JP2005215330A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
本発明は、透明電極層18および金属反射層8を積層してなる反射表示電極20および配向膜9を有する一方の基板と、少なくとも透明表示電極5、配向膜6を有する他方の基板4とを、前記反射表示電極20と透明表示電極5が互いに交差するようにして液晶層を介在させて貼り合わせてなる液晶表示装置において、前記金属反射層8は、透明電極層18側からCr層27、Al層28を順次積層した多層構造とし、Al層28のパターン形状は、Cr層27のパターン形状よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置である。
【選択図】図3
Description
また、このような液晶表示装置においては、表示面側と反対の基板の表面には、基板の内面側表面に、金属反射層の形状の差異はあるものの透明表示電極層上に金属反射層が積層されている。このように、透明表示電極層は金属反射層ととともに表示電極として機能するため、本発明では、合わせて反射表示電極といい、基板側に位置する透明表示電極を、透明電極層という。
前記透明電極層の全面にCr被膜層、Al被膜層を被着する工程
前記Al被膜層上に、前記金属反射層の形状に近似したレジスト膜を形成する工程、
Alエッチング液を用いて前記Al被膜層をエッチングして、所定形状のAl被膜層を形成する工程
Crエッチング液を用いて前記Cr被膜層をエッチングして、前記Cr層を形成する工程
Alエッチング液を用いて前記所定形状のAl被膜層を、再エッチングしてAl層を形成する工程を含む液晶表示装置の製造方法である。
最後に、レジスト膜25を剥離する。これにより、所定形状、例えば、各画素領域を構成する透明電極層18上に、Cr層27、Al層28からなる金属反射層8が形成される。この多層構造の金属反射層8は、透明電極層18側のCr層27の形状が大きく、上層側のAl層28の形状が小さくなる。尚、レジスト膜25の形状は、最終的に形成されるAl層28(金属反射層8)よりも若干大きい形状とするのは、Al被着膜24を合計2回エッチング処理して、Cr層27よりも小さくするため、金属反射層8の形状をこのAl層28の形状と規定したときである。
ITOからなる透明電極18が形成されたガラス基板12に、スパッタリングにより、Cr被着膜23(350Å)、次いでAl被着膜24(1150Å)を成膜した。
ITOからなる信号側透明電極が形成された信号側ガラス基板に、スパッタリングにより、Cr被着膜(350Å)、次いでAl被着膜(1150Å)を成膜した。
2・・・第二位相差フィルム
3・・・第一位相差フィルム
4・・・他方の基板
12・・一方の基板
5・・・透明表示電極
20・・反射表示電極
8・・・金属反射層
18・・透明電極
6、9・・・配向膜
7・・・・平滑層
10・・・カラーフィルタ
13・・・位相差フィルム
15・・・バックライト
16・・・液晶層
21・・・シール部材
23・・・Cr被着膜
24・・・Al被着膜
25・・・レジスト膜
26・・・Al被着膜
27・・・Cr層
28・・・Al層
Claims (2)
- 透明電極層および金属反射層を積層してなる反射表示電極および配向膜を有する一方の基板と、
少なくとも透明表示電極、配向膜を有する他方の基板とを、
前記反射表示電極と透明表示電極が互いに交差するようにして液晶層を介在させて貼り合わせてなる液晶表示装置において、
前記金属反射層は、透明電極層側からCr(クロム)層、Al(アルミニウム)層を順次積層した多層構造であるとともに、Al層のパターン形状は、Cr層のパターン形状よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。 - 透明電極層上に、Cr(クロム)層、Al(アルミニウム)層を順次積層するとともに、該Al層のパターン形状をCr層のパターン形状よりも小さくして積層した反射表示電極および配向膜を有する一方の基板と、少なくとも透明表示電極層、配向膜を有する他方の基板とを、前記反射表示電極と透明表示電極が互いに交差するようにして液晶層を介在させて貼り合わせてなる液晶表示装置の製造方法であって、
前記透明電極層の全面にCr被膜層、Al被膜層を被着する工程
前記Al被膜層上に、前記金属反射層の形状に近似したレジスト膜を形成する工程、
Alエッチング液を用いて前記Al被膜層をエッチングして、所定形状のAl被膜層を形成する工程、
Crエッチング液を用いて前記Cr被膜層をエッチングして、前記Cr層を形成する工程、
Alエッチング液を用いて前記所定形状のAl被膜層を、再エッチングしてAl層を形成する工程、とを含む液晶表示装置の製造方法。
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CN112701039A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-23 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种金属电极结构的实现方法 |
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