JP2005222639A - 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 非磁性支持体1の一方の面に、電子ビーム加熱によってCoを蒸発させて、厚みが50nm以下の磁性層2を形成する磁気記録媒体において、前記電子ビームの強度を上げて、前記蒸着されるCoの平均粒径を10nm以下に制御する。
【選択図】 図3
Description
(2)請求項2に記載の発明によれば、電子ビームの強度を上げることによってCoの結晶の成長が妨げられ、Co粒子を微細化することができ、このため膜厚を50nm以下に薄膜化した磁性層において、蒸着されるCoの平均粒径を10nm以下にすることができる。これによって、高記録密度化に適し、かつ保存による磁性層の劣化が防止された磁気記録媒体を製造することができる。
磁化劣化率(%)=((Ms0−Ms1)/Ms0)×100 …(1)。
電子銃powerを1.3Aとして、磁性層を40nm成膜したサンプル。
(実施例2)
電子銃powerを1.5Aとして、磁性層を40nm成膜したサンプル。
(実施例3)
電子銃powerを1.8Aとして、磁性層を40nm成膜したサンプル。
(比較例1)
電子銃powerを1.1Aとして、磁性層を40nm成膜したサンプル。
(比較例2)
電子銃powerを0.7Aとして、磁性層を40nm成膜したサンプル。
Claims (2)
- 非磁性支持体の一方の面に蒸着により形成され、厚みが50nm以下の磁性層を備えた磁気記録媒体において、
前記磁性層を形成するCo粒子の平均粒径が10nm以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 非磁性支持体の一方の面に、電子ビーム加熱によってCoを蒸発させて、厚みが50nm以下の磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記電子ビームの強度を上げて、前記蒸着されるCoの平均粒径を10nm以下に制御することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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JP2004030361A JP2005222639A (ja) | 2004-02-06 | 2004-02-06 | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
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