JP2005316461A - 露光装置の校正方法及び露光方法並びに露光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 感光材料のアライメントマークを撮影するためのアライメントカメラの移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正を可能とし、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる露光装置の校正方法を得る。
【解決手段】 CCDカメラ26により感光材料12のアライメントマーク13を撮影するのに先立ち、CCDカメラ26による撮影が可能な位置に、CCDカメラ26の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の検出用マーク77A、77Bを備える基準板70を配置し、複数の検出用マーク77A、77Bのうちの少なくとも1つを、感光材料12に設けられたアライメントマーク13を撮影する位置に配置したCCDカメラ26で撮影し、その撮影で取得したカメラの光軸位置ずれデータに基づいて校正用データを算出し、その校正用データを基準位置データに反映させることにより露光装置の露光位置合わせ機能を校正する。

【選択図】 図8

Description

本発明は、露光装置の校正方法及び露光方法並びに露光装置に関し、特に、画像情報に応じて空間変調素子等により変調された光ビームで感光材料を露光する露光装置における露光位置合わせ機能を校正する露光装置の校正方法及び露光方法並びに露光装置に関する。
従来から、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)等の空間光変調素子(SLM)を利用し、画像データ(画像情報)に応じて変調された光ビームで画像露光を行う露光装置が種々提案されている。
例えば、DMDは、制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーが、シリコン等の半導体基板上に2次元状に配列されたミラーデバイスであり、このDMDを用いた従来のデジタル走査露光方式(マスクレス露光方式)の露光装置では、レーザ光を照射する光源、光源から照射されたレーザ光をコリメートするレンズ系、レンズ系の略焦点位置に配置されたDMD、DMDで反射されたレーザ光を走査面上に結像するレンズ系、を備えた露光ヘッド(スキャナ)により、画像データ等に応じて生成した制御信号によりDMDのマイクロミラーの各々をオンオフ制御してレーザ光を変調し、変調されたレーザ光で、ステージ上にセットされ走査方向(Y方向)に沿って移動される感光材料に対し画像(パターン)を走査露光している。
また、この露光装置では、感光材料に対するX−Y方向の露光位置を正確に合わせるため、露光に先立って、感光材料に設けられた、露光位置の基準となるアライメントマークをCCDカメラ等のアライメントカメラで撮影し、この撮影によって得られたマーク測定位置(基準位置データ)に基づいて露光位置を適正位置に合わせるアライメントを行っており、このアライメントカメラについては、露光装置がサイズ及びアライメントマークの位置が異なる複数種類の感光材料を露光対象とするため、アライメントマークが走査方向と直交する方向に位置変更された場合でも撮影できるよう、例えば、走査方向との直交方向(X方向)に沿って延設されたガイドレール等に案内され、ボールねじ等の駆動機構により駆動されて、露光対象物のX方向寸法の全域に亘る任意の位置に移動及び位置決め配置できるようになっている。そしてこのアライメントカメラの位置を、リニアスケール等の位置検出手段によって検出・測定し、その位置を基準として上述のアライメントを行っている(例えば、特許文献1参照)。
また、このようなアライメント機能(露光位置合わせ機能)については、その精度を保証するため、アライメント測定に関わる各部の校正を製造時やメンテナンス時などに行っている。
このアライメント機能の校正に関する技術としては、従来から、副走査方向へ移動される感光材料に対しレーザ光を主走査しながら照射して画像を走査露光する方式の露光装置において種々提案されている。
例えば、アライメントスコープの位置校正では、載置テーブルに載置されたプリント回路基板に対して処理部で所定の処理を施すのに先立ち、プリント回路基板の計測を行うアライメントスコープの位置を校正する装置において、基準パターンが形成された基準マスクを載置テーブルに備え、所定位置の基準パターンにアライメントスコープを移動した後、基準パターンの交点とアライメントスコープの視野中心との位置ずれ量に基づいてアライメントスコープの位置校正を行うことにより、簡単な構成でアライメントスコープの位置校正を容易且つ高精度に実施するようにした技術がある(例えば、特許文献2参照)。
特開平8−222511号公報 特開2000−329523公報
しかしながら、上述したデジタル走査露光方式や従来のレーザ光を主走査させる走査方式の露光装置では、露光に先立つアライメントで、アライメントカメラがアライメントマークを撮影する位置へ移動される際に、上述したカメラ駆動機構を構成する各部品精度や組立精度の誤差等に起因して、アライメントカメラがローリング、ピッチング、及びヨーイングによって姿勢変化を起こし、撮影位置に配置された状態で撮影レンズの光軸中心が正規の位置からずれる。この位置ずれは、アライメントマークの計測誤差に直接影響するため、上述したアライメント機能を用いて露光位置を補正し画像露光を行っても、このアライメントカメラの移動に伴う姿勢変化の影響でアライメント精度が低下し、露光位置が適正位置からずれてしまう問題がある。
また、特許文献1及び2に記載された技術でも、このようなアライメントカメラの姿勢変化要因による影響は考慮されていないため、これらの技術を用いてアライメント調整又はアライメント機能の校正を行っても露光位置ずれを精度良く補正することはできない。
また、特許文献2に記載された技術の場合には、2次元に配置した複数台(4台)のアライメントスコープを一度に校正するために、2次元状(格子状)の基準パターンを形成した大型の基準マスクを用いているが、この基準マスクを描画ステージに装備するため、基準マスクは描画ステージの基台と吸着テーブルの間に配置して吸着テーブルは透明ガラスにより形成している。このように、大型の基準マスクを備えることで、描画ステージは厚み方向に大型化して大重量化し、また、吸着テーブルはガラス製であるため、衝撃等に対する耐破損性、耐久性が低下する問題がある。また、この従来技術では、基準マスクに形成された基準パターンとアライメントスコープとの位置ずれ量に基づいてアライメントスコープの位置校正を行っているが、より高精度な露光位置補正を実現するには、例えば光ビームによる露光位置との関係を考慮して露光位置を基準にアライメントスコープの位置校正を行うことが望ましい。
本発明は上記事実を考慮して、感光材料のアライメントマークを撮影するためのアライメントカメラの移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正を可能とし、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる露光装置の校正方法及び露光方法並びに露光装置を提供することを課題とする。
また本発明はアライメントマークを撮影し、露光面上での露光ビーム位置を検出し、これらに基づいて所望の画像を感光材料上に位置精度高く露光することができる露光装置及び露光方法を提供することを課題とする。
上記目的を達成するために 請求項1に記載の発明は、露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、を有する露光装置であって、前記露光装置は更に、前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の読取手段基準マークを備えると共にその複数の読取手段基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取手段位置スケールと、前記読取手段により基準マークを読み取る際に、前記複数の読取手段基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データを記憶する読取位置データ記憶手段と、前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段を有し、前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、を有し、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から読み出された基準位置データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光することを特徴としている。
請求項1に記載の発明では、基板上に形成されたアライメントマークを撮影し、露光面上での露光ビームのビーム位置を検出し、これらに基づいて所望の画像を感光材料上に露光する為、露光画像を基板上で位置精度高く露光する事が可能となる。
請求項2に記載の発明は、前記ビーム位置検出手段と前記読取手段位置スケールが一体的に設けられていることを特徴としている。
請求項2に記載の発明では、光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段に校正用部材を一体的に設けることにより、それらを別体とする場合に比べ、検出部と読取手段基準マークとの相対位置が高い精度で計測できると共に、検出部と読取手段基準マークとの間に位置ずれ等が生じにくくなる。読取手段が基準マークを読み取る位置で検出手段に一体的に設けられた読取手段位置スケールを読み取り、読取位置データを取得し、一方この検出手段により光ビームの露光位置データを取得し、これら読み取り位置データと露光ビーム位置データに基づいて所望の画像を感光材料上に露光する為、露光画像を基板上で位置精度高く露光する事が可能となる。
請求項3に記載の発明は、露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、を有する露光装置であって、前記露光装置は更に、前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取位置校正用部材と、前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶する校正用データ記憶手段と、前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段と、前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、を有し、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記校正用データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させた基準位置補正データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置補正データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光することを特徴としている。
請求項3に記載の発明では、基板上に形成されたアライメントマークを撮影し、露光面上での露光ビームのビーム位置を検出し、これらに基づいて所望の画像を感光材料上に露光する為、露光画像を基板上で位置精度高く露光する事が可能となる。
請求項4に記載の発明は、前記ビーム位置検出手段と前記読取位置校正用部材が一体的に設けられていることを特徴としている。
請求項4に記載の発明では、光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段に校正用部材を一体的に設けることにより、それらを別体とする場合に比べ、検出部と読取手段基準マークとの相対位置が高い精度で計測できると共に、検出部と読取手段基準マークとの間に位置ずれ等が生じにくくなる。読取手段が基準マークを読み取る位置で検出手段に一体的に設けられた読取手段位置スケールを読み取り、読取位置データを取得し、一方この検出手段により光ビームの露光位置データを取得し、これら読み取り位置データと露光ビーム位置データに基づいて所望の画像を感光材料上に露光する為、露光画像を基板上で位置精度高く露光する事が可能となる。
請求項5に記載の発明は、前記ビーム位置検出手段は前記露光露光手段に対して走査方向に並んでいない複数の測定箇所で前記光ビームの露光点位置を測定し、前記複数の測定箇所で測定された露光点位置から、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を検出する角度検出手段を備えたことを特徴としている。
請求項5に記載の発明では、複数の測定箇所で測定された露光点位置から、ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を検出することにより、正確で簡単な検出方法とすることができる。
請求項6に記載の発明は、前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、露光面上にて露光される画像データを補正する画像データ補正手段を備えたことを特徴としている。
請求項6に記載の発明では、角度補正手段を画像データ補正手段としたことにより、正確な調整方法とすることができる。
請求項7に記載の発明は、前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を調整する角度調整手段を備えたことを特徴としている。
請求項7に記載の発明では、角度補正手段をビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を調整する角度調整手段としたことにより、簡単な調整方法とすることができる。
請求項8に記載の発明は、露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、前記感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、前記走査方向と交差する方向へ移動可能とされ、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、前記読取手段による読み取り後に、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、前記露光手段による露光で、前記読取手段による読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段とを有する露光装置であって、前記露光装置は更に、前記移動手段に設けられ、前記読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した校正用部材と、前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶するデータ記憶手段と、を有し、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させて前記露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させることを特徴としている。
請求項8に記載の発明では、読取手段の移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正が可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。
請求項9に記載の発明は、露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、を用いた露光方法であって、前記露光方法は更に、前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の読取手段基準マークを備えると共にその複数の読取手段基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取手段位置スケールと、前記読取手段により基準マークを読み取る際に、前記複数の読取手段基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データを記憶する読取位置データ記憶手段と、前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段を用い、前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、を用い、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から読み出された基準位置データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光することを特徴としている。
請求項9に記載の発明では、読取手段の移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正が可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。
請求項10に記載の発明は、露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、を用いた露光方法であって、前記露光方法は更に、前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取位置校正用部材と、前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶する校正用データ記憶手段と、前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段と、前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、を用い、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記校正用データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させた基準位置補正データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置補正データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光することを特徴としている。
請求項10に記載の発明では、基板上に形成されたアライメントマークを撮影し、露光面上での露光ビームのビーム位置を検出し、これらに基づいて所望の画像を感光材料上に露光する為、露光画像を基板上で位置精度高く露光する事が可能となる。
請求項11に記載の発明は、前記ビーム位置検出手段は前記露光露光手段に対して走査方向に並んでいない複数の測定箇所で前記光ビームの露光点位置を測定し、前記複数の測定箇所で測定された露光点位置から、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を検出する角度検出手段を用い、前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、露光面上にて露光される画像データを補正する画像データ補正手段を用いることを特徴としている。
請求項11に記載の発明では、角度補正手段を画像データ補正手段としたことにより、正確な調整方法とすることができる。
請求項12に記載の発明は、前記ビーム位置検出手段は前記露光露光手段に対して走査方向に並んでいない複数の測定箇所で前記光ビームの露光点位置を測定し、前記複数の測定箇所で測定された露光点位置から、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を検出する角度検出手段を用い、前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を調整する角度調整手段を用いることを特徴としている。
請求項12に記載の発明では、角度補正手段をビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を調整する角度調整手段としたことにより、簡単な調整方法とすることができる。
請求項13に記載の発明は、露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、前記感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、前記走査方向と交差する方向へ移動可能とされ、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、前記読取手段による読み取り後に、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、前記露光手段による露光で、前記読取手段による読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段とを用いた露光方法であって、前記露光方法は更に、前記移動手段に設けられ、前記読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した校正用部材と、前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶するデータ記憶手段と、を用い、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させて前記露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させることを特徴としている。
請求項13に記載の発明では、基板上に形成されたアライメントマークを撮影し、露光面上での露光ビームのビーム位置を検出し、これらに基づいて所望の画像を感光材料上に露光する為、露光画像を基板上で位置精度高く露光する事が可能となる。
請求項14に記載の発明は、感光材料に設けられた露光位置の基準となる基準マークを、前記感光材料の走査方向と交差する方向へ移動可能とされた読取手段により読み取って取得した基準位置データに基づいて感光材料に対する露光位置合わせを行い、その感光材料を移動手段により前記走査方向へ移動させつつ画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光装置の前記露光位置合わせ機能を校正する校正方法であって、前記読取手段により前記基準マークを読み取るのに先立ち、前記読取手段による読み取りが可能な位置に、読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備える校正用部材を配置し、前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて校正用データを算出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴としている。
請求項14に記載の発明では、露光装置の露光位置合わせ機能を校正するため、感光材料に設けられた露光位置の基準となる基準マークを読取手段によって読み取るのに先立ち、読取手段による読み取りが可能な位置に、読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備える校正用部材を配置し、複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、上記の基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した読取手段の位置データに基づいて、例えば読取手段が撮像手段の場合には撮像光軸(レンズ光軸)と校正用基準マークとの位置ずれデータ等に基づいて校正用データを算出し、その校正用データを基準位置データに反映させる。これにより、読取手段の移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正が可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。
請求項15に記載の発明は、請求項14記載の露光装置の校正方法において、前記露光装置は前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備える検出手段を有し、その検出手段に前記校正用部材を一体的に設けると共に、前記検出手段により検出した光ビームの露光位置データと前記校正用データとを演算して求めた補正データを前記基準位置データに反映させることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴としている。
請求項15に記載の発明では、光ビームによる露光位置を検出する検出部を備える検出手段に校正用部材を一体的に設けることにより、それらを別体とする場合に比べ、検出部と校正用基準マークとの相対位置が高い精度で計測できると共に、検出部と校正用基準マークとの間に位置ずれ等が生じにくくなる。この検出手段により検出した光ビームの露光位置データと、検出手段に一体的に設けられた校正用部材を用いて取得した校正用データとを演算して求めた補正データであれば、その誤差分が抑えられ、補正データを基準位置データに反映させて行う露光位置合わせをより高精度に行うことができる。
請求項16に記載の発明は、請求項14又は請求項15記載の露光装置の校正方法において、前記移動手段は前記感光材料が載置されるステージを有し、前記校正用基準部材は、前記ステージに前記感光材料を載置した状態で前記読取手段による前記校正用基準マークの読み取りが可能なように前記ステージに配設したことを特徴としている。
請求項16に記載の発明では、感光材料が載置される移動手段のステージに校正用基準部材を設け、且つ、ステージに感光材料を載置した状態で読取手段による校正用基準マークの読み取りが可能なように配設することにより、露光装置によって感光材料を露光する場合でも、上記露光位置合わせ機能が校正できるようになり、校正作業が容易になる。
本発明の露光装置の校正方法及び露光装置は上記方法及び構成としたので、感光材料のアライメントマークを撮影するためのアライメントカメラの移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正を可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。
また本発明の露光方法および露光装置は、基板上に形成されたアライメントマークを撮影し、露光面上での露光ビーム位置を検出し、これらに基づいて所望の画像を感光材料上に露光する為、露光画像を基板上で位置精度高く露光することができる。
以下、本発明の実施形態に係る露光装置について図面を参照して説明する。
図1には本発明の一実施形態に係る露光装置が示されている。また、図2〜図6には本実施形態に係る露光装置に適用される露光ヘッド及び空間光変調素子が示され、図7には本実施形態に係る露光装置に適用されるアライメントユニットが示されている。
図1に示すように、露光装置10は、4本の脚部16に支持された矩形厚板状の設置台18を備えている。設置台18の上面には、長手方向に沿って2本のガイド20が延設されており、これら2本のガイド20上には、矩形平盤状のステージ14が設けられている。ステージ14は、長手方向がガイド20の延設方向を向くよう配置され、ガイド20により設置台18上を往復移動可能に支持されており、図示しない駆動装置に駆動されてガイド20に沿って往復移動する(図1の矢印Y方向)。
ステージ14の上面には、露光対象物となる矩形板状の感光材料12が図示しない位置決め部により所定の載置位置に位置決めされた状態で載置される。このステージ14の上面(感光材料載置面)には、図示しない複数の溝部が形成されており、それらの溝部内が負圧供給源によって負圧とされることにより、感光材料12はステージ14の上面に吸着されて保持される。また、感光材料12には、露光位置の基準を示すアライメントマーク13が複数設けられており、本実施形態では、円形の貫通孔によって構成されるアライメントマーク13が感光材料12の四隅近傍にそれぞれ1個づつ計4個配置されている。
設置台18の中央部には、ステージ14の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート22が設けられている。ゲート22は、両端部がそれぞれ設置台18の両側面に固定されており、ゲート22を挟んで一方の側には感光材料12を露光するスキャナ24が設けられ、他方の側には感光材料12に設けられたアライメントマーク13を撮影する複数(例えば、2台)のCCDカメラ26を備えたアライメントユニット100が設けられている。
図7に示すように、アライメントユニット100は、ゲート22に取り付けられる矩形状のユニットベース102を備えている。ユニットベース102のカメラ配設面側には、ステージ14の移動方向(矢印Y方向)と直交する方向(矢印X方向)に沿って一対のガイドレール104が延設されており、各CCDカメラ26は、これら一対のガイドレール104に摺動可能に案内されると共に、各々に個別に用意されたボールねじ機構106及びそれを駆動する図示しないステッピングモータ等の駆動源により駆動されて、ステージ14の移動方向と直交する方向に独立して移動する。また、各CCDカメラ26は、カメラ本体26Aの先端に設けられたレンズ部26Bを下方へ向けると共にレンズ光軸が略垂直になる姿勢で配置されており、このレンズ部26Bの先端部にはリング状のストロボ光源(LEDストロボ光源)26Cが取付けられている。
そして、感光材料12のアライメントマーク13を撮影する際には、各CCDカメラ26は、上記の駆動源及びボールねじ機構106により矢印X方向に移動されてそれぞれ所定の撮影位置に配置され、すなわち、レンズ光軸が、ステージ14の移動に伴って移動する感光材料12のアライメントマーク13の通過位置に合うように配置され、アライメントマーク13が所定の撮影位置に至ったタイミングで、ストロボ光源26Cを発光させ、感光材料12へ照射したストロボ光の感光材料12上面での反射光をレンズ部26Bを介してカメラ本体26Aに入力させることにより、アライメントマーク13を撮影する。
また、ステージ14の駆動装置、スキャナ24、CCDカメラ26、及びCCDカメラ26を移動させるための駆動源は、これらを制御するコントローラ28に接続されている。このコントローラ28により、後述する露光装置10の露光動作時には、ステージ14は所定の速度で移動するよう制御され、CCDカメラ26は所定の位置に配置されて所定のタイミングで感光材料12のアライメントマーク13を撮影するよう制御され、スキャナ24は所定のタイミングで感光材料12を露光するよう制御される。
図2に示すように、スキャナ24の内部にはm行n列(例えば、2行4列)の略マトリックス状に配列された複数(例えば、8個)の露光ヘッド30が設置されている。
露光ヘッド30による露光エリア32は、例えば走査方向を短辺とする矩形状に構成する。この場合、感光材料12には、その走査露光の移動動作に伴って露光ヘッド30毎に帯状の露光済み領域34が形成される。
また、図2に示すように、帯状の露光済み領域34が走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド30の各々は、配列方向に所定間隔(露光エリアの長辺の自然数倍)ずらして配置されている。このため、例えば第1行目の露光エリア32と第2行目の露光エリア32との間の露光できない部分は、第2行目の露光エリア32により露光することができる。
図3に示すように、各露光ヘッド30は、それぞれ入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)36を備えている。このDMD36は、データ処理部とミラー駆動制御部を備えた上述のコントローラ28に接続されている。
コントローラ28のデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド30毎にDMD36の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。なお、制御すべき領域については後述する。また、DMDコントローラとしてのミラー駆動制御部では、データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド30毎にDMD36における各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、この反射面の角度の制御に付いては後述する。
各露光ヘッド30におけるDMD36の光入射側には、図1に示すように、紫外波長領域を含む一方向に延在したマルチビームをレーザ光として出射する照明装置38からそれぞれ引き出されたバンドル状の光ファイバ40が接続される。
照明装置38は、図示は省略するがその内部に、複数の半導体レーザチップから出射されたレーザ光を合波して光ファイバに入力する合波モジュールが複数個設置されている。各合波モジュールから延びる光ファイバは、合波したレーザ光を伝搬する合波光ファイバであって、複数の光ファイバが1つに束ねられてバンドル状の光ファイバ40として形成される。
また各露光ヘッド30におけるDMD36の光入射側には、図3に示すように、光ファイバ40の接続端部から出射されたレーザ光を均一の照明光にする均一照明光学系41と、均一照明光学系41を透過したレーザ光をDMD36に向けて反射するミラー42とが配置されている。
各露光ヘッド30におけるDMD36の光反射側に設けられる投影光学系は、DMD36の光反射側の露光面にある感光材料12上に光源像を投影するため、DMD36側から感光材料12へ向って順に、レンズ系50、マイクロレンズアレイ54、対物レンズ系56の各露光用の光学部材が配置されて構成されている。
ここで、レンズ系50及び対物レンズ系56は、図3に示すように複数枚のレンズ(凸レンズや凹レンズ等)を組み合せた拡大光学系として構成されており、DMD36により反射されるレーザビーム(光線束)の断面積を拡大することで、DMD36により反射されたレーザビームによる感光材料12上の露光エリア32の面積を所定の大きさに拡大している。なお、感光材料12は、対物レンズ系56の後方焦点位置に配置される。
マイクロレンズアレイ54は、図3に示すように、照明装置38から各光ファイバ40を通じて照射されたレーザ光を反射するDMD36の各マイクロミラー46に1対1で対応する複数のマイクロレンズ60が2次元状に配列され、一体的に成形されて矩形平板状に形成されたものであり、各マイクロレンズ60は、それぞれレンズ系50を透過した各レーザビーム(露光ビーム)の光軸上にそれぞれ配置されている。
またDMD36は、図5に示すように、SRAMセル(メモリセル)44上に、マイクロミラー(微小ミラー)46が支柱により支持されて配置されたものであり、画素(ピクセル)を構成する多数の(例えば、600個×800個)の微小ミラーを格子状に配列したミラーデバイスとして構成されている。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー46が設けられており、マイクロミラー46の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。
また、マイクロミラー46の直下には、図示しないヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのCMOSのSRAMセル44が配置されており、全体はモノリシック(一体型)に構成されている。
DMD36のSRAMセル44にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー46が、対角線を中心としてDMD36が配置された基板側に対して±α度(例えば±10度)の範囲で傾けられる。図6には、DMD36の一部を拡大し、マイクロミラー46が+α度又は−α度に制御されている状態の一例を示しており、図6(A)は、マイクロミラー46がオン状態である+α度に傾いた状態を示し、図6(B)は、マイクロミラー46がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。したがって、画像信号に応じて、DMD36の各ピクセルにおけるマイクロミラー46の傾きを、図6に示すように制御することによって、DMD36に入射された光はそれぞれのマイクロミラー46の傾き方向へ反射される。
それぞれのマイクロミラー46のオンオフ(on/off)制御は、DMD36に接続されたコントローラ28のミラー駆動制御部によって行われ、オン状態のマイクロミラー46により反射された光は露光状態に変調され、DMD36の光出射側に設けられた投影光学系(図3参照)へ入射する。またオフ状態のマイクロミラー46により反射された光は非露光状態に変調され、光吸収体(図示省略)に入射する。
また、DMD36は、その短辺方向が走査方向と所定角度(例えば、0.1°〜0.5°)を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図4(A)はDMD36を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像(露光ビーム)48の走査軌跡を示し、図4(B)はDMD36を傾斜させた場合の露光ビーム48の走査軌跡を示している。
DMD36には、長手方向(行方向)に沿ってマイクロミラー46が多数個(例えば、800個)配列されたマイクロミラー列が、短手方向に多数組(例えば、600組)配列されているが、図4(B)に示すように、DMD36を傾斜させることにより、各マイクロミラー46による露光ビーム48の走査軌跡(走査線)のピッチP2が、DMD36を傾斜させない場合の走査線のピッチP1より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、DMD36の傾斜角は微小であるので、DMD36を傾斜させた場合の走査幅W2と、DMD36を傾斜させない場合の走査幅W1とは略同一である。
また、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上における略同一の位置(ドット)が重ねて露光(多重露光)されることになる。このように、多重露光されることで、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、走査方向に配列された複数の露光ヘッド間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。
なお、DMD36を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を走査方向と直交する方向に所定間隔ずらして千鳥状に配置しても、同様の効果を得ることができる。
本実施形態の露光装置10には、図1及び図2に示すように、ステージ14の移動方向(矢印Y方向)におけるアライメント計測方向の下流側(露光方向の上流側)に、照射されたビーム位置と、その光量を検出して上記の位置ずれを検出する検出手段が配置されており、この検出手段は、ステージ14のアライメント計測方向における下流側の端縁部に取り付けられた基準板70と、この基準板70の裏側に移動可能に装着したフォトセンサ72とを備えている。
基準板70は、ステージ14の幅方向全長の長さを持つ矩形状のガラス板により形成されており、ステージ14のアライメント計測方向の下流側にビーム位置検出部70Aが設けられ、上流側にカメラ位置検出部70Bが設けられている(図8参照)。
ビーム位置検出部70Aには、クロムメッキ等の金属膜によるパターニングで、X方向に向かって開く「く」の字型で透明部(透光部)に形成された複数の検出用スリット74がX方向に沿って所定の間隔で配列されている。
図9(A)に示すように、「く」の字型の検出用スリット74は、ステージ移動方向の上流側に位置する所定長さを持つ直線状の第1スリット部74aと、ステージ移動方向の下流側に位置する所定長さを持つ直線状の第2スリット部74bと、をそれぞれの一端部で直角に接続した形状に形成されている。すなわち、第1スリット部74aと、第2スリット部74bとは互いに直交するとともに、Y軸に対して第1スリット部74aは135度、第2スリット部74bは45度の角度を有している。
なお、検出用スリット74における第1スリット部74aと、第2スリット部74bとは、ステージ14の移動方向(走査方向)に対して45度の角度を成すように形成したものを図示したが、これら第1スリット部74aと、第2スリット部74bとを、露光ヘッド30の画素配列に対して傾斜すると同時に、ステージ移動方向に対して傾斜する状態(お互いが平行でないように配置した状態)とできれば、ステージ移動方向に対する角度を任意に設定しても良い。また、検出用スリット74に代えて回折格子を使用してもよい。
このビーム位置検出部70Aにおける検出用スリット74の下方には、露光ヘッド30からの光を検出するフォトセンサ72(CCD、CMOS又はフォトディテクタ等でも良い)と、フォトセンサ72を移動操作する移動装置76とが配置されている。移動装置76は、コントローラ28の指令によって駆動制御される、リニヤモータ送り機構、ねじ送り機構又は搬送ベルト機構等の搬送手段によって、フォトセンサ72を、X方向に沿って移動し、各所定位置で停止させられるように構成されており、ここでは、コントローラ28の指令に基づいてフォトセンサ72を、ビーム位置検出部70Aにおける各検出用スリット74直下の所定位置へそれぞれ移動して停止させる動作を行う。
一方、カメラ位置検出部70Bには、図8に示すように、クロムメッキ等の金属膜によるパターニングで、円形に形成された検出用マーク77A及び十字形に形成された検出用マーク77BがX方向に沿って所定の間隔で交互に複数配列されている。
図11(A)〜(D)に示すように、この検出用マーク77Aの幅寸法:MAと検出用マーク77Bの幅寸法:MBとは等しくされ(MA=MB)、検出用マーク77A、77Bの配列ピッチ:P1は、CCDカメラ26の視野(撮影視野)VのX方向における長さ寸法:Lから、検出用マーク77A、77Bの幅寸法の1/2を差し引いた値に設定されている(P1=L−(MA/2)=L−(MB/2))。また、ここでは、CCDカメラ26のX方向への移動単位:U1は、検出用マーク77A、77Bの幅寸法の1/2に設定されている(U1=MA/2=MB/2)。
次に、本実施形態の露光装置10に設けられたコントローラ28おける制御用の電気系の概略構成を、図10のブロック図を用いて説明する。
コントローラ28における制御用の電気系では、バス78を介して、装置各部の制御を統括して行う主制御部で且つ前述したデータ処理部としてのCPU80と、オペレータが指令を入力するためコントローラ28に装着されたスイッチ類を有する指示入力手段82と、画像データ等が一時的に記憶されるメモリ84と、後述する校正用データが記憶されるメモリ85と、それぞれのDMD36における各々のマイクロミラー46を制御するミラー駆動制御部としてのDMDコントローラ86と、各CCDカメラ26を移動させるための駆動源(ステッピングモータ等)を駆動制御するカメラ移動用コントローラ88と、感光材料12が載置されたステージ14上面の溝部内に負圧を発生させる負圧供給源、及び、ステージ14を走査方向に移動させるための駆動装置等を駆動制御するステージ駆動用コントローラ90と、その他に、露光装置10で露光処理する際に必要となる照明装置38といった各種装置の制御を行う露光処理制御用コントローラ92とが接続されて構成されている。
この制御用の電気系で露光処理を行う場合には、オペレータが、コントローラ28の指示入力手段82を操作して例えば露光処理の対象となる画像データ等の指示を入力する。すると、画像データが伝達されたCPU80は、画像データを一旦メモリ84に格納し、露光処理開始の指令によって、メモリ84から読み出した画像データに基づいて画像の形成処理を行うようDMDコントローラ86を制御し、かつステージ駆動用コントローラ90と露光処理制御用コントローラ92とにより駆動装置、照明装置38等を制御して露光処理を行う。
次に、この露光装置10に設けたスキャナ24の各露光ヘッド30から照射されるビーム位置を検出し、DMD36の一つの特定画素Z1が点灯している(一つの特定画素をonとしているとき)実際の位置を特定する手順について説明する。なお、特定画素Z1が点灯している実際の位置を特定し、点灯している特定画素Z1の光量を検出して行うこの方法は、特定画素Z1の適正状態の確認や、初期条件の確認等にも利用できる。
先ず、オペレータが、コントローラ28の指示入力手段82を操作して一つの特定画素Z1が点灯している実際の位置を特定する指示を入力すると、この指令を受けたCPU80は、ステージ14を移動操作して基準板70の所定露光ヘッド30用の所定検出用スリット74をスキャナ24の下方に位置させる。
次にCPU80は、DMDコントローラ86と露光処理制御用コントローラ92とに制御信号を出力して、所定のDMD36における特定画素Z1だけを点灯状態とするよう制御する。さらにCPU80は、ステージ駆動用コントローラ90に制御信号を出力してステージ14を移動制御し、図9(A)に実線で示すように、検出用スリット74が露光エリア32上の所定位置(例えば原点とすべき位置)となるように移動させる。このとき、CPU80は、第1スリット部74aと、第2スリット部74bとの交点を(X0,Y0)と認識し、メモリ84に記憶する。なお図9(A)では、Y軸から反時計方向に回転する方向を正の角とする。
次に、図9(A)に示すように、CPU80は、ステージ駆動用コントローラ90に制御信号を出力してステージ14を移動制御することにより、検出用スリット74をY軸に沿って図9(A)における右方へ移動を開始させる。そして、CPU80は、検出用スリット74が上記所定位置の右方の想像線で示した位置で、図9(B)に例示するように、点灯している特定画素Z1からの光が第1スリット部74aを透過してフォトセンサ72で検出されたことを検知した際に、ステージ駆動用コントローラ90に制御信号を出力してステージ14を停止させる。CPU80は、このときの第1スリット部74aと、第2スリット部74bとの交点を(X0,Y11)として認識し、メモリ84に記憶する。
次に、CPU80は、ステージ駆動用コントローラ90に制御信号を出力してステージ14を移動させ、検出用スリット74をY軸に沿って図9(A)における左方へ移動を開始させる。そして、CPU80は、検出用スリット74が上記所定位置の左方の想像線で示した位置で、図9(B)に例示するように、点灯している特定画素Z1からの光が第2スリット部74bを透過してフォトセンサ72で検出されたことを検知した際に、ステージ駆動用コントローラ90に制御信号を出力してステージ14を停止させる。CPU80は、このときの第1スリット部74aと、第2スリット部74bとの交点を(X0,Y12)として認識し、メモリ84に記憶する。
次に、CPU80は、メモリ84に記憶した、座標(X0,Y11)と(X0,Y12)とを読み出して特定画素Z1の座標を求め、実際の位置を特定する。ここで、特定画素Z1の座標を(X1,Y1)とすると、X1=X0+(Y11−Y12)/2で表され、Y1=(Y11+Y12)/2で表される。
なお、上述のように第1スリット部74aと交差する第2スリット部74bを有する検出用スリット74と、フォトセンサ72とを組み合わせて用いる場合には、フォトセンサ72が、第1スリット部74a又は第2スリット部74bを通過する所定範囲の光だけを検出することになる。よって、フォトセンサ72は、第1スリット部74a又は第2スリット部74bに対応する狭い範囲だけの光量を検出する微細で特別な構成とすること無く、市販の廉価なもの等を利用できる。
次に、上記のように構成された露光装置10による感光材料12に対する露光動作について説明する。
先ず、露光パターンに応じた画像データがコントローラ28に入力されると、コントローラ28内のメモリ84に一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を2値(ドットの記録の有無)で表したデータである。
次に、感光材料12をステージ14にセットし、オペレータがコントローラ28の指示入力手段82から露光開始の入力操作を行う。なお、露光装置10により画像露光を行う感光材料12としては、プリント配線基板や液晶表示素子等のパターンを形成(画像露光)する材料としての基板やガラスプレート等の表面に、感光性エポキシ樹脂等のフォトレジストを塗布、又ドライフィルムの場合はラミネートしたものなどが挙げられる。
上記の入力操作により、露光装置10の露光動作が開始すると、コントローラ28により駆動装置が制御され、感光材料12を上面に吸着したステージ14は、ガイド20に沿って移動方向(矢印Y方向)におけるアライメント計測方向の上流側から下流側に一定速度で移動開始する。このステージの移動開始に同期して、又は、感光材料12の先端が各CCDカメラ26の真下に達する少し手前のタイミングで、各CCDカメラ26はコントローラ28により制御されて作動する。
ステージ14の移動に伴い、感光材料12がCCDカメラ26の下方を通過する際には、CCDカメラ26によるアライメント測定が行われる。
このアライメント測定では、先ず、感光材料12の移動方向下流側(前端側)の角部近傍に設けられた2個のアライメントマーク13が各CCDカメラ26の真下(レンズの光軸上)に達すると、所定のタイミングで各CCDカメラ26はそれぞれアライメントマーク13を撮影し、その撮影した画像データを、すなわち、露光位置の基準がアライメントマーク13によって示された基準位置データを含む画像データをコントローラ28のデータ処理部であるCPU80へ出力する。アライメントマーク13の撮影後は、ステージ14が下流側への移動を再開する。
また、本実施形態の感光材料12のように、移動方向(走査方向)に沿って複数のアライメントマーク13が設けられている場合には、次のアライメントマーク13(移動方向上流側(後端側)の角部近傍に設けられた2個のアライメントマーク13)が各CCDカメラ26の真下に達すると、同様に所定のタイミングで各CCDカメラ26はそれぞれアライメントマーク13を撮影してその画像データをコントローラ28のCPU80へ出力する。
なお、感光材料に、移動方向に沿って3個以上のアライメントマークが設けられている場合も同様に、各アライメントマークがCCDカメラ26の下方を通過する毎に、所定のタイミングでCCDカメラ26によるアライメントマークの撮影が繰り返し行われ、全てのアライメントマークに対し、その撮影した画像データがコントローラ28のCPU80へ出力される。
CPU80は、入力された各アライメントマーク13の画像データ(基準位置データ)から判明する画像内におけるマーク位置及びマーク間ピッチ等と、そのアライメントマーク13を撮影したときのステージ14の位置及びCCDカメラ26の位置から、演算処理によって、ステージ14上における感光材料12の載置位置のずれ、移動方向に対する感光材料12の傾きのずれ、及び、感光材料12の寸法精度誤差等を把握し、感光材料12の被露光面に対する適正な露光位置を算出する。そして、後述するスキャナ24による画像露光時に、メモリ84に記憶されている露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号をその適正な露光位置に合わせ込んで画像露光する補正制御(アライメント)を実行する。
感光材料12がCCDカメラ26の下方を通過すると、CCDカメラ26によるアライメント測定が完了し、続いてステージ14は駆動装置により逆方向へ駆動され、ガイド20に沿って露光方向へ移動する。そして感光材料12はステージ14の移動に伴いスキャナ24の下方を露光方向の下流側へ移動し、被露光面の画像露光領域が露光開始位置に達すると、スキャナ24の各露光ヘッド30は光ビームを照射して感光材料12の被露光面に対する画像露光を開始する。
ここで、コントローラ28のメモリ84に記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、データ処理部としてのCPU80で読み出された画像データに基づいて各露光ヘッド30毎に制御信号が生成される。この制御信号には、前述した補正制御(アライメント)により、アライメント測定した感光材料12に対する露光位置ずれの補正が加えられる。そして、ミラー駆動制御部としてのDMDコントローラ86は、生成及び補正された制御信号に基づいて各露光ヘッド30毎にDMD36のマイクロミラー46の各々をオンオフ制御する。
照明装置38の光ファイバ40から出射されたレーザ光がDMD36に照射されると、DMD36のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、マイクロレンズアレイ54の各対応するマイクロレンズ60を含むレンズ系により感光材料12の露光面上に結像される。このようにして、照明装置38から出射されたレーザ光が画素毎にオンオフされて、感光材料12がDMD36の使用画素数と略同数の画素単位(露光エリア)で露光される。
また、感光材料12がステージ14と共に一定速度で移動されることにより、感光材料12がスキャナ24によりステージ移動方向と反対の方向に走査され、各露光ヘッド30毎に帯状の露光済み領域34(図2に図示)が形成される。
スキャナ24による感光材料12の画像露光が完了すると、ステージ14は駆動装置によりそのまま露光方向の下流側へ駆動されて露光方向の最下流側(アライメント計測方向の最上流側)にある原点に復帰する。以上により、露光装置10による感光材料12に対する露光動作が終了する。
次に、本実施形態の露光装置10におけるアライメント機能(露光位置合わせ機能)の校正方法について説明する。
上述したアライメント機能を備える本実施形態の露光装置10では、前述したように、CCDカメラ26が移動に伴い姿勢変化(ローリング、ピッチング、及びヨーイング)を起こし、撮影位置に配置された状態で撮影レンズの光軸中心が正規の位置からずれる場合があるため、その影響により、アライメント機能を用いて露光位置を補正し画像露光を行っても、露光位置が適正位置からずれて許容範囲を超えてしまう場合がある。
このCCDカメラ26の姿勢変化による光軸ずれ要因により精度が影響されるアライメント機能を校正するため、露光装置10の製造時やメンテナンス時などに、以下に説明する校正方法によりアライメント機能の校正作業を実施する。
この校正作業の手順としては、先にCCDカメラ26の校正を行い、次に露光基準とカメラ光軸中心との位置関係を取得して、その取得情報を露光ヘッド30による露光位置合わせに反映させる手順で行うが、この校正作業は感光材料12に対する露光手順とは別に事前に実施する、又は、感光材料12に対する露光時に同時に実施することができる。また、CCDカメラ26の校正、及び、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係の取得については、連続的又は個別に行うことができるが、ここでは、連続的に行う場合で説明する。
CCDカメラ26の校正については、図12に示すステップ150で、先ず、オペレータが露光対象物となる感光材料12のアライメントマーク13の位置データをコントローラ28に入力する。この位置データの入力によりアライメントマーク13の座標が取得される。
続いて、オペレータがコントローラ28の指示入力手段82から校正開始の入力操作を行うと、露光装置10の校正動作が開始し、ステップ152で、コントローラ28のカメラ移動用コントローラ88は上記の入力された位置データに基づいて各CCDカメラ26の駆動源を制御し、各CCDカメラ26を感光材料12のアライメントマーク13を撮影する所定の撮影位置にそれぞれ移動させる。このとき、各CCDカメラ26の位置は、各駆動源(ステッピングモータ)のパルスをカウントすることでコントローラ28に制御され、また前述した移動単位(U1)のステップで送られる。
各CCDカメラ26がアライメントマーク13の撮影位置に配置されると、ステップ154で、ステージ14がガイド20に沿ってアライメント計測方向の上流側から下流側に移動し、基準板70のカメラ位置検出部70Bを各CCDカメラ26の下方(視野内)に配置する位置まで移動する。
各CCDカメラ26の視野内に基準板70のカメラ位置検出部70Bが配置されると、各CCDカメラ26はコントローラ28により制御されてカメラ位置検出部70Bをそれぞれ撮影する。このとき、各CCDカメラ26は、カメラ位置検出部70Bに配列された複数の検出用マーク77A、77Bのうち少なくとも1つをそれぞれ撮影する。
次に、ステップ156で、撮影された検出用マーク77A、77Bの視野中心(光軸中心)からの位置ずれ量を、コントローラ28が画像処理等によって計測する。なお、ここでは、撮影した検出用マークが検出用マーク77A及び検出用マーク77Bの何れであるかは、パターンマッチング等の画像処理を用いて切り替える。
ここで、撮影された検出用マーク77A、77Bが、複数設けられたうちの何れの検出用マークであるかは上記のパルスによって特定し、また、各検出用マーク77A、77Bマークの絶対位置データは予め別の測定手段によって測定し、コントローラ28に記憶されており、この絶対位置データと、上記の計測結果(計測値)との差分を演算して、基準板70と各CCDカメラ26の光軸中心との位置ずれデータを取得する。この計測及び演算結果から、アライメントマーク13を撮影する位置(アライメント計測位置)における各CCDカメラ26の光軸中心ずれ量を補正するための校正用データが得られ、この校正用データはコントローラ28のメモリ85に記憶される(図7参照)。そして、CCDカメラ26の校正動作を終了し、次に、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係の取得動作に移行する。
この動作が開始すると、図13に示すステップ160で、コントローラ28により駆動装置が制御され、ステージ14は基準板70のビーム位置検出部70Aを露光ヘッド30によるレーザビームの照射位置(露光位置)まで移動する。次に、ステップ162で、基準板70のビーム位置検出部70Aへ向けて露光ヘッド30からレーザビームを照射し、前述したビーム位置検出動作により、露光基準点の位置を計測する。
ここで、ビーム位置検出部70Aとカメラ位置検出部70Bとは同一の基準板70に設けられており、これらの位置関係は予め別の測定手段により測定されている。これにより、露光基準と、上記のカメラの校正動作で撮影した検出用マーク77A、77Bとの位置関係が判明する。したがって、本動作により計測した露光基準データと、カメラの校正動作により取得したCCDカメラ26の光軸中心との位置ずれデータ(校正用データ)とを演算することで、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係を示す露光基準−カメラ光軸中心位置データ(補正データ)が得られ、このデータはコントローラ28のメモリ85に記憶される。そして、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係の取得動作を終了し、校正動作を終了する。
以上のアライメント機能(露光位置合わせ機能)の校正方法によって露光装置10の校正作業を行い、その校正された露光装置10によって、感光材料12を画像露光する場合には、CPU80がメモリ85から露光基準−カメラ光軸中心位置データを読み出し、メモリ84に記憶されている露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号(露光データ)を、この露光基準−カメラ光軸中心位置データを用いて演算処理することにより校正用データを露光データに反映させる。そしてこの制御信号にさらに、前述したように感光材料12をアライメント測定して取得した露光位置の補正データを反映させる補正制御(アライメント)を実行し、適正な露光位置に合わせ込んで画像露光を行う。
以上説明したように、本実施形態のアライメント機能(露光位置合わせ機能)の校正方法では、露光装置10のアライメント機能を校正するため、CCDカメラ26により感光材料12のアライメントマーク13を撮影(アライメント計測)するのに先立ち、CCDカメラ26による撮影が可能な位置(視野内)に、CCDカメラ26の移動方向(X方向)に沿って所定の間隔で配列された複数の検出用マーク77A、77Bを備える基準板70のカメラ位置検出部70Bを配置し、複数の検出用マーク77A、77Bのうちの少なくとも1つを、感光材料12に設けられたアライメントマーク13を読み取る位置に配置したCCDカメラ26で撮影し、その撮影で取得した光軸位置ずれデータ(CCDカメラ26のの位置データ)に基づいて校正用データを算出し、感光材料12に対する露光では、その校正用データを基準位置データに反映させてアライメントを実行し、適正な露光位置に合わせ込んで画像露光を行うことにより、CCDカメラ26の移動に伴う姿勢変化要因により精度が影響されるアライメント機能の校正が可能となり、感光材料12に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。
また、本実施形態では、レーザビームによる露光位置を検出する検出用スリット74を備える基準板70(ビーム位置検出部70A)にカメラ位置検出部70Bを一体的に設けることにより、それらを別体とする場合に比べ、検出用スリット74と検出用マーク77A、77Bとの相対位置が高い精度で計測できると共に、検出用スリット74と検出用マーク77A、77Bとのとの間に位置ずれ等が生じにくくなる。これにより、この基準板70のビーム位置検出部70A(及びフォトセンサ72)により検出したレーザビームの露光位置データと、基準板70に一体的に設けられたカメラ位置検出部70Bを用いて取得した校正用データとを演算して求めた補正データであれば、その誤差分が抑えられ、補正データを反映させて行うアライメントをより高精度に行うことができる。
このとき、複数のCCDカメラ26を用いることで本発明の効果はさらに発揮される。すなわち読取時間短縮のためにCCDカメラ26を複数用いた場合は、複数のCCDカメラ26の相互位置関係がずれ易いため、校正の効果が大きくなる。
さらにCCDカメラ26の光軸ズレはY方向(図1)について検出することも可能であり、これを校正するようにしてもよい。
また、本実施形態の露光装置を使用し本実施形態の応用例として次のように露光することもできる。
図14のフローチャート及び図18構成図を用いて説明する。前述の動作によりCCDカメラ26でアライメントマーク13を読み取る前あるいは後にアライメントマーク13を読み取ったCCDカメラ26の位置で検出用マーク77A、77Bを読み取る(ステップ174)。前述の通り検出用マーク77A、77Bの絶対位置データは予め別の測定手段で測定されコントローラ28に記憶されており、CCDカメラ26で読み取ったアライメントマーク13の位置データを検出用マーク77A、77Bの絶対位置データを基準とした位置データとして取得する(ステップ176)。
次に前述の図13におけるステップ160からステップ164の手順で、DMD36の特定の画素が点灯している時の露光面上でのビーム位置を計測し(ステップ170)ビーム位置データを取得する(ステップ172)。これは露光基準点のビーム位置検出部70Aに対しての相対的な位置データである。
ここでビーム位置検出部70Aとカメラ位置検出部70Bとは同一の基準板70に設けられており、これらの相対的な位置関係は予め別の測定手段により測定されている(ステップ178)。
これにより、ビーム位置検出部70Aに対する露光基準点の露光面上でのビーム位置と、カメラ位置検出部70Bを基準としたアライメントマーク位置が取得できる。すなわちビーム位置検出部70Aとカメラ位置検出部70Bの相対位置は測定されているので、ビーム位置検出部70Aを基準としたアライメントマーク13の位置データを得ることができる。
感光材料を露光する段階では、CCDカメラ26によりアライメントマーク13を読み取り(ステップ182)、読み取ったアライメントマーク13に基づき位置データを取得する(ステップ184)。コントローラ28は、ステップ174、176の手順でアライメントマーク13の検出用マーク77A、77Bを基準とした基準位置データを算出する(ステップ186)。さらにコントローラ28はビーム位置検出部70Aに対する露光基準点のビーム位置データと、ビーム位置検出部70Aに対するアライメントマーク13の位置データに基づいて、露光画像の画像データ上のアライメントマーク13がビーム位置検出部70Aに対するアライメントマーク13の位置に一致するように、画像データに対してDMD36の各画素を割り当て、画像データに応じてDMD36の各画素を変調させ露光画像を露光する(ステップ188)。
以上説明した本実施形態の応用例により露光することで、ビーム位置検出部70Aと相対位置関係のわかった読取手段基準マーク(検出用マーク77)とアライメントマーク13の位置測定をCCDカメラ26で行うことで、基準マーク位置と露光点位置との位置関係がわかり、これらのデータに基づいて描画像を露光するため、高精度で描画像を露光することができる。
すなわち、アライメントマーク13および露光基準点の露光位置を同一のスケール(ビーム位置検出部70Aまたはカメラ位置検出部70B)に対する相対位置としてそれぞれのデータを取得し、このアライメントマーク13の位置データおよび露光点基準位置データに基づいて露光するので高精度に描画像を感光材料上に露光することができる。

なお、露光基準点を1点として説明したが、複数の画素を露光基準点として位置測定することにより、更に高精度に描画像を感光材料上に露光することができる。
また、本実施形態では、感光材料12が載置されるステージ14にカメラ位置検出部70Bを備える基準板70を設け、且つ、ステージ14に感光材料12を載置した状態でCCDカメラ26による検出用マーク77A、77Bの撮影が可能なように配設していることにより、露光装置10によって感光材料12を露光する場合でも、アライメント機能が校正できるようになり、校正作業が容易になる。
また、図15及び図16には、上述した基準板70のカメラ位置検出部70Bに設ける検出用マークを1種類とした場合の変形例を示す。
図15に示すカメラ位置検出部70Bには、円形の検出用マーク77AのみがX方向に沿って所定の間隔で複数配列されている。この変形例では、複数の検出用マーク77Aの配列ピッチ:P2と、CCDカメラ26のX方向への移動単位:U2とが、同一に設定されており(P2=U2)、さらに各検出用マーク77AがCCDカメラ26の視野(撮影視野)Vの中央に位置するよう配置されている。
また、図16(A)〜(D)に示すカメラ位置検出部70Bにも、円形の検出用マーク77AのみがX方向に沿って所定の間隔で複数配列されており、この変形例では、複数の検出用マーク77Aの配列ピッチ:P3と、CCDカメラ26の視野VのX方向における長さ寸法:Lとは、同一に設定されている(P3=L)。また、ここでは、CCDカメラ26のX方向への移動単位:U3は、検出用マーク77Aの幅寸法に設定されている(U3=MA)。
このように、カメラ位置検出部70Bに設ける検出用マークを1種類とした場合でも、上記の設定を採用することにより、CCDカメラ26の移動においては、CCDカメラ26を移動単位(U2/U3)のステップで送り何れの位置に配置した場合でも複数配列したうちの1つの検出用マーク77Aのみを撮影することができる。そしてこれらの変形例では、上述した実施の形態のように、2種類の検出用マーク77A、77Bのうちの何れがCCDカメラ26によって撮影されたかを判別するために、パターンマッチング等の画像処理を用いる必要がないため、校正動作に関する処理を簡素化できる。
図17には、基準板と露光ヘッドの角度測定方法を示す。
図17に示すように、各露光ヘッド30は画素ごとに露光のオンオフが可能となっている。
すなわち、それぞれ入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)36を備えている。露光ヘッド30から出射されたレーザ光がDMD36に照射されると、DMD36のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、レンズ系により感光材料12の露光面上に結像される。レーザ光が画素毎にオンオフされて、感光材料12がDMD36の使用画素数と略同数の画素単位(露光エリア)で露光される。
露光ビーム位置の検出手段として、レーザビームによる露光位置を検出する検出用スリット74を備える基準板70(ビーム位置検出部70A)が設けられ、且つ一個の露光ヘッド30に対して少なくとも2個の検出用スリット74が設けられている。
まず図17のヘッド1において画素1−a、1−b、1−cを順次点灯する。このうち走査方向(Y方向)にて一直線上に並んだ1−a、1−bのヘッド1上における画素位置(座標)を求めることで、走査方向に対するヘッド1の角度であるθhead(θhead_h1)が算出できる。
また同一の行(ヘッド1上)上の画素1−b、1−cのヘッド1上における画素位置(座標)を求めることで、ヘッド1に対する基準板70の角度であるθscale(θscale_h1)が算出できる。
同様にして複数の露光ヘッド30(ヘッド1〜ヘッドn)にてヘッド角度θhead_hn と、基準板70の角度θscale_hn とを求め、それぞれの平均値が等しくなるように基準板70の角度を角度調整装置95で調整する。
上記の調整により走査方向(Y方向)に対して基準板70を正しく垂直方向に角度合わせできるので、複数の露光ヘッド30内の画素とアライメントカメラ26の位置を正確な座標系で測定できるようになり、正確に露光位置のアライメント補正をした露光を実現できるようになる。
すなわち、ヘッド1と走査方向の角度、ヘッド1と基準板70の角度は検出可能であるため、この2つから走査方向と基準板70の角度を検出・校正することができる。
上記の構成とすることにより、露光装置10内にある座標基準となる基準板70を自身で高精度に位置補正することができる。これにより露光装置10内で径時変化があった時、たとえばステージ14の走査方向が変化したり、あるいは基準板70の取付角度が走査方向に対して変化した場合などに走査方向を測定するための高精度な測定装置を必要とせず、装置内の機能だけで校正可能なので、露光装置10全体の径時信頼性が向上する。
以上、本発明を上述した実施の形態により詳細に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、本発明の範囲内にて他の種々の実施形態が可能である。
例えば、上記の実施の形態では、検出用マーク(校正用基準マーク)が円形及び十字形の2種類の場合について説明したが、この検出用マークの形状については円形及び十字形以外の形状を用いることが可能であり、さらに、3種類以上の検出用マークを用いることも可能である。その場合でも、前述したように、CCDカメラ26の視野及び移動単位と、検出用マークの配列ピッチとを所定の条件で規定することにより、同等の機能を実現することができる。
また、上記の実施の形態における露光装置10の感光材料12に対する露光動作では、ステージ14を移動させつつ感光材料12を走査露光する場合について説明したが、露光動作はこのような走査露光に限らず、他にも、最初の露光位置まで移動させた感光材料12を一旦停止して所定の露光領域のみを露光し、その露光後に、感光材料12を次の露光位置まで移動させて再び停止し次の所定の露光領域のみを露光する、というように、感光材料12の移動→露光位置に停止→画像露光→移動・・・・・・を繰り返すような動作としてもよい。
また、上記の実施の形態における露光装置10では、空間変調素子としてDMDを備えた露光ヘッドについて説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子(LCD)を使用することもできる。例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)タイプの空間光変調素子(SLM;Special Light Modulator)や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子(PLZT素子)や液晶光シャッタ(FLC)等の液晶シャッターアレイなど、MEMSタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、MEMSとは、IC製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、MEMSタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、Grating Light Valve(GLV)を複数ならべて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子(GLV)や透過型空間光変調素子(LCD)を使用する構成では、上記したレーザの他にランプ等も光源として使用可能である。
また、上記の実施の形態における光源としては、合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源、1個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する1本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源、複数の発光点が二次元状に配列された光源(たとえば、LDアレイ、有機ELアレイ等)、等が適用可能である。
また、上記の露光装置10には、露光により直接情報が記録されるフォトンモード感光材料、露光により発生した熱で情報が記録されるヒートモード感光材料の何れも使用することができる。フォトンモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはGaN系半導体レーザ、波長変換固体レーザ等が使用され、ヒートモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはAlGaAs系半導体レーザ(赤外レーザ)、固体レーザが使用される。
本発明の一実施形態に係る露光装置を示す斜視図である。 本発明の一実施形態に係るスキャナの構成を示す斜視図である。 本発明の一実施形態に係る露光ヘッドの光学系を示す概略構成図である。 (A)は本発明の第1の実施形態に係る露光装置における、DMD(デジタルマイクロミラーデバイス)を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる露光ビームの走査軌跡を示す要部平面図、(B)はDMDを傾斜させた場合の露光ビームの走査軌跡を示す要部平面図である。 本発明の一実施形態に係る露光装置に設けられたDMDの構成を示す部分拡大図である。 (A)及び(B)は図5のDMDの動作を説明するための説明図である。 本発明の一実施形態に係るアライメントユニットの構成を示す斜視図である。 本発明の一実施形態に係る基準板を示す平面図である。 (A)は、本発明の一実施形態に係る露光装置において検出用スリットを利用して点灯している特定画素と光の回り込み画素を検出する状態を示す説明図、(B)は、点灯している特定画素をフォトセンサが検知したときの信号を示す説明図である。 本発明の一実施形態に係る露光装置に設けられたコントローラおける制御用の電気系の概略構成を示すブロック図である。 (A)〜(D)は、本発明の一実施形態に係るカメラ位置検出部をCCDカメラにより撮影する際の検出用マークと撮影視野の関係を示す説明図である。 本発明の一実施形態に係る露光装置で行われる、カメラ校正動作の制御内容の流れを示すフローチャートである。 本発明の一実施形態に係る露光装置で行われる、露光基準とカメラ光軸中心との位置関係の取得動作の制御内容の流れを示すフローチャートである。 本発明の一実施形態に係る露光装置で行われる、露光基準とカメラ校正基準との位置関係の取得動作の制御内容の流れを示すフローチャートである。 カメラ位置検出部の変形例を示す平面図である。 (A)〜(D)は、他の変形例に係るカメラ位置検出部をCCDカメラにより撮影する際の検出用マークと撮影視野の関係を示す説明図である。 本発明の一実施形態に係る基準板と露光ヘッドの角度測定方法を示す図である。 本発明の一実施形態に係る露光装置で行われる、露光基準とカメラ校正基準との位置関係の取得方法を示す図である。
符号の説明
10 露光装置
12 感光材料
13 アライメントマーク(基準マーク)
14 ステージ(移動手段)
24 スキャナ(露光手段)
26 CCDカメラ(読取手段)
28 コントローラ(制御手段)
30 露光ヘッド(露光手段)
70 基準板(検出手段/校正用部材)
70A ビーム位置検出部(検出手段)
70B カメラ位置検出部(校正用部材)
74 検出用スリット(検出部)
77A 検出用マーク(校正用基準マーク)
77B 検出用マーク(校正用基準マーク)
85 メモリ(データ記憶手段)
95 角度調整装置

Claims (16)

  1. 露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、
    前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、
    前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、
    前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、
    を有する露光装置であって、
    前記露光装置は更に、
    前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の読取手段基準マークを備えると共にその複数の読取手段基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取手段位置スケールと、
    前記読取手段により基準マークを読み取る際に、前記複数の読取手段基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データを記憶する読取位置データ記憶手段と、
    前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段を有し、
    前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、を有し、
    前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から読み出された基準位置データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、
    前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光する露光装置。
  2. 前記ビーム位置検出手段と前記読取手段位置スケールが一体的に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、
    前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、
    前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、
    前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、
    を有する露光装置であって、
    前記露光装置は更に、
    前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取位置校正用部材と、
    前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶する校正用データ記憶手段と、
    前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段と、
    前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、を有し、
    前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記校正用データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させた基準位置補正データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、
    前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置補正データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光する露光装置。
  4. 前記ビーム位置検出手段と前記読取位置校正用部材が一体的に設けられていることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
  5. 前記ビーム位置検出手段は前記露光露光手段に対して走査方向に並んでいない複数の測定箇所で前記光ビームの露光点位置を測定し、前記複数の測定箇所で測定された露光点位置から、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を検出する角度検出手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載の露光装置。
  6. 前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、露光面上にて露光される画像データを補正する画像データ補正手段を備えたことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
  7. 前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を調整する角度調整手段を備えたことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
  8. 露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、前記感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、
    前記走査方向と交差する方向へ移動可能とされ、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、
    前記読取手段による読み取り後に、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、
    前記露光手段による露光で、前記読取手段による読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と
    を有する露光装置であって、
    前記露光装置は更に、
    前記移動手段に設けられ、前記読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した校正用部材と、
    前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶するデータ記憶手段と、
    を有し、
    前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させて前記露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させることを特徴とする露光装置。
  9. 露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、
    前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、
    前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、
    前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、
    を用いた露光方法であって、
    前記露光方法は更に、
    前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の読取手段基準マークを備えると共にその複数の読取手段基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取手段位置スケールと、
    前記読取手段により基準マークを読み取る際に、前記複数の読取手段基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データを記憶する読取位置データ記憶手段と、
    前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段を用い、
    前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、
    を用い、
    前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から読み出された基準位置データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、
    前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光する露光方法。
  10. 露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、
    前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、
    前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、
    前記露光手段による露光で、前記読取手段による基準マークの読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、
    を用いた露光方法であって、
    前記露光方法は更に、
    前記読取手段の移動方向に沿って配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した読取位置校正用部材と、
    前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶する校正用データ記憶手段と、
    前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備えるビーム位置検出手段と、
    前記露光手段から出力される所定の光ビームの露光点位置を該ビーム位置検出手段によって検出して得られる露光点位置データを記憶する露光点位置情報記憶手段と、を用い、
    前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記校正用データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させた基準位置補正データと、前記露光点位置情報記憶手段から露光点位置データを読み出し、
    前記ビーム位置検出手段の前記読取手段基準マークに対する相対的な位置関係から、前記基準位置補正データと前記露光点位置データとに基づいて前記画像データを露光する露光方法。
  11. 前記ビーム位置検出手段は前記露光露光手段に対して走査方向に並んでいない複数の測定箇所で前記光ビームの露光点位置を測定し、前記複数の測定箇所で測定された露光点位置から、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を検出する角度検出手段を用い、
    前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、露光面上にて露光される画像データを補正する画像データ補正手段を用いることを特徴とする請求項9乃至請求項10の何れか1項に記載の露光方法。
  12. 前記ビーム位置検出手段は前記露光露光手段に対して走査方向に並んでいない複数の測定箇所で前記光ビームの露光点位置を測定し、前記複数の測定箇所で測定された露光点位置から、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を検出する角度検出手段を用い、
    前記角度検出手段により検出された前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度に基づいて、前記ビーム位置検出手段の走査方向に対する角度を調整する角度調整手段を用いることを特徴とする請求項9乃至請求項10の何れか1項に記載の露光方法。
  13. 露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、前記感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、
    前記走査方向と交差する方向へ移動可能とされ、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、
    前記読取手段による読み取り後に、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、
    前記露光手段による露光で、前記読取手段による読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と
    を用いた露光方法であって、
    前記露光方法は更に、
    前記移動手段に設けられ、前記読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備えると共にその複数の校正用基準マークを読取手段による読み取りが可能な位置に配置した校正用部材と、
    前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて算出した校正用データを記憶するデータ記憶手段と、
    を用い、
    前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から前記校正用データを読み出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させて前記露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させることを特徴とする露光方法。
  14. 感光材料に設けられた露光位置の基準となる基準マークを、前記感光材料の走査方向と交差する方向へ移動可能とされた読取手段により読み取って取得した基準位置データに基づいて感光材料に対する露光位置合わせを行い、その感光材料を移動手段により前記走査方向へ移動させつつ画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光装置の前記露光位置合わせ機能を校正する校正方法であって、
    前記読取手段により前記基準マークを読み取るのに先立ち、
    前記読取手段による読み取りが可能な位置に、読取手段の移動方向に沿って所定の間隔で配列された複数の校正用基準マークを備える校正用部材を配置し、
    前記複数の校正用基準マークのうちの少なくとも1つを、前記基準マークを読み取る位置に配置した読取手段で読み取り、その読み取りで取得した前記読取手段の位置データに基づいて校正用データを算出し、その校正用データを前記基準位置データに反映させることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴とする露光装置の校正方法。
  15. 前記露光装置は前記光ビームによる露光位置を検出する検出部を備える検出手段を有し、その検出手段に前記校正用部材を一体的に設けると共に、前記検出手段により検出した光ビームの露光位置データと前記校正用データを演算して求めた補正データを前記基準位置データに反映させることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴とする請求項14記載の露光装置の校正方法。
  16. 前記移動手段は前記感光材料が載置されるステージを有し、
    前記校正用基準部材は、前記ステージに前記感光材料を載置した状態で前記読取手段による前記校正用基準マークの読み取りが可能なように前記ステージに配設したことを特徴とする請求項14又は請求項15記載の露光装置の校正方法。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006173470A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Shinko Electric Ind Co Ltd 自動補正方法および自動補正装置
JP2006284890A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置
WO2006118133A1 (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Fujifilm Corporation ワーク位置情報取得方法および装置
JP2006330534A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Nikon Corp 基準指標板、基準指標板の調整方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
WO2007097379A1 (ja) * 2006-02-21 2007-08-30 Nikon Corporation パターン形成装置、マーク検出装置、露光装置、パターン形成方法、露光方法及びデバイス製造方法
JP2008065034A (ja) * 2006-09-07 2008-03-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 描画装置およびアライメント方法
JP2008250147A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp アライメントマーク測定方法および装置並びに描画方法および装置
JP2009521671A (ja) * 2005-12-23 2009-06-04 ジーコデール システムズ アクチボラゲット 測位用パターン
US9013674B2 (en) 2010-07-26 2015-04-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Exposure apparatus including the exposure head and control method thereof
US9329060B2 (en) 2006-02-21 2016-05-03 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US9690214B2 (en) 2006-02-21 2017-06-27 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
JP2018004860A (ja) * 2016-06-30 2018-01-11 株式会社オーク製作所 アライメント装置、露光装置、およびアライメント方法
CN109720103A (zh) * 2017-10-31 2019-05-07 天津长荣科技集团股份有限公司 一种卷料在线检测标记装置
CN114846293A (zh) * 2019-10-07 2022-08-02 威克胜成像有限公司 传感器装置

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006173470A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Shinko Electric Ind Co Ltd 自動補正方法および自動補正装置
JP4557703B2 (ja) * 2004-12-17 2010-10-06 新光電気工業株式会社 自動補正方法および自動補正装置
JP2006284890A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置
JP4533785B2 (ja) * 2005-03-31 2010-09-01 富士フイルム株式会社 アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置
WO2006118133A1 (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Fujifilm Corporation ワーク位置情報取得方法および装置
JP2006330534A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Nikon Corp 基準指標板、基準指標板の調整方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2009521671A (ja) * 2005-12-23 2009-06-04 ジーコデール システムズ アクチボラゲット 測位用パターン
US10088343B2 (en) 2006-02-21 2018-10-02 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US10012913B2 (en) 2006-02-21 2018-07-03 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US10409173B2 (en) 2006-02-21 2019-09-10 Nikon Corporation Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method
US10345121B2 (en) 2006-02-21 2019-07-09 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US9329060B2 (en) 2006-02-21 2016-05-03 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US9690214B2 (en) 2006-02-21 2017-06-27 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US9857697B2 (en) 2006-02-21 2018-01-02 Nikon Corporation Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method
US10234773B2 (en) 2006-02-21 2019-03-19 Nikon Corporation Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method
US9989859B2 (en) 2006-02-21 2018-06-05 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US10139738B2 (en) 2006-02-21 2018-11-27 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US10088759B2 (en) 2006-02-21 2018-10-02 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
WO2007097379A1 (ja) * 2006-02-21 2007-08-30 Nikon Corporation パターン形成装置、マーク検出装置、露光装置、パターン形成方法、露光方法及びデバイス製造方法
US10132658B2 (en) 2006-02-21 2018-11-20 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
JP2008065034A (ja) * 2006-09-07 2008-03-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 描画装置およびアライメント方法
JP2008250147A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp アライメントマーク測定方法および装置並びに描画方法および装置
US9013674B2 (en) 2010-07-26 2015-04-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Exposure apparatus including the exposure head and control method thereof
JP2018004860A (ja) * 2016-06-30 2018-01-11 株式会社オーク製作所 アライメント装置、露光装置、およびアライメント方法
CN109720103A (zh) * 2017-10-31 2019-05-07 天津长荣科技集团股份有限公司 一种卷料在线检测标记装置
CN114846293A (zh) * 2019-10-07 2022-08-02 威克胜成像有限公司 传感器装置
US12025490B2 (en) 2019-10-07 2024-07-02 Vexcel Imaging Gmbh Sensor arrangement

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