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Description
250gに加重された二つの研磨砥石輪が、ターンターブル上に水平に置かれた試験標本上にのっている。より大きい軸受負荷(総計1kg迄)が、試験に準じてセットされ得る。試験標本が回転するにつれて、砥石輪が、30cm2の環形(annulus)上でそれぞれ反対の方向に回り、そして各々の回転に対し2回その様に行われる。
耐磨耗性試験は、三段階で行われる。
− 砥石輪をクリーニングする段階
− 実際に試験標本をすり減らす段階
− 本磨耗によるヘイズを測定する段階
クリーニングの際には、以下のものを試験標本の位置に順に位置決めする。
− 研磨剤(25回転)
− ベアフロートガラス(100回転)
磨耗段階は、10cm×10cmに測定した試験標本上で行われる。
ヘイズは、BYKガードナー(Gardner)XL−211濁度計を用いて測定される。この装置は、以下の様に、磨耗の間中にテーバー試験砥石輪により残された痕跡上のヘイズを測定するのに用いられる。
ΔH=(試験標本により拡散された透過量/試験標本の全透過量)×100
耐磨耗性試験は、三段階で行われる。
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クリーニングの際には、以下のものを試験標本の位置に順に位置決めする。
− 研磨剤(25回転)
− ベアフロートガラス(100回転)
磨耗段階は、10cm×10cmに測定した試験標本上で行われる。
ヘイズは、BYKガードナー(Gardner)XL−211濁度計を用いて測定される。この装置は、以下の様に、磨耗の間中にテーバー試験砥石輪により残された痕跡上のヘイズを測定するのに用いられる。
ΔH=(試験標本により拡散された透過量/試験標本の全透過量)×100
本発明に準じた多層膜での四つの層の幾何学的厚み及び屈折率の好ましい範囲は、後文に示され、そして、この多層膜は、Aと呼ばれる:
− n1及び/又はn3は、1.85〜2.15、特には1.90〜2.10である。
− n2及び/又はn4は、1.35〜1.65である。
− e1は、5〜50nm、特には10〜30nm又は15〜25nmである。
− e2は、5〜50nm、特には35又は30nm以下であり、特には10〜35nmである。
− e3は、40〜120nm、特には45〜80nmである。
− e4は、45〜110nm、特には70〜100nmである。
本発明の改変形によれば、高屈折率の第一層1及び低屈折率の第二層2は、「中間」の屈折率n 5、特に1.65〜1.80の屈折率を有し、そして、好ましくは、50〜140nm、特に85〜120nmの光学的厚みe.opt5を有する単一層5と、置き換えられ得る。垂直方向から見られる様に最適化される、従来の三層の反射防止多層膜に於いて、この厚みは、120nmをいくぶんか超えている。この中間の屈折率の層は、第一の配列に関する限り、多層膜を支える基材に最も近い二つの層の、高屈折率層/低屈折率層配列(sequence)の光学的効果と類似する光学的効果を有している。それは、多層膜での層の総数を減少させると言う利点を有している。それは、一方はケイ素酸化物、及び、他方はスズ酸化物、亜鉛酸化物、チタン酸化物から選択された少なくとも一つの金属酸化物との混合物に、好ましくは基づいている。それは、ケイ素のオキシ窒化物又はオキシ炭化物、及び/又はアルミニウムのオキシ窒化物に基づいてもよい。
− n1及び/又はn3は、1.85〜2.15、特には1.90〜2.10である。
− n2及び/又はn4は、1.35〜1.65である。
− e1は、5〜50nm、特には10〜30nm又は15〜25nmである。
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− e3は、40〜120nm、特には45〜80nmである。
− e4は、45〜110nm、特には70〜100nmである。
本発明の改変形によれば、高屈折率の第一層1及び低屈折率の第二層2は、「中間」の屈折率n 5、特に1.65〜1.80の屈折率を有し、そして、好ましくは、50〜140nm、特に85〜120nmの光学的厚みe.opt5を有する単一層5と、置き換えられ得る。垂直方向から見られる様に最適化される、従来の三層の反射防止多層膜に於いて、この厚みは、120nmをいくぶんか超えている。この中間の屈折率の層は、第一の配列に関する限り、多層膜を支える基材に最も近い二つの層の、高屈折率層/低屈折率層配列(sequence)の光学的効果と類似する光学的効果を有している。それは、多層膜での層の総数を減少させると言う利点を有している。それは、一方はケイ素酸化物、及び、他方はスズ酸化物、亜鉛酸化物、チタン酸化物から選択された少なくとも一つの金属酸化物との混合物に、好ましくは基づいている。それは、ケイ素のオキシ窒化物又はオキシ炭化物、及び/又はアルミニウムのオキシ窒化物に基づいてもよい。
本発明に準じた多層膜Aで塗布された基材用に、又は、グレーズドユニット(glazed unit)を形成する事に関連した他の基材用に選択されたガラスは、特に、例えば、「ダイアマント(Diamant)」タイプの超透明ガラス、又は「プラニルックス(Planilux)」タイプの透明ガラス、又は「パルゾル(Parsol)」タイプの着色ガラスでよく(尚、これらは、Saint-Gobain Vitrageにより販売された三つの製品である。)、又あるいは、欧州特許第616 883号明細書に記述された様な「TSA」又は「TSA++」タイプのガラスでよい。それは、場合によっては、国際公開第94/14716号パンフレット;国際公開第96/00194号パンフレット、欧州特許第0 644 164号明細書、又は国際公開第96/28394号パンフレットに記述された様な着色ガラスでもよい。それは、紫外線タイプの放射をフィルタリングする可能性がある。
本発明のもう一つの主題は、上記で定義された多層膜Aを装備した基材を組み入れるグレーズドユニットである。対象のグレージングは、「モノリシック構造(monolithic)」であってよく、即ちその表面の一面に多層膜で塗布された単一の基材から成ってよい。その反対面は、いかなる反射防止コーティングを持っていなくてよく、即ち、むき出し、又は、他の機能性を有するもう一つのコーティングBで覆われている。それは、太陽光防止機能(例えば、誘電体層で囲まれた一層以上の銀層、あるいは例えばTiN又はZrNのような窒化物又は金属酸化物又はスチール又はNi−Cr合金の層を用いる)を有する、低放射率機能(例えば、F:SnO 2 又はスズをドープさせた酸化インジウムITOのようなドープされた金属酸化物又は一層以上の銀層で作られる)を有する、帯電防止機能(酸素をドープさせた又は酸素の準化学量論的金属酸化物)を有する、発熱層(例えば、ドープされた金属酸化物、Cu、Ag)又は一連の発熱線(銅線、又は導電性銀スラリーでスクリーン印刷されたバンド)を有する、曇り防止機能(親水性層を用いる)を有する、雨よけ(antirain)機能(例えば、フッ素ポリマー系の疎水性層を用いる)を有する、防汚(antifouling)機能(少なくとも部分的にアナタース型に結晶化したTiO2を含む光触媒コーティング)を有する、コーティングであってもよい。
光学的特性:RL=4.2%;a*=6;b*=26
機械的耐性:ΔH(強化前)=3〜4%;ΔH(強化後)=1.5〜2.5%
耐加熱処理性:強化後:欠陥なし;R≧10cmに対する曲げ後:欠陥なし
従って、色が最適化されず(黄色、黄色気味の傾向がある)、そして、光の反射が改善されない事が、分かり得る。
本発明の実施形態としては、以下の実施形態を挙げることができる。
(付記1)その表面の少なくとも一方に、誘電体の物質で作られた高い屈折率を有する薄い層と低い屈折率を有する薄い層を交互にした多層膜(A)からなる、特に垂直入射での、反射防止コーティングを備えてなる、特にガラスから作られた、透明な基材(6)であって、該多層膜は、順に、
1.8〜2.2の屈折率n 1 及び5〜50nmの幾何学的厚みe 1 を有する高屈折率の第一層(1)、
1.35〜1.65の屈折率n 2 及び5〜50nmの幾何学的厚みe 2 を有する低屈折率の第二層(2)、
1.8〜2.2の屈折率n 3 及び40〜150nmの幾何学的厚みe 3 を有する高屈折率の第三層(3)、
1.35〜1.65の屈折率n 4 及び40〜120nmの幾何学的厚みe 4 を有する低屈折率の第四層(4)、
を含んでなり、前記多層膜は、一方では入射角度にかかわり無く該基材に良好な美的外観を保証する様に設計され、そして、他方では加熱処理に耐える事ができる事を特徴とする、透明な基材(6)。
(付記2)n 1 及び/又はn 3 は、1.85〜2.15、特に1.90〜2.10である事を特徴とする、付記1に記載された基材(6)。
(付記3)n 2 及び/又はn 4 は、1.35〜1.65である事を特徴とする、付記1又は2に記載された基材(6)。
(付記4)e 1 は、5〜50nm、特に10〜30nm又は15〜25nmである事を特徴とする、付記1〜3のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記5)e 2 は、5〜50nm、特に35nm又は30nm以下であり、特に10〜35nmである事を特徴とする、付記1〜4のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記6)e 3 は、45〜80nmである事を特徴とする、付記1〜5のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記7)e 4 は、45〜110nm及び好ましくは70〜100nmである事を特徴とする、付記1〜6のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記8)高屈折率の第一層(1)及び低屈折率の第二層(2)は、1.65〜1.80の屈折率n 5 を有し、そして、好ましくは、50〜140nmの、特に85〜120nmの光学的厚みe .opt5 を有する中間の屈折率の単一層(5)と置き換えられる事を特徴とする、基材(6)。
(付記9)中間の屈折率の層(5)は、一方は、ケイ素酸化物、及び、他方は、スズ酸化物、亜鉛酸化物、チタン酸化物から選択された少なくとも一つの金属酸化物との混合物に基づくか、又は、ケイ素のオキシ窒化物又はオキシ炭化物、及び/又はアルミニウムのオキシ窒化物に基づく事を特徴とする、付記8に記載された基材(6)。
(付記10)高屈折率の第一層(1)及び/又は高屈折率の第三層(3)は、亜鉛酸化物、スズ酸化物、ジルコニウム酸化物から選択された金属酸化物(類)に基づくか、又は、ケイ素窒化物及び/又はアルミニウム窒化物から選択された窒化物(類)に基づくか、又は、混合スズ/亜鉛酸化物類(Sn x Zn y O z )又は混合亜鉛/チタン酸化物類(TiZnO x )に基づくか、又は、混合ケイ素/チタン酸化物(Si x Ti y O z )に基づく事を特徴とする、付記1〜9のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記11)高屈折率の第一層(1)及び/又は高屈折率の第三層(3)は、幾つかの高屈折率の層の重ね合わせ、特に、SnO 2 /Si 3 N 4 又はSi 3 N 4 /SnO 2 の様な二つの層の重ね合わせから成る事を特徴とする、付記1〜10のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記12)低屈折率の第二層(2)及び/又は低屈折率の第四層(4)は、ケイ素酸化物、ケイ素のオキシ窒化物及び/又はオキシ炭化物、又はケイ素及びアルミニウムとの混合酸化物に基づく事を特徴とする、付記1〜11のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記13)前記基材は、透明の又はバルクが着色したガラスで作られる事を特徴とする、付記1〜12のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記14)薄い層で仕上げた多層膜を装備する側でのその光の反射は、垂直入射角度で、最少の量3又は4%だけ下げられる事を特徴とする、付記1〜13のいずれか1つに記載された基材。
(付記15)薄い層で仕上げた多層膜を装備する側でのその光の反射の測色は、垂直入射角度で、(L、a * 、b * )測色システムでの対応するb * 値が負である様なものである事を特徴とする、付記1〜14のいずれか1つに記載された基材。
(付記16)該反射防止多層膜は、その多層膜が曲げ、強化、アニールタイプの加熱処理に耐える事が可能となり、そしてより一層の機械的且つ化学的耐久性を有する様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、混合スズ/亜鉛又はケイ素チタン酸化物、ケイ素窒化物を用いる事を特徴とする、付記1〜15のいずれか1つに記載された基材。
(付記17)該反射防止多層膜は、その多層膜がテーバー試験でのΔHが3%未満である様な極めて良好な機械的耐久性を有する様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、ケイ素窒化物を用いる事を特徴とする、付記16に記載された基材。
(付記18)該反射防止多層膜は、その多層膜が、大幅な加熱処理、特に、曲率半径(R)が10cmに達し得る程の、非常に厳しい曲げ、折り曲げに耐える事が可能である様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、混合スズ/亜鉛又はケイ素チタン酸化物を用いる事を特徴とする、付記16に記載された基材。
(付記19)その基材は、その面の一方に、反射防止多層膜を装備し、そして、そのもう一方の面に、反射防止多層膜がないか又はさらに反射防止多層膜を装備し、又は反射防止コーティングの別のタイプ、又は太陽光防止、低放射率、防汚、曇り防止、雨よけ又は発熱タイプの何か別の機能性を有するコーティングを装備する事を特徴とする、付記1〜18のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記20)反射防止コーティングの別のタイプは、
1.60又は1.50未満、特に約1.35〜1.48の低屈折率を有する、そして特にケイ素酸化物系の単一層、
その厚みを通じて変化する屈折率を有する、特に、その厚みを通じて変化するx及びyを有するケイ素オキシ窒化物SiO x N y の単一層、
少なくとも1.8の高屈折率を有する、特に、スズ酸化物、亜鉛酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物、ケイ素の又はアルミニウムの窒化物で作られた層、引き続いて、1.65未満の低屈折率を有する、特に、ケイ素の酸化物、オキシ窒化物、又はオキシ炭化物で作られた層を、順に、含んでなる二層の多層膜、
1.65〜1.8の中間の屈折率を有する、ケイ素及び/又はアルミニウムのオキシ炭化物又はオキシ窒化物タイプで作られた層、1.9を超える高屈折率を有する、SnO 2 、TiO 2 タイプで作られた層、1.65未満の低屈折率を有する、混合Si−Al酸化物又はケイ素酸化物タイプで作られた層を、順に、含んでなる三層の多層膜、
及び防汚コーティング
のコーティングから選択されるものである事を特徴とする、付記19に記載された基材。
(付記21)付記1〜20のいずれか1つに記載された少なくとも二つの基材を含んでなる多重のグレーズドユニット、特に二重のグレーズドユニット、又は積層構造を有するユニットであって、二つのガラス基材(6、6’)は、熱可塑性物質のシート(7)を用いて組み合わせられており、基材(6)は、組み立て部の反対側に反射防止多層膜を装備しており、そして、基材(6’)は、組み立て部の反対側に反射防止コーティングがないか又はさらに反射防止コーティングを装備し、又は反射防止コーティングの別のタイプ、又は太陽光防止、低放射率、防汚、曇り防止、雨よけ又は発熱タイプの別の機能性を有するコーティングを装備しており、別の機能性を有する前記コーティングが組み立てに用いられた熱可塑性のシートに向かっている基材の面の一方に位置される事も可能である事を特徴とする、多重のグレーズドユニット。
(付記22)該反射防止多層膜又は多層膜類は、カソードスパッタリングにより蒸着され、そして、そこでのいかなる反射防止コーティングも、ゾル−ゲル技術、CVD又はプラズマCVDタイプの熱分解技術を用いて、カソードスパッタリングにより又はコロナ放電により蒸着される事を特徴とする、付記21に記載されたグレージングを得る方法。
(付記23)曲げられてもよい、建物用の屋内又は屋外グレージング、ディスプレイキャビネット、ストアーでのカウンターとして、防眩のコンピュータースクリーンとして、及びガラス什器としての、付記21に記載されたグレージングの利用。
機械的耐性:ΔH(強化前)=3〜4%;ΔH(強化後)=1.5〜2.5%
耐加熱処理性:強化後:欠陥なし;R≧10cmに対する曲げ後:欠陥なし
従って、色が最適化されず(黄色、黄色気味の傾向がある)、そして、光の反射が改善されない事が、分かり得る。
本発明の実施形態としては、以下の実施形態を挙げることができる。
(付記1)その表面の少なくとも一方に、誘電体の物質で作られた高い屈折率を有する薄い層と低い屈折率を有する薄い層を交互にした多層膜(A)からなる、特に垂直入射での、反射防止コーティングを備えてなる、特にガラスから作られた、透明な基材(6)であって、該多層膜は、順に、
1.8〜2.2の屈折率n 1 及び5〜50nmの幾何学的厚みe 1 を有する高屈折率の第一層(1)、
1.35〜1.65の屈折率n 2 及び5〜50nmの幾何学的厚みe 2 を有する低屈折率の第二層(2)、
1.8〜2.2の屈折率n 3 及び40〜150nmの幾何学的厚みe 3 を有する高屈折率の第三層(3)、
1.35〜1.65の屈折率n 4 及び40〜120nmの幾何学的厚みe 4 を有する低屈折率の第四層(4)、
を含んでなり、前記多層膜は、一方では入射角度にかかわり無く該基材に良好な美的外観を保証する様に設計され、そして、他方では加熱処理に耐える事ができる事を特徴とする、透明な基材(6)。
(付記2)n 1 及び/又はn 3 は、1.85〜2.15、特に1.90〜2.10である事を特徴とする、付記1に記載された基材(6)。
(付記3)n 2 及び/又はn 4 は、1.35〜1.65である事を特徴とする、付記1又は2に記載された基材(6)。
(付記4)e 1 は、5〜50nm、特に10〜30nm又は15〜25nmである事を特徴とする、付記1〜3のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記5)e 2 は、5〜50nm、特に35nm又は30nm以下であり、特に10〜35nmである事を特徴とする、付記1〜4のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記6)e 3 は、45〜80nmである事を特徴とする、付記1〜5のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記7)e 4 は、45〜110nm及び好ましくは70〜100nmである事を特徴とする、付記1〜6のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記8)高屈折率の第一層(1)及び低屈折率の第二層(2)は、1.65〜1.80の屈折率n 5 を有し、そして、好ましくは、50〜140nmの、特に85〜120nmの光学的厚みe .opt5 を有する中間の屈折率の単一層(5)と置き換えられる事を特徴とする、基材(6)。
(付記9)中間の屈折率の層(5)は、一方は、ケイ素酸化物、及び、他方は、スズ酸化物、亜鉛酸化物、チタン酸化物から選択された少なくとも一つの金属酸化物との混合物に基づくか、又は、ケイ素のオキシ窒化物又はオキシ炭化物、及び/又はアルミニウムのオキシ窒化物に基づく事を特徴とする、付記8に記載された基材(6)。
(付記10)高屈折率の第一層(1)及び/又は高屈折率の第三層(3)は、亜鉛酸化物、スズ酸化物、ジルコニウム酸化物から選択された金属酸化物(類)に基づくか、又は、ケイ素窒化物及び/又はアルミニウム窒化物から選択された窒化物(類)に基づくか、又は、混合スズ/亜鉛酸化物類(Sn x Zn y O z )又は混合亜鉛/チタン酸化物類(TiZnO x )に基づくか、又は、混合ケイ素/チタン酸化物(Si x Ti y O z )に基づく事を特徴とする、付記1〜9のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記11)高屈折率の第一層(1)及び/又は高屈折率の第三層(3)は、幾つかの高屈折率の層の重ね合わせ、特に、SnO 2 /Si 3 N 4 又はSi 3 N 4 /SnO 2 の様な二つの層の重ね合わせから成る事を特徴とする、付記1〜10のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記12)低屈折率の第二層(2)及び/又は低屈折率の第四層(4)は、ケイ素酸化物、ケイ素のオキシ窒化物及び/又はオキシ炭化物、又はケイ素及びアルミニウムとの混合酸化物に基づく事を特徴とする、付記1〜11のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記13)前記基材は、透明の又はバルクが着色したガラスで作られる事を特徴とする、付記1〜12のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記14)薄い層で仕上げた多層膜を装備する側でのその光の反射は、垂直入射角度で、最少の量3又は4%だけ下げられる事を特徴とする、付記1〜13のいずれか1つに記載された基材。
(付記15)薄い層で仕上げた多層膜を装備する側でのその光の反射の測色は、垂直入射角度で、(L、a * 、b * )測色システムでの対応するb * 値が負である様なものである事を特徴とする、付記1〜14のいずれか1つに記載された基材。
(付記16)該反射防止多層膜は、その多層膜が曲げ、強化、アニールタイプの加熱処理に耐える事が可能となり、そしてより一層の機械的且つ化学的耐久性を有する様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、混合スズ/亜鉛又はケイ素チタン酸化物、ケイ素窒化物を用いる事を特徴とする、付記1〜15のいずれか1つに記載された基材。
(付記17)該反射防止多層膜は、その多層膜がテーバー試験でのΔHが3%未満である様な極めて良好な機械的耐久性を有する様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、ケイ素窒化物を用いる事を特徴とする、付記16に記載された基材。
(付記18)該反射防止多層膜は、その多層膜が、大幅な加熱処理、特に、曲率半径(R)が10cmに達し得る程の、非常に厳しい曲げ、折り曲げに耐える事が可能である様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、混合スズ/亜鉛又はケイ素チタン酸化物を用いる事を特徴とする、付記16に記載された基材。
(付記19)その基材は、その面の一方に、反射防止多層膜を装備し、そして、そのもう一方の面に、反射防止多層膜がないか又はさらに反射防止多層膜を装備し、又は反射防止コーティングの別のタイプ、又は太陽光防止、低放射率、防汚、曇り防止、雨よけ又は発熱タイプの何か別の機能性を有するコーティングを装備する事を特徴とする、付記1〜18のいずれか1つに記載された基材(6)。
(付記20)反射防止コーティングの別のタイプは、
1.60又は1.50未満、特に約1.35〜1.48の低屈折率を有する、そして特にケイ素酸化物系の単一層、
その厚みを通じて変化する屈折率を有する、特に、その厚みを通じて変化するx及びyを有するケイ素オキシ窒化物SiO x N y の単一層、
少なくとも1.8の高屈折率を有する、特に、スズ酸化物、亜鉛酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物、ケイ素の又はアルミニウムの窒化物で作られた層、引き続いて、1.65未満の低屈折率を有する、特に、ケイ素の酸化物、オキシ窒化物、又はオキシ炭化物で作られた層を、順に、含んでなる二層の多層膜、
1.65〜1.8の中間の屈折率を有する、ケイ素及び/又はアルミニウムのオキシ炭化物又はオキシ窒化物タイプで作られた層、1.9を超える高屈折率を有する、SnO 2 、TiO 2 タイプで作られた層、1.65未満の低屈折率を有する、混合Si−Al酸化物又はケイ素酸化物タイプで作られた層を、順に、含んでなる三層の多層膜、
及び防汚コーティング
のコーティングから選択されるものである事を特徴とする、付記19に記載された基材。
(付記21)付記1〜20のいずれか1つに記載された少なくとも二つの基材を含んでなる多重のグレーズドユニット、特に二重のグレーズドユニット、又は積層構造を有するユニットであって、二つのガラス基材(6、6’)は、熱可塑性物質のシート(7)を用いて組み合わせられており、基材(6)は、組み立て部の反対側に反射防止多層膜を装備しており、そして、基材(6’)は、組み立て部の反対側に反射防止コーティングがないか又はさらに反射防止コーティングを装備し、又は反射防止コーティングの別のタイプ、又は太陽光防止、低放射率、防汚、曇り防止、雨よけ又は発熱タイプの別の機能性を有するコーティングを装備しており、別の機能性を有する前記コーティングが組み立てに用いられた熱可塑性のシートに向かっている基材の面の一方に位置される事も可能である事を特徴とする、多重のグレーズドユニット。
(付記22)該反射防止多層膜又は多層膜類は、カソードスパッタリングにより蒸着され、そして、そこでのいかなる反射防止コーティングも、ゾル−ゲル技術、CVD又はプラズマCVDタイプの熱分解技術を用いて、カソードスパッタリングにより又はコロナ放電により蒸着される事を特徴とする、付記21に記載されたグレージングを得る方法。
(付記23)曲げられてもよい、建物用の屋内又は屋外グレージング、ディスプレイキャビネット、ストアーでのカウンターとして、防眩のコンピュータースクリーンとして、及びガラス什器としての、付記21に記載されたグレージングの利用。
Claims (23)
- その表面の少なくとも一方に、誘電体の物質で作られた高い屈折率を有する薄い層と低い屈折率を有する薄い層を交互にした多層膜(A)からなる反射防止コーティングを備えてなる透明な基材(6)であって、該多層膜は、順に、
1.8〜2.2の屈折率n1及び5〜50nmの幾何学的厚みe1を有する高屈折率の第一層(1)、
1.35〜1.65の屈折率n2及び5〜50nmの幾何学的厚みe2を有する低屈折率の第二層(2)、
1.8〜2.2の屈折率n3及び40〜150nmの幾何学的厚みe3を有する高屈折率の第三層(3)、
1.35〜1.65の屈折率n4及び40〜120nmの幾何学的厚みe4を有する低屈折率の第四層(4)、
を含んでなり、前記多層膜は、一方では入射角度にかかわり無く該基材に良好な美的外観を保証する様に設計され、そして、他方では加熱処理に耐える事ができる事を特徴とする、透明な基材(6)。 - n1及び/又はn3は、1.85〜2.15である事を特徴とする、請求項1に記載された基材(6)。
- n2及び/又はn4は、1.35〜1.65である事を特徴とする、請求項1又は2に記載された基材(6)。
- e1は、10〜30nmである事を特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載された基材(6)。
- e2は、10〜35nmである事を特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載された基材(6)。
- e3は、45〜80nmである事を特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載された基材(6)。
- e4は、45〜110nmである事を特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載された基材(6)。
- 高屈折率の第一層(1)及び低屈折率の第二層(2)は、1.65〜1.80の屈折率n 5を有し、そして、50〜140nmの光学的厚みe.opt5を有する中間の屈折率の単一層(5)と置き換えられる事を特徴とする、基材(6)。
- 中間の屈折率の層(5)は、一方は、ケイ素酸化物、及び、他方は、スズ酸化物、亜鉛酸化物、チタン酸化物から選択された少なくとも一つの金属酸化物との混合物に基づくか、又は、ケイ素のオキシ窒化物又はオキシ炭化物、及び/又はアルミニウムのオキシ窒化物に基づく事を特徴とする、請求項8に記載された基材(6)。
- 高屈折率の第一層(1)及び/又は高屈折率の第三層(3)は、亜鉛酸化物、スズ酸化物、ジルコニウム酸化物から選択された金属酸化物(類)に基づくか、又は、ケイ素窒化物及び/又はアルミニウム窒化物から選択された窒化物(類)に基づくか、又は、混合スズ/亜鉛酸化物類(SnxZnyOz)又は混合亜鉛/チタン酸化物類(TiZnOx)に基づくか、又は、混合ケイ素/チタン酸化物(SixTiyOz)に基づく事を特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載された基材(6)。
- 高屈折率の第一層(1)及び/又は高屈折率の第三層(3)は、幾つかの高屈折率の層の重ね合わせから成る事を特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載された基材(6)。
- 低屈折率の第二層(2)及び/又は低屈折率の第四層(4)は、ケイ素酸化物、ケイ素のオキシ窒化物及び/又はオキシ炭化物、又はケイ素及びアルミニウムとの混合酸化物に基づく事を特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載された基材(6)。
- 前記基材は、透明の又はバルクが着色したガラスで作られる事を特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載された基材(6)。
- 薄い層で仕上げた多層膜を装備する側でのその光の反射は、垂直入射角度で、最少の量3又は4%だけ下げられる事を特徴とする、請求項1〜13のいずれか1項に記載された基材。
- 薄い層で仕上げた多層膜を装備する側でのその光の反射の測色は、垂直入射角度で、(L、a*、b*)測色システムでの対応するb*値が負である様なものである事を特徴とする、請求項1〜14のいずれか1項に記載された基材。
- 該反射防止多層膜は、その多層膜が曲げ、強化、アニールタイプの加熱処理に耐える事が可能となり、そしてより一層の機械的且つ化学的耐久性を有する様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、混合スズ/亜鉛又はケイ素チタン酸化物、ケイ素窒化物を用いる事を特徴とする、請求項1〜15のいずれか1項に記載された基材。
- 該反射防止多層膜は、その多層膜がテーバー試験でのΔHが3%未満である様な極めて良好な機械的耐久性を有する様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、ケイ素窒化物を用いる事を特徴とする、請求項16に記載された基材。
- 該反射防止多層膜は、その多層膜が、大幅な加熱処理、曲率半径(R)が10cmに達し得る程の、非常に厳しい曲げ、折り曲げに耐える事が可能である様に、少なくともその高屈折率の第三層に対し、混合スズ/亜鉛又はケイ素チタン酸化物を用いる事を特徴とする、請求項16に記載された基材。
- その基材は、その面の一方に、反射防止多層膜を装備し、そして、そのもう一方の面に、反射防止多層膜がないか又はさらに反射防止多層膜を装備し、又は反射防止コーティングの別のタイプ、又は太陽光防止、低放射率、防汚、曇り防止、雨よけ又は発熱タイプの何か別の機能性を有するコーティングを装備する事を特徴とする、請求項1〜18のいずれか1項に記載された基材(6)。
- 反射防止コーティングの別のタイプは、
1.60未満の低屈折率を有するケイ素酸化物系の単一層、
その厚みを通じて変化する屈折率を有し、その厚みを通じて変化するx及びyを有するケイ素オキシ窒化物SiOxNyの単一層、
少なくとも1.8の高屈折率を有する、スズ酸化物、亜鉛酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物、ケイ素の又はアルミニウムの窒化物で作られた層、引き続いて、1.65未満の低屈折率を有する、ケイ素の酸化物、オキシ窒化物、又はオキシ炭化物で作られた層を、順に、含んでなる二層の多層膜、
1.65〜1.8の中間の屈折率を有する、ケイ素及び/又はアルミニウムのオキシ炭化物又はオキシ窒化物タイプで作られた層、1.9を超える高屈折率を有する、SnO2、TiO2タイプで作られた層、1.65未満の低屈折率を有する、混合Si−Al酸化物又はケイ素酸化物タイプで作られた層を、順に、含んでなる三層の多層膜、
及び防汚コーティング
のコーティングから選択されるものである事を特徴とする、請求項19に記載された基材。 - 請求項1〜20のいずれか1項に記載された少なくとも二つの基材を含んでなる多重のグレーズドユニットであって、二つのガラス基材(6、6’)は、熱可塑性物質のシート(7)を用いて組み合わせられており、基材(6)は、組み立て部の反対側に反射防止多層膜を装備しており、そして、基材(6’)は、組み立て部の反対側に反射防止コーティングがないか又はさらに反射防止コーティングを装備し、又は反射防止コーティングの別のタイプ、又は太陽光防止、低放射率、防汚、曇り防止、雨よけ又は発熱タイプの別の機能性を有するコーティングを装備しており、別の機能性を有する前記コーティングが組み立てに用いられた熱可塑性のシートに向かっている基材の面の一方に位置される事も可能である事を特徴とする、多重のグレーズドユニット。
- 該反射防止多層膜又は多層膜類は、カソードスパッタリングにより蒸着され、そして、そこでのいかなる反射防止コーティングも、ゾル−ゲル技術、CVD又はプラズマCVDタイプの熱分解技術を用いて、カソードスパッタリングにより又はコロナ放電により蒸着される事を特徴とする、請求項21に記載されたグレージングを得る方法。
- 曲げられてもよい、建物用の屋内又は屋外グレージング、ディスプレイキャビネット、ストアーでのカウンターとして、防眩のコンピュータースクリーンとして、及びガラス什器としての、請求項21に記載されたグレージングの利用。
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