JP2005308871A - 干渉カラーフィルター - Google Patents

Abstract

【課題】色純度が高く明るい反射型表示装置を実現する。また微細加工が可能であり、耐光性の高い反射型カラーフィルターを実現する。
【解決手段】反射金属膜上に、少なくとも一対の透明体薄膜と吸収体半透過膜からなる光干渉膜を配置する。
【選択図】 図1

Description

本発明は液晶表示装置等の表示装置用のカラーフィルターに関するものであり、特に画素ピッチの微細化や耐光性の向上に資する新規の反射型干渉カラーフィルターに関するものである。

特開平８−１２２７６６ 特開平１０−１１５７０４ 特開平８−３１３８９８ 特開平９−２２２５１２ 特開２００２−２３１４９ 特開２００２−３４１１２６

近年、携帯端末の普及によって外光下における表示装置のコントラストの低下が問題となっている。例えば携帯電話等の表示装置に直射日光が入射すると光が散乱して表示が見えなくなる現象がある。また消費電力低減の要請も強く、照明を必要としない表示装置への期待が高まっている。

反射型液晶パネルはバックライトによる照明を必要としないことから、液晶本来の低消費電力の利点を最大限に活用できるデバイスである。しかし構造上表示輝度が非常に低くなるという問題がある。暗さの原因は大きく分けて、反射率の問題と開口率の問題に分けられる。反射率では偏光板を用いない相転移型ゲストホスト液晶が有利だが、応答速度の面では、ツイストネマティック（ＴＮ）液晶、垂直配光ネマティック液晶、強誘電性液晶などが有利であり、コスト面などから反射型ＴＮ液晶等の改良が強く望まれている。

カラーフィルターの製造方法としては、染色法、顔料分散法、着色感材法、印刷法が知られているが、一般的には顔料分散法が広く用いられている。顔料分散法では、例えば基板上に赤色顔料を含む感光性樹脂を塗布し、プリベーク・露光・現像した後、乾燥工程を経て赤色着色層を形成する。次に同様の工程を２回繰り返すことで緑色着色層および青色着色層を形成し、３色の着色層を有するカラーフィルターを製作する。

通常の反射型液晶のカラーフィルターは観察者側基板に設けられるので、入射光は反射金属膜によって反射することによってカラーフィルターを２回通過することになる。したがってカラーフィルターの吸光度と色純度を下げて明るさを優先しているものの、外光はフィルターによって透過する波長成分が冷陰極管の光と比べて少ないこともあり、従来の反射型液晶は非常に暗いのが現状である。

アクティブマトリックス方式では、ＴＦＴ基板側の反射金属膜上にカラーフィルターを形成して開口率を改善する方法も提案されているが、１μｍ以上のカラーフィルター上に透明電極を形成してコンタクトホールを設けて導通させる必要があり、一般的にはあまり用いられていない。

また半導体技術の進展により、半導体回路上に液晶層を形成するＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ ｏｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ）デバイス等のマイクロ液晶やデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いたディスプレイ装置が注目されている。これらの表示装置では画素ピッチが非常に狭く、カラーフィルターを形成することが極めて困難になる。通常の顔料分散法によるカラーフィルターでは膜厚が1μｍ以上必要であり、ＬＣＯＳ等によるマイクロ液晶では画素ピッチが１０μｍ程度と極めて微小であるためにアスペクト比が高くなる。このため加工が難しくて開口率が犠牲になる上に、反射率の確保や偏光の維持等が困難となる。また非常に高強度の光を反射させる必要があるため、染色法や顔料分散法によるカラーフィルターでは耐光性が劣るため、焼き着きが起こるという問題もある。また画素の微細化によって視差が問題となる。

このような問題の解決のために、特許文献１や特許文献２に示されているようなダイクロイックフィルターを用いた反射型カラーフィルターが提案されている。ダイクロイックフィルターは、高屈折率誘電体と低屈折率誘電体を多層積層して形成し、光の干渉によって特定の波長範囲の光を透過し、その補色となる光を反射する。通常干渉型カラーフィルターと称するものは、このダイクロイックフィルターであり、特徴としては吸収がないことがあげられる。

このような透明多層膜による薄膜フィルターは二種類の薄膜の屈折率と膜厚が規定されるので、所定の屈折率の材料をなかなか見つけることができない場合がある。通常高屈折率材料としてＴａ_２Ｏ_５やＴｉＯ_２が、低屈折率材料としてＳｉＯ_２やＭｇＦ_２が用いられる。ダイクロイックフィルターではこれらの誘電体を積層して数μｍの膜厚に形成する必要がある。これらの誘電体は耐薬品性が高く、ウェットエッチングを行うことができないために、微細加工を行う場合には、ダイクロイックフィルターを成膜する前に、感光レジストでパターン形成をしておき、その上に成膜して、レジストと一緒に余分な部分の膜を取り去るリフトオフ法によってパターン形成をする必要がある。そのために歩留りが悪くコスト高になるという問題がある。

また特許文献３および特許文献４に示されている反射型ホログラムを用いたものも提案されているが、反射型ホログラムは製造装置が大型化しコスト面で不利である。また特許文献５および特許文献６ではコレスティック液晶を固化させて形成するタイプも提案されているが、コレスティック液晶を固化させたカラーフィルターは固化液晶層に０．１μｍ程度の段差をつける必要があり、プロセスの安定性やコスト面で問題がある。

このように従来方式ではマイクロカラーフィルターを実用的に実現することができないために３板式や時間分割方式がとられている。３板式の装置では赤・緑・青の各原色ごとに一枚の液晶表示装置を使用し、それらの画像を合成してひとつの画像とするため、装置が大型で高価になるという問題があった。また単板式の装置では、カラーホイール等を介して時間分割駆動を行うめに、カラーブレーキング現象を伴い、小型化にも限界があるという問題があった。

本発明は、明るく色純度の高い反射型表示装置を実現する技術に関する。さらに、微細加工が可能であり、耐光性の高い構造とすることでマイクロカラーフィルターを実現する技術に関する。

本発明では、Ａｌ等の金属からなる反射金属膜と、前記反射金属膜上に形成された少なくとも一対の透明体薄膜と吸収体半透過膜による光干渉膜によってカラーフィルターの赤・緑・青の各サブピクセルを構成する。赤・緑・青の発色は透明体薄膜と吸収体半透過膜の膜厚の組み合わせを変更することによって実現する。また前記吸収体半透過膜に代わり、吸収体微粒子を分散した透明体膜を用いることによってより安価で扱いやすいプロセスを実現することができる。

本発明のよる干渉カラーフィルターでは、色純度が高く、明るい反射型表示装置を可能とする。また、耐光性が高く、エッチングによる微細加工が可能なので、マイクロ液晶向けのマイクロカラーフィルターとして活用できる。

以下、図をもとに具体的に説明する。図１は本発明の構成を示す図である。１は反射金属膜、２は光干渉膜で、３はオーバーコート膜である。光干渉膜２は吸収体半透過膜２ａと透明体薄膜２ｂで構成されており、反射金属膜１とオーバーコート膜３の間に少なくとも一対の光干渉膜を配置する。オーバーコート膜３は配置しないことも可能である。

吸収体半透過膜は例えばＭｏの質量膜厚で数十ｎｍ程度の真空蒸着膜である。この程度の膜厚の金属蒸着膜は、蒸着の初期に形成される核を中心に成長した島状構造から、島同士が連結しあう網状構造へ変化しつつある段階であり、入射光の一部が透過することから半透過膜となる。半透過膜の微細構造は波長に対して十分に小さく、半透過膜全体で均質と見ることができる。成膜法は真空蒸着法に限らずスパッタリング法や気相成長法など多くの成膜法を適用できる。

いま、オーバーコート膜の屈折率をｎ_０、第１層の吸収体半透過膜の複素屈折率をｎ_１ ^＊＝ｎ_１−iｋ_１、膜厚をｄ_１、第２層の透明体薄膜の屈折率をｎ_２、膜厚をｄ_２、反射金属膜の複素屈折率をｎ_ｂ ^＊＝ｎ_ｂ−iｋ_ｂとする。入射光はオーバーコート膜を通って、第１層である吸収体半透過膜に入射し、入射した光のうち一部は反射し、一部は吸収され、一部は透過する。第１層である吸収体半透過膜を透過した光は第２層である透明体薄膜を通り、反射金属膜に入射し、一部が吸収され一部が反射する。反射金属膜で反射した光は、再び第２層である透明体薄膜を通って、第１層である吸収体半透過膜に到達し、再度一部が反射、一部が吸収、一部が透過する。

このようなオーバーコート膜／吸収体半透過膜／透明体薄膜／反射金属膜による多層薄膜で繰り返し反射による光干渉をシミュレーションするためには、それぞれの光学定数ｎ_０、ｎ_１、ｋ_１、ｄ_１、ｎ_２、ｄ_２、ｎ_ｂ、ｋ_ｂを正確に知る必要がある。それぞれの光学定数は入射する波長によって分散があり、第１層である吸収体半透過膜は、膜厚や成膜法、下地の状態によって屈折率ｎ_１および吸収係数ｋ_１が大きく変動する。

一般に非常に薄い金属蒸着膜は、蒸着の初期に生成した核から成長するために、成長段階により島状構造や網状構造をとり、半透過膜となる。このような半透過膜ではバルク金属では見られない、表面プラズマ振動等に起因する可視域の異常吸収が存在することが知られている。その結果、膜厚によって光学定数が大幅に変化するものと考えられる。したがって、蒸着条件や下地の状態、膜厚、波長等、それぞれの条件による光学定数を測定し、分散状況を把握しながら、光学計算をする必要がある。

このようにして求めた光学定数を元に、オーバーコート膜／吸収体半透過膜／透明体薄膜／反射金属膜の反射率シミュレーションを行うと、実際に作製したサンプルとよく合致する。光学定数の組み合わせによって、特定の波長範囲の光に対して低反射率を実現できる。Ｍｏ半透過膜／Ａｌ_２Ｏ_３透明体薄膜／Ａｌ反射金属膜の構成では、第１層の吸収体半透過膜の膜厚ｄ_１および第２層の透明体薄膜の膜厚ｄ_２を変えることで、赤色、青色、黄色等の強い呈色を示すことが見出された。

実験により多くの材料を検討した結果、Ｍｏの吸収体半透過膜のほかに、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等多くの金属や半金属で、強い呈色を示すことが見出された。このような半透過膜は膜厚の増加によって島状膜から網状の薄膜へと成長するにつれて光の吸収機構が変化して光学定数も変化する。しかし、すべての光学定数が独立ではなく、関連して変化するために吸収体半透過膜の膜厚変化に対して吸収帯の移動は鈍感であり、多くの吸収体半透過膜で透過率がおおむね１０〜９０％の範囲で呈色が認められた。

第２層の透明体薄膜は、Ｙ_２Ｏ_３やＩｎ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ_３Ｎ_４などの金属や半金属の酸化物や窒化物あるいはフッ化物のほか透明樹脂など、透明であればほとんどの材料が利用できる。また、Ｉｎ_２Ｏ_３やＳｉ_３Ｎ_４など金属や半金属の酸化物や窒化物では成膜条件によって化学量論比からのずれによって若干の吸収を伴う場合があるが、このような吸収のある膜でも、色純度に多少影響するものの問題なく使用することができる。また、反射金属膜材料では、ＡｌのほかＡｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｚｎなど多くの金属に対して有効である。

このようなオーバーコート膜／吸収体半透過膜／透明体薄膜／反射金属膜による多層薄膜では、第１層の吸収体半透過膜の膜厚は、反射率に影響するものの吸収帯の中心波長には鈍感であることから主に反射光の強度を調整し、第２層の透明体薄膜の膜厚は、吸収帯の中心波長が大きく移動することから干渉の位相条件は主にこの第２層の透明体薄膜の膜厚によって決定する。吸収体表面からの反射光と光干渉膜からの反射光をバランスさせ、干渉する波長を調整することによって、吸収帯が生ずるものと考えられる。

実験では、吸収体半透過膜の質量膜厚が２００ｎｍ以下、特に５０から１００ｎｍで良好な発色が見られ、第２層の透明体薄膜の膜厚を調整して吸収帯の中心波長を変化させることにより、様々な色を発色することができる。第１層の吸収体半透過膜の膜厚を数十ｎｍから増加させていくと、徐々に反射率が低下して色純度の高い発色を示すようになるが、吸収体半透過膜の膜厚が所定の膜厚、例えば２００ｎｍ以上になると連続膜となって光が透過しなくなるために発色しなくなる。また第２層である透明体薄膜の膜厚を増加していくと徐々に光の吸収帯の中心波長が長波長側に移動する。着色膜として有効な範囲は第１層が島状または網状構造を維持できる１ｎｍ以上２００ｎｍ以下、第２層がおおむね１ｎｍ以上１μｍ以下である。

このようにして作製した試料は、吸収帯の範囲によって特定の色を発色する。例えば長波長側が吸収され、短波長の光が反射されると青色に見える。逆に短波長側が吸収され、長波長の光が反射されると赤色に見える。反射光が呈する色は、反射金属膜材料と吸収体半透過膜材料の組み合わせ、および吸収体半透過膜と透明体薄膜の膜厚の組み合わせによってさまざまに変化する。

また、吸収体半透過膜と透明体薄膜の組み合わせを複数配置することによって、複数の吸収帯を形成することができる。それぞれの吸収帯が特定の波長域の光を吸収し、吸収された波長域以外の光が反射されて色純度の高い反射型のカラーフィルター画素を形成することができる。

吸収体半透過膜と透明体薄膜による光干渉膜の特徴は、全体の膜厚が薄く、選択できる材料の範囲が広いことである。透明体薄膜としてはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの導電性を持った材料も用いることができるので、反射金属膜を含むカラーフィルター全体を導電性材料で形成できる。そのため例えばカラーフィルター・オン・アレイとしてＴＦＴ基板上にカラーフィルターを形成した場合に、表面に透明導電膜を形成してコンタクトホールを設ける必要がなく、簡単な構成でカラーフィルター電極を形成できる。

また、本発明による干渉カラーフィルターは、膜厚が薄くエッチング加工が可能な材料を選択することが可能である。例えば、透明体薄膜としてＹ_２Ｏ_３や前述のＩＴＯ等を用いることによって、例えばリン酸系のＡｌエッチング液を用いてＭｏ／Ｙ_２Ｏ_３／Ａｌからなる干渉カラーフィルターをエッチング加工することができる。

また、本発明による第二の発明では、第１層の島状または網状の吸収体半透過膜に代わり、吸収体微粒子を分散した透明体膜を用いる。吸収体微粒子は３００ｎｍ以下の粒径を持つ微粒子で、可視光の波長に対して十分に小さく、吸収体微粒子を分散した透明体膜全体で均質と見ることができる。ナノサイズの金属超微粒子は、金属島状膜や網状膜と同様に表面プラズモン等に起因する可視光域での強い吸収があり、吸収体微粒子を分散した透明体膜と、さらに反射金属膜側に配置した透明体薄膜による２層によって光干渉膜を構成することによって、第一の発明と同様の吸収帯を実現できる。

また、この構造によれば、第一の発明の吸収体半透過膜が連続膜となる膜厚の厚い領域で利用が可能となるうえに、第１層や第２層の膜厚に多少のばらつきがあっても吸収帯の形状があまり変化しないので、製造プロセスの安定性を高めることができる。このような吸収体微粒子が分散した透明体膜は吸収体と透明体の共蒸着や、別途作製した吸収体超微粒子を透明樹脂等に分散させ、反射金属膜上にスピンコートする等の方法で形成することができる

本発明による反射型干渉カラーフィルターは、カラーフィルターを持つ様々な液晶パネル等に適用することができる。偏光板を通過した直線偏光は本発明による干渉カラーフィルターで反射して円偏光になるので、１枚偏光板のＴＮ型液晶等に適用する場合には、位相調整板を配置して反射光を直線偏光に戻して再度偏光板を通過させる。この場合、赤・緑・青の各サブピクセルごとに液晶の複屈折による着色や光干渉膜による位相のずれ等が生ずることがあるので、それぞれのサブピクセルごとにオーバーコート膜の膜厚を最適化することによって、この問題を解決することができる。

また、本発明による反射型干渉カラーフィルターは反射金属膜と光干渉膜とからなり、通常の反射型液晶の反射電極とカラーフィルターを兼ねた構造となっている。反射金属膜および光干渉膜を蒸着膜等の平坦な膜で構成することによって、顔料分散型のカラーフィルターで問題となる顔料による光の散乱がなく、迷光のないクリアな反射映像光が得られる。

また、反射金属膜および光干渉膜に凹凸を形成することによって配光性を持たせ、広い視野角を持たせることができる。特に反射界面を回転楕円体の一部で構成される凹部または凸部の集合で形成することによって均一に配光することができ、さらに表示装置から外部に出射するときに臨界角に達することのない凹部または凸部の傾斜角を設定することによって、効率のよい明るい反射型カラーフィルターを構成することができる。

また、光干渉膜を構成する透明体薄膜の光学定数ｎ_２、ｄ_２は干渉条件を決める要素となっており、光学距離ｎ_２ｄ_２を可変とすることによって、1画素で多くの色を発色することができる。したがってサブピクセルに分割しなくても、３原色を時間分割で発色することで、フルカラー表示が実現する。このような構成は、透明体薄膜を例えばニオブ酸リチウムのような強誘電体材料で構成した光学距離可変透明膜とし、吸収体半透過膜の上にさらに導電性透明体膜を配置することによって実現することができる。

すなわち導電性透明膜と、反射金属膜の間に電圧を印加することによって、強誘電体等で構成された光学距離可変透明膜の屈折率すなわち光学距離が変化し、光干渉膜の干渉条件が変化することによって異なる色が発色する。このような発色の変化は、このほかに、熱や圧力、電場や磁場、光などの電磁波によって膜厚または屈折率に変化を生じる物質によって構成することができる。

また、光学距離可変透明膜を熱等の外部刺激で不可逆的に光学距離が変化する物質で構成し、レーザーアニール等の手法で光学距離可変透明膜を部分的に加工することによって、フォトリソグラフィによらない簡便な手法で干渉カラーフィルターを作製できる。

以下に本発明の実施の形態を具体的に説明する。

図２は本発明の干渉カラーフィルターを用いた反射型カラー液晶表示装置の断面構造図である。４はセグメント側のガラス基板、５は樹脂で形成された凹部を形成した下地層、６は反射金属膜、７は光干渉膜で、Ｍｏの吸収体半透過膜７ａとＩＴＯの導電性透明体薄膜７ｂからなる。８はオーバーコート膜を兼ねた配光膜、９はシール部材、１０は液晶層、１１は配光膜、１２は透明電極、１３はコモン側ガラス基板、１４は位相差板、１５は偏光板である。反射金属膜３と光干渉膜４でカラーフィルター電極１００を構成する。またセグメント側のガラス基板４は駆動回路を含むＴＦＴ基板やシリコンバックプレーンでもよく、凹部を形成した下地層５は省略することもできる。液晶層７は例えば４５°ツイステッドネマチック液晶であり、オーバーコート膜８によって平坦化した後、液晶層を注入する。

カラーフィルター電極１００は、異なる波長域の光を反射するように微細に分割された３つの領域からなり、それぞれ青・緑・赤の波長を反射する。このような反射特性の差は、反射金属膜６上に形成した光干渉膜７の膜厚構成によって実現することができる。

このような構造は、次のような製法によって形成することができる。アクリル系樹脂を主成分とする熱硬化型樹脂をガラス基板１上にスピンコートし、３μｍ程度の厚さの下地層を形成する。この試料をプリベークした後、回転楕円体を多数並置した界面を持つマイクロ金型によるスタンプ法によって、下地層に多数の凹部を形成する。さらにポストベークした後、この試料を電子ビーム蒸着装置に装着し、Ａｌを２００ｎｍ程度蒸着する。さらに、ＩＴＯをＯ_２雰囲気中で６０ｎｍ程度蒸着し、続いてＭｏ膜を４０ｎｍ程度蒸着する。

このようにして作製した試料上にフォトレジストをスピンコートし、適当なパターンで露光・現像した後、リン酸系のＡｌエッチング液でエッチングを行うと、カラーフィルターパターンを形成することができ、青色のカラーフィルター電極とすることができた。ＩＴＯ膜の膜厚を変えながら、延べ３回の成膜とエッチングを繰り返すことによって、３色のカラーフィルター電極を形成できた。こうして作製したセグメント側基板にポリイミド樹脂からなる配光膜８を形成して、ラビング処理を行った。

コモン側基板は、ガラス基板１３上にＩＴＯからなる透明電極を形成し、ラビング処理したポリイミド樹脂からなる配光膜１１を形成する。そして、セグメント側基板とコモン側基板を液晶層１０とシール部材９を介して張り合わせ、ガラス基板１３の外側にポリカーボネートからなる位相差板１４と、偏光板１５を順次張り合わせた。

このようにして作製した反射型液晶表示装置は、色純度、反射率ともに高く、視差も皆無であった。また本発明の干渉カラーフィルターは、耐光性が高くて微細加工が可能であり、数μｍ幅のカラーフィルターパターンを形成することができる。

図３は光干渉膜を構成する透明体薄膜の光学距離を可変にした例である。１６ａはＭｏの吸収体半透過膜、１６ｂはニオブ酸リチウム等の強誘電体で形成された光学距離可変透明体薄膜であり、この２層で光学距離可変の光干渉膜１６を構成している。また反射金属膜６と光学距離可変の光干渉膜１６で可変発色のカラーフィルター電極２００を構成している。１７は導電性透明体膜で、ＩＴＯ蒸着膜等で形成している。反射金属膜６と導電性透明体膜１７の間に電圧を印加すると、その間の強誘電体膜の屈折率が変化し、光学距離が変化することによって光干渉膜１６の干渉条件が変化し、印加電圧によって赤、緑、青およびその中間色を発色することができる。

本発明の干渉カラーフィルターの断面構造図である。 本発明の干渉カラーフィルターを適用した反射型液晶パネルの断面構造図である。 本発明の可変色型干渉カラーフィルターを適用した反射型液晶パネルの断面構造図である。

符号の説明

１ 反射金属膜
２ 光干渉膜
２ａ 吸収体半透過膜
２ｂ 透明体薄膜
３ オーバーコート膜
４ セグメント側のガラス基板
５ 下地層
６ 反射金属膜
７ 光干渉膜
７ａ 吸収体半透過膜
７ｂ 導電性透明体薄膜
８ オーバーコート膜を兼ねた配光膜
９ シール部材
１０ 液晶層
１１ 配光膜
１２ 透明電極
１３ コモン側ガラス基板
１４ 位相差板
１５ 偏光板
１６ 光学距離可変光干渉膜
１６ａ 吸収体半透過膜
１６ｂ 光学距離可変透明体薄膜
１７ 導電性透明体膜
１００ カラーフィルター電極
２００ 可変発色カラーフィルター電極

Claims (11)

1. 反射金属膜と、前記反射金属膜上に形成された少なくとも一対の透明体薄膜と吸収体半透過膜による光干渉膜によって構成することを特徴とする干渉カラーフィルター。
2. 反射金属膜と、前記反射金属膜上に形成された透明体薄膜と吸収体微粒子を分散した透明体膜による光干渉膜とによって構成することを特徴とする干渉カラーフィルター。
3. 前記吸収体半透過膜または前記吸収体微粒子が、遷移金属元素、典型金属元素、半金属元素から選択される1種類以上の金属または半金属元素で構成されることを特徴とする請求項１および２記載の干渉カラーフィルター。
4. 前記光干渉膜を構成する前記透明体薄膜を導電性透明体で構成することを特徴とする請求項１および２記載の干渉カラーフィルター。
5. 前記光干渉膜を構成する前記透明体薄膜を光学距離可変材料によって形成することを特徴とする請求項１および２記載の干渉カラーフィルター。
6. 前記光干渉膜を構成する前記吸収体半透過膜の膜厚が１ｎｍから２００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１記載の干渉カラーフィルター。
7. 前記光干渉膜を構成する前記吸収体微粒子の粒径が３００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２記載の干渉カラーフィルター。
8. 前記光干渉膜を構成する前記透明体薄膜の膜厚が１ｎｍから１μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１および２記載の干渉カラーフィルター。
9. 前記光干渉膜を備えた前記反射金属膜を並列に分割配置してサブピクセルを構成し、前記サブピクセル上にそれぞれ膜厚の異なるオーバーコート膜を配置することを特徴とする請求項１および２記載の干渉カラーフィルター。
10. 前記反射金属膜の光入射界面を回転楕円体の一部で構成される曲面の集合で構成することを特徴とする請求項１および２記載の干渉カラーフィルター。
11. 前記光干渉膜を構成する前記吸収体半透過膜に隣接して導電性透明体膜を配置することを特徴とする請求項1および２記載の干渉カラーフィルター。
    

Images