JP2005325209A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】下記の(A)〜(C)成分とともに無機質充填剤を含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物である。そして、上記無機質充填剤が下記の(D)成分からなる。
(A)エポキシ樹脂。
(B)フェノール樹脂。
(C)硬化促進剤。
(D)下記の(d1)成分を無機質充填剤全体の5〜50重量%の範囲で含有する無機質充填剤。
(d1)アクリル基またはメタクリル基を有するシランカップリング剤により表面処理されてなる平均粒径が0.5〜3μmの球状無機質充填剤。
【選択図】なし
Description
(A)エポキシ樹脂。
(B)フェノール樹脂。
(C)硬化促進剤。
(D)下記の(d1)成分を無機質充填剤全体の5〜50重量%の範囲で含有する無機質充填剤。
(d1)アクリル基またはメタクリル基を有するシランカップリング剤により表面処理されてなる平均粒径が0.5〜3μmの球状無機質充填剤。
下記の構造式(a)で表されるエポキシ樹脂(エポキシ当量170、軟化点69℃)
下記の構造式(b)で表されるエポキシ樹脂(エポキシ当量177、融点141℃)
下記の構造式(c)で表されるエポキシ樹脂(エポキシ当量195、融点107℃)
下記の構造式(d)で表されるフェノール樹脂(水酸基当量210、軟化点73℃)
下記の構造式(e)で表されるフェノール樹脂(水酸基当量220、軟化点77℃)
フェノールノボラック樹脂(水酸基当量107、軟化点64℃)
カルナバワックス
トリフェニルホスフィン
下記の構造式(α)で表されるシランカップリング剤(信越化学社製、KBE502)1gと水10gをアセトン300mlで希釈し、これを1リットルビーカ中の球状溶融シリカ粉末(平均粒径0.7μm)100gに注ぎ、スラリー状とした。そして、このスラリーをマグネティックスターラで約15時間攪拌した。攪拌後、アルミニウム箔を敷いたアルミニウムパレット内に上記スラリーを移し、ホットプレート上において105℃で溶媒を蒸発乾固させた。蒸発乾固させた後、さらにこれを乾燥機中で95℃で30分間加熱することにより、上記球状溶融シリカ粉末表面がシランカップリング剤で処理された無機質充填剤a1を作製した。
球状溶融シリカ粉末として、平均粒径3μmの球状溶融シリカ粉末を用いた。それ以外は上記無機質充填剤a1と同様にして球状溶融シリカ粉末表面がシランカップリング剤で処理された無機質充填剤a2を作製した。
シランカップリング剤を下記の構造式(β)で表されるシランカップリング剤(信越化学社製、KBM803)に代えた。それ以外は上記無機質充填剤a1と同様にして球状溶融シリカ粉末表面がシランカップリング剤で処理された無機質充填剤b1を作製した。
シランカップリング剤を下記の構造式(γ)で表されるシランカップリング剤(信越化学社製、KBE903)に代えた。それ以外は上記無機質充填剤a1と同様にして球状溶融シリカ粉末表面がシランカップリング剤で処理された無機質充填剤b2を作製した。
球状溶融シリカ粉末(平均粒径13.2μm)
球状溶融シリカ粉末(平均粒径16.2μm)
下記の表1〜表3に示す各成分を同表に示す割合で配合し、ミキシングロール機(温度100℃)で3分間溶融混練した。つぎに、この溶融物を冷却した後粉砕することにより目的とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得た。
図1(a)および(b)に示すように、半導体素子1(チップサイズ:10mm×10mm×厚み0.5mm)を9個、基板2(サイズ:50mm×50mm×厚み0.3mm)上に実装したものを作製した。
上記作製し得られた半導体パッケージの反り量をつぎのようにして確認した。すなわち、半導体パッケージを水平面に載置した際の水平面からの最大反り部分の長さを測定した。測定には、光学顕微鏡を用いた。
上記作製し得られた半導体パッケージを130℃×85%RHの条件でPCTチャンバーに投入し、196時間放置した。これを用いて、超音波探傷装置にて半導体パッケージ内の界面剥離の有無を確認し、界面剥離の生じたパッケージの個数をカウントした。なお、作製したパッケージの個数は上記と同様18個であった。
Claims (2)
- 下記の(A)〜(C)成分とともに無機質充填剤を含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、上記無機質充填剤が下記の(D)成分からなることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
(A)エポキシ樹脂。
(B)フェノール樹脂。
(C)硬化促進剤。
(D)下記の(d1)成分を無機質充填剤全体の5〜50重量%の範囲で含有する無機質充填剤。
(d1)アクリル基またはメタクリル基を有するシランカップリング剤により表面処理されてなる平均粒径が0.5〜3μmの球状無機質充填剤。 - 請求項1記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を用いて半導体素子を樹脂封止してなる半導体装置。
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