JP2006005114A - 搬送方法及び搬送装置、並びに露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】レチクルの載置面がステージの上面から掘り下げられた位置にある場合でも、容易にレチクルのロードを行う。
【解決手段】複数のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃は、アーム開閉機構４８ａによる回動動作により、各アームそれぞれが互いに接近及び離間するように駆動可能とされ、また、上下動・回転駆動機構４３Ａにより、上下方向にも駆動可能とされている。従って、複数のアームの回動動作と下降動作とにより、レチクルＲの下面側にアームの支持部を位置付け、この状態からのアームの上昇動作によりレチクルを支持することができる。また、レチクルを支持したアームの下降動作により、その下方に位置決めされたステージＲＳＴ上にレチクルが載置され、アームの回動動作と上昇動作とにより、アームをレチクルＲの上面側に退避することができる。このようにして、レチクルＲのロードをステージの上方から行うことができる。
【選択図】図２

Description

本発明は、搬送方法及び搬送装置、並びに露光装置に係り、更に詳しくは、ステージとの間で搬送対象物の受け渡しを行う搬送方法及び搬送装置、並びに前記搬送装置を備える露光装置に関する。

従来より、半導体素子、液晶表示素子等の製造におけるリソグラフィ工程では、種々の露光装置が用いられている。近年においては、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）やステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ）などの光露光装置が比較的多く用いられている。

例えば、ステッパでは、マスク又はレチクル（以下、適宜「レチクル」と総称する）は、ＸＹ面内での微小駆動（θｚ回転（Ｚ軸回りの回転）を含む）が可能なレチクルステージ上に真空吸着等によって保持されている。また、スキャニング・ステッパでは、レチクルステージが走査方向（例えばＹ軸方向）に所定のストロークで移動するレチクル粗動ステージと、該レチクル粗動ステージ上でＸＹ面内での微小駆動（θｚ回転（Ｚ軸回りの回転）を含む）が可能なレチクル微動ステージとから構成され、該レチクル微動ステージ上にレチクルが真空吸着等によって保持されている。

いずれにしても従来の光露光装置では、レチクル搭載面が、θｚ回転が可能なステージの上面となっていた。このため、レチクルの搬送シーケンスとしては、角形のレチクルを保持した搬送ロボットアームが、前記θｚ回転が可能なステージの上方まで水平に移動し、その後搬送ロボットアームが下方に移動してレチクルをステージ上にロードし、その後僅かに下方に移動した後、元の位置に戻っていくというシーケンスが採用されていた。

また、従来の光露光装置では、レチクルのθｚ回転のための駆動機構、例えばレチクルを保持するステージの直交する２側面にそれぞれ連結された各２本、合計４本の押し引き棒、あるいは該押し引き棒と同様の機能を有する２組みのボイスコイルモータ等が用いられていた。

ところで、半導体素子は年々高集積化し、これに伴い回路パターンが微細化しており、将来的にはデバイスルール（実用最小線幅）が０．１μｍ以下になることは確実視されている。このような微細パターンの形成のための露光を実現するためには、光露光装置では解決しなければならない問題が山積していることから、次世代の露光装置として、電子線露光装置（以下、「ＥＢ露光装置」という）が１つの有力な選択肢となることはほぼ間違いがない。

しかし、ＥＢ露光装置の場合には、露光装置が収納されるチャンバ内を真空にする必要があることから、上述したようなレチクルの真空吸着方式を採用することができず、静電吸着等の吸着方式を採用する必要がある。また、０．１μｍ以下の微細パターンの形成のための露光に際しては、ウエハ側（投影レンズの像面側）のみならず、レチクル側（投影レンズの物体面側）のオートフォーカス・オートレベリングも必須となり、このためレチクル側にもフォーカス・レベリングセンサを配置することが必要となる。通常、フォーカス・レベリングセンサとして斜入射方式の多点焦点位置検出系などが用いられるが、かかる多点焦点位置検出系を投影レンズの物体面側に配置する場合には、ウエハ側と同様にスペース的な問題で検出面に対して５〜１２°程度の傾斜角で検出光束を入射させる必要があることから、レチクルをレチクルステージ上面でなく、下面近くに位置させることが必要となる。これを実現させるための手段として、レチクルステージに座ぐり穴を設け、この内部に静電チャックを設ける構成が考えられる。

しかしながら、上記のような座ぐり穴構造を採用すると、マスクとしてのレチクル搭載面が、ステージ上面より低い位置になることから、前述したレチクルの搬送シーケンスをそのまま採用することが困難となる。

また、従来の光露光装置では、上述するようなレチクルのθｚ回転のための駆動機構が必要不可欠であったことから、レチクルステージの駆動機構の構成が複雑であった。

本願の出願人及び発明者は、マスク搭載面が、ステージ上面より低い位置になった場合であっても、特に不都合なくマスクをマスクステージにロードすることができ、しかもマスクステージ上のθｚ回転機構を不要とする搬送装置に関する発明を先に提案した（例えば、特許文献１参照。）。

特許文献１に記載の発明では、複数の支持部材（鉤の手状の爪部を有するアーム）をマスクの周方向に所定角度範囲で回転させることにより、マスクに対する支持状態と非支持状態とを切り替える構成が採用されていた。このため、搬送対象物であるマスク側に、爪部を挿入及び離脱可能な切り欠きなどを形成する必要があり、マスク自体あるいは特にＥＢ露光装置で用いられるメンブレンマスクのような薄型のマスクの場合にはマスクをマウントして支持するリング状のサポート部材（サポートリング）、に切り欠きを形成する必要があった。

特開平１１−１１７４６０号公報

本発明は、かかる事情の下でなされたもので、その第１の目的は、搬送対象物側に切り欠きなどが無い場合であっても、ステージの上面より低い位置にある載置面に、支障無く搬送対象物をその載置面に載置することができるとともに、前記載置面から搬送対象物を搬出することができる搬送方法を提供することにある。

また、本発明の第２の目的は、搬送対象物側に切り欠きなどが無い場合であっても、ステージの上面より低い位置にある載置面に、支障無く搬送対象物をその載置面に載置することができるとともに、前記載置面から搬送対象物を搬出することができる搬送装置を提供することにある。

また、本発明の第３の目的は、露光精度を向上させることができる露光装置を提供することにある。

請求項１に記載の発明は、ステージ（ＲＳＴ）との間で搬送対象物（Ｒ）の受け渡しを行う搬送方法であって、その一端部近傍に前記搬送対象物を支持する支持部を有し、該支持部よりも他端部側を回転中心として回動自在とされた複数の支持部材（４８ｃ₁〜４８ｃ₃）の、前記回動動作を含む第１の動作により、前記搬送対象物の一方の面を前記複数の支持部材の支持部にて支持する第１工程と；前記複数の支持部材に支持された前記搬送対象物を前記ステージ上に搬入する第２工程と；前記搬送対象物を前記ステージ上に搬入した後、前記回動動作を含む第２の動作により前記搬送対象物の他方の面側へ前記複数の支持部材を退避する第３工程と；を含む搬送方法である。

これによれば、第１工程では、その一端部近傍に搬送対象物を支持する支持部を有し、該支持部よりも他端部側を回転中心として回動自在とされた複数の支持部材が、回動動作を含む第１の動作を行うことにより、搬送対象物の一方の面が複数の支持部材の支持部にて支持され、第２工程では、第１工程で複数の支持部材に支持された搬送対象物がステージ上に搬入される。そして、第３工程では、搬送対象物をステージ上に搬入した後、複数の支持部材が回動動作を含む第２の動作を行うことにより搬送対象物の他方の面側へ複数の支持部材が退避される。すなわち、本発明によれば、搬送対象物に切り欠きなどを形成しなくても、ステージ上へのロードを、ステージの載置面にほぼ垂直な方向から行うことが可能である。従って、例えば搬送対象物の載置面がステージの上面から掘り下げられた位置にあるような場合であっても、搬送対象物のステージ上へのロードを容易に行うことが可能である。また、これとは逆の動作を行うことにより、支障なく搬送対象物を載置面から搬出（アンロード）することも可能である。

この場合において、請求項２に記載の搬送方法の如く、前記第１工程における前記第１の動作及び前記第３工程における前記第２の動作の少なくとも一方は、前記複数の支持部材の前記回動動作と重力方向に平行な所定軸方向への移動動作とを含むこととすることができる。

上記請求項１及び２に記載の各搬送方法において、請求項３に記載の搬送方法の如く、前記第１工程の処理が完了した後、前記第２工程の処理が完了する前に行われる、前記搬送対象物の所定の基準状態からの誤差を計測する工程と；前記計測された誤差に基づいて、前記搬送対象物の位置を補正する工程と；を更に含むこととすることができる。

この場合において、請求項４に記載の搬送方法の如く、前記搬送対象物の位置を補正する工程では、前記搬送対象物の回転方向の位置は、前記複数の支持部材により保持された状態で補正されることとすることができる。

上記請求項３及び４に記載の各搬送方法において、請求項５に記載の搬送方法の如く、前記搬送対象物の位置を補正する工程では、前記搬送対象物の前記所定軸方向に直交する面内の位置は、前記ステージの移動により補正されることとすることができる。

請求項６に記載の発明は、ステージ（ＲＳＴ）との間で搬送対象物（Ｒ）の受け渡しを行う搬送装置であって、その一端部近傍に前記搬送対象物を支持する支持部を有し、該支持部よりも他端部側が回転中心とされた複数の支持部材（４８ｃ₁〜４８ｃ₃）と；前記回転中心を中心に前記複数の支持部材の支持部が互いに接近及び離間するように、前記支持部材の回動動作を行う回動機構（４８ａ）と；前記複数の支持部材を重力方向に平行な所定軸方向に駆動する駆動機構（４４）と；を備える搬送装置である。

これによれば、複数の支持部材は、回動機構により、支持部よりも他端部側を回転中心として複数の支持部材それぞれが互いに接近及び離間するように回動されるとともに、駆動機構により、重力方向に平行な所定軸方向に駆動可能となっている。このため、複数の支持部材が前記回動動作を行うとともに、重力方向に平行な所定軸方向に駆動されることで、搬送対象物の一側の面（下面）側に支持部を位置付けることが可能である。また、この状態から複数の支持部材を重力方向に平行な所定軸方向で搬送対象物に接近する方向に駆動することにより、複数の支持部材による搬送対象物の支持が可能である。一方、これとは逆に搬送対象物を支持した複数の支持部材を前記所定軸方向に駆動することにより、ステージ上に搬送対象物を載置することができ、この載置終了後、前記回動動作と前記所定軸方向への駆動とを組み合わせることにより、複数の支持部材を搬送対象物の他側の面側に退避させることが可能となる。

このように、本発明によれば、搬送対象物に切り欠きなどが形成されていない場合であっても、搬送対象物のステージ上へのロードを、ステージの載置面にほぼ垂直な方向から行うことが可能であるので、例えば搬送対象物の載置面がステージの上面から掘り下げられた位置にあるような場合であっても、搬送対象物のステージ上へのロードを容易に行うことが可能である。また、本発明の搬送装置では、上記と逆の動作を行うことで、支障なく搬送対象物のステージ上からの搬出（アンロード）を行うことが可能である。

この場合において、請求項７に記載の搬送装置の如く、前記支持部材の支持部には、パッド（５４）が設けられていることとすることができる。

上記請求項６及び７に記載の各搬送装置において、請求項８に記載の搬送装置の如く、前記駆動機構は、前記回動機構を前記複数の支持部材とともに前記所定軸回りの回転方向に更に駆動することとすることができる。

上記請求項６〜８に記載の各搬送装置において、請求項９に記載の搬送装置の如く、前記支持部材は３つ設けられ、前記搬送対象物は前記３つの支持部材により一直線上に無い異なる３点で支持されることとすることができる。

上記請求項６〜９に記載の各搬送装置において、請求項１０に記載の搬送装置の如く、前記回動機構及び前記駆動機構の少なくとも一方の駆動部分を少なくとも覆う状態で設けられたごみ受け用のカバー（４８ｂ）を更に備えることとすることができる。

上記請求項６〜１０に記載の各搬送装置において、請求項１１に記載の搬送装置の如く、前記搬送対象物は円板状の形状を有することとすることができる。

請求項１２に記載の発明は、マスク（Ｒ）に形成されたパターンを物体（Ｗ）上に転写する露光装置であって、前記マスクを保持するマスクステージ（ＲＳＴ）と；前記物体を保持する物体ステージ（ＷＳＴ）と；前記マスクステージ及び前記物体ステージの少なくとも一方の特定ステージに対して、前記マスク及び前記物体の少なくとも一方である搬送対象物を搬送する請求項６〜１１のいずれか一項に記載の搬送装置と；を備える露光装置である。

これによれば、例えば特定ステージがマスクステージである場合には、マスクステージのマスク載置面がマスクステージ上面より低い位置にあっても、請求項６〜１１のいずれか一項に記載の搬送装置により、支障なくマスクを載置面に載置できるので、結果的にマスクをマスクステージの下面近くに位置させることが可能となり、マスクステージ側にも斜入射方式の多点焦点位置検出系等のフォーカス・レベリングセンサを採用することが可能となる。従って、マスクのフォーカス・レベリング制御が可能となり、従来の露光装置に比べて一層高精度なマスクパターンの基板上への転写が可能となる。

また、例えば特定ステージが物体ステージである場合にも、請求項６〜１１の搬送装置により、上方から物体ステージ上に物体を支障なく載置することが可能である。

この場合において、請求項１３に記載の露光装置の如く、前記搬送装置の近傍に設けられ、前記搬送装置によって搬送される前記搬送対象物に形成されたマークを検出するマーク検出系（６８Ａ，６８Ｂ）を更に備えることとすることができる。

上記請求項１２及び１３に記載の露光装置において、請求項１４に記載の露光装置の如く、前記特定ステージの前記搬送対象物の載置面は、前記特定ステージに形成された凹部（４０）内の底面に設けられていることとすることができる。

この場合において、請求項１５に記載の露光装置の如く、前記特定ステージの前記凹部内の底面には、前記複数の支持部材を挿入可能な溝（４１ａ〜４１ｃ）が前記支持部材に対応して形成されていることとすることができる。

本発明の搬送方法によれば、搬送対象物側に切り欠きなどが無い場合であっても、ステージの上面より低い位置にある載置面に、支障無く搬送対象物をその載置面に載置することができるとともに、前記載置面から搬送対象物を搬出することができるという効果がある。

また、本発明の搬送装置によれば、搬送対象物側に切り欠きなどが無い場合であっても、ステージの上面より低い位置にある載置面に、支障無く搬送対象物をその載置面に載置することができるとともに、前記載置面から搬送対象物を搬出することができるという効果がある。

また、本発明の露光装置によれば、露光精度を向上させることができるという効果がある。

以下、本発明の一実施形態を図１〜図１０に基づいて説明する。図１には、本発明に係る搬送装置を含んで構成された一実施形態に係る露光装置１０の構成が概略的に示されている。この露光装置１０は、電子ビームにより物体としてのウエハＷ上にマスク(及び搬送対象物)としてのレチクルＲのパターンを走査露光方式により転写するＥＢＰＳ（電子ビームプロジェクションシステム）を採用した電子線露光装置（ＥＢ露光装置）である。

この露光装置１０は、レチクル用真空チャンバ１２と、ウエハ用真空チャンバ１４とを備えている。

レチクル用真空チャンバ１２の内部には、支持フレーム１６に支持されたＺ軸方向（鉛直軸方向）を軸方向とする円柱状の照明系１８、該照明系１８の下方にＸＹ面（水平面）に沿って配置されたレチクルステージベース２０、該レチクルステージベース２０上をレチクルＲを保持してＸＹ２次元方向に移動するマスクステージとしてのレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲのＺ位置及びＸＹ面に対する傾斜を検出するレチクルＡＦ／ＡＬ系（２２、２４）及び不図示のレチクルライブラリ等が収納されている。また、レチクル用真空チャンバ１２に形成された円形開口１２ａを介して、搬送装置としてのエレベータユニット２６の下半部がレチクル用真空チャンバ１２内に挿入された状態となっている。

また、ウエハ用真空チャンバ１４の内部には、該チャンバ１４の床面に配置された複数（ここでは４つ）の防振台２８（但し、紙面奥側の防振台は図示せず）、これらの防振台２８によってほぼ水平に保持されたウエハステージベース３０、該ウエハステージベース３０上をウエハＷを保持してＸＹ２次元方向に移動する物体ステージとしてのウエハステージＷＳＴ、ウエハＷのＺ位置及びＸＹ面に対する傾斜を検出するウエハＡＦ／ＡＬ系（３２、３４）、及びウエハローダ３６等が収納されている。

さらに、露光装置１０は、レチクル用真空チャンバ１２及びウエハ用真空チャンバ１４に上端部の一部及び下端部の一部がそれぞれ収納された光学系としての投影光学系ＰＬを備えている。

前記照明系１８は、ＬａＢ₆（６ほう化ランタン）から成る電子銃、ブランキング電極、電子レンズから成る照明レンズ、矩形アパーチャ、電子レンズから成る成形レンズ、及び偏向器（いずれも図示せず）等を備えている。この照明系１８は、電子銃で発せられた電子ビームをブランキング電極、照明レンズ、矩形アパーチャ及び成形レンズにより、約１ｍｍ角の電子ビームの束となるように成形してほぼ均一なエネルギ密度の電子ビームをレチクルＲ上の約１ｍｍ角の領域（サブフィールドと呼ぶ）に照射して照明する。また、偏向器は、後述するレチクルＲの１つの分割パターン領域の非走査方向の幅ＲＷ（図３（Ａ）参照）に相当する偏向能力を十分有しており、この偏向器は後述する装置全体を統括する主制御装置１００（図１では図示せず、図５参照）によって制御されるようになっている。ここで、１つの分割パターン領域とは、ウエハＷ上の１つの区画領域に転写すべきパターン領域ではなく、ウエハ上の１つの区画領域に転写すべきパターンを複数に分割したパターン領域の１つを意味し、本実施形態では、図３（Ａ）に示されるようにレチクルＲ上には走査方向の長さＬ、非走査方向の幅ＲＷの２つの分割パターン領域ＰＡ、ＰＢが形成されているものとする。

前記レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲを静電吸着により保持して磁気浮上型２次元リニアアクチュエータ１９（図１では図示せず、図５参照）によってＸＹ２次元方向に駆動されるようになっている。本実施形態では、この磁気浮上型２次元リニアアクチュエータ１９として、Ｘ駆動コイル、Ｙ駆動コイルに加え、Ｚ駆動コイルを備えたものが用いられているので、レチクルステージＲＳＴはＸＹ面内の移動のみならず、Ｚ軸方向及びＸＹ面に対する傾斜方向にも微小駆動が可能に構成されている。勿論、レチクルステージＲＳＴを２組のリニアモータによって２次元駆動することも可能である。

レチクルステージＲＳＴには、図２及び図３（Ｂ）に示されるように、その中央部に、平面視円形の凹部としての座ぐり穴４０が形成されており、この座ぐり穴４０内部の底面には、外周部の一部を残して同心の円形開口４２が形成されている。そして、座ぐり穴４０内部の底面に不図示の静電チャックが設けられ、該静電チャックによりレチクルＲが吸着されるようになっている。また、図３（Ｂ）に示されるように、レチクルステージＲＳＴには、座ぐり穴４０を形成する内壁から、該内壁に直交する方向に所定深さを有する切り欠き４１ａ〜４１ｃが形成されている。これらの切り欠き４１ａ〜４１ｃは、等角度間隔（１２０°間隔）で形成されており、これら切り欠き４１ａ〜４１ｃには後述するエレベータユニット２６のアームが侵入可能となっている。

図１に戻り、レチクルステージＲＳＴのＸＹ面内の位置は、レチクルステージベース２０に固定されたレチクルレーザ干渉計システム３８によって、投影光学系ＰＬを基準として０．５〜１ｎｍ程度の分解能で検出されている。このレチクルレーザ干渉計システム３８の計測値は、ステージ制御系２１（図１では図示せず、図５参照）及びこれを介して主制御装置１００に供給されている。なお、このレチクルレーザ干渉計システム３８の構成については後述する。

レチクルＲのＺ位置及びＸＹ面に対する傾斜を検出する前記レチクルＡＦ／ＡＬ系としては、投影光学系ＰＬの物体面側にあるレチクルＲに対して複数のスリット像を形成するための結像光束を投影光学系ＰＬの光軸方向（Ｚ軸方向）に対して斜め方向より供給する照射系２２と、その結像光束のレチクル表面での各反射光束をそれぞれスリットを介して受光する受光系２４とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系が用いられている。この多点焦点位置検出系（２２、２４）としては、例えば特開平６−２８３４０３号公報に開示されるものと同様の構成のものが用いられ、この多点焦点位置検出系（２２、２４）の検出値は、主制御装置１００及びこれを介してステージ制御系２１に供給され、ステージ制御系２１ではレチクルＲと投影光学系ＰＬとが所定の間隔を保つようにレチクルステージＲＳＴを２次元リニアアクチュエータ１９を介してＺ方向及び傾斜方向に駆動する。

前記エレベータユニット２６は、レチクルステージＲＳＴに対するレチクルＲの受け渡し位置（ローディング／アンローディング・ポジション）の真上に設置されている。このエレベータユニット２６は、図２に詳細に示されるように、レチクル用真空チャンバ１２に形成された円形開口１２ａを閉塞する状態で設けられ、フランジ部５９ａを介して複数本のボルト４６によりレチクル用真空チャンバ１２に固定された円柱状のエレベータユニット本体５９と、該エレベータユニット本体５９の下端部に設けられた上下動・回転駆動部４３と、該上下動・回転駆動部４３の上下動・回転軸４３Ｂの先端部に設けられたハンド機構４８とを備えている。前記フランジ部５９ａのレチクル用真空チャンバ１２と対向する面には円環状の凹溝が形成されており、この凹溝内に設けられたＯリング等のシール部材６３により、開口１２ａを介したレチクル用真空チャンバ１２の内部と外部との気体の流出入が極力抑制されるようになっている。

前記上下動・回転駆動部４３は、エレベータユニット本体５９の下端部に設けられた円筒状のガイド部材４３Ａと、該ガイド部材４３Ａの中空部に挿入された上下動・回転軸４３Ｂとを備えている。前記上下動・回転軸４３Ｂはエレベータユニット本体５９に内蔵された上下動・回転駆動機構５１（図２では不図示、図５参照）によって、ガイド部材４３Ａの内壁に沿って図２中に矢印Ｃ、Ｃ’で示される上下方向（Ｚ軸方向）及び図２中の矢印Ｄ方向及びこれと反対方向、すなわちＺ軸回りの回転方向（θｚ方向）に駆動されるようになっている。

前記ハンド機構４８は、概略Ｗ字状の形状を有する複数本（ここでは３本）の支持部材としてのアーム４８ｃ₁，４８ｃ₂，４８ｃ₃（図２では１本のアーム４８ｃ₃については不図示、図３（Ａ）参照）と、該アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃のそれぞれをその上端部近傍を回転中心として回転駆動し、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の開閉を行う回動機構としてのアーム開閉機構４８ａと、複数本のねじ５２によってアーム開閉機構４８ａの下端部近傍に設けられたゴミ受け用のカバーとしてのゴミ受けカバー４８ｂとを備えている。なお、図２等では、アーム４８ｃ₁とアーム４８ｃ₂とがハンド機構４８の回転中心を介して対向するかのように図示しているが、説明及び図示の便宜上からこのように図示したのであって、実際には、図３（Ａ）に示されるように、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃は、等角度間隔（すなわち１２０°間隔）で配置されている。

また、アーム４８ｃ₁，４８ｃ₂，４８ｃ₃の先端（下端）には、レチクルＲを支持するための鉤の手状の支持部が形成されている。各アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の支持部の上面には、図３（Ａ）に示されるように、ラバーピン等から成るパッド５４がそれぞれ設けられている。

前記ゴミ受けカバー４８ｂは、上部が開口した箱状の部材から成り、その側壁に形成された複数（ここでは３つ）の開口を介して、前述したアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃がゴミ受けカバー４８ｂの内側から外側に突出した状態となっている。

図４には、レチクルステージベース２０の平面図が示されている。この図４において、実線で示されるレチクルステージＲＳＴは、レチクルＲのパターンをウエハＷ上に転写するための露光位置の中心、すなわち十字マークの中心ＡＸで示される投影光学系ＰＬの中心にレチクルステージＲＳＴの中心がほぼ一致した状態を示し、仮想線（二点鎖線）で示されるレチクルステージＲＳＴは、レチクルＲの受け渡し位置にある状態を示す。この図４から明らかなように、本実施形態では、レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲの受け渡し位置と露光位置との間を移動する構成となっている。換言すれば、レチクルＲのレチクルステージＲＳＴに対する受け渡し（ロード／アンロード）と露光とが別々の位置で行われるようになっているので、透過型のレチクルＲを使用するにもかかわらず、後述するようにエレベータユニット２６によって上方からレチクルステージＲＳＴに対するレチクルＲの受け渡しができるようになっている。

レチクルステージＲＳＴのＸ軸方向一側（＋Ｘ側）の側面及びＹ軸方向一側（＋Ｙ側）の側面には、鏡面加工により反射面１２１ａ、１２１ｂがそれぞれ形成されている。そして、レチクルステージＲＳＴの走査方向であるＹ軸方向の位置は、反射面１２１ｂに測長ビームＲＩＹを投射するレチクルＹレーザ干渉計３８Ｙにより常時計測されている。また、露光の際のレチクルステージＲＳＴの非走査方向であるＸ軸方向の位置は、露光位置にあるレチクルステージＲＳＴの反射面１２１ａに測長ビームＲＩＸ１を投射するレチクルＸレーザ干渉計３８Ｘ１によって計測され、レチクルＲのロード、アンロードの際のレチクルステージＲＳＴのＸ軸方向の位置は、受け渡し位置にあるレチクルステージＲＳＴの反射面１２１ａに測長ビームＲＩＸ２を投射可能なレチクルＸレーザ干渉計３８Ｘ２によって計測されるようになっている。干渉計３８Ｘ１と干渉計３８Ｘ２とは、移動の途中で切り換えが必要であるが、この切り換えは、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向移動途中の干渉計３８Ｘ１、３８Ｘ２からの測長ビームが同時に反射面１２１ａに照射された位置で、それまで使用していた干渉計の計測値にそれまで非使用であった干渉計の計測値を一致させる干渉計計測値のプリセットを行った後に行われる。この干渉計の切り換えの際にレチクルステージＲＳＴの回転による誤差を極力小さくするために、レチクルＹレーザ干渉計３８ＹとしてＹ軸方向位置の計測に加え、θｚ計測が可能な多軸干渉計が用いられている。また、各干渉計３８Ｘ１、３８Ｘ２、３８Ｙからの測長ビームは、レチクルＲのパターン面とほぼ同一高さ位置に照射されている（図１参照）。

このように、本実施形態では、レチクルＹレーザ干渉計３８Ｙと２つのレチクルＸレーザ干渉計３８Ｘ１、３８Ｘ２とを含んでレチクルレーザ干渉計システム３８が構成されているが、これら３つの干渉計が図１では代表的にレチクルレーザ干渉計システム３８として示されている。

また、本実施形態では、図４に示されるように、レチクルステージベース２０には、レチクルＲの受け渡し位置近傍に一対のマーク検出系としてのレチクルアライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂが配置されており、この一対のレチクルアライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂによって、受け渡し位置でレチクルＲのパターン面に形成された、レチクルアライメントマークを観察できるようになっている。レチクルアライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂの観察データは、主制御装置１００に供給されるようになっている（図５参照）。

図１に戻り、前記投影光学系ＰＬは、フランジ部ＦＬＧがその鏡筒部の高さ方向の中央やや上部に設けられ、該フランジ部ＦＬＧを介して支持フレーム５８に支持されている。この投影光学系ＰＬとしては、複数の電子レンズから成る縮小投影光学系が用いられている。この投影光学系ＰＬの縮小倍率（投影倍率）βは、ここでは１／４となっている。

前記ウエハステージＷＳＴは、磁気浮上型の２次元リニアアクチュエータ２９（図１では図示せず、図５参照）によってウエハステージベース３０上をＸＹ２次元方向に駆動されるようになっている。このウエハステージＷＳＴの上面には、ウエハホルダ６０を介してウエハＷが静電吸着により固定されている。ウエハホルダ６０は、駆動系６１（図１では図示せず、図５参照）によりＺ軸方向の微少駆動とＸＹ面に対する傾斜方向の駆動とＺ軸回りの回転方向（θｚ方向）の微少駆動とが可能となっている。ウエハステージＷＳＴのＸＹ面内の位置は、移動鏡６２を介してウエハレーザ干渉計システム６４によって投影光学系ＰＬを基準として０．５〜１ｎｍ程度の分解能で検出されている。このウエハレーザ干渉計システム６４の計測値は、ステージ制御系２１及びこれを介して主制御装置１００に供給されている（図５参照）。

ウエハステージＷＳＴの上面には、後述するアライメント検出系のベースライン計測用の基準マークその他の基準マークが形成された基準マーク板ＦＭが設けられている。この基準マーク板ＦＭの表面はウエハＷの表面とほぼ同一高さとされている。

ウエハＷのＺ位置及びＸＹ面に対する傾斜を検出する前記ウエハＡＦ／ＡＬ系としては、投影光学系ＰＬの像面側にあるウエハＷに対して複数のスリット像を形成するための結像光束を投影光学系ＰＬの光軸方向（Ｚ軸方向）に対して斜め方向より供給する照射系３２と、その結像光束のウエハ表面での各反射光束をそれぞれスリットを介して受光する受光系３４とから成る斜入射方式の多点焦点位置検出系が用いられている。この多点焦点位置検出系（３２、３４）としては、例えば特開平６−２８３４０３号公報に開示されるものと同様の構成のものが用いられ、この多点焦点位置検出系（３２、３４）の検出値は、主制御装置１００及びこれを介してステージ制御系２１に供給され、ステージ制御系２１ではウエハＷと投影光学系ＰＬとが所定の間隔を保つように駆動系６１を介してウエハホルダ６０をＺ方向及び傾斜方向に駆動する（図５参照）。

さらに、本実施形態の露光装置１０では、投影光学系ＰＬの側面に、ウエハＷ上の各ショット領域に付設されたアライメントマーク（ウエハマーク）の位置を検出するためのオフ・アクシス方式のアライメント検出系、例えば画像処理方式の結像式アライメント検出系ＡＬＧが設けられ、そのアライメント検出系ＡＬＧの計測結果が主制御装置１００に供給されるようになっている（図５参照）。そして、主制御装置１００では、露光に先立ってウエハマークの計測された位置に基づいて例えば特開昭６１−４４４２９号公報に開示される統計演算によりウエハＷ上のショット領域の配列座標を算出するＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）を行うようになっている。

図５には、露光装置１０の制御系の構成部分の内、これまでに説明した主要な構成部分が示されている。この図５の制御系は、マイクロコンピュータ（あるいはワークステーション）から成る主制御装置１００を中心として構成されている。

次に、上述のようにして構成された露光装置１０におけるレチクルＲの搬送動作について図１〜図３（Ｂ）、及び図６〜図１０を参照しつつ説明する。ここで、図６は図２の円Ｅ内を拡大して示す図である。

１． まず、主制御装置１００からの指示に基づき、レチクルＲを支持したローダロボットアーム７０が、図１に矢印Ｈで示されるように水平方向に移動し、レチクルＲを受け渡し位置に向けて搬送する。その後、このローダロボットアーム７０は、主制御装置１００からの指示に応じてエレベータユニット２６のほぼ真下の受け渡し位置まで移動して停止する。このローダロボットアーム７０が、受け渡し位置で停止した状態が図２に示されている。

このとき、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃は、レチクルＲと干渉しない位置、具体的には受け渡し位置上方の図２（より詳細には図６）中に符号Ｐ１で示される上方移動限界位置に待機している。この状態では、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃は、開状態とされている。

２． 次いで、主制御装置１００からの指示に応じ、エレベータユニット本体５９内の上下動・回転駆動機構５１（図５参照）により上下動・回転軸４３Ｂと一体でハンド機構４８が所定量だけ下方に駆動され、これにより３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が図２（より詳細には図６）中に符号Ｐ２で示される位置まで下降して停止する。この下降の際に、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の先端部（支持部）は、レチクルＲの高さ方向やや下側で、その外側に位置するようになっている。この状態においても、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃は、開状態に維持されている。

３． 次に、主制御装置１００からの指示に応じ、アーム開閉機構４８ａによりアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃がその上端部を回転中心として所定角度だけ回転駆動され、これにより、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が閉状態とされる。このときのアームの位置（姿勢を含む）が図２（より詳細には図６）においては、符号Ｐ３にて示されている。この場合、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の先端部（下端部）はレチクルＲのやや下方に位置している。

４． 次いで、主制御装置１００からの指示に応じ、上下動・回転駆動機構５１により上下動・回転軸４３Ｂと一体でハンド機構４８が所定量だけ上方に駆動される。これにより、３本のアーム４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃が上昇して鉤の手状の支持部の上面に設けられたパッド５４がレチクルＲの底面に接触し、更に３本のアーム４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃が上昇することにより、レチクルＲがアーム４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃によって下方から持ち上げられ、ローダロボットアーム７０から離間する。このようにしてレチクルＲがローダロボットアーム７０から３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃に受け渡される。

５． その後、主制御装置１００からの指示に応じ、該ローダロボットアーム７０は、矢印Ｈ方向と反対方向に移動して元の位置に戻っていく。このときのアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の位置（姿勢を含む）が図７に符号Ｐ４にて示されている。

６． 上記のようにして、ローダロボットアーム７０がレチクルＲと干渉しない位置まで退避すると、主制御装置１００からの指示に応じ、レチクルＲのレチクルステージＲＳＴ上への搬入のため、上下動・回転駆動機構５１により上下動・回転軸４３Ｂと一体でハンド機構４８が下降駆動され、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃に支持されたレチクルＲがレチクルステージＲＳＴの座ぐり穴４０内部の底面に当接する直前の位置に位置決めされる。このときのアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の位置（姿勢を含む）が図８に符号Ｐ５にて示されている。この場合、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃は、レチクルステージＲＳＴに形成された切欠き４１Ａ〜４１Ｃに挿入された状態となっている。

７． 次いで、主制御装置１００はレチクルステージベース２０の開口部２０ａ近傍に設置された一対のレチクルアライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂを用いてレチクルＲ上に形成されたアライメントマーク（位置合わせマーク）を観察し、その観察結果に基づいて基準点からのアライメントマークの位置ずれ、すなわちレチクルＲのＸＹ方向及びθｚ方向の誤差成分を算出する。そして、主制御装置１００は上記のθｚ方向の誤差成分Δθｚを補正するための指令値をエレベータユニット２６（エレベータユニット本体５９内）の上下動・回転駆動機構５１に与える。これにより、上下動・回転駆動機構５１によりハンド機構４８、すなわちアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が上記指令値に応じて回転駆動され、レチクルＲのθｚ方向誤差が、レチクルＲのレチクルステージＲＳＴ上への搬入の直前に補正される。一方、レチクルＲのＸＹ方向の誤差成分ΔＸ、ΔＹを補正するための指令値は主制御装置１００からステージ制御系２１に送られ、該ステージ制御系２１によってレチクルステージＲＳＴがＸＹ２次元方向に微少駆動され、レチクルＲのＸＹ誤差が、レチクルＲのレチクルステージＲＳＴ上への搬入の直前に補正される。

８． 上述のようにしてレチクルＲのＸＹ方向及びθｚ方向の誤差の補正、すなわちレチクルＲのアライメントが完了すると、主制御装置１００からの指示に応じ、上下動・回転駆動機構５１により上下動・回転軸４３Ｂと一体でハンド機構４８が僅かに下方に駆動される。これにより、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が図８中に符号Ｐ６で示される位置まで下降して停止する。この途中で、３本のアーム４８ｃ₁、４８ｃ₂、４８ｃ₃に支持されたレチクルＲがレチクルステージＲＳＴの座ぐり穴４０内部の底面に当接し、さらに３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が下降することにより、レチクルＲがレチクルステージＲＳＴに渡される。

９． 次いで、主制御装置１００からの指示に応じ、アーム開閉機構４８ａはアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の上端部を回転中心として所定角度だけ回転駆動し、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃を図９に示される符号Ｐ７の状態（開状態）に設定する。その後、主制御装置１００からの指示に応じ、上下動・回転駆動機構５１により上下動・回転軸４３Ｂと一体でハンド機構４８が上昇駆動され、これにより３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃は図１０の位置Ｐ８まで退避する。この場合の位置Ｐ８は、前述した図２に示される位置Ｐ１（初期位置）と一致している。

以上により、レチクルＲのレチクルステージＲＳＴへの搬入（ロード）が完了する。

レチクルステージＲＳＴ上からレチクルＲを搬出（アンロード）する際には、上記の７．の動作の除き、上記１．〜９．の手順と反対の手順で動作が行われる。

次に、上記のレチクルＲのロードに続いて行われる露光装置１０における露光処理工程の他の動作を簡単に説明する。

まず、主制御装置１００の管理の下、ウエハローダ３６によりウエハＷのウエハステージＷＳＴ上へのロードが行われ、また、ウエハステージＷＳＴ上の基準マーク板ＦＭ及びアライメント検出系ＡＬＧを用いたベースライン計測等の準備作業が所定の手順に従って行われる。

その後、主制御装置１００により、アライメント検出系ＡＬＧを用いてＥＧＡ等のウエハアラインメント計測が実行される。このような動作において、ウエハＷの移動が必要な場合には、主制御装置１００がステージ制御系２１を介して２次元リニアアクチュエータ２９を構成する所定の電機子コイルに供給する電流値、及び電流方向の少なくとも一方を制御することにより、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴを所望の方向に移動させる。ウエハアライメント計測の終了後、以下のようにして走査露光方式の露光動作が行われる。

この露光動作にあたって、まず、ウエハＷのＸＹ位置が、ウエハＷ上の最初の区画領域（ファースト・ショット領域）のうちの第１分割領域の露光のための走査開始位置となるように、ウエハステージＷＳＴが移動される。同時に、レチクルＲのＸＹ位置が、第１分割パターン領域ＰＡの走査開始位置となるように、レチクルステージＲＳＴが移動される。そして、主制御装置１００からの指示に基づき、ステージ制御系２１が、レチクルレーザ干渉計システム３８によって計測されたレチクルＲのＸＹ位置情報、ウエハレーザ干渉計システム６４によって計測されたウエハＷのＸＹ位置情報に基づき、２次元リニアアクチュエータ１９、２９を介してレチクルＲとウエハＷとを投影光学系ＰＬの投影倍率に応じた速度比で相互に逆向きにＹ軸方向に沿って同期移動させるとともに、これらの走査速度よりはるかに高速に照明系１８からレチクルＲ上に照射される１ｍｍ角の電子ビームの束を非走査方向（Ｘ軸方向）に第１分割パターン領域ＰＡの非走査方向の全域がスキャンされるように偏向する。この偏向は、主制御装置１００からの指示に基づき、照明系１８内の偏向器により行われる。これにより、第１分割パターン領域ＰＡの全体がウエハＷ上のファースト・ショット領域の内の第１分割領域に転写される。このような第１分割領域に対する走査露光中に、ステージ制御系２１では、レチクルＡＦ／ＡＬ系（２２、２４）の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴをＺ方向及びＸＹ面に対する傾斜方向に微少駆動してフォーカス・レベリング制御を行うとともに、ウエハＡＦ／ＡＬ系（３２、３４）の計測値に基づいてウエハホルダ６０をＺ方向及びＸＹ面に対する傾斜方向に微少駆動してフォーカス・レベリング制御を行う。

このようにして、第１分割パターン領域ＰＡの転写が終了すると、ステージ制御系２１によりレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとが同期して、例えばそれぞれＵ字状の移動軌跡となるように連続的に移動される。そして、ウエハＷのＸＹ位置が、ウエハＷ上のファースト・ショット領域の内の第２分割領域の露光のための走査開始位置となり、レチクルＲのＸＹ位置が、第２分割パターン領域ＰＢの走査開始位置となると、上記と同様にして第２分割パターン領域ＰＢのパターンがウエハＷ上のファースト・ショット領域の内の第１分割領域に隣接する第２分割領域に転写される。これにより、ウエハＷ上のファースト・ショット領域に対するレチクルパターンの転写が終了する。

このようにして、１つのショット領域に対するレチクルパターンの転写が終了すると、ウエハステージＷＳＴが所定量ステッピングされて、次のショット領域に対するレチクルパターンの転写が上記と同様にして行われ、このようにして、ステッピングとレチクルパターンの転写とが順次繰り返され、ウエハＷ上に必要なショット数のパターンが転写される。

以上詳細に説明したように、本実施形態によると、その一端部近傍にレチクルＲを支持する支持部を有し、他端部近傍を回転中心として回動自在とされた３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が、回動動作及び上下動動作を行うことにより、レチクルＲの一方の面（下面）が３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の支持部にて支持され（第１工程）、該支持されたレチクルＲがレチクルステージＲＳＴ上に搬入される（第２工程）。そして、該搬入後、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が回動動作及び上下動動作を行うことによりレチクルＲの他方の面（上面）側へ３本のアームが退避される（第３工程）。すなわち、レチクルＲのレチクルステージＲＳＴ上へのロード（及びアンロード）を、レチクルステージの載置面にほぼ垂直な方向から行うことが可能である。従って、レチクルＲの載置面がレチクルステージＲＳＴの上面から掘り下げられた位置にあるような場合であっても、レチクルステージＲＳＴ上へのロード（レチクルステージＲＳＴからのアンロード）を容易に行うことが可能である。このため、レチクルステージＲＳＴ側に斜入射方式の多点焦点位置検出系等のフォーカス・レベリングセンサを採用することが可能となり、レチクルＲのフォーカス・レベリング制御が可能となって、従来のウエハ側ＡＦ／ＡＬ系のみを備えた露光装置に比べて一層高精度なレチクルパターンのウエハＷ上への転写が可能となる。

また、本実施形態によると、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃がレチクルＲの上面側から下面側、及び下面側から上面側への移動を、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の開閉動作により実現していることから、レチクルＲに切欠き等の加工を施したり、切欠きが形成されたリング（サポートリング）を取り付けたりしなくても良いようになっている。

また、本実施形態によると、レチクルＲの受け渡し位置の下方に一対のレチクルアライメント顕微鏡６８Ａ、６８Ｂが配置されているので、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃がレチクルＲを支持した後、レチクルステージＲＳＴへのレチクルＲの搬入が完了するまでの間に、レチクルＲに形成されたレチクルアライメントマークを観察・測定し、エレベータユニット２６によりレチクルＲのθｚ誤差を補正し、レチクルステージＲＳＴのＸＹ移動によってレチクルのＸＹ誤差を補正することにより、レチクルステージＲＳＴへのレチクルＲの搬入に先立って、レチクルアライメントを行うことが可能となっている。また、結果的にレチクルステージＲＳＴに従来のようなθｚステージ（θｚ回転機構）が不要となり、レチクルステージＲＳＴの構造を簡略化することができる。

また、本実施形態においては、３本のアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の支持部には、パッド５４が設けられていることから、例えばアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃が鉄等の金属であり、レチクルＲがシリコンカーバイド等の非金属である場合には、パッド５４によりレチクルＲとアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃とが直接接触するのを防止することができるので、レチクルＲに傷がついたり、塵が発生したりすることを極力防止することが可能となる。この場合、パッドとしてゴムを用いれば、摩擦係数が高いのでアーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃によりレチクルＲを安定して支持することができる。

また、本実施形態では、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃を開閉するアーム開閉機構４８ａの下側にゴミ受けトレー４８ｂを設けていることから、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃の開閉駆動によって塵等が発生しても、この塵等が下方、すなわちレチクルステージＲＳＴ側に落下するのが防止あるいは効果的に抑制できるようになっている。なお、ゴミ受けトレーは、上下動・回転軸４３Ｂの周囲に設けることとしても良い。

なお、レチクルＲのＸＹ誤差及びθｚ誤差のいずれもレチクルステージＲＳＴの移動により行うこととしても良いし、エレベータユニット２６の上下動・回転駆動部４３がエレベータユニット本体５９内の上下動・回転駆動機構５１により、ＸＹ方向にも駆動可能に構成されている場合には、レチクルＲのＸＹ誤差及びθｚ誤差の両方をエレベータユニット２６の駆動により補正することとしても良い。

なお、上記実施形態では、アーム４８ｃ₁〜４８ｃ₃をその上端部近傍にて回動する場合について説明したが、図１１（Ａ）に示されるようなアーム４８ｃ’、図１１（Ｂ）に示されるようなアーム４８ｃ”を採用することも可能である。

すなわち、これらのアーム４８ｃ’、４８ｃ”のように、アームの中間部に関節部９９を有し、該関節部９９を中心に回動可能な構成とすることができる。この場合、関節部９９にアーム開閉機構を直接的に設けても良いし、エレベータユニット５９内に上下動・回転駆動機構５１とともにアーム開閉機構を設け、該アーム開閉機構とアームの一部とを繋ぐワイヤーを介してアームを開閉駆動することとしても良い。なお、図１１（Ａ），図１１（Ｂ）に限らず、アームの回動中心は、アームの支持部よりも上側であればいずれの位置であっても良い。

また、上記実施形態では、円板状のレチクルＲを用い、エレベータユニット２６が該円板状のレチクルＲをレチクルステージＲＳＴ上に搬入する場合について説明したが、これに限らず、上記実施形態のエレベータユニット２６は、平面視長方形状その他の形状を有するレチクルについても好適に適用することが可能である。また、レチクルに限らずウエハ側についても好適に適用することが可能である。

また、上記実施形態では支持部材としてのアームが３本ある場合について説明したが、これは円板状の搬送対象物を安定性良く支持しかつその構成を最も簡単にする観点からアームを３本設けたものである。しかし、これに限らず、支持部材は２本、あるいは４本以上設けても構わない。支持部材を２本とする場合には、各支持部材の搬送対象物との接触部を搬送対象物の外縁に沿うある程度の範囲を安定性良く支持できる形状とすれば良い。

また、上記実施形態では、レチクルステージＲＳＴに対するレチクルＲの搬入の際には、支持部材としての３本のアーム４８ｃを上下方向に駆動するものとしたが、ステージが上下動可能であればステージの方を上下動させても良く、あるいは支持部材とステージとを上下方向に相対駆動しても良い。

なお、上記実施形態では、本発明がＥＢＰＳ方式を採用する電子ビーム露光装置に適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されるものではなく、例えば、光源として超高圧水銀ランプ、あるいはＫｒＦエキシマレーザ装置（発振波長２４８ｎｍ）を備えた遠紫外（ＤＵＶ）露光装置や、ＡｒＦエキシマレーザ装置（発振波長１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ装置（発振波長１５７ｎｍ）を光源とする真空紫外（ＶＵＶ）露光装置、あるいは軟Ｘ線領域の極端紫外光（ＥＵＶ光）を発する光源を備えたＥＵＶ露光装置などの露光装置にも本発明は好適に適用できる。

かかる光露光装置は、マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを露光する走査型の露光装置（例えば米国特許第５，４７３，４１０号）や、マスクと基板とを静止した状態でマスクのパターンを基板に転写するとともに、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート型の露光装置のいずれでも良い。

また、かかる露光装置を構成する投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良い。また、投影光学系としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ₂レーザ光やＥＵＶ光を用いる場合は反射屈折系または反射系の光学系にし、レチクルも反射型タイプのものを用いれば良い。かかる反射型タイプのレチクルを用いる場合には、露光位置の近傍でレチクルのロード、アンロードを行うようにしても良い。

また、ウエハステージやレチクルステージにリニアモータ（米国特許第５，６２３，８５３号又は米国特許第５，５２８，１１８号の公報参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力又はリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いても良い。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイブでも良いし、ガイドを設けないガイドレスタイプでも良い。

ウエハステージの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報（米国特許第５，５２８，１１８号）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしても良い。レチクルステージの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしても良い。

さらに、本発明は、半導体素子の製造に用いられる露光装置だけでなく、液晶表示素子、プラズマディスプレイなどを含むディスプレイの製造に用いられる、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気へッドの製造に用いられる、デバイスパターンをセラミックウエハ上に転写する露光装置、撮像素子（ＣＣＤなど）、マイクロマシン、及びＤＮＡチップなどの製造、さらにはマスク又はレチクルの製造に用いられる露光装置などにも適用することができる。

なお、複数の電子レンズ等から構成される照明系、投影光学系を露光装置本体に組み込み調整をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより上記実施形態の露光装置を製造することができる。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに転写するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。

本発明の搬送方法及び搬送装置は、ステージとの間で搬送対象物の受け渡しを行うのに適している。また、本発明の露光装置は、マスクに形成されたパターンを物体上に転写するのに適している。

一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。 図１のエレベータユニット近傍を拡大して示す図である。 図３（Ａ）は、図２のＡ−Ａ線断面図であり、図３（Ｂ）は、レチクルステージＲＳＴの平面図である。 図１のレチクルステージベースの平面図である。 図１の露光装置の制御系の構成を示すブロック図である。 図２の円Ｅ内部分を拡大して示す図である。 図２のエレベータユニットによるレチクルロードを説明するための図（その１）である。 図２のエレベータユニットによるレチクルロードを説明するための図（その２）である。 図２のエレベータユニットによるレチクルロードを説明するための図（その３）である。 図２のエレベータユニットによるレチクルロードを説明するための図（その４）である。 エレベータユニットを構成する複数のアームの変形例を説明するための図である。

符号の説明

４０…凹部、４１ａ〜４１ｃ…溝、４４…上下動・回転駆動部（駆動機構）、４８ａ…アーム開閉機構（回動機構）、４８ｂ…ゴミ受けカバー（ゴミ受け用のカバー）、４８ｃ₁〜４８ｃ₃…アーム（支持部材）、５４…パッド、６８Ａ、６８Ｂ…レチクルアライメント顕微鏡（マーク検出系）、Ｒ…レチクル（搬送対象物、マスク）、ＲＳＴ…レチクルステージ（ステージ、マスクステージ）、Ｗ…ウエハ（物体）、ＷＳＴ…ウエハステージ（物体ステージ）。

Claims (15)

1. ステージとの間で搬送対象物の受け渡しを行う搬送方法であって、
   その一端部近傍に前記搬送対象物を支持する支持部を有し、該支持部よりも他端部側を回転中心として回動自在とされた複数の支持部材の、前記回動動作を含む第１の動作により、前記搬送対象物の一方の面を前記複数の支持部材の支持部にて支持する第１工程と；
   前記複数の支持部材に支持された前記搬送対象物を前記ステージ上に搬入する第２工程と；
   前記搬送対象物を前記ステージ上に搬入した後、前記回動動作を含む第２の動作により前記搬送対象物の他方の面側へ前記複数の支持部材を退避する第３工程と；を含む搬送方法。
2. 前記第１工程における前記第１の動作及び前記第３工程における前記第２の動作の少なくとも一方は、前記複数の支持部材の前記回動動作と重力方向に平行な所定軸方向への移動動作とを含むことを特徴とする請求項１に記載の搬送方法。
3. 前記第１工程の処理が完了した後、前記第２工程の処理が完了する前に行われる、前記搬送対象物の所定の基準状態からの誤差を計測する工程と；
   前記計測された誤差に基づいて、前記搬送対象物の位置を補正する工程と；を更に含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送方法。
4. 前記搬送対象物の位置を補正する工程では、前記搬送対象物の回転方向の位置は、前記複数の支持部材により保持された状態で補正されることを特徴とする請求項３に記載の搬送方法。
5. 前記搬送対象物の位置を補正する工程では、前記搬送対象物の前記所定軸方向に直交する面内の位置は、前記ステージの移動により補正されることを特徴とする請求項３又は４に記載の搬送方法。
6. ステージとの間で搬送対象物の受け渡しを行う搬送装置であって、
   その一端部近傍に前記搬送対象物を支持する支持部を有し、該支持部よりも他端部側が回転中心とされた複数の支持部材と；
   前記回転中心を中心に前記複数の支持部材の支持部が互いに接近及び離間するように、前記支持部材の回動動作を行う回動機構と；
   前記複数の支持部材を重力方向に平行な所定軸方向に駆動する駆動機構と；を備える搬送装置。
7. 前記支持部材の支持部には、パッドが設けられていることを特徴とする請求項６に記載の搬送装置。
8. 前記駆動機構は、前記回動機構を前記複数の支持部材とともに前記所定軸回りの回転方向に更に駆動することを特徴とする請求項６又は７に記載の搬送装置。
9. 前記支持部材は３つ設けられ、前記搬送対象物は前記３つの支持部材により一直線上に無い異なる３点で支持されることを特徴とする請求項６〜８のいずれか一項に記載の搬送装置。
10. 前記回動機構及び前記駆動機構の少なくとも一方の駆動部分を少なくとも覆う状態で設けられたごみ受け用のカバーを更に備えることを特徴とする請求項６〜９のいずれか一項に記載の搬送装置。
11. 前記搬送対象物は円板状の形状を有することを特徴とする請求項６〜１０のいずれか一項に記載の搬送装置。
12. マスクに形成されたパターンを物体上に転写する露光装置であって、
    前記マスクを保持するマスクステージと；
    前記物体を保持する物体ステージと；
    前記マスクステージ及び前記物体ステージの少なくとも一方の特定ステージに対して、前記マスク及び前記物体の少なくとも一方である搬送対象物を搬送する請求項６〜１１のいずれか一項に記載の搬送装置と；を備える露光装置。
13. 前記搬送装置の近傍に設けられ、前記搬送装置によって搬送される前記搬送対象物に形成されたマークを検出するマーク検出系を更に備えることを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
14. 前記特定ステージの前記搬送対象物の載置面は、前記特定ステージに形成された凹部内の底面に設けられていることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の露光装置。
15. 前記特定ステージの前記凹部内の底面には、前記複数の支持部材を挿入可能な溝が前記支持部材に対応して形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
    

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