JP2005529239A - 処理従順な金属間化合物スパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明のターゲットを作製するための処理フローチャートである。
第1ステップは、Al(アルミニウム)、Ti(チタン)、Ru(ルテニウム)、Ni(ニッケル)、Nb(ニオブ)等のような原料粉末を選択することである(図の10)。ここで、含まれる粉末の少なくとも1つが、高密度化の要求条件から400メッシュのような非常に細かい粉末でなければならないということに注目する必要がある。例えば、Al粉末は、あらゆるX−Al−Y合金で30ミクロンの平均粒径を有する。ここで、Xは、Ru、Ti、Co(コバルト)及びNiのような成分で代表され、Yは、Cr(クロム)、B(ホウ素)、Zr(ジルコニウム)、Ta(タンタル)、Hf(ハフニウム)、Pt(白金)、SiO2、Ti2O3のような成分で代表される。その特有な合金組成は、一般的に、B2型、L12型、D019型、L10型等のような結晶構造と関連した組成である。理論的には、粉末は細かければ細かいほど、処理上好ましいが、超微細なAl粉末は、その爆発性により取扱いが非常に難しい。従って、平均粒径が30ミクロンのAl粉末が、一般的に、全てのAl含有物質に対して選択される。同様の考えが、NiNb金属間化合物におけるNiについて当てはまる。
Claims (11)
- 金属間化合物成分を有する処理従順なスパッタターゲットの製造方法であって、
原料成分粉末又は合金粉末を選択し、
混合し、
キャニングし、
低温高圧で熱間静水圧圧縮成形を施し、
ビレットを形成し、
前記ビレットを機械加工してターゲットに形作る、
諸工程を具備したことを特徴とする延性スパッタターゲットの製造方法。 - 選択された原料成分粉末又は合金の少なくとも1つが、少なくとも400メッシュ程の小粒径を有することを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記原料成分粉末は、化学式がX−Al−Yの合金を製造するために選択され、ここで、Alはアルミニウムであり、Xはルテニウム、チタン、コバルト又はニッケルであり、Yはクロム、ホウ素、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、白金、SiO2又はTi2O3であることを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記製造された合金が、B2型、L12型、D019型又はL10型からなるグループから選択された結晶構造を有することを特徴とする請求項3に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記全ての粉末は、平均粒径が約30ミクロンであることを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記熱間静水圧圧縮成形の条件は、温度が200〜1000℃、圧力が5〜60ksi、及び時間が0.5〜12時間であることを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記ターゲットは、ルテニウム・アルミニウム金属間化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記ターゲットは、コバルト・アルミニウム金属間化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記ターゲットは、チタン・アルミニウム金属間化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記ターゲットは、アルミニウム−ニッケル30at%−クロム10at%を含有することを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
- 前記ターゲットは、ニッケル・アルミニウム金属間化合物及び/又はニッケル・ニオブ金属間化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の処理従順なスパッタターゲットの製造方法。
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