JP2006012866A5 - - Google Patents
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- X−Y−Z直角座標系で、Z軸方向に垂直なX軸及びY軸方向に位置決めすべき物品を位置決めするための、リソグラフ装置の位置決め装置にして、静止機械フレームと、該物品を処理するサブシステムと、該物品を載置してX軸及びY軸方向に移動し得る移動テーブルと、前記静止機械フレームに連結された静止部と該移動テーブルに連結された移動部とを有して該移動テーブルを移動させ前記サブシステムに対して該物品を位置決めする駆動手段と、該移動テーブルの位置を測定するために該移動テーブルに固定された移動部及び静止部を有する測定システムとを含む位置決め装置において、
該位置決め装置に設けられた基準フレームに前記測定システムの静止部が固定され、該基準フレームは前記機械フレームから動的および静的に絶縁されていることを特徴とする位置決め装置。 - 前記サブシステムは、放射ビームを投影する投影システムであり、前記物品は放射ビームにパターン付けを行なうマスクである、請求項1に記載の装置。
- 前記サブシステムは放射ビームを投影する投影システムであり、前記物品は該投影システムからの放射ビームによってマスクのパターンが映される基板である、請求項1に記載の装置。
- 前記機械フレームは前記位置決め装置の唯一の機械フレームである、請求項1から3までのいずれか1つに記載の装置。
- 前記機械フレームは前記基準フレームを支持する複数のダンパを備えている、請求項1又は4に記載の装置。
- 前記サブシステムは前記基準フレームに固定されている、請求項1から5までのいずれか1つに記載の装置。
- 前記移動テーブルは少なくともX軸方向に平行に前記基準フレームに備えられているガイド上を移動し得る、請求項1から6までのいずれか1つに記載の装置。
- 前記位置決め装置は力作動システムを備えており、該力作動システムは電気的制御ユニットによって制御され且つ作動中に前記基準フレームに補正力を作用させており、この補正力は前記基準フレームの基準点のまわりで機械的モーメントを有しており、この機械的モーメントは、基準点のまわりで前記移動テーブル上に作用する重力の機械的モーメントの値とほぼ等しい値を有し、その方向は、重力の機械的モーメントとは反対方向である、請求項1から7までのいずれか1つに記載の装置。
- 放射源と、マスクテーブルと、主軸を有する投影システムと、物品テーブルと、該物品テーブルを該投影システムに対して移動させる第1駆動ユニットと、該主軸に対して少なくとも垂直な方向に該投影システムに対して該マスクテーブルを移動させ、該マスクテーブルを該投影システムに対して位置決めする第2駆動ユニットと、該投影システムに対して該物品テーブルの位置を測定する第1測定システムと、該投影システムに対して該マスクテーブルの位置を測定する第2測定システムとを含み、該第1及び第2駆動ユニットの各々は、リソグラフ装置の機械フレームに固定された静止部を有し、該第1測定システムは該第1測定システムの静止部と協働するように該物品テーブルに固定された移動部と静止部とを含み、該第2測定システムは該第2測定システムの静止部と協働するように該マスクテーブルに固定された移動部を含むリソグラフ装置において、
前記第1及び第2測定システムの各々の静止部は、リソグラフ装置に設けた基準フレームに固定されており、該基準フレームは前記機械フレームから動的および静的に絶縁されていることを特徴とするリソグラフ装置。 - 前記機械フレームはリソグラフ装置の唯一の機械フレームである、請求項9に記載の装置。
- 前記機械フレームには前記基準フレームを支持する複数のダンパが備えられている、請求項9又は10に記載の装置。
- 前記投影システムは前記基準フレームに固定されている、請求項9から11までのいずれか1つに記載の装置。
- 前記物品テーブル及び前記マスクテーブルのうちの少なくとも1つはガイド上を移動可能であり、このガイドは前記主軸に対して垂直にリソグラフ装置に備えられており、このガイドは前記基準フレームに固定されている、請求項9から12までのいずれか1つに記載の装置。
- リソグラフ装置には電気的制御ユニットによって制御されて、作動中前記基準フレーム上に補正力を作用させる力作動システムが備えられており、この補正力は前記基準フレームの基準点のまわりの機械的モーメントを有しており、このモーメントは前記基準点のまわりで前記物品テーブル上に作用する重力の機械的モーメントの値とほぼ等しい値であるか、或いは前記基準点のまわりで前記マスクテーブル上に作用する重力の機械的モーメントの値とほぼ等しい値であり、その方向は前記機械的モーメントの方向と反対方向である、請求項9から12までのいずれか1つに記載の装置。
- リソグラフ装置の位置決め装置にして、物品テーブル上の物品を処理するサブシステムと、該サブシステムに対して該物品テーブル及び該マスクテーブルの少なくとも一方を移動させて、該サブシステムに対して該物品又は該マスクテーブル上のマスクを位置決めするようにした駆動ユニットと、該物品テーブルの位置及び該マスクテーブルの位置の少なくとも一方を測定する測定装置とを含み、該物品テーブル及び該マスクテーブルの少なくとも一方に固定された移動部と該位置決め装置の機械フレームに固定された静止部とを前記駆動ユニットが含んでおり、前記測定システムは静止部を有し、該測定システムは、更に、該測定システムの静止部と協働するように該物品テーブルに固定された移動部、及び該マスクテーブルに固定された移動部の一方を含む位置決め装置において、
前記測定システムの静止部は、前記位置決め装置に設けた基準フレームに固定され、該基準フレームは前記位置決め装置の機械フレームから動的および静的に絶縁されていることを特徴とする装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004126532A JP4287781B2 (ja) | 2004-04-22 | 2004-04-22 | 測定システム用基準フレームを有する位置決め装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2006012866A JP2006012866A (ja) | 2006-01-12 |
JP2006012866A5 true JP2006012866A5 (ja) | 2006-08-31 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008052268A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-03-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置の作製方法 |
CN103809384B (zh) * | 2012-11-12 | 2016-03-09 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量***及光刻机 |
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