リード間の樹脂幅寸法以下になっていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記リードの下面には溝や窪みが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 絶縁性樹脂からなる封止体と、
前記封止体に封止されるタブと、
前記封止体の実装面に露出するとともに前記タブに連なるタブ吊りリードと、
前記封止体の実装面に一面を露出する複数のリードと、
前記封止体内に位置し、前記タブの一面に接着剤を介して固定される半導体素子と、
前記半導体素子の表面に形成された電極と前記リードとを電気的に接続する導電性のワイヤとを有し、
前記リードの少なくとも一部は、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面となる半導体装置であって、
前記リードの前記ワイヤを接続する部分と前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分の境界部分は、所定長さに亘って他のリード部分に比較して薄い薄肉リード部分になっていることを特徴とする半導体装置。 - 前記境界部分では、前記ワイヤを接続する部分のリード上面に連なる第1の面、前記第1の面に連なる第2の面、前記第2の面に連なりかつ前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分のリード上面に連なる第3の面によって前記リードを横切るような溝が設けられ、前記第2の面が存在するリード部分が前記薄肉リード部分を形成し、
前記第2の面と前記第1の面のなす角は90°以上の角度であり、前記第2の面と前記第3の面のなす角は90°以上の角度であることを特徴とする請求項10に記載の半導体装置。 - (a)複数のリードと、半導体素子固定面を有するタブと、前記タブに連なる複数のタブ吊りリードと、前記リード及び前記タブ吊りリードを連結する枠部とを有する金属からなるリードフレームを製造する工程と、
(b)前記半導体素子固定面上に接着剤を介して半導体素子を搭載する工程と、
(c)前記半導体素子の電極と前記リードをワイヤを介して電気的に接続する工程と、
(d)前記半導体素子、前記ワイヤ、前記リード及び前記タブ吊りリードを絶縁性樹脂で封止し、かつ前記タブ吊りリード、前記リードの裏面が前記絶縁性樹脂から露出するように前記絶縁性樹脂による封止体を形成する工程と、
(e)前記枠部からリード及びタブ吊りリードを分離する工程とを有し、
前記リードフレームは、その製造において、金属板を複数回繰り返す打ち抜きプレス加工でパターンを形成した後、潰しプレス加工によって所定部の潰し加工を行って形成し、前記潰し加工では、プレス加工による下金型と上金型によって、リードフレームのリードの少なくとも一部分を、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面に形成し、かつ前記上面の両側縁を、一端が前記上面に連なり他端が前記側面に連なり前記上面及び前記側面とは延在方向が異なる加工面に形成する半導体装置の製造方法であって、
前記リードフレームの製造において、
前記タブに先端を臨ませる前記リードの先端の前記ワイヤを接続する部分は前記加工面を有する前記逆台形状断面に形成し、
前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分を四角形状断面に形成し、
前記四角形状断面であるリード部分の上面を部分的に潰しプレス加工して前記リードの両側面に張り出した突部を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記リードの上面を潰しプレス加工によって前記上面の長手方向に溝を形成することによって前記突部を形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記リードの上面の側縁を含む部分を潰しプレス加工によって前記リードの両側に窪みを形成することによって前記突部を形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記逆台形状断面であるリード部分の幅に較べて前記四角形状断面であるリード部分の幅を狭く形成し、
前記逆台形状断面であるリード部分と前記四角形状断面であるリード部分の境界部分に、所定長さに亘って他のリード部分に比較して薄い薄肉リード部分を形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記リードの前記境界部分に対して潰しプレス加工を行い、前記ワイヤを接続する部分のリード上面に連なる第1の面、前記第1の面に連なる第2の面、前記第2の面に連なりかつ前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分のリード上面に連なる第3の面による前記リードを横切る溝を設けて前記薄肉リード部分を形成することを特徴とする請求項15に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記逆台形状断面の下面と側面のなす角度を100°〜120°に形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記リードの先端を潰しプレス加工して前記リードよりも薄い張出部を形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記リードの下面の幅寸法を隣接する前記リード間の寸法以下に形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記リードの下面に溝や窪みを形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。
- (a)複数のリードと、半導体素子固定面を有するタブと、前記タブに連なる複数のタブ吊りリードと、前記リード及び前記タブ吊りリードを連結する枠部とを有する金属からなるリードフレームを製造する工程と、
(b)前記半導体素子固定面上に接着剤を介して半導体素子を搭載する工程と、
(c)前記半導体素子の電極と前記リードをワイヤを介して電気的に接続する工程と、
(d)前記半導体素子、前記ワイヤ、前記リード及び前記タブ吊りリードを絶縁性樹脂で封止し、かつ前記タブ吊りリード、前記リードの裏面が前記絶縁性樹脂から露出するように前記絶縁性樹脂による封止体を形成する工程と、
(e)前記枠部からリード及びタブ吊りリードを分離する工程とを有し、
前記リードフレームは、その製造において、金属板を複数回繰り返す打ち抜きプレス加工またはエッチングでリードパターンを形成し、リードフレームのリードの少なくとも一部分を、前記封止体に覆われる上面と、前記上面に対向し前記封止体から露出する下面と、前記上面と前記下面の両側縁をそれぞれ結ぶ側面とで構成される逆台形状断面に形成する半導体装置の製造方法であって、
前記リードフレームの製造において、
前記タブに先端を臨ませる前記リードの先端の前記ワイヤを接続する部分を前記逆台形状断面に形成し、
前記ワイヤを接続する部分と前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分の境界部分に、所定長さに亘って他のリード部分に比較して薄い薄肉リード部分を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記リードの前記境界部分に対して潰しプレス加工を行い、前記ワイヤを接続する部分のリード上面に連なる第1の面、前記第1の面に連なる第2の面、前記第2の面に連なりかつ前記ワイヤを接続する部分に連なるリード部分のリード上面に連なる第3の面による前記リードを横切る溝を設けて前記薄肉リード部分を形成し、
前記第2の面と前記第1の面のなす角が90°以上の角度であり、前記第2の面と前記第3の面のなす角が90°以上の角度であるように形成することを特徴とする請求項21に記載の半導体装置の製造方法。 - 上面にランドを有する実装基板と、封止体の下面にリードの下面を露出させるノンリード型の半導体装置とを有し、前記半導体装置の前記リードは導電性接着剤によって前記実装基板の前記ランド上に接続されてなる電子装置であって、
前記半導体装置は請求項1に記載の半導体装置であることを特徴とする電子装置。 - 上面にランドを有する実装基板と、封止体の下面にリードの下面を露出させるノンリード型の半導体装置とを有し、前記半導体装置の前記リードは導電性接着剤によって前記実装基板の前記ランド上に接続されてなる電子装置であって、
前記半導体装置は請求項10に記載の半導体装置であることを特徴とする電子装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004251637A JP2006073570A (ja) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | 半導体装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004251637A JP2006073570A (ja) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | 半導体装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006073570A true JP2006073570A (ja) | 2006-03-16 |
Family
ID=36153912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004251637A Pending JP2006073570A (ja) | 2004-08-31 | 2004-08-31 | 半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006073570A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008277405A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Rohm Co Ltd | 半導体モジュール |
JP2009253201A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | リード露出型パッケージ用リードフレーム、その成形加工方法、及び成形加工に用いるプレス金型 |
JP2011222598A (ja) * | 2010-04-05 | 2011-11-04 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | 磁性体基板の製造方法、磁性体基板、及び、電子回路モジュール |
JP2012039110A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-23 | Lextar Electronics Corp | 発光ダイオード、そのフレーム形成方法及び改良されたフレーム構造 |
JP2012222335A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Mitsui High Tec Inc | リードフレームの製造方法、リードフレーム及びこのリードフレームを使用した半導体装置 |
JP2013062596A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Murata Mfg Co Ltd | 電子素子、その製造方法、フェライト・磁石素子及びその製造方法 |
JP2017038051A (ja) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | 株式会社ジェイデバイス | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JP2017135241A (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
JP2017135286A (ja) * | 2016-01-28 | 2017-08-03 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2019047004A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | 大日本印刷株式会社 | リードフレーム、半導体装置、および半導体装置の製造方法 |
-
2004
- 2004-08-31 JP JP2004251637A patent/JP2006073570A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008277405A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Rohm Co Ltd | 半導体モジュール |
JP2009253201A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | リード露出型パッケージ用リードフレーム、その成形加工方法、及び成形加工に用いるプレス金型 |
JP2011222598A (ja) * | 2010-04-05 | 2011-11-04 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | 磁性体基板の製造方法、磁性体基板、及び、電子回路モジュール |
JP2012039110A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-23 | Lextar Electronics Corp | 発光ダイオード、そのフレーム形成方法及び改良されたフレーム構造 |
JP2012222335A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Mitsui High Tec Inc | リードフレームの製造方法、リードフレーム及びこのリードフレームを使用した半導体装置 |
JP2013062596A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Murata Mfg Co Ltd | 電子素子、その製造方法、フェライト・磁石素子及びその製造方法 |
JP2017038051A (ja) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | 株式会社ジェイデバイス | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JP7148220B2 (ja) | 2015-08-10 | 2022-10-05 | 株式会社アムコー・テクノロジー・ジャパン | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JP2017135241A (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
US10886203B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-01-05 | Rohm Co., Ltd. | Packaging structure with recessed outer and inner lead surfaces |
US11183444B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-11-23 | Rohm Co., Ltd. | Packaging of a semiconductor device with a plurality of leads |
US11658100B2 (en) | 2016-01-27 | 2023-05-23 | Rohm Co., Ltd. | Packaging of a semiconductor device with a plurality of leads |
JP2017135286A (ja) * | 2016-01-28 | 2017-08-03 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2019047004A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | 大日本印刷株式会社 | リードフレーム、半導体装置、および半導体装置の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4308528B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP3895570B2 (ja) | 半導体装置 | |
US7019388B2 (en) | Semiconductor device | |
JP5688576B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR100809818B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP2001077274A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP4522049B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3866127B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2006073570A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
KR20050004059A (ko) | 반도체 장치 및 리드 프레임 | |
JP2006253732A (ja) | 半導体装置 | |
JP4334364B2 (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP2011142337A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2008113021A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4243270B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2006147622A (ja) | リードフレームの製造方法、リードフレーム | |
JP2936769B2 (ja) | 半導体装置用リードフレーム | |
JP4455208B2 (ja) | リードフレーム及び半導体装置の製造方法 | |
JP3805767B2 (ja) | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 | |
JP2006140522A (ja) | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 | |
JP2006216979A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2000150761A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JPS6347272B2 (ja) | ||
JP2001077273A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP2001077272A (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070824 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091013 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100223 |