JP2005257843A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005257843A JP2005257843A JP2004066835A JP2004066835A JP2005257843A JP 2005257843 A JP2005257843 A JP 2005257843A JP 2004066835 A JP2004066835 A JP 2004066835A JP 2004066835 A JP2004066835 A JP 2004066835A JP 2005257843 A JP2005257843 A JP 2005257843A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- waveguide
- core
- manufacturing
- optical waveguide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】
導波路パターン12aが形成され、上部に導波路パターン膜13aを有する下部クラッド層12上に、FHD法により、コア層14を成膜する(工程5)。RIEにより、コア層14の一部をエッチングし、導波路パターン膜13aの一部を露出させ、導波路パターン膜13a上に成膜したコア層の一部14cと導波路コア14aとを分離する(工程6)。導波路パターン膜13aを侵食性物質で除去し、これにより、導波路パターン膜13a上のコア層の一部14cも除去する(工程7)。高温の熱処理を行い、導波路コア14aの表面を平坦化させ、導波路コア14aを完成させる(工程8)。
【選択図】 図2
Description
クラッド層に導波路コアを形成してなる光導波路の製造方法であって、
前記クラッド層に犠牲層を成膜し、当該犠牲層に導波路パターンを形成し、当該犠牲層に形成した導波路パターンを用いて、前記クラッド層に導波路パターンを形成し、
前記クラッド層に形成した導波路パターンをも埋め込むように、前記犠牲層上にコア層を成膜した後、
前記犠牲層を除去することを特徴とする光導波路の製造方法である。
前記犠牲層上にコア層を成膜する工程は、
前記クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の部分と前記犠牲層上のコア層の部分とが、前記犠牲層の一部の露出により、分離した状態で、前記コア層を成膜することを特徴とする光導波路の製造方法である。
前記犠牲層上にコア層を成膜する工程は、
前記犠牲層の露出が完全になくなるように、前記クラッド層に形成した導波路パターン内および前記犠牲層上にコア層を成膜した後、
前記クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の部分と前記犠牲層上のコア層の部分とが、前記犠牲層の一部の露出により、分離した状態となるように、当該コア層の一部を除去して、
前記コア層を成膜することを特徴とする光導波路の製造方法である。
前記犠牲層を除去した後に、前記クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の表面を平坦化することを特徴とする光導波路の製造方法である。
基板上に下部クラッド層と、導波路コアと、上部クラッド層とを有する光導波路の製造方法であって、
前記基板上に前記下部クラッド層を成膜する第1工程と、
前記下部クラッド層に犠牲層を成膜する第2工程と、
当該犠牲層に導波路パターンを形成する第3工程と、
当該犠牲層に形成した導波路パターンを用いて、前記下部クラッド層に導波路パターンを形成する第4工程と、
前記犠牲層の露出が完全になくなるように、前記下部クラッド層に形成した導波路パターン内および前記犠牲層上にコア層を成膜する第5工程と、
前記下部クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の部分と前記犠牲層上のコア層の部分とが、前記犠牲層の一部の露出により、分離した状態となるように、当該コア層の一部を除去する第6工程と、
前記犠牲層を除去すると共に、前記犠牲層上のコア層の部分を除去する第7工程と、
前記下部クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の表面を平坦化して前記導波路コアとする第8工程と、
当該導波路コアが形成された下部クラッド層上に、前記上部クラッド層を成膜する第9工程とを有することを特徴とする光導波路の製造方法である。
前記犠牲層の除去は、
前記犠牲層に対しては侵食性である一方、前記クラッド層及び前記コア層に対しては非侵食性の物質により除去することを特徴とする光導波路の製造方法である。
前記クラッド層および前記導波路コアは、石英系材料により形成されることを特徴とする光導波路の製造方法である。
前記犠牲層は、アモルファスシリコン、クロムまたは金のいずれかであることを特徴とする光導波路の製造方法である。
前記犠牲層の厚みは、0.5μm〜4μmであることを特徴とする光導波路の製造方法である。
以下、本発明の第1の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1,2は、本発明の第1の実施形態に係る光導波路の製造方法の概略を示す概略工程図である。これらの図において、同一機能を有するものには同一符号を付し、重複する説明は省略する。
次に、本発明の第2の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図3,4は、本発明の第2の実施形態に係る光導波路の製造方法の概略を示す概略工程図である。これらの図において、同一機能を有するものには同一符号を付し、重複する説明は省略する。
2,12,22 下部クラッド層
2a,12a,22a 導波路パターン
3,13 アモルファスシリコンの薄膜
3a,13a,23a 導波路パターン膜
4,14,24 コア層
4a,14a,24a 導波路コア
4b,14b,24b 凹パターン
14c,24c コア層の一部
5,15,25 上部クラッド層
Claims (9)
- クラッド層に導波路コアを形成してなる光導波路の製造方法であって、
前記クラッド層に犠牲層を成膜し、当該犠牲層に導波路パターンを形成し、当該犠牲層に形成した導波路パターンを用いて、前記クラッド層に導波路パターンを形成し、
前記クラッド層に形成した導波路パターンをも埋め込むように、前記犠牲層上にコア層を成膜した後、
前記犠牲層を除去することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項1に記載する光導波路の製造方法において、
前記犠牲層上にコア層を成膜する工程は、
前記クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の部分と前記犠牲層上のコア層の部分とが、前記犠牲層の一部の露出により、分離した状態で、前記コア層を成膜することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項1に記載する光導波路の製造方法において、
前記犠牲層上にコア層を成膜する工程は、
前記犠牲層の露出が完全になくなるように、前記クラッド層に形成した導波路パターン内および前記犠牲層上にコア層を成膜した後、
前記クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の部分と前記犠牲層上のコア層の部分とが、前記犠牲層の一部の露出により、分離した状態となるように、当該コア層の一部を除去して、
前記コア層を成膜することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載する光導波路の製造方法において、
前記犠牲層を除去した後に、前記クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の表面を平坦化することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 基板上に下部クラッド層と、導波路コアと、上部クラッド層とを有する光導波路の製造方法であって、
前記基板上に前記下部クラッド層を成膜する第1工程と、
前記下部クラッド層に犠牲層を成膜する第2工程と、
当該犠牲層に導波路パターンを形成する第3工程と、
当該犠牲層に形成した導波路パターンを用いて、前記下部クラッド層に導波路パターンを形成する第4工程と、
前記犠牲層の露出が完全になくなるように、前記下部クラッド層に形成した導波路パターン内および前記犠牲層上にコア層を成膜する第5工程と、
前記下部クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の部分と前記犠牲層上のコア層の部分とが、前記犠牲層の一部の露出により、分離した状態となるように、当該コア層の一部を除去する第6工程と、
前記犠牲層を除去すると共に、前記犠牲層上のコア層の部分を除去する第7工程と、
前記下部クラッド層に形成した導波路パターン内のコア層の表面を平坦化して前記導波路コアとする第8工程と、
当該導波路コアが形成された下部クラッド層上に、前記上部クラッド層を成膜する第9工程とを有することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載する光導波路の製造方法において、
前記犠牲層の除去は、
前記犠牲層に対しては侵食性である一方、前記クラッド層及び前記コア層に対しては非侵食性の物質により除去することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載する光導波路の製造方法において、
前記クラッド層および前記導波路コアは、石英系材料により形成されることを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載する光導波路の製造方法において、
前記犠牲層は、アモルファスシリコン、クロムまたは金のいずれかであることを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載する光導波路の製造方法において、
前記犠牲層の厚みは、0.5μm〜4μmであることを特徴とする光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004066835A JP4188860B2 (ja) | 2004-03-10 | 2004-03-10 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004066835A JP4188860B2 (ja) | 2004-03-10 | 2004-03-10 | 光導波路の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005257843A true JP2005257843A (ja) | 2005-09-22 |
JP4188860B2 JP4188860B2 (ja) | 2008-12-03 |
Family
ID=35083650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004066835A Expired - Fee Related JP4188860B2 (ja) | 2004-03-10 | 2004-03-10 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4188860B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021515279A (ja) * | 2018-02-27 | 2021-06-17 | オプトスクライブ リミテッド | 光学装置及びその製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0843653A (ja) * | 1994-08-02 | 1996-02-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波回路の製造方法 |
JPH0980246A (ja) * | 1995-09-14 | 1997-03-28 | Hitachi Cable Ltd | 石英系ガラス導波路の製造方法 |
JPH10197737A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波回路の製造方法 |
JP2000121859A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 埋め込み型光導波路の製造方法 |
JP2001296442A (ja) * | 2000-04-11 | 2001-10-26 | Canon Inc | フォトニック構造を有する屈折率周期構造体の製造方法、及びそれを用いた光機能素子 |
JP2002303748A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Hitachi Cable Ltd | 光導波路装置およびその製造方法 |
JP2003131057A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2003161852A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Kddi Corp | 誘電体導波路の製造方法 |
JP2004061711A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Fujitsu Ltd | デバイス製造方法および光導波路デバイス |
-
2004
- 2004-03-10 JP JP2004066835A patent/JP4188860B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0843653A (ja) * | 1994-08-02 | 1996-02-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波回路の製造方法 |
JPH0980246A (ja) * | 1995-09-14 | 1997-03-28 | Hitachi Cable Ltd | 石英系ガラス導波路の製造方法 |
JPH10197737A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-31 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波回路の製造方法 |
JP2000121859A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 埋め込み型光導波路の製造方法 |
JP2001296442A (ja) * | 2000-04-11 | 2001-10-26 | Canon Inc | フォトニック構造を有する屈折率周期構造体の製造方法、及びそれを用いた光機能素子 |
JP2002303748A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Hitachi Cable Ltd | 光導波路装置およびその製造方法 |
JP2003131057A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Hitachi Cable Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2003161852A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Kddi Corp | 誘電体導波路の製造方法 |
JP2004061711A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Fujitsu Ltd | デバイス製造方法および光導波路デバイス |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021515279A (ja) * | 2018-02-27 | 2021-06-17 | オプトスクライブ リミテッド | 光学装置及びその製造方法 |
JP7400741B2 (ja) | 2018-02-27 | 2023-12-19 | インテル・コーポレーション | 光学装置及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4188860B2 (ja) | 2008-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6154465B2 (ja) | 能動及び受動構造を備えたフォトニック回路を製造する方法 | |
US7811844B2 (en) | Method for fabricating electronic and photonic devices on a semiconductor substrate | |
JP6244380B2 (ja) | フォトニックデバイスの構造及び製造方法 | |
TW201140181A (en) | Integrated optical receiver architecture for high speed optical I/O applications | |
JP2016507897A (ja) | 集積光半導体構造物、その形成方法、および設計構造物(埋込型導波路光検出器) | |
TW201207455A (en) | Optical grating coupler | |
JP4638749B2 (ja) | 熱光学位相変調器及びその製造方法 | |
US6732550B2 (en) | Method for performing a deep trench etch for a planar lightwave circuit | |
JP4188860B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2005326876A (ja) | 光導波路 | |
JP2006106749A (ja) | 波長フィルターの下部クラッド層のパターン作製用モールド及び導波管型波長フィルターの製造方法(methodofmanufacturingmoldforpatterninglowercladdinglayerofwavelengthfilterandofmanufacturingwaveguide−typewavelengthfilterusingthemold) | |
JP2007078861A (ja) | 熱光学可変減衰器とその製造方法 | |
US20190293864A1 (en) | Frontend integration of electronics and photonics | |
CN104380158A (zh) | 光耦合***及其制造方法 | |
JP2005215075A (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
JP2001511537A (ja) | 光回路部品作成方法及びこれにより作成された光回路部品 | |
JP5336556B2 (ja) | 光共振器およびその製造方法 | |
JP5685843B2 (ja) | 光導波路の製造方法および光導波路 | |
JP2004126399A (ja) | 光導波路および光導波回路 | |
JP2000121859A (ja) | 埋め込み型光導波路の製造方法 | |
JP2000066048A (ja) | 光導波路デバイスとその製造方法 | |
Zhu et al. | Back-end integration of multilayer photonics on silicon | |
JP2001249240A (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
JP2001201647A (ja) | 光導波路回路およびその製造方法 | |
JP2004287173A (ja) | 光導波路の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080610 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080811 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080909 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080911 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130919 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |