JP2006055856A - ペースト塗布装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 液晶基板の製造等において、接着剤であるペーストの塗布描画の効率化を図る。
【解決手段】 ノズル3と基板2との相対移動により、基板2面に複数個の塗布パターンを描くとき、前回の塗布時におけるノズル位置高さデータを一旦メモリに記憶し、次の塗布パターン開始時に、それのデータを読み出し、サーボモータを制御してノズル初期高さ位置設定を行う。基板2面上における凹凸やうねりの高さ変化が、隣接するパターン間では比較的小さいので、ノズル吐出口を基板に衝突させることなく、迅速に初期高さ位置に設定でき、作業の効率化を図ることができる。
【選択図】 図3

Description

本発明は、ノズルの吐出口に対向配置された基板面に、その吐出口から吐出させたペーストを塗布し、前記基板面に所望形状のパタ−ンを描画するペースト塗布装置の改良に関する。
液晶表示パネル等の製造では、液晶を挟む2枚のガラス基板の貼り合わせが行われるが、その貼り合わせのために一方のガラス基板の対向面に接着剤であるペーストの塗布が行われる。
図5は、基板面にペーストを塗布描画するペースト塗布装置の要部側面図であるが、基板テーブル1に吸着載置された基板2上に、ノズル3を下端部に有して中にペーストを収納したシリンジ(収納筒)4が配置され、ノズル3の吐出口が基板2面に向け対向するように配置されている。
シリンジ4は、ボールねじ5aに取り付けられていて、そのボールねじ5aはサーボモータ5に駆動され正/逆転するので、ノズル3はサーボモータ5の回転制御により矢印Zで示す上下(Z軸)方向に移動し、ノズル3の吐出口と基板2面との間の距離Aを調節できるように構成されている。
図6(a)及び(b)は、図5に示した要部の正面図であるが、図6に示すように、シリンジ4には距離計6が一体に取り付け固定されていて、基板2までの距離を計測するので、その距離計測データに基づき、ノズル3の吐出口と基板2表面までの距離Aを算出することができる。
距離計6は、図示のように、下端部に三角形の切込部を有し、その切込部の斜面には発光素子と複数の受光素子がそれぞれ設けられていて、図6(b)に示すように、片側の斜面に設けられた発光素子から放射されたレ−ザ光Lが基板2上面で反射し、他方の斜面に設けられた複数の受光素子のいずれかで受光して、基板2表面までの距離を非接触で計測する。
基板2上に位置したノズル3からペーストを吐出させ、図6に示すように、パターンの塗布開始位置L0から所望のペーストパターンを基板2に描画させるためには、距離計6による距離計測データを得つつ、図6(a)に示す距離Aの高さの位置から、サーボモータ5を回転させてノズル3を徐徐に降下させ、図6(b)に示すように、基板2表面とノズル3の吐出口との間に、均一な幅及び厚さのペーストパターンを塗布描画するに必要な間隔(ギャップ値)Bが得られるように調整制御される。
最近の液晶表示パネルでは、用途が拡大に対応して、大小いろいろな形状大きさのものが製造される。画面の小さな液晶表示パネルは、大きな基板に多数の小さな液晶パネルが形成配置されていて、ペースト塗布工程では、一つのノズル3が基板2との間で相対移動しつつ、各パターンを順次塗布描画することで製造の効率化が図られる。
基板2自体の表面は、微細に見ると小さな凹凸を有しており、また薄いガラス製のため、吸着保持された基板2の形状が大きくなるにつれて、表面にはうねりが生じてしまうのは避けられないが、表示パネルの一層の高精細化が図られている中では、特に高精度なペーストパターンの塗布描画が要求される。
従って、上記のように、基板2面の表面にはうねりや凹凸がある状況のもとでは、一つの基板2において、複数のパターンに順次ペーストを塗布描画するとき、ノズル3は、その各塗布パターンへの切り替え塗布毎に、一旦上昇させた後、横方向に移動させて次の塗布パターンの塗布開始位置上に位置決めが行なわれた後、上記のようにノズル3を下降させ、その塗布開始位置において高精度に間隔Bが得られるように操作される。
間隔Bを高精度で得るために、上記のように距離計6による距離測定データを得つつノズル3の微小量下降を繰り返す、いわゆる基板2表面のサーチ動作が行われるが、このサーチ動作の時間を短縮し、ペースト塗布作業の効率化を図るためにはサーチ動作の開始位置をできるだけ基板2面近くに設定することが望ましい。
しかしながら、基板2表面には上記のようにうねりや凹凸があり、基板2表面高さが一様ではないので、サーチ動作開始位置高さをたとえ定めたとしても、ノズル3を降下させたとき、ノズル3の吐出口が基板2表面に衝突する恐れがあった。
そこで、従来のペースト塗布装置では、基板テーブル1に載置された基板2表面の最大高さHを予め測定しておき、その最大高さHにペースト塗布の厚み等を考慮した高さ位置にサーチ動作開始位置を設定することが提案されている。
図7は従来のペースト塗布装置における、サーチ動作開始位置、すなわちノズル3吐出口の初期高さ位置Dの設定方法を説明したものである。
すなわち、図6(b)に示したように、塗布開始位置L0において、基板2の表面上で間隔Bを有する高さ位置にノズル3の吐出口を位置させるとき、図7R>7に示すように、基板テーブル1上に載置された基板2表面の最大高さHを予め距離計6で測定して求めておき、その最大高さHに、塗布ペーストの厚みに対応した間隔B、それに余裕距離εを加えた高さ位置Dを初期高さ位置D(=H+B+ε)として算出し、この初期高さ位置Dをサーチ動作開始位置としていた。
従って、従来のペースト塗布装置は、制御手段によるサーボモータ5の駆動制御により、ノズル3の吐出口を待機状態の距離Aの高さ位置から距離Cだけ降下させ、ノズル3の吐出口を初期高さ位置Dに位置させた後、距離計6の計測データを得つつ微小量下降を繰り返すサーチ動作を開始して、ノズル3の吐出口が塗布高さNに位置して所定の間隔(ギャップ値)Bが得られように構成されている。
従ってまた、従来のペースト塗布装置では、ノズル3と基板2との間の相対移動により、一つのノズル3が基板2上で順次複数回にわたりペースト塗布作業を行うときにも、測定により予め求めた基板2の最大高さHのデータをメモリに記憶させておき、各パターンでの塗布開始都度、その最大高さHのデータを読み出し、算出された初期高さ位置Dにノズル3を降下させた後、基板2表面のサーチ動作による微小距離降下の繰り返しを行いつつ、ノズル3吐出口と基板2面との間に間隔Bを高精度で得るように制御が行われていた。
上記のように、従来のペースト塗布装置では、うねり等や凹凸を有して表面高さが一定でない基板面に対し、塗布描画の開始に際してノズル吐出口が衝突することなく基板面上に高精度に位置決めするのに、予めその基板の最大高さHを測定により求めた上で、その最大高さHに、間隔B及び余裕距離εを加えたノズル初期高さ位置Dにノズル吐出口が位置させる操作が行なわれた。
従って、上記のように、従来のペースト塗布装置では、一つの基板上で順次複数回にわたりペースト塗布作業を行う場合も、制御手段は、パターンへの塗布描画開始都度、そのメモリに記憶させた最大高さHのデータを読み出し、初期高さ位置Dに初期設定するように制御が行われる。
このように、ノズルの初期設定に際し、従来は、その基板の最大高さHデータを必要としたので、基板2へのペースト塗布作業に先立ち、都度、基板テーブル1上の基板2の最大高さHの測定検出を行うという繁雑な作業が要求され、それが塗布作業の効率化を低下させたので改善が要望されていた。
そこで本発明は、最初のペースト塗布作業はもとより、2回目以降のペースト塗布作業等においても、繁雑な基板の最大高さ位置Hの測定検出作業を何等必要とすることなく、ノズルを初期高さ位置に容易かつ短時間に位置決めすることができ、ペースト塗布作業の効率向上をなし得るペースト塗布装置を提供することを目的とする。
本発明は、ノズルと基板面とが相対移動し、ノズルから吐出されたペーストが順次複数個のパタ−ンを基板面に塗布描画するように構成されたペースト塗布装置において、前記ノズルが塗布描画する2回目以降のパターンの塗布開始位置における前記ノズルの初期高さ位置を、前回塗布描画したパターンにおけるノズルの高さ位置に対応した位置に設定するように制御する制御手段を具備したことを特徴とする。
本発明のペースト塗布装置は、同一基板において、2回目以降の各塗布パターンは、いずれもその前回の塗布パターン位置に近接していて、その基板表面の高さに大きな変化がないことに着目してなされたもので、制御手段が2回目以降のペーストパターンの塗布開始位置毎に、前回塗布描画したノズル位置に対応した高さ位置に、ノズルの初期位置を設定するように制御する。
以上説明したように、本発明のペースト塗布装置によれば、ノズルの吐出口は基板面に衝突することなく、基板面上に所定のノズル初期高さ位置を迅速に位置決め設定でき、ペースト塗布作業の効率化を図ることができる。
以下、本発明によるペースト塗布装置の一実施の形態を図1ないし図4を参照して詳細に説明する。なお、図5ないし図7に示した従来のペースト塗布装置と同一構成には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
図1は本発明によるペースト塗布装置の一実施の形態を示した斜視図で、図2は、図6に対応して示した要部の拡大正面図である。
すなわち、図1に示すように、架台10上には、X−Y−θ移動テーブル11が搭載されていて、X−Y−θ移動テーブル11のY軸移動機構11aには吸着盤を備えた基板テーブル1が組み込まれている。搬送されてきた基板2はその基板テーブル1上に吸着保持され位置決め載置される。
また、X−Y−θ移動テーブル11のX軸移動機構11bと平行に、架台10上に支持枠12が立設されており、その支持枠12は、不図示のボールねじ機構により、Z軸移動機構13がX軸方向に沿い移動調節可能に構成されている。
Z軸移動機構13には、サーボモータ5が取付け固定され、図2に示したように、サーボモータ5に連結されたボールねじ5aにシリンジ4が組み込まれ、シリンジ4はZ軸方向に移動調節される。
また、シリンジ4には距離計6が一体に取り付け固定され、基板2面までの距離を測定し、以下説明するように、その測定データを制御手段である制御器14に供給される。従って、制御器14はそのデータに基づきサーボモータ5を制御するので、ノズル3と基板2との間の間隔Bが保持されつつペースト塗布が行われ、均一な幅及び厚さのペーストパターンが描画される。
すなわち、サーボモータ5、シリンジ4、及び距離計6はいずれも制御器14に接続され、制御器14はこれらサーボモータ5、シリンジ4、及び距離計6との間でデータの授受及び制御が可能となるように構成されるとともに、図示しないが、支持枠12のボールねじ機構を制御し、X軸上におけるZ軸移動機構13を位置決め可能に構成されている。
また、制御器14は、マイコンを内蔵していて、不図示の画像認識カメラからの基板2の撮像画像を導入しつつX−Y−θ移動テーブル11を制御する。そして距離計6の距離測定データを受けた制御器14は、ノズル3のZ軸方向の位置、及びシリンジ4内の圧力の調整制御を行いつつ、基板2上には均一な幅及び厚さのペーストパターンが描画されるようにフィードバック制御を行う。
制御器14には、図1に示すように、モニタディスプレイ15及びキ−ボ−ド16が接続されていて、作業員は、キーボート16を操作し、基板2上に形成される塗布パターンを設定できるように構成されている。
なお、ノズル3及びシリンジ4はボールねじ5aの回動によりZ軸方向に移動可能であるが、ボールねじ5a等における機械的ガタは避けられないので、従来と同様、距離計6による基板2面までの距離測定データに基づくZ軸方向への微小移動操作、すなわちいわゆるサーチ動作によってはじめて、ノズル3の高さを高精度に位置決め制御することができる。また、サーボモータ5自体は、制御器14による制御により、特定の回転角度に高精度に繰り返し設定できる。
上記説明のこの実施の形態のペースト塗布装置においても、ノズル3が同一基板2上で相対移動しつつ、プログラム制御により順次複数にわたり塗布操作を行うときに、各塗布操作の開始位置では、基板2表面でのうねりや凹凸を考慮したノズルの初期高さ位置Dへの位置決め設定が必要とされる。
図2(a)は、最初のあるいは前回のペーストパターンにおいて、ノズル3が基板2上にペーストPを塗布して、そのペーストの塗布終了位置L1に到達した状態を示している。この実施の形態では、ノズル3が図2(a)に塗布終了位置L1に位置したときのサーボモータ5の回転角度データが制御器14に伝送され、RAM等のメモリに記憶される。
次に、制御器14はサーボモータ5を駆動し、次のペーストパターンの塗布開始位置L2に位置合わせすべく、一旦Z軸方向にシリンジ4を上昇させた後、図2(b)に示すように、矢印Xで示す方向に移動させ、次のパターンの塗布開始位置L2上に位置合わせが行われる。
図2(b)に示した状態で、制御器14はサーボモータ5を制御し、ノズル3をZ方向に降下させ、ノズル3の吐出口と基板2表面との間に間隔Bが得られるように操作を行うが、制御器14は、メモリに記憶された前回の塗布終了位置L1に位置したときのサーボモータ5の回転位置データをメモリから読み出し、サーボモータ5に対しその回転位置データに基づく制御を行い、ノズル3を降下させる。
すなわち、図3に拡大して示したように、前回の塗布終了位置L1におけるノズル3の吐出口の高さ位置N1に対応したサーボモータ5の回転角度データが制御器14に供給され、RAM等のメモリに記憶されている。
その塗布終了位置L1で制御器14はサーボモータ5を駆動し、ノズル3の吐出口を高さHの待機位置Aにまで上昇させ、その待機位置Aの位置で、制御器14はX−Y−θ移動テーブル11を制御し、ノズル3の位置を次のパターンの塗布開始位置L2に移動させ位置決めを行う。
次に、制御器14は、メモリに記憶させた高さN1に対応するサーボモータ14の回転角度データを読みだし、サーボモータ14を駆動制御するので、ノズル3の吐出口は、次のパターンの塗布の開始位置L2において、高さ位置N1に対応したサーチ動作開始位置、すなわち初期高さ位置Dに迅速に位置決め設定される。
このとき、初期高さ位置Dは、基板2表面のうねり等で間隔Bとは、Δd分だけ高さが異なるが、その後の距離計6による基板2表面までの距離測定操作を行いつつのサーチ動作により、Δdの距離の補正が行われ、所定のノズルの高さ位置N2からなる間隔Bのノズル位置に調整設定される。
このように、本実施の形態によれば、2回目以降の塗布開始に際し、ノズル3のサーチ動作開始に際しての初期高さ位置Dの設定に際し、何等基板2表面の最大高さ位置データを使用しないので、塗布作業を迅速に行うことができる。
なお、上記説明で、次のパターンの塗布開始位置L2において、初期高さ位置Dをメモリに記憶させた高さN1と一致すように説明したが、初期高さ位置Dはメモリに記憶させた高さN1に対応した値であれば良いので、高さN1に特定の余裕値を加えた距離の値を初期高さ位置Dとしても良い。
このようにして、次のパターンの塗布開始位置L2において、ノズル3は間隔Bのノズル位置に位置付けられ、その後も距離計6による基板2表面までの距離測定データに基づくフィードバック制御(通常「ギャップ制御」という)により、基板2表面高さの変化に対応し、常にノズル3吐出口と基板2表面との間にほぼ一定の間隔Bを保持しつつ、ペースト塗布が行われる。
上記説明は、最初のあるいは前回のペーストパターンから、次のペーストパターンに向けて、ノズル3が移動する状況を説明したが、基板2上において、最初の塗布から制御器14により制御されるノズル3の位置操作の手順を、図4に示したフローチャートを参照して以下詳細に説明する。
すなわち、まず、ノズル3は制御器14による制御により、基板2上における塗布パターンの塗布開始位置上に位置決めされ、例えば距離計6が作動可能なサーチ動作開始位置より高い待機位置Aに位置決めされる(ステップ401)。
ステップ401の後、制御器14はサーボモータ5を駆動制御し、距離計6が作動可能なサーチ動作開始位置に向けノズル3を下降させる(ステップ402)。
ステップ402の後、ステップ403において、ノズル3がサーチ動作開始位置に到達するまで下降させ、サーチ動作開始位置に到達したことを検知したとき(YES)、一旦停止させ(ステップ404)、次に距離計6を作動させ、基板2表面までの距離測定データに基づく、基板2面に向けたサーチ動作を開始させる(ステップ405)。
サーチ動作による降下開始後の降下移動(ステップ406)を経て、制御器14が距離計6からの距離測定データによりノズル3の吐出口と基板2表面までの距離が、予め設定された塗布所定高さのギャップ値(間隔)Bに到達したか否かを逐次監視し(ステップ407)、到達したとき(YES)、制御器14はシリンジ4及びX−Y−θ移動テーブル11を制御し、プログラム制御により所定塗布パターンに従い、一定のペースト幅及び厚さのペーストパターンが描画されるように制御して塗布開始される(ステップ408)。
制御器14は、ノズル3が塗布終了位置L1に到達するまで塗布操作を継続し(ステップ409)、塗布終了位置L1を検出したとき(YES)、続く塗布パターンが存在するか否かを判断し(ステップ410)、次の塗布パターンが存在したとき(YES)、塗布終了位置L1におけるサーボモータ5のZ軸上の位置(Zc)データを取り込みRAM等のメモリに記憶する(ステップ411)。
なお、ステップ410において、次の塗布パターンが存在しないときには、制御器14はペーストの吐出しを停止させた状態で、サーボモータ5を制御し、ノズル3を待機状態まで上昇させてペースト塗布作業は終了する。
ステップ411において、塗布終了位置L1におけるサーボモータ5のZ軸位置Zcをメモリに記憶した後、距離計6による距離サーチを停止させるとともに、ノズル3を待機位置Aまで上昇移動させ(ステップ412)、ノズル3位置が次の塗布パターンの塗布開始位置L2上に位置するように、X−Y−θ移動テーブル11を制御し位置決めを行う(ステップ413)。
ステップ413の後、制御器14はメモリに記憶した前回の塗布パターンの塗布終了位置L1におけるノズル3高さ位置(Zc)を読み出し、ノズル3がその高さ位置(Zc)に下降到達するようサーボモータ5を制御する(ステップ414)。
ノズル4が高さ位置Zcに到達したとき、制御器14はサーボモータ5を制御し、距離計6からの距離測定データに基づき、ノズル3の吐出口の高さが所定の高さギャップ値(間隔)Bが得られるように微小距離下降を繰り返し調整する(ステップ415)。
このように、2回目以降の新たなペーストの塗布開始位置L2におけるノズル3を、基板2との間にギャップ値(間隔)Bを得るのに、制御器14は前回塗布描画した塗布パターンのノズル3位置(Zc)に対応した高さ位置Dに設定するので、基板2表面のサーチ動作をほとんど行なうことなく速やかに所定の塗布開始位置の高さ位置N近傍に、しかも何等基板2面に衝突させてしまうような恐れもなく、円滑に位置決めすることができる。
このように、制御器14は、塗布開始位置において、高さ位置Dの位置決めに際し、従来のように、基板2表面のサーチ動作をほとんど必要とすることなく、しかも基板2表面の最大高さH等のデータを用いることがないので、ペースト塗布作業の効率化を図ることができる。
なお、上記第1の実施の形態では、2回目以降の各ノズル3高さ設定において、前回のペーストの塗布終了位置におけるサーボモータ5回転位置データをメモリに記憶させ、読み出し採用するように説明したが、形成されたペースト塗布パターンの配置によっては、前回の塗布パターンの例えば塗布開始位置におけるサーボモータ5の回転位置データをメモリに記憶して、読み出し利用するようにしても良い。
また、上記実施の形態では、図2に示したように、次の塗布パターンの開始位置に位置決めを行うのに、制御器14はサーボモータ5を制御し、ノズル3を一旦待機位置Aまで上昇させるように説明したが、必ずしも待機位置Aまで上昇させる必要はなく、待機位置Aよりも低い位置であっても構わない。例えばノズル3の上昇位置を、今回の塗布パターンにおける塗布終了時点におけるノズルの高さ位置に予め設定した距離だけ上昇させた位置としても良い。こうすることで、ノズル3を待機位置Aまで上昇させる場合に比べて、ノズル3の昇降に要する時間を短縮することができるので、塗布作業効率をさらに向上させることができる。また、塗布終了時点でのノズル3吐出口は、すでに塗布所定高さ(間隔B)だけ基板2面から隔てているので、移動時の上下動が少なければ、その高さ位置を維持させたまま次の塗布開始位置に水平移動させても良い。
いずれにしても、本発明のペースト塗布装置によれば、2回目以降の塗布開始における、ノズル3吐出口の位置決めに設定操作の効率化が可能となり、ペースト塗布作業の効率向上を実現することができる。
本発明によるペースト塗布装置の一実施の形態を示す斜視図である。 図1における装置の要部の拡大正面図である。 図1に示す装置の基板面に対するノズル位置を位置決めする状態を説明した説明図である。 図1における装置のノズルの移動操作手順を示したフローチャートである。 従来のペースト塗布装置の要部側面図である。 図5に示した装置の要部正面図である。 図5に示した装置の基板面に対するノズル位置を位置決めする状態を説明した説明図である。
符号の説明
1 基板テーブル
2 基板
3 ノズル
4 シリンジ
5 サーボモータ
6 距離計
11 X−Y−θ移動テーブル
13 Z軸移動機構
14 制御器(制御手段)

Claims (3)

  1. ノズルと基板面とが相対移動し、ノズルから吐出されたペーストが順次複数個のパタ−ンを基板面に塗布描画するように構成されたペースト塗布装置において、
    前記ノズルが塗布描画する2回目以降のパターンの塗布開始位置における前記ノズルの初期高さ位置を、前回塗布描画したパターンにおけるノズルの高さ位置に対応した位置に設定するように制御する制御手段を具備したことを特徴とするペースト塗布装置。
  2. 前記制御手段は、前記2回目以降のパターンの塗布開始位置における前記ノズルの初期高さ位置が、前回塗布描画したパターンの塗布開始位置または塗布終了位置におけるノズルの高さ位置となように設定したことを特徴とする請求項1記載のペースト塗布装置。
  3. 今回塗布描画時の塗布終了位置から次の塗布開始位置へ移動する際の前記ノズルの上昇位置を、今回塗布描画したパターンの塗布開始位置における前記ノズルを前記基板面に対して塗布所定高さのギャップ値に位置付けるためのサーチ動作開始位置よりも低い位置に定めたことを特徴とする請求項1または2記載のペースト塗布装置。
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