JP2006005024A - 基板処理装置および基板移動装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 占有面積を縮小することができると共に、振動静定性や位置決め精度、位置決めタクトタイムの向上を図ることができる基板位置決め装置およびこれを用いたフラットパネルディスプレイ製造装置を提供する。
【解決手段】 直線移動機構により、ガラス基板１０の中心Ｃが局所処理部２０に対向する。次いで、ガラス基板１０が個別処理領域の一つ、例えば個別処理領域１０Ａを含む可動範囲３２Ａ内で移動すると共に、局所処理部２０によりガラス基板１０の個別処理領域１０Ａに対する処理が行われる。処理が終了したのち、回転機構によりガラス基板１０が９０度だけ回転することによりガラス基板１０上の他の個別処理領域、例えば個別処理領域１０Ｂが可動範囲３２Ａに合わせられ、そののち直線移動機構および局所処理部２０によるガラス基板１０の処理が行われる。
【選択図】図３

Description

本発明は、液晶または有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ製造装置全般に好適な基板処理装置およびこれに用いる基板移動装置に関する。

液晶または有機エレクトロルミネッセンスディスプレイに代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ；Flat Panel Display）は、近年ますます大型化し、これに伴いパネル材料となるガラス基板の寸法も大型化してきている。

ここで問題となっているのが、検査機、リペア機またはステッパ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）アレーパターニング用の分割露光機）などのフラットパネルディスプレイ製造装置の巨大化である。従来のフラットパネルディスプレイ製造装置では、例えば図７に示したように、基台１１１上のガラス基板１１０の上方に、装置目的に応じた処理を行うための局所処理部１２０が設けられている。局所処理部１２０は、具体的には、検査機では顕微鏡、リペア機では加工ヘッド、ステッパでは露光部や小型マスク等である。局所処理部１２０は、架橋部１２１に固定され、架橋部１２１の脚部１２１Ａ，１２１Ｂは基台１１１に取り付けられている。ガラス基板１１０は、基台１１１上に設けられた基板保持部１３１に保持されている。基板保持部１３１は、Ｘ軸ユニット１３２ＸおよびＹ軸ユニット１３２Ｙにより構成された直線移動機構１３２によりガラス基板１１０をＸ−Ｙ軸方向に移動させ、ガラス基板１１０を局所処理部１２０に対向する位置に位置決めすることができるようになっている（例えば、特許文献１参照。）。
特開平９−３１１３５０号公報

しかしながら、このような従来のフラットパネルディスプレイ製造装置では、ガラス基板１１０上のすべての点を局所処理部１２０に合わせるためには、ガラス基板１１０の面積の約４倍の最大移動範囲１１０Ｍが必要となる。一方、ガラス基板１１０の寸法は、近年いわゆる第７世代（１８７０ｍｍ×２２００ｍｍ）まで達し、装置の巨大化の問題は更に深刻になっている。

そこで、従来では、少しでも占有面積を小さくするために、例えば図８に示したように、局所処理部１２０をＸ軸ユニット１３２Ｘに搭載し、局所処理部１２０を移動させることによりガラス基板１１０の最大移動範囲１１０Ｍを小さくする方法が採用されてきた。更に、図９に示したように、基台１１１に基板保持部１３１を固定する一方、局所処理部１２０をＸ軸ユニット１３２Ｘに搭載し、かつ局所処理部１２０を支持する架橋部１２１および脚部１２１Ａ，１２１ＢをＹ軸ユニット１３２Ｙに搭載するようにしたものも開発されている。

しかし、図８または図９に示した構成では、局所処理部１２０にレーザやカメラ等、振動の影響を受けやすい部品が含まれている場合、局所処理部１２０の移動に伴う振動により故障の原因となってしまうおそれがあった。このため、例えば、レーザは固定し、ファイバーケーブルによりレーザ光を加工ヘッドに供給することも提案されているが、ファイバーケーブル内部でのパワー損失があり、特に紫外領域のレーザではパワー損失が激しく実用に耐えないという問題があった。

また、局所処理部１２０を動かすためには、Ｘ軸ユニット１３２Ｘを局所処理部１２０と共に基台１１１の上方に設置することになる。その結果、装置の重心が高くなってしまい、振動静定性の悪化、位置決め精度の低下、位置決めタクトタイムの悪化等の問題の原因になっていた。更に、レーザＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ；化学的気相成長）法によるリペア機のように局所処理部１２０にガスを供給する必要がある場合には、ガス導入用の配管を局所処理部１２０と共に動かす必要があった。しかし、十分な耐屈曲性を持ち、長期間ガスリークを起こさずに使用可能な配管を製作することは困難であった。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、占有面積を縮小することができると共に、振動静定性や位置決め精度、位置決めタクトタイムの向上を図ることができる基板処理装置およびこれに用いる基板移動装置を提供することにある。

本発明による基板処理装置は、表面に分割された複数の個別処理領域を有する基板に対して、個別処理領域毎に所定の処理を行うものであり、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の要件を備えたものである。
（Ａ）二次元座標系の固定位置に設けられ、基板に対して局所的に処理を行う局所処理部
（Ｂ）基板を固定して保持する基板保持部
（Ｃ）基板保持部に保持された基板を二次元座標軸方向に移動させる直線移動機構
（Ｄ）基板保持部に保持された基板をその特定位置を中心として二次元座標面内で回転させる回転機構
（Ｅ）直線移動機構により、基板の特定位置を局所処理部に対向させたのち、基板を個別処理領域を含む可動範囲内で移動させると共に、局所処理部により基板の個別処理領域に対する処理を行わせ、処理が終了したのち、回転機構により基板を所定の角度だけ回転させることにより基板上の他の個別処理領域を可動範囲に合わせ、そののち直線移動機構および局所処理部による基板の処理を行わせる制御部

本発明による基板移動装置は、二次元座標系の固定位置に局所処理部を有し、局所処理部により、表面に分割された複数の個別処理領域を有する基板に対して個別処理領域毎に所定の処理を行う基板処理装置に用いるものであって、以下の（Ｆ）〜（Ｉ）の要件を備えたものである。
（Ｆ）基板を固定して保持する基板保持部
（Ｇ）基板保持部に保持された基板を二次元座標軸方向に移動させる直線移動機構
（Ｈ）基板保持部に保持された基板をその特定位置を中心として二次元座標面内で回転させる回転機構
（Ｉ）直線移動機構により、基板の特定位置を局所処理部に対向させたのち、基板を個別処理領域を含む可動範囲内で移動させると共に、局所処理部による処理が終了したのち、回転機構により基板を所定の角度だけ回転させることにより基板上の他の個別処理領域を可動範囲に合わせ、そののち直線移動機構により基板を移動させる制御部

本発明の基板処理装置では、直線移動機構により、基板の特定位置が局所処理部に対向したのち、基板が、個別処理領域を含む可動範囲内で移動すると共に、局所処理部により基板の個別処理領域に対する処理が行われる。処理が終了したのち、回転機構により基板が所定の角度だけ回転することにより基板上の他の個別処理領域が可動範囲に合わせられ、そののち直線移動機構および局所処理部による基板の処理が行われる。

本発明の基板移動装置では、直線移動機構により、基板の特定位置が局所処理部に対向したのち、基板が個別処理領域を含む可動範囲内で移動する。局所処理部による処理が終了したのち、回転機構により基板が所定の角度だけ回転することにより基板上の他の個別処理領域が可動範囲に合わせられ、そののち直線移動機構により基板が移動する。

本発明の基板処理装置、または本発明の基板移動装置によれば、直線移動機構により、基板の特定位置を局所処理部に対向させたのち、基板を個別処理領域を含む可動範囲内で移動させると共に、局所処理部により基板の個別処理領域に対する処理を行わせ、処理が終了したのち、回転機構により基板を所定の角度だけ回転させることにより基板上の他の個別処理領域を可動範囲に合わせ、そののち直線移動機構および局所処理部による基板の処理を行わせるようにしたので、直線移動機構の可動範囲を基板面積よりも小さく制限しても、基板上のすべての点を局所処理部に合わせることが可能となる。よって、直線移動機構の可動距離（ストローク）を短くすると共に基板の最大移動範囲を小さくし、装置の占有面積を縮小することができる。占有面積の縮小により、装置が設置されるクリーンルームの運用コストもそれだけ削減することができ、低コスト化に有利である。特に、年々大型化するフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を対象とした検査機、リペア機またはステッパ等、フラットパネルディスプレイ製造装置全般に極めて好適である。

また、局所処理部は固定位置に配置することができるので、直線移動機構や回転機構を装置の下方に設け、装置の重心を低くすることができる。よって、振動静定性や位置決め精度を向上させ、位置決めタクトタイムを短縮することができる。更に、レーザやカメラ等、振動の影響を受けやすい部品を移動させる必要がなく、振動に起因した故障を防止することができる。加えて、レーザＣＶＤ法によるリペア機のように局所処理部にガスを供給する必要がある場合であっても、ガス導入用の配管に対する機械的負担を小さくすることができ、ガスリークを抑制することができる。

特に、制御部が、基板を回転させる際に、基板を、その特定位置が局所処理部に対向する位置からずれるように退避させ、所定の角度回転させたのち、特定位置が局所処理部に対向するよう復帰させるようにすれば、基板を回転させても最大移動範囲を拡大させることがない。よって、余った場所に局所処理部を支える架橋部の脚部を立てることなども可能となり、貴重な空間を節約して装置を更に小型化し、占有面積を縮小することができる。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。

図１は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の平面構成を表している。この基板処理装置は、例えば、液晶あるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの製造において、検査機、リペア機あるいはステッパ等として用いられるものであり、基台１１上に、処理対象であるフラットパネルディスプレイ用のガラス基板１０に対して局所的な処理を行うための局所処理部２０と、局所処理部２０を基準点としてガラス基板１０を位置決めする基板移動部３０と、局所処理部２０および基板移動部３０を制御する制御部４０を備えている。

ガラス基板１０は、図２に示したように、全体が矩形状であり、表面に四分割された個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄを有すると共に、各個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの処理がなされる毎に後述する回転機構３３により９０度回転するようになっている。これら四つの個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄは、ガラス基板１０の中心Ｃを含む２本の線分により対称形状をなすように分割されている。

図１に示した局所処理部２０は、Ｘ−Ｙ二次元座標系の固定位置に設けられ、ガラス基板１０に対して装置目的に応じた処理を行うためのものである。局所処理部２０は、具体的には、検査機では顕微鏡、リペア機では加工ヘッド、ステッパでは露光部や小型マスク等であり、それぞれ公知の構成のものを用いることができる。局所処理部２０は、架橋部２１に支持され、架橋部２１の脚部２１Ａ，２１Ｂは基台１１に取り付けられている。なお、局所処理部２０には、必要に応じてレーザやカメラ等、振動の影響を受けやすい部品や、ガス導入用の配管などが設けられている。

図１に示した基板移動部３０は、ガラス基板１０を固定して保持する基板保持部３１と、Ｘ軸ユニット３２ＸおよびＹ軸ユニット３２Ｙを有し、基板保持部３１に保持されたガラス基板１０をＸ−Ｙ軸方向に移動させる直線移動機構３２と、基板保持部３１に保持されたガラス基板１０を特定位置、例えば中心Ｃの周りでＸ−Ｙ座標面内で回転させる回転機構３３とを有している。

制御部４０は、直線移動機構３３により、ガラス基板１０の中心Ｃを局所処理部２０に対向させたのち、図２に示したように、ガラス基板１０を個別処理領域の一つ、例えば個別処理領域１０Ａを含む可動範囲３２Ａ（図２において斜線を付した領域）内で移動させると共に、局所処理部２０によりガラス基板１０の個別処理領域１０Ａに対する処理を行わせ、処理が終了したのち、回転機構３３によりガラス基板１０を９０度だけ回転させることによりガラス基板１０上の他の個別処理領域、例えば個別処理領域１０Ｂを可動範囲３２Ａに合わせ、そののち直線移動機構３２および局所処理部２０によるガラス基板１０の処理を行わせるものである。これにより、この基板処理装置では、直線移動機構３２の可動範囲３２Ａをガラス基板１０の面積よりも小さくしても、ガラス基板１０上のすべての点を局所処理部２０に合わせることが可能となっている。直線移動機構３２による可動範囲３２Ａは、例えば、ガラス基板１０の長辺の２分の１の長さを一辺とする正方形をなしている。

直線移動機構３２によるガラス基板１０の最大移動範囲１０Ｍは、図３に示したように、ガラス基板１０が横長に配置されている場合の移動範囲と、ガラス基板１０が縦長に配置されている場合の移動範囲とを合わせた略十字形の領域（図１および図３において太い２点鎖線で囲まれた領域）となる。図４は、この基板処理装置と、図７に示した従来の装置との占有面積を比較して表したものである。比較のため、架橋部２１，１２１の脚部２１Ａ，２１Ｂ，１２１Ａ，１２１Ｂを同じ大きさで表している。図４から分かるように、本実施の形態の基板処理装置では、従来に比べて占有面積が約３分の２に小さくなっており、明らかに占有面積を縮小することができる。

更に、制御部４０は、図３に示したように、ガラス基板１０を回転させる際に、ガラス基板１０を、その中心Ｃが局所処理部２０に対向する位置からずれるように退避させ、９０度回転させたのち、中心Ｃが局所処理部２０に対向するよう復帰させるようになっている。これにより、ガラス基板１０が回転することにより最大移動範囲１０Ｍが広くなってしまうことを防ぐと共に、余剰部分５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，５０Ｄに、局所処理部２０を支える架橋部２１の脚部２１Ａ，２１Ｂを立てることができ、貴重な空間を節約して装置を更に小型化し、占有面積を縮小することができる。ガラス基板１０の退避位置、すなわちガラス基板１０の回転中心位置３３Ａは、例えば、回転機構３２によるガラス基板１０の回転範囲が直線移動機構３２によるガラス基板１０の最大移動範囲１０Ｍ内に収まる位置（図３において細い点線で示した位置）となるようにすることが好ましい。

図５は、ガラス基板１０の個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ毎に局所処理部２０による処理を行う工程を表すものであり、制御部４０による局所処理部２０、直線移動機構３２および回転機構３３の制御によって、以下の動作が行われる。まず、基板保持部３１にガラス基板１０が載置されると、直線移動機構３２によりガラス基板１０が適宜移動することにより、ガラス基板１０の中心Ｃが局所処理部２０に対向する（ステップＳ１０１）。このとき、ガラス基板１０の四つの個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄのいずれか、例えば個別処理領域１０Ａが直線移動機構３２の可動範囲３２Ａに合わせられる。なお、このとき、必要に応じて回転機構３３によりガラス基板１０を回転させて傾きを直すようにしてもよい。

次いで、直線移動機構３２により、ガラス基板１０が可動範囲３２Ａ内で移動すると共に、局所処理部２０によりガラス基板１０の個別処理領域１０Ａに対する処理が行われる。（ステップＳ１０２）。ここでは、局所処理部２０は固定位置に設けられているので、直線移動機構３２や回転機構３３は装置の下方に設けられ、装置の重心が低くなっている。よって、振動静定性および位置決め精度が向上すると共に位置決めタクトタイムが短くなる。また、レーザやカメラ等の振動の影響を受けやすいものを移動させる必要がなくなるので、振動によって故障するようなことがなくなる。更に、レーザＣＶＤ法によるリペア機のように局所処理部２０にガスを供給する必要がある場合にも、ガス導入用の配管に対する機械的負担が小さくなり、ガスリークが抑制される。

処理が終了したのち、直線移動機構３２により、ガラス基板１０が、その中心Ｃが局所処理部２０に対向する位置からずれるように退避し（ステップＳ１０３）、中心Ｃが回転中心位置３３Ａに合わせられる。

そののち、回転機構３３により、ガラス基板１０が９０度回転する（ステップＳ１０４）。このとき、ガラス基板１０の中心Ｃが局所処理部２０に対向する位置からずれた回転中心位置３３Ａに合わせられているので、ガラス基板１０を回転させても最大移動範囲１０Ｍが広がってしまうことがなくなる。よって、余剰部分５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，５０Ｄに、局所処理部２０を支える架橋部２１の脚部２１Ａ，２１Ｂが設けられている場合であっても、ガラス基板１０が回転する際に脚部２１Ａ，２１Ｂに衝突することなどが防止される。

ガラス基板１０が回転したのち、直線移動機構３２により、ガラス基板１０が、その中心Ｃが局所処理部２０に対向するように復帰する（ステップＳ１０５）。これにより、ガラス基板１０上の他の個別処理領域、例えば個別処理領域１０Ｂが直線移動機構３２の可動範囲３２Ａに合わせられる。

ガラス基板１０が元の位置に復帰したのち、直線移動機構３２および局所処理部２０によりガラス基板１０の個別処理領域１０Ｂに対する処理が行われる（ステップＳ１０６）。

処理が終了したのち、ガラス基板１０上に設定されたすべての個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの処理が終了したか否かが判断される（ステップＳ１０７）。すべての個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの処理が終了していないと判断された場合（ステップＳ１０７；Ｎ）、ステップＳ１０３ないしステップＳ１０６の工程が繰り返されることにより個別処理領域１０Ｃ，１０Ｄが順次処理される。このようにして最後の個別処理領域１０Ｄの処理が完了し（ステップＳ１０６）、すべての個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの処理が終了したと判断された場合（ステップＳ１０７；Ｙ）、ガラス基板１０の処理は完了する。処理が終了したガラス基板１０は、基板保持部３１から取り外すことができる。

このように本実施の形態では、直線移動機構３２により、ガラス基板１０を個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの一つ、例えば個別処理領域１０Ａを含む可動範囲３２Ａ内で移動させると共に、局所処理部２０によりガラス基板１０の個別処理領域１０Ａに対する処理を行わせ、処理が終了したのち、回転機構３３によりガラス基板１０を９０度だけ回転させることによりガラス基板１０上の他の個別処理領域、例えば個別処理領域１０Ｂを可動範囲３２Ａに合わせ、そののち直線移動機構３２および局所処理部２０によるガラス基板１０の処理を行わせるようにしたので、直線移動機構３２の可動範囲３２Ａをガラス基板１０の面積よりも小さく制限しても、ガラス基板２０上のすべての点を局所処理部２０に合わせることが可能となる。よって、直線移動機構３２の可動距離（ストローク）を短くすると共にガラス基板１０の最大移動範囲１０Ｍを小さくし、装置の占有面積を縮小することができる。占有面積の縮小により、装置が設置されるクリーンルームの運用コストもそれだけ削減することができ、低コスト化に有利である。特に、年々大型化するフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を対象とした検査機、リペア機またはステッパ等、フラットパネルディスプレイ製造装置全般に極めて好適である。

また、局所処理部２０は固定位置に配置することができるので、直線移動機構３２や回転機構３３を装置の下方に設け、装置の重心を低くすることができる。よって、振動静定性や位置決め精度を向上させ、位置決めタクトタイムを短縮することができる。更に、レーザやカメラ等、振動の影響を受けやすい部品を移動させる必要がなく、振動に起因した故障を防止することができる。加えて、レーザＣＶＤ法によるリペア機のように局所処理部２０にガスを供給する必要がある場合であっても、ガス導入用の配管に対する機械的負担を小さくすることができ、ガスリークを抑制することができる。

特に、制御部４０が、ガラス基板１０を回転させる際に、ガラス基板１０を、その中心Ｃが局所処理部２０に対向する位置からずれるように退避させ、９０度回転させたのち、中心Ｃが局所処理部２０に対向するよう復帰させるようにすれば、ガラス基板１０を回転させても最大移動範囲１０Ｍを拡大させることがない。よって、余剰部分５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，５０Ｄに局所処理部２０を支える架橋部２１の脚部２１Ａ，２１Ｂを立てることなども可能となり、貴重な空間を節約して装置を更に小型化し、占有面積を縮小することができる。

以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。例えば、上記実施の形態においては、基板処理装置の構成を具体的に挙げて説明したが、基板処理装置の構成は上記実施の形態に限られない。例えば、上記実施の形態では、制御部４０が、局所処理部２０および基板移動部３０の両方を制御する場合について説明したが、制御部４０は基板移動部３０のみを制御し、局所処理部２０は別途制御を受けるようにしてもよい。その場合、制御部４０は、直線移動機構３３により、ガラス基板１０の中心Ｃを局所処理部２０に対向させたのち、ガラス基板１０を個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの一つ、例えば個別処理領域１０Ａを含む可動範囲３２Ａ内で移動させると共に、局所処理部２０による処理が終了したのち、回転機構３３によりガラス基板１０を９０度だけ回転させることによりガラス基板１０上の他の個別処理領域、例えば個別処理領域１０Ｂを可動範囲３２Ａに合わせ、そののち直線移動機構３２によりガラス基板１０を移動させる。

また、上記実施の形態では、ガラス基板１０は、中心Ｃを含む二本の線分により個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄに４分割され、個別処理領域１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄの処理がなされる毎に９０度回転する場合について説明したが、ガラス基板１０に設定される複数の領域の数は必ずしも四つに限られない。例えば、図６に示したように、ガラス基板１０を、その中心Ｃを含む一本の線分で個別処理領域１０Ｅ，１０Ｆに２分割し、個別処理領域１０Ｅ，１０Ｆの処理がなされる毎に１８０度回転するようにした場合にも、装置の占有面積をある程度小さくすることができる。その場合、直線移動機構３２はガラス基板１０の半分に対応する可動範囲３２Ａを有するようにすればよい。

更に、上記実施の形態では、ガラス基板１０を中心Ｃの周りに回転させる場合について説明したが、ガラス基板１０上の他の特定位置を中心として回転させるようにしてもよい。ただし、ガラス基板１０を中心Ｃの周りに回転させるようにすれば、回転範囲を小さくすることができるので好ましい。

加えて、上記実施の形態では、ガラス基板１０の中心Ｃを局所処理部２０に対向させる場合について説明したが、ガラス基板１０上の他の特定位置を局所処理部２０に対向させるようにしてもよい。

本発明の基板処理装置または本発明の基板移動装置は、上述したようにフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を対象とした検査機、リペア機またはステッパ等、フラットパネルディスプレイ製造装置全般に極めて好適であるが、これに限らず、半導体ウェハを対象とした半導体製造装置や、あるいはプリント配線基板等を対象とした電子回路基板製造装置などにも適用することができる。

本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の構成を表す平面図である。 図１に示した基板移動部によるガラス基板の位置決めを説明するための平面図である。 図１に示した直線移動機構によるガラス基板の最大移動範囲を説明するための平面図である。 図１に示した基板処理装置と従来の装置との占有面積を比較して表した平面図である。 図１に示した基板処理装置の動作を表す流れ図である。 図１に示した基板処理装置におけるガラス基板の個別処理領域の変形例を表す平面図である。 従来のフラットパネルディスプレイ製造装置の一例を表す平面図である。 従来のフラットパネルディスプレイ製造装置の他の例を表す平面図である。 従来のフラットパネルディスプレイ製造装置の更に他の例を表す平面図である。

符号の説明

１０…ガラス基板、１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ…個別処理領域、１０Ｍ…最大移動範囲、１１…基台、２０…局所処理部、２１…架橋部、２１Ａ，２１Ｂ…脚部、３０…基板移動部、３１…基板保持部、３２…直線移動機構、３２Ａ…可動範囲、３２Ｘ…Ｘ軸ユニット、３２Ｙ…Ｙ軸ユニット、３３…回転機構、３３Ａ…回転中心位置、４０…制御部、５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，５０Ｄ…余剰部分，Ｃ…中心

Claims (14)

1. 表面に分割された複数の個別処理領域を有する基板に対して、個別処理領域毎に所定の処理を行う基板処理装置であって、
   二次元座標系の固定位置に設けられ、基板に対して局所的に処理を行う局所処理部と、
   基板を固定して保持する基板保持部と、
   前記基板保持部に保持された基板を二次元座標軸方向に移動させる直線移動機構と、
   前記基板保持部に保持された基板をその特定位置を中心として二次元座標面内で回転させる回転機構と、
   前記直線移動機構により、前記基板の特定位置を前記局所処理部に対向させたのち、前記基板を個別処理領域を含む可動範囲内で移動させると共に、前記局所処理部により前記基板の個別処理領域に対する処理を行わせ、処理が終了したのち、前記回転機構により前記基板を所定の角度だけ回転させることにより前記基板上の他の個別処理領域を前記可動範囲に合わせ、そののち前記直線移動機構および局所処理部による基板の処理を行わせる制御部と
   を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 前記特定位置は基板の中心であり、前記基板の個別処理領域は、前記特定位置を含む１または複数の線分により対称形状をなすように分割されたものである
   ことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記基板は、全体が矩形状であり、４分割された個別処理領域を有すると共に処理がなされる毎に９０度回転する
   ことを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
4. 前記直線移動機構による可動範囲は、長辺の２分の１の長さを一辺とする正方形をなす
   ことを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
5. 前記基板は、全体が矩形状であり、２分割された個別処理領域を有すると共に処理がなされる毎に１８０度回転する
   ことを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
6. 前記制御部は、基板を回転させる際に、前記基板を、その特定位置が前記局所処理部に対向する位置からずれるように退避させ、所定の角度回転させたのち、特定位置が前記局所処理部に対向するよう復帰させる
   ことを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
7. 前記基板は、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板である
   ことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
8. 二次元座標系の固定位置に局所処理部を有し、前記局所処理部により、表面に分割された複数の個別処理領域を有する基板に対して個別処理領域毎に所定の処理を行う基板処理装置に用いる基板移動装置であって、
   基板を固定して保持する基板保持部と、
   前記基板保持部に保持された基板を二次元座標軸方向に移動させる直線移動機構と、
   前記基板保持部に保持された基板をその特定位置を中心として二次元座標面内で回転させる回転機構と、
   前記直線移動機構により、前記基板の特定位置を前記局所処理部に対向させたのち、前記基板を個別処理領域を含む可動範囲内で移動させると共に、前記局所処理部による処理が終了したのち、前記回転機構により前記基板を所定の角度だけ回転させることにより前記基板上の他の個別処理領域を前記可動範囲に合わせ、そののち前記直線移動機構により基板を移動させる制御部と
   を備えたことを特徴とする基板移動装置。
9. 前記特定位置は基板の中心であり、前記基板の個別処理領域は、前記特定位置を含む１または複数の線分により対称形状をなすように分割されたものである
   ことを特徴とする請求項８記載の基板移動装置。
10. 前記基板は、全体が矩形状であり、４分割された個別処理領域を有すると共に処理がなされる毎に９０度回転する
    ことを特徴とする請求項９記載の基板移動装置。
11. 前記直線移動機構による可動範囲は、長辺の２分の１の長さを一辺とする正方形をなす
    ことを特徴とする請求項１０記載の基板移動装置。
12. 前記基板は、全体が矩形状であり、２分割された個別処理領域を有すると共に処理がなされる毎に１８０度回転する
    ことを特徴とする請求項９記載の基板移動装置。
13. 前記制御部は、基板を回転させる際に、前記基板を、その特定位置が前記局所処理部に対向する位置からずれるように退避させ、所定の角度回転させたのち、特定位置が前記局所処理部に対向するよう復帰させる
    ことを特徴とする請求項９記載の基板移動装置。
14. 前記基板は、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板である
    ことを特徴とする請求項８記載の基板移動装置。
    

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