JP2006024939A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板Wを保持するように構成された基板テーブルWTと、パターン付与された放射線ビームを前記基板に投影するように配設された投影系PLと、投影系と基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給系IN、OUTと、露光完了後に、基板および/または基板テーブルに残った液体を検出するように構成された残留液体検出器とを有する。残留液体検出器によって液体が検出された場合に、出口OUTから残留液体を排出する。基板、基板テーブル、または、それら両者を乾燥するように構成された乾燥ステーションを更に有する。
【選択図】図2
Description
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン付与された放射線ビームを前記基板に投影するように配設された投影系と、
投影系と基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給系と、
露光完了後に、基板および/または基板テーブルに残った液体を検出するように構成された残留液体検出器とを有するリソグラフィ投影装置。
投影段階と、
リソグラフィ装置の投影系を用いる段階と、
パターン付与された放射線ビームを、液体を通して、基板テーブルによって保持された基板に投影する段階と、
投影完了後に、基板および/または基板テーブルの表面の残留液体を検出する段階とを含むデバイス製造方法。
放射線ビームPB(例えば、UVまたはDUV放射線)を調整するように構成された照明システム(照明装置)ILと、
パターン付与デバイス(例えば、マスク)MAを支持し、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターン付与デバイスの位置決めを行うように構成された第一位置決め装置PMに連結を行った支持構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジスト塗布したシリコンウェハ)Wを保持し、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行う第二位置決め装置PWに連結を行った基板テーブル(例えば、ウェハテーブル)WTと、
パターン付与デバイスMAによって放射線ビームPBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に投影するように構成された投影系(例えば、屈折性投影レンズ)PLを有する。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が1回の作動(すなわち1回の静止露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影系PLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の幅(非走査方向における幅)を制限し、走査動作の距離長が目標部分の高さ(走査方向における)を決める。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラム可能なパターン付与デバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線源を使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラム可能なパターン付与デバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラム可能なミラーアレイなどのプログラム可能なパターン付与デバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (22)
- 基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン付与された放射線ビームを前記基板に投影するように配設された投影系と、
前記投影系と前記基板との間の空間に液体を供給するように構成された液体供給系と、
露光完了後に、前記基板および/または前記基板テーブルに残った液体を検出するように構成された残留液体検出器とを有するリソグラフィ投影装置。 - 液体が前記残留液体検出器によって検出された場合に、前記基板、前記基板テーブル、または、それら両者を乾燥するように構成された乾燥ステーションを更に有する請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記残留液体検出器が、前記投影系の光軸に事実上平行方向での表面位置、前記投影系の光軸に対して事実上直角である複数の軸線の周囲での表面の傾斜、または、それら両者を測定するように構成されたレベルセンサを有する請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記基板の表面、前記基板テーブルの表面、または、それら両者の表面上の液体の検出が、標準動作範囲外での測定値を得るレベルセンサによって行われる請求項3に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記残留液体検出器が、前記投影系の光軸に対して事実上直角方向で、マーカーの位置を測定するように構成されたアラインメントセンサを含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記基板の表面、前記基板テーブルの表面、または、それら両方の表面上の液体の検出が、標準動作範囲外での測定値を得るアラインメントセンサによって行われる請求項5に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記残留液体検出器が、空気ゲージ、容量センサ、自動焦点スポット投影装置、スキャッタロメータ、カメラ、赤外線センサ、および、グレージング角レーザビームを含む群から選択された1つまたは複数のデバイスと、散乱光を検出するための検出器とを含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記基板テーブルを一定の鉛直方向位置に維持するためにアクチュエータによって加えられる力を監視するように構成された監視回路を、前記残留液体検出器が含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記残留液体検出器が計量センサ装置を含み、該各計量センサが基板持上げデバイスを具備し、前記計量センサ装置は、前記基板が前記基板持上げデバイスによって前記基板テーブルから持上げられている時に、前記基板が平衡を失っているか否かを決定するように配設される請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記投影系が露光ステーションに配設され、前記残留液体検出器が測定ステーションに配設され、前記測定ステーションが前記露光ステーションから物理的に離れている請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記残留液体検出器が、残留液体検出時に、乾燥作業の実行を指示する警報またはエラー信号を発生させるように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 投影段階と、
リソグラフィ装置の投影系を用いる段階と、
パターン付与された放射線ビームを、液体を通して、基板テーブルによって保持された基板に投影する段階と、
投影完了後に、前記基板および/または前記基板テーブルの表面の残留液体を検出する段階とを含むデバイス製造方法。 - 残留液体が検出された時に、前記基板、前記基板テーブル、または、それら両者を乾燥する段階を更に含む請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 残留液体を検出する段階が、前記投影系の光軸に事実上平行方向での表面位置、前記投影系の光軸に対して事実上直角である複数の軸線の周囲での表面の傾斜、または、それら両者を測定する段階を含む請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 前記基板の表面、前記基板テーブルの表面、または、それら両者の表面上の液体を検出する段階が、標準動作範囲外の測定値が得られる、位置、傾斜、または、それら両者の測定を行なうことによって行われる請求項14に記載されたデバイス製造方法。
- 前記残留液体を検出する段階が、前記投影系の光軸に対して事実上直角方向でマーカーの位置を測定する段階を含む、請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 記基板の表面、前記基板テーブルの表面、または、それら両者の表面上の液体を検出する段階が、標準動作範囲外にある測定値を得る位置測定を行なうことによって実行される請求項16に記載されたデバイス製造方法。
- 前記残留液体を検出する段階が、空気ゲージ、容量センサ、自動焦点スポット投影装置、スキャッタロメータ、カメラ、赤外線センサ、および、グレージング角レーザビームを含む群から選択された1つまたは複数のデバイスと、散乱光を検出するための検出器とによって実行される請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 前記残留液体を検出する段階が、前記基板テーブルを一定の鉛直方向位置に維持するためにアクチュエータによって加えられる力を監視する段階を含む請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 前記残留液体を検出する段階が、
基板持上げデバイスを用いて前記基板テーブルから前記基板を持上げる段階と、
前記基板が前記基板持上げデバイスによって前記基板テーブルから持上げられている時に、各々が基板持上げデバイスを具備する複数の計量センサ装置を用いて、前記基板が平衡を失っているか否かを決定する段階とを含む請求項12に記載されたデバイス製造方法。 - 前記パターン付与された放射線ビームを投影する段階が、露光ステーションで実行され、前記残留液体を検出する段階が、前記露光ステーションから物理的に離れている測定ステーションで実行される請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 前記残留液体を検出する段階が、パターン付与されたビームの投影と平行して実行される請求項12に記載されたデバイス製造方法。
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