JP2006013208A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 露光装置の動作中に原版をレチクルステージに鉛直下向きに装着した状態で、原版をレチクルチャックスライダーに対して静電吸着させていた静電チャック電極への給電が切られると、原版を保持する吸着力が無くなり、レチクルチャックスライダーから剥離落下してしまうことがある。
【解決手段】 本発明は、装置電源が切られて静電チャックの吸引力が無くなって原版が落下した際に、落下剥離方向の近傍で原版を受け止めるストッパーを設けること特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明は、装置電源が切られて静電チャックの吸引力が無くなって原版が落下した際に、落下剥離方向の近傍で原版を受け止めるストッパーを設けること特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体製造工程において用いられる露光装置で、原版(レチクル)パターンをシリコンウエハ上に投影して転写する投影露光装置に関するものであり、その中でも、特にEUV光(Extreme Ultraviolet極紫外光)である13〜14nm程度の波長の露光光を光源として使用するEUV露光装置に関するものである。
従来技術を図15〜18に示す。
励起レーザー101は、光源の発光点となる光源材料をガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、YAG固体レーザー等を用いる。源発光部102は、内部は真空に維持された構造を持ち、102Aで示す光源Aは実際の露光光源の発光ポイントを示す。102Aaで示す光源ミラーAaは、102Aで示す光源Aからの全球面光を発光方向に揃え集光反射する為に、102Aで示す光源A中心に半球面状のミラーとして配置される。102Abで示すXe(液化、噴霧、ガス)は、発光元素として液化Xeあるいは液化Xe噴霧あるいはXeガスを102Aで示す光源Aのポイントに102Aeノズルにより突出させる。真空チャンバー103は露光装置全体を格納し、真空ポンプ104により真空状態を維持することを可能にする。露光光導入部105は光源発光部102からの露光光を導入成形し、105A〜105Dで示すミラーA〜Dにより構成され、露光光を均質化かつ整形する。レチクルステージ106は、レチクルステージ上の可動部に、露光パターンの反射原盤である原盤106Aが搭載されている。縮小投影ミラー光学系107は、原版(レチクル)106Aから反射した露光パターンを107A〜107Eで示すミラーA〜Eに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影する。ウエハステージ108は、原版(レチクル)105Aにより反射縮小投影されたパターンを露光するSi基板であるウエハ108Aを、所定の露光位置に位置決めする為に、XYZ、XY軸回りのチルト、Z軸回りの回転方向の6軸駆動可能に位置決め制御される。レチクルステージ支持体109は、レチクルステージ105を装置設置床に対して支持する。投影系本体110は、縮小投影ミラー光学系107を装置設置床に対して支持する。ウエハステージ支持体111は、ウエハステージ108を装置設置床に対して支持する。
以上のレチクルステージ支持体109と投影系本体110とウエハステージ支持体111により分離独立して支持されたレチクルステージ105と、縮小投影ミラー光学系107間及び縮小投影ミラー光学系107とウエハステージ108との間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段(不図示)が設けられている。また、レチクルステージ支持体109と、投影系本体110と、ウエハステージ支持体111には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント(不図示)が設けられている。レチクルストッカー112は、装置外部から一旦装置内部に原盤であるレチクル106Aを保管し、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。レチクルチェンジャー113は前記レチクルストッカー112から使用するレチクルを選択して搬送する。
レチクルアライメントユニット114はXYZ及びZ軸周りに回転可能な回転ハンドから成り、前記レチクルチェンジャー113から原盤106Aを受け取り、レチクルステージ106端部に設けられたレチクルアライメントスコープ115部分に180度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系107基準に設けられたアライメントマーク115Aに対して、原盤106A上をXYZ軸回転方向に微動してアライメントする。アライメントを終了した原盤106Aは、レチクルステージ106上にチャッキングされる。
ウエハストッカー116は装置外部から一旦装置内部にウエハ108Aを保管し、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。
ウエハ搬送ロボット117は、前記ウエハストッカー116から露光処理するウエハ108Aを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機118に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機118では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。
ウエハ送り込みハンド119は、ウエハメカプリアライメント温調機118にてアライメントと温調されたウエハ108Aをウエハステージ108に送り込む。
ゲートバルブ120,121は、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。同じくゲートバルブ122も、装置内部でウエハストッカー116及びウエハメカプリアライメント温調機118空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ108Aを搬送搬出するときのみ開閉する。
このように、隔壁で分離することによりウエハ108Aの装置外部との搬送搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
このような、従来構成の露光装置で、原版(レチクル)106Aを、レチクルステージ106のレチクル駆動手段106C上に設けられたレチクルチャックスライダー106Bに位置決めクランプする際は、図15に示すレチクルストッカー112に保管された原版(レチクル)106Aをレチクルチェンジャー113により選定搬送し、さらに、図16に示すように、レチクルアライメントユニット114のレチクルアライメントハンド114Aに持ち替えて回転搬送すると同時に、レチクル駆動手段106Cによりレチクルチャックスライダー106Bを、図16(1)に示すようにレチクルアライメントスコープ115及びレチクルアライメントマーク115A光学計測位置であるレチクルアライメント位置まで移動させる。
次に、図16に示す様に、レチクルアライメントハンド114Aにより吸着搬送された原版(レチクル)105Aは、原版(レチクル)105Aを、前記レチクルアライメントマーク115Aに対してレチクルアライメントスコープ115で計測しながら、XY(面内方向)及びωZ(Z軸回転方向)にアライメントする。
原版(レチクル)105Aのアライメント動作終了後、図17(1)に示すように、レチクルアライメントハンド114Aにより、原版(レチクル)106Aがレチクルチャックスライダー106Bに密接し、さらに図17(2)に示すように、原版(レチクル)105Aはレチクルチャックスライダー106Bに設けられた静電チャック106E電極に印加された電位により静電吸着される。
特開2002−305138号公報
しかし、このような従来構成の露光装置では、露光装置の動作中に原版(レチクル)105Aをレチクルステージ106に装着した状態で、装置緊急停止等により装置電源を切る必要が発生した場合、図18に示すように、原版(レチクル)105Aを、レチクルチャックスライダー106Bに対して静電吸着させていた静電チャック106E電極への給電が切られることから、原版(レチクル)106Aを保持する吸着力が無くなり、結果として、図18に示すように、レチクルチャックスライダー106Bから剥離落下し、縮小投影ミラー光学系107を構成する105Dで示すミラーD等に衝突落下し、相互の破損を招くことがあった。
上記従来例の課題を解決する為に、露光装置の緊急停止等で、装置電源が切られて静電チャックの吸引力が無くなって原版(レチクル)が落下した際に、落下剥離方向の極近傍で原版(レチクル)を受け止めるストッパーを設けることにより、従来例で発生していた事故を防止する。
手段としては、以下の方法をとる。
(1)原版(レチクル)装着時に原版面と鉛直方向にストッパーを設ける。
(2)ストッパーを、原版(レチクル)装着部材から支持する。
(3)ストッパーを、原版(レチクル)ステージ移動部材から支持する。
(4)ストッパーを、原版(レチクル)装着後に原版面と鉛直方向する位置に移動させる。
(5)原版(レチクル)周囲に、凸形状のストッパー受け部材を設けて、原版(レチクル)装着時に、凸形状部位とストッパーとが原版面と鉛直方向で干渉関係にある位置にあるようにする。
(6)ストッパーを原版面と鉛直方向に移動可能にすることにより、落下してストッパー上の載った原版(レチクル)を、原版装着面に戻すことを可能にする。
(7)原版の落下及び移動を検出する、計測手段を設け、その検出信号により、原版落下を判定する。
(1)原版(レチクル)装着時に原版面と鉛直方向にストッパーを設ける。
(2)ストッパーを、原版(レチクル)装着部材から支持する。
(3)ストッパーを、原版(レチクル)ステージ移動部材から支持する。
(4)ストッパーを、原版(レチクル)装着後に原版面と鉛直方向する位置に移動させる。
(5)原版(レチクル)周囲に、凸形状のストッパー受け部材を設けて、原版(レチクル)装着時に、凸形状部位とストッパーとが原版面と鉛直方向で干渉関係にある位置にあるようにする。
(6)ストッパーを原版面と鉛直方向に移動可能にすることにより、落下してストッパー上の載った原版(レチクル)を、原版装着面に戻すことを可能にする。
(7)原版の落下及び移動を検出する、計測手段を設け、その検出信号により、原版落下を判定する。
原版(レチクル)落下ストッパーを、原版(レチクル)ステージ及び原版(レチクル)装着部材に設けることにより、原版(レチクル)及び装置の破損無く、露光装置の緊急停止が可能となり、より信頼性の高い露光装置を実現する。
また、装置緊急停止で、一旦原版(レチクル)落下ストッパーに落下した原版(レチクル)を、原版(レチクル)装着面に移動させることにより、原版(レチクル)装着面に原版(レチクル)を戻すことが可能になり、緊急停止後の装置の回復を素早く行うことが可能となる。
また、装置緊急停止で、一旦原版(レチクル)落下ストッパーに落下した原版(レチクル)を、原版(レチクル)装着面に移動させることにより、原版(レチクル)装着面に原版(レチクル)を戻すことが可能になり、緊急停止後の装置の回復を素早く行うことが可能となる。
以下に本発明の実施例を説明する。
図1〜9に、本実施例を示す。励起レーザー1は、光源の発光点となる光源材料を、ガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、YAG固体レーザー等を用いる。光源発光部2は内部が真空に維持された構造を持ち、2Aで示す光源Aは実際の露光光源の発光ポイントである。真空チャンバー3は露光装置全体を格納し、真空ポンプ4により真空状態を維持することを可能にする。露光光導入部5は5A〜5Dで示すミラーA〜Dにより構成され、光源発光部2からの露光光を導入成形し、露光光を均質化かつ整形する。レチクルステージ6上の可動部には、露光パターンの反射原版である原版6Aが搭載されている。レチクルチャックスライダー6Bは、原版6Aをレチクル駆動手段6Cに対してクランプ移動保持する。静電チャック電極6D,6E,6F,6G,6H,6J,6K,6Lはレチクルチャックスライダー6Bの中に内蔵され、電位を6D〜6E間及び6F〜6G間及び6J〜6H間及び6K〜6L間に印可することにより、それぞれの電極と原版6A間に静電位が分極し、原版6Aをレチクルチャックスライダー6Bにクーロン力あるいはジョンソンラーベック力により吸着固定する。ギャップセンサー6N,6M,6P,6Q,は、原版6Aとレチクルチャックスライダー6B間のギャップを計測する。センサー原理としては、一般的に静電容量センサー(電極間ギャップ量変位に対する静電容量変化を検出)及び渦電流センサー(電極ターゲット間ギャップ量変位に対するターゲットの渦電流変化を渦電流損変化として検出)及びレーザー光斜入射反射検知式等の光マイクロセンサー等を用いる。
縮小投影ミラー光学系7は原版6Aから反射した露光パターンを縮小投影する。7A〜7Eで示すミラーA〜Eに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影される。
ウエハステージ8は、原版5Aにより反射縮小投影されたパターンを露光するSi基板であるウエハ8Aを所定の露光位置に位置決めする為に、XYZ、XY軸回りのチルト、Z軸回りの回転方向の6軸駆動可能に位置決め制御される。レチクルステージ支持体9は、レチクルステージ5を装置設置床に対して支持する。投影系本体10は、縮小投影ミラー光学系7を装置設置床に対して支持する。ウエハステージ支持体11は、ウエハステージ8を装置設置床に対して支持する。
以上のレチクルステージ支持体9と投影系本体10とウエハステージ支持体11により分離独立して支持されたレチクルステージ5と、縮小投影ミラー光学系7間及び縮小投影ミラー光学系7とウエハステージ8間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段(不図示)が設けられている。
また、レチクルステージ支持体9と投影系本体10とウエハステージ支持体11には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント(不図示)が設けられている。
レチクルストッカー12は装置外部から一旦装置内部に原版であるレチクル6Aを保管し、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。レチクルチェンジャー13はレチクルストッカー12から使用するレチクルを選択して搬送する。
レチクルアライメントユニット14はXYZ及びZ軸周りに回転可能な回転ハンドから成り、レチクルチェンジャー13から原版6Aを受け取り、レチクルステージ6端部に設けられたレチクルアライメントスコープ15部分に180度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系7基準に設けられたアライメントマーク15Aに対して原版6A上をXYZ軸回転方向に微動してアライメントする。
レチクルアライメントハンド14Aは、レチクルアライメントユニット14のXYZ及びZ軸周りに回転可能な回転ハンドとして機能する。また、原版6Aを保持する静電チャック電極(不図示)が内蔵されている。
ウエハストッカー16は装置外部から一旦装置内部にウエハ8Aを保管し、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。ウエハ搬送ロボット17は、ウエアストッカー16から露光処理するウエハ8Aを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機18に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機18では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。ウエハ送り込みハンド19は、ウエハメカプリアライメント温調機18でアライメントと温調されたウエハ8Aをウエハステージ8に送り込む。
ゲートバルブ20,21は、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。ゲートバルブ22も同じく、装置内部でウエハストッカー16、ウエハメカプリアライメント温調機18空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ8Aを搬送搬出するときのみ開閉する。
このように、隔壁で分離することによりウエハ8Aの装置外部との搬送搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
原版アライメント制御回路23でアライメントスコープ15の計測データからの情報を基にレチクルアライメントユニット14の制御を行う。
原版(レチクル)落下ストッパー24は原版(レチクル)6A,6Dの落下を防止する。
以上の構成の露光装置で、原版(レチクル)6Aをレチクルステージ6のレチクル駆動手段6C上に設けられたレチクルチャックスライダー6Bに位置決めクランプする際は、
レチクルストッカー12に保管された原版(レチクル)6Aをレチクルチェンジャー13により選定搬送し、さらに、図2に示すように、レチクルアライメントユニット14のレチクルアライメントハンド14Aに持ち替えて回転搬送すると同時に、レチクル駆動手段6Cによりレチクルチャックスライダー6Bを、図3に示すようにレチクルアライメントスコープ15及びレチクルアライメントマーク15A光学計測位置であるレチクルアライメント位置まで移動させる。
レチクルストッカー12に保管された原版(レチクル)6Aをレチクルチェンジャー13により選定搬送し、さらに、図2に示すように、レチクルアライメントユニット14のレチクルアライメントハンド14Aに持ち替えて回転搬送すると同時に、レチクル駆動手段6Cによりレチクルチャックスライダー6Bを、図3に示すようにレチクルアライメントスコープ15及びレチクルアライメントマーク15A光学計測位置であるレチクルアライメント位置まで移動させる。
次に、図3(1)に示す様に、レチクルアライメントハンド14Aに設けられたレチクルアライメント静電チャック(不図示)により吸着搬送された原版(レチクル)5Aのアライメント動作を行う。
図3(2)に示すように、原版(レチクル)6Aの位置誤差をレチクルアライメントマーク15Aとの相対位置合わせ誤差からレチクルアライメントスコープ15で計測検出して、原版アライメント制御回路24によりレチクルアライメントユニット14が駆動制御され、レチクルアライメントハンド14AによりXY(面内方向)及びωZ(Z軸回転方向)にアライメント動作が行われることにより、原版6Aのアライメントが行われる。
原版(レチクル)6Aのアライメントが終了した時点で、図4(2)に示すように、レチクルチャックスライダー6Bの静電チャック電極6Eに印加された電位により、原版6A裏面をクーロン力あるいはジョンソンラーベック力により吸着クランプする。
クランプが完了した後に、図3(3)に示すように、レチクルアライメントハンド14Bに設けられた静電チャック(不図示)が原版(レチクル)6Dをリリースして、レチクルアライメントハンド14Aは下方退避する。以上のレチクルアライメント動作が終了してから、露光動作が開始される。
ここで、実施例では、図4(2)に示すように、レチクルチャックスライダー6Bに設けられた原版(レチクル)落下ストッパー24を図5の(1)の状態から(2)の状態に回転動作させることにより、原版(レチクル)6Dの原版面の鉛直直下に微小隙間を持って位置決めされる。
さらに、図6(2)に示すように、原版(レチクル)落下ストッパー24の原版(レチクル)受け面部に原版(レチクル)落下検知・水平位置センサー24Aを設けることにより、原版(レチクル)24の落下検知を行うことができる。
図7に、原版(レチクル)落下検知が発生した際の装置動作フローを示す。ここで、原版(レチクル)落下検知センサー24Aにより、原版(レチクル)落下検知が発生した場合、装置動作状態判定24Bを行う。ここで、もし装置がスキャン露光中あるいはキャリブレーション中あるいはウエハ受け渡し中(24C)である場合、速やかにステージ停止(24E)とし、同時に原版(レチクル)クランプエラーを示し、装置停止させる。
装置動作状態判定(24B)で、原版(レチクル)アライメント中あるいは原版(レチクル)受け渡し中(24D)であった場合、速やかに原版(レチクル)アライメント動作中止あるいは原版(レチクル)受け渡し動作中止あるいは原版(レチクル)クランプエラーを示し(24F)、装置を停止させる。
次に、原版(レチクル)クランプエラーにより装置停止した状態で、オペレーターは装置電源を一旦OFFし、原版(レチクル)クランプエラー及び落下原因の確認と対策を実施する(24H)。
次に、装置電源ONとし(24J)、原版(レチクル)回収動作(24K)に移行する。原版(レチクル)回収動作(24K)は、次の順序24Lにより行われる。
(1)原版(レチクル)水平位置確認:落下した原版(レチクル)の水平方向の位置を確認し、静電チャックに対して相対的に復帰可能な水平位置内にあるかを確認する。
(2)原版(レチクル)リフトアップ:図9(1)に示す、原版(レチクル)落下ストッパー24により落下した原版(レチクル)6A,6Dを、図9(2)に示すようにレチクルチャックスライダー6B装着面方向にリフトアップする。
(3)原版(レチクル)静電チャック保持:この状態で、再度、静電チャック電極6Eに電位を印加し、原版(レチクル)を静電チャックする。次に、図9(3)に示すように、原版(レチクル)落下ストッパー28が下方退避する。
(4)レチクルアライメントユニットによる回収動作:静電チャックされた原版(レチクル)を、レチクルアライメントユニット14により回収する。
(5)落下原版(レチクル)メンテナンス、検査:回収された落下原版(レチクル)をメンテナンス、検査し、問題が無いことを確認し、原版(レチクル)を装置に復帰させる。
(1)原版(レチクル)水平位置確認:落下した原版(レチクル)の水平方向の位置を確認し、静電チャックに対して相対的に復帰可能な水平位置内にあるかを確認する。
(2)原版(レチクル)リフトアップ:図9(1)に示す、原版(レチクル)落下ストッパー24により落下した原版(レチクル)6A,6Dを、図9(2)に示すようにレチクルチャックスライダー6B装着面方向にリフトアップする。
(3)原版(レチクル)静電チャック保持:この状態で、再度、静電チャック電極6Eに電位を印加し、原版(レチクル)を静電チャックする。次に、図9(3)に示すように、原版(レチクル)落下ストッパー28が下方退避する。
(4)レチクルアライメントユニットによる回収動作:静電チャックされた原版(レチクル)を、レチクルアライメントユニット14により回収する。
(5)落下原版(レチクル)メンテナンス、検査:回収された落下原版(レチクル)をメンテナンス、検査し、問題が無いことを確認し、原版(レチクル)を装置に復帰させる。
図8に、装置稼動中に装置電源OFFあるいは装置非常停止(24M)が実効された際の装置動作フローを示す。
まず、装置動作状態判定(24N)を行う。ここで、もし装置がスキャン露光中あるいはキャリブレーション中あるいはウエハ受け渡し中(24P)である場合、速やかにステージ停止(24R)とし、同時に原版(レチクル)クランプエラーを示し、装置停止させる。
装置動作状態判定(24N)で、原版(レチクル)アライメント中あるいは原版(レチクル)受け渡し中(24Q)であった場合、速やかに原版(レチクル)アライメント動作中止あるいは原版(レチクル)受け渡し動作中止あるいは原版(レチクル)クランプエラーを示し、装置を停止させる(24S)。
次に、原版(レチクル)クランプエラーにより装置停止した状態で、オペレーターは、非常停止の場合、再度装置停止、電源OFFの後に装置電源ON(24T)とし、原版(レチクル)回収動作(24U)に移行する。
原版(レチクル)回収動作(24U)は、次の順序24Vにより行われる。
(1)原版(レチクル)水平位置確認:落下した原版(レチクル)の水平方向の位置を確認し、静電チャックに対して相対的に復帰可能な水平位置内にあるかを確認する。
(2)原版(レチクル)リフトアップ:図9(1)に示す原版(レチクル)落下ストッパー24により、落下した原版(レチクル)6A,6Dを、図9(2)に示すように、レチクルチャックスライダー6B装着面方向にリフトアップする。
(3)原版(レチクル)静電チャック保持:この状態で、再度、静電チャック電極6Eに電位を印加し、原版(レチクル)を静電チャックする。次に、図9(3)に示すように、原版(レチクル)落下ストッパー28が下方退避する。
(4)レチクルアライメントユニットによる回収動作:静電チャックされた原版(レチクル)を、レチクルアライメントユニット14により回収する。
(5)落下原版(レチクル)メンテナンス、検査:回収された落下原版(レチクル)をメンテナンス、検査し、問題が無いことを確認し、原版(レチクル)を装置に復帰させる。
(1)原版(レチクル)水平位置確認:落下した原版(レチクル)の水平方向の位置を確認し、静電チャックに対して相対的に復帰可能な水平位置内にあるかを確認する。
(2)原版(レチクル)リフトアップ:図9(1)に示す原版(レチクル)落下ストッパー24により、落下した原版(レチクル)6A,6Dを、図9(2)に示すように、レチクルチャックスライダー6B装着面方向にリフトアップする。
(3)原版(レチクル)静電チャック保持:この状態で、再度、静電チャック電極6Eに電位を印加し、原版(レチクル)を静電チャックする。次に、図9(3)に示すように、原版(レチクル)落下ストッパー28が下方退避する。
(4)レチクルアライメントユニットによる回収動作:静電チャックされた原版(レチクル)を、レチクルアライメントユニット14により回収する。
(5)落下原版(レチクル)メンテナンス、検査:回収された落下原版(レチクル)をメンテナンス、検査し、問題が無いことを確認し、原版(レチクル)を装置に復帰させる。
このように、原版(レチクル)6Dの落下方向に近接して原版(レチクル)落下ストッパー24を設けることにより、露光装置の緊急停止時にも原版(レチクル)6Dは露光装置内の他の部位に干渉する位置まで落下することなく、装置および原版(レチクル)の破損を防止することが出来る。
また、原版(レチクル)落下検知及び水平位置センサーを設けることにより、原版(レチクル)のより迅速で安全な回収動作を可能にする。
(他の実施例1)
他の実施例1を図10に示す。先の実施例では、原版(レチクル)落下防止ストッパーをレチクルチャックスライダー6Bに支持していたが、他の実施例として、図10に示すように、レチクル駆動手段6Cに対して支持することも可能である。
他の実施例1を図10に示す。先の実施例では、原版(レチクル)落下防止ストッパーをレチクルチャックスライダー6Bに支持していたが、他の実施例として、図10に示すように、レチクル駆動手段6Cに対して支持することも可能である。
その際レチクル駆動手段6Cに支持設けられた原版(レチクル)落下ストッパー25は、実施例と同じく図10の(1)の状態から(2)の状態に回転動作で位置決めされる。
(他の実施例2)
他の実施例2を、図11に示す。実施例および他の実施例1では、原版(レチクル)落下ストッパーが原版(レチクル)を直接受け止める構成にしているが、他の実施例として、図11に示すように原版(レチクル)6A,6Dの外周部に凸形状部材となる原版耳6Eを接合して設け、レチクルチャックスライダー6Bに支持設けられた原版(レチクル)落下ストッパー26を、図11の(1)の状態から(2)の状態に回転動作で移動させることにより、原版(レチクル)6A,6D落下時に、原版耳6Eを原版(レチクル)落下ストッパー26が受け止め、原版(レチクル)6A,6Dの落下を防ぐことも可能である。
他の実施例2を、図11に示す。実施例および他の実施例1では、原版(レチクル)落下ストッパーが原版(レチクル)を直接受け止める構成にしているが、他の実施例として、図11に示すように原版(レチクル)6A,6Dの外周部に凸形状部材となる原版耳6Eを接合して設け、レチクルチャックスライダー6Bに支持設けられた原版(レチクル)落下ストッパー26を、図11の(1)の状態から(2)の状態に回転動作で移動させることにより、原版(レチクル)6A,6D落下時に、原版耳6Eを原版(レチクル)落下ストッパー26が受け止め、原版(レチクル)6A,6Dの落下を防ぐことも可能である。
(他の実施例3)
他の実施例3を図12に示す。実施例では、原版(レチクル)落下ストッパーが原版(レチクル)の装着後に、回転動作により所定位置に装着される構成にしているが、他に図12に示すように原版(レチクル)落下ストッパー27をレチクルチャックスライダー6Bに固定形状で設けて、原版(レチクル)6A,6Dの装着時には、原版耳6Fと原版(レチクル)落下ストッパー27は非干渉位置にて原版(レチクル)に対して鉛直方向に移動近接して、次に水平移動によりレチクルチャックスライダー6Bの装着位置に移動し、この状態で原版(レチクル)アライメント動作を行い、レチクルチャックスライダー6に装着される。
他の実施例3を図12に示す。実施例では、原版(レチクル)落下ストッパーが原版(レチクル)の装着後に、回転動作により所定位置に装着される構成にしているが、他に図12に示すように原版(レチクル)落下ストッパー27をレチクルチャックスライダー6Bに固定形状で設けて、原版(レチクル)6A,6Dの装着時には、原版耳6Fと原版(レチクル)落下ストッパー27は非干渉位置にて原版(レチクル)に対して鉛直方向に移動近接して、次に水平移動によりレチクルチャックスライダー6Bの装着位置に移動し、この状態で原版(レチクル)アライメント動作を行い、レチクルチャックスライダー6に装着される。
この状態では、原版耳6Fと原版(レチクル)落下ストッパー27は原版面に対して鉛直方向で略同一面内位置に位置するので、原版(レチクル)6A,6Dの落下時に、原版(レチクル)落下ストッパー27は原版耳6Fを受け止め落下防止を可能にする。
このように、原版(レチクル)落下ストッパー自身の移動及び動作が無い構成も可能となる。
(他の実施例4)
他の実施例4を図13に示す。他の実施例3の構成で、落下した原版(レチクル)を一旦レチクルチャックスライダー6Bの装着位置に戻し、自動で装置外部に回収する動作を可能にする構成も考えられる。図13にその構成を示す。
他の実施例4を図13に示す。他の実施例3の構成で、落下した原版(レチクル)を一旦レチクルチャックスライダー6Bの装着位置に戻し、自動で装置外部に回収する動作を可能にする構成も考えられる。図13にその構成を示す。
レチクルチャックスライダー6Bに設けられた原版(レチクル)落下ストッパー27は、原版(レチクル)6A,6Dが落下した際に、図13(1)に示す位置にある。この状態で、露光装置を再度起動する際に、原版(レチクル)を装置内から外部に取り出す際に、一旦レチクルステージ6上のレチクルチャックスライダー6Bに戻す必要がある。
そこで図13(2)に示すように原版(レチクル)落下ストッパー27に原版(レチクル)6A,6Dが載った状態で、図示上方に原版(レチクル)落下ストッパー27を移動させることにより、レチクルチャックスライダー6Bに原版(レチクル)6A,6Dを密着させる。この状態で静電チャック給電することにより、原版(レチクル)6A,06Dを保持する。ここで、図13(3)に示すように原版(レチクル)落下ストッパー27を下方向に移動させ、元の位置に戻すことが出来る。
(他の実施例5)
他の実施例5を図14に示す。実施例では、落下検知及び水平位置センサーを、落下防止ストッパー側に設けていたが、他に図15(2)に示すように、レチクルチャックスライダー6B側に原版(レチクル)落下検知センサー29を設けることにより、原版(レチクル)6A,6Dがレチクルチャックスライダー6の装着面から移動あるいは落下した際に検知することが可能になる。原版(レチクル)落下検知センサー29としては、原版(レチクル)裏面との距離を光反射方式で検出する方法や、原版(レチクル)裏面の静電チャック用の誘電膜との静電容量変化により原版(レチクル)裏面との距離を計測する静電容量センサー等があげられる。
他の実施例5を図14に示す。実施例では、落下検知及び水平位置センサーを、落下防止ストッパー側に設けていたが、他に図15(2)に示すように、レチクルチャックスライダー6B側に原版(レチクル)落下検知センサー29を設けることにより、原版(レチクル)6A,6Dがレチクルチャックスライダー6の装着面から移動あるいは落下した際に検知することが可能になる。原版(レチクル)落下検知センサー29としては、原版(レチクル)裏面との距離を光反射方式で検出する方法や、原版(レチクル)裏面の静電チャック用の誘電膜との静電容量変化により原版(レチクル)裏面との距離を計測する静電容量センサー等があげられる。
1 励起レーザー
2 光源発光部
2A 光源A
3 真空チャンバー
4 真空ポンプ
5 露光光導入部
5A ミラーA
5B ミラーB
5C ミラーC
5D ミラーD
6 レチクルステージ
6A 原版(レチクル)
6B レチクルチャックスライダー
6C レチクル駆動手段
6D 原版(レチクル)
6E 静電チャック電極
6F 原版耳
7 縮小投影ミラー光学系
7A ミラーA
7B ミラーB
7C ミラーC
7D ミラーD
7E ミラーE
8 ウエハステージ
8A ウエハ
9 レチクルステージ支持体
10 露光装置本体
11 ウエハステージ支持体
12 レチクルストッカー
13 レチクルチェンジャー
14 レチクルアライメントユニット
14A レチクルアライメントハンド
15 レチクルアライメントスコープ
15A レチクルアライメントマーク
16 ウエハストッカー
17 ウエハ搬送ロボット
18 ウエハメカプリアライメント温調機
19 ウエハ送り込みハンド
20 ゲートバルブ
21 ゲートバルブ
22 ゲートバルブ
23 原版アライメント制御回路
24 原版(レチクル)落下ストッパー
24A 原版(レチクル)落下検知センサー
24B 装置動作状態判定
24C〜V 装置動作状態説明
25 原版(レチクル)落下ストッパー
26 原版(レチクル)落下ストッパー
27 原版(レチクル)落下ストッパー
28 原版(レチクル)落下ストッパー
29 原版(レチクル)落下センサー
101 励起レーザー
102 光源発光部
102A 光源A
102Aa 光源ミラーAa
102Ab Xe(液化、噴霧、ガス)
102Ae ノズル
103 真空チャンバー
104 真空ポンプ
105 露光光導入部
105A ミラーA
105B ミラーB
105C ミラーC
105D ミラーD
106 レチクルステージ
106A 原版(レチクル)
106B レチクルチャックスライダー
106C レチクル駆動手段
106D 原版(レチクル)
106E 静電チャック電極
107 縮小投影ミラー光学系
107A ミラーA
107B ミラーB
107C ミラーC
107D ミラーD
107E ミラーE
108 ウエハステージ
108A ウエハ
109 レチクルステージ支持体
110 露光装置本体
111 ウエハステージ支持体
112 レチクルストッカー
113 レチクルチェンジャー
114 レチクルアライメントユニット
114A レチクルアライメントハンド
115 レチクルアライメントスコープ
115A レチクルアライメントマーク
116 ウエハストッカー
117 ウエハ搬送ロボット
118 ウエハメカプリアライメント温調機
119 ウエハ送り込みハンド
120 ゲートバルブ
121 ゲートバルブ
122 ゲートバルブ
123 原版アライメント制御回路
2 光源発光部
2A 光源A
3 真空チャンバー
4 真空ポンプ
5 露光光導入部
5A ミラーA
5B ミラーB
5C ミラーC
5D ミラーD
6 レチクルステージ
6A 原版(レチクル)
6B レチクルチャックスライダー
6C レチクル駆動手段
6D 原版(レチクル)
6E 静電チャック電極
6F 原版耳
7 縮小投影ミラー光学系
7A ミラーA
7B ミラーB
7C ミラーC
7D ミラーD
7E ミラーE
8 ウエハステージ
8A ウエハ
9 レチクルステージ支持体
10 露光装置本体
11 ウエハステージ支持体
12 レチクルストッカー
13 レチクルチェンジャー
14 レチクルアライメントユニット
14A レチクルアライメントハンド
15 レチクルアライメントスコープ
15A レチクルアライメントマーク
16 ウエハストッカー
17 ウエハ搬送ロボット
18 ウエハメカプリアライメント温調機
19 ウエハ送り込みハンド
20 ゲートバルブ
21 ゲートバルブ
22 ゲートバルブ
23 原版アライメント制御回路
24 原版(レチクル)落下ストッパー
24A 原版(レチクル)落下検知センサー
24B 装置動作状態判定
24C〜V 装置動作状態説明
25 原版(レチクル)落下ストッパー
26 原版(レチクル)落下ストッパー
27 原版(レチクル)落下ストッパー
28 原版(レチクル)落下ストッパー
29 原版(レチクル)落下センサー
101 励起レーザー
102 光源発光部
102A 光源A
102Aa 光源ミラーAa
102Ab Xe(液化、噴霧、ガス)
102Ae ノズル
103 真空チャンバー
104 真空ポンプ
105 露光光導入部
105A ミラーA
105B ミラーB
105C ミラーC
105D ミラーD
106 レチクルステージ
106A 原版(レチクル)
106B レチクルチャックスライダー
106C レチクル駆動手段
106D 原版(レチクル)
106E 静電チャック電極
107 縮小投影ミラー光学系
107A ミラーA
107B ミラーB
107C ミラーC
107D ミラーD
107E ミラーE
108 ウエハステージ
108A ウエハ
109 レチクルステージ支持体
110 露光装置本体
111 ウエハステージ支持体
112 レチクルストッカー
113 レチクルチェンジャー
114 レチクルアライメントユニット
114A レチクルアライメントハンド
115 レチクルアライメントスコープ
115A レチクルアライメントマーク
116 ウエハストッカー
117 ウエハ搬送ロボット
118 ウエハメカプリアライメント温調機
119 ウエハ送り込みハンド
120 ゲートバルブ
121 ゲートバルブ
122 ゲートバルブ
123 原版アライメント制御回路
Claims (4)
- 原版面に描かれたパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、原版を原版ステージ装置に装着後に、原版面に垂直方向の原版の移動を阻止する部材が、原版面に空隙を介して対向する位置に移動することを特徴とする露光装置。
- 前記阻止する部材は、原版装着部材あるいは前記原版ステージ装置移動部材に支持されていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記阻止する部材は、原版を前記原版ステージ装置に装着した状態で、原版に設けられた凹凸形状部位に対して空隙を介して対向する位置に移動することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記原版装着面に対する原版位置を計測する原版位置計測手段を設け、該原版位置計測手段からの信号により、原版装着状態、原版装着面からの移動あるいは原版落下を判定することを特徴とする請求項1〜4のいずれか記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004189643A JP2006013208A (ja) | 2004-06-28 | 2004-06-28 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004189643A JP2006013208A (ja) | 2004-06-28 | 2004-06-28 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006013208A true JP2006013208A (ja) | 2006-01-12 |
Family
ID=35780072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004189643A Withdrawn JP2006013208A (ja) | 2004-06-28 | 2004-06-28 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006013208A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2008007521A1 (ja) * | 2006-07-11 | 2009-12-10 | 株式会社ニコン | レチクル保持部材、レチクル・ステージ、露光装置、投影露光方法およびデバイス製造方法 |
JP2012151218A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-09 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板保持手段、およびそれを用いたeuvマスクブランクスの製造方法 |
JP2015110264A (ja) * | 2013-11-06 | 2015-06-18 | 協和メデックス株式会社 | 把持装置、搬送装置、及び分析装置 |
WO2017022185A1 (en) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Original holding apparatus, pattern forming apparatus, and method of manufacturing article |
-
2004
- 2004-06-28 JP JP2004189643A patent/JP2006013208A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2008007521A1 (ja) * | 2006-07-11 | 2009-12-10 | 株式会社ニコン | レチクル保持部材、レチクル・ステージ、露光装置、投影露光方法およびデバイス製造方法 |
JP2012151218A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-09 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板保持手段、およびそれを用いたeuvマスクブランクスの製造方法 |
JP2015110264A (ja) * | 2013-11-06 | 2015-06-18 | 協和メデックス株式会社 | 把持装置、搬送装置、及び分析装置 |
WO2017022185A1 (en) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Original holding apparatus, pattern forming apparatus, and method of manufacturing article |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070904 |