JP4206209B2 - 金属パターン付き基板の製造方法、金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、液晶表示装置用金属パターン付き基板および液晶表示装置 - Google Patents
金属パターン付き基板の製造方法、金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、液晶表示装置用金属パターン付き基板および液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4206209B2 JP4206209B2 JP2001223847A JP2001223847A JP4206209B2 JP 4206209 B2 JP4206209 B2 JP 4206209B2 JP 2001223847 A JP2001223847 A JP 2001223847A JP 2001223847 A JP2001223847 A JP 2001223847A JP 4206209 B2 JP4206209 B2 JP 4206209B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- metal pattern
- metal
- photosensitive resin
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体部品等に利用される金属パターン付き基板の製造方法、この製造方法により得られる金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、この製造方法により得られる液晶表示装置用金属パターン付き基板およびこの基板を用いた液晶表示装置に関する。
【従来の技術】
【0002】
液晶表示装置の構造には、大別すると透過型液晶表示装置(以下、透過型という)、全反射型液晶表示装置(以下、全反射型という)および半透過型液晶表示装置(以下、半透過型という)の3種類の形態がある。透過型は、装置内部に配置されたバックライトからの光が、赤色、緑色および青色からなる透明着色層を透過することにより画像等を表示するものである。
【0003】
一方、全反射型は、太陽光や照明等の外光を利用して画像等を表示するものである。半透過型は、透過型および全反射型の機能を兼ね備えた構造を有している。
【0004】
図9(a)、(b)は全反射型、図10(a)、(b)は半透過型の構造を示した部分拡大図である。
図9(a)、(b)に示すように、全反射型は、前面基板41と、金属パターン42が形成された金属パターン付き基板45とが対向して配置されており、前面基板41または金属パターン付き基板45に形成された赤色、緑色および青色の着色層43(R)、43(G)および43(B)と、隣接する赤色、緑色、青色の混色を防止し色純度の低下を防ぐために設けられるブラックマトリックス(図示せず)と、着色層43(R)、43(G)および43(B)上に形成されたオーバーコート層46と、液晶44を挟み込むようにして配置された透明導電膜47、48と、偏光板49とを備えている。このような全反射型は、着色層43(R)、43(G)および43(B)を透過した外光L1が、金属パターン42で反射され、再度着色層43(R)、43(G)および43(B)を透過することによって画像等を表示するものである。
【0005】
また、図10(a)、(b)に示すように、半透過型は、前記全反射型と同様に前面基板41、金属パターン42が形成された金属パターン付き基板45、液晶44、着色層43(R)、43(G)および43(B)等を有する他に、光透過用の光透過部51および偏光板50を有している。このような半透過型は、全反射型と同様な外光L1による表示に加えて、バックライトL2が光透過部51、着色層43(R)、43(G)および43(B)を透過することによって画像等を表示するものである。
【0006】
図11は、前記金属パターン付き基板45が、透明板52上に形成される部位(基板形成部位53)を示した平面図である。
例えば携帯電話機等に利用される小型の液晶表示装置の場合、図11に示すような1枚の透明板52から、複数枚の前記金属パターン付き基板45が作製される。この金属パターン付き基板45上の金属パターンは、通常、以下のような手順で形成される。
【0007】
<手順1:金属膜の形成>
はじめに、透明板52上の全面にスパッタリング、蒸着等により金属膜を形成する。通常、金属膜にはAl、Cr、Ag、Ni等およびそれらの合金を含むものが使用される。なお、視認性向上の目的で、金属膜の形成前に適度な凹凸を有した散乱層(図示せず)を形成してもよい。
【0008】
<手順2:感光性樹脂パターンの形成>
手順1により得られた金属膜上に、感光性樹脂をスピンコート法等により塗布した後、所定のパターンに形成されたフォトマスクで前記感光性樹脂を覆い、光を照射(露光)し、その後現像し、硬化処理して所定の感光性樹脂パターンを得る。このとき、前記感光性樹脂がネガ型の場合には、感光性樹脂パターンを形成したい部分に光を照射し、ポジ型の場合には、感光性樹脂パターンを形成したい部分を前記フォトマスクで覆い、それ以外の部分に光を照射する。
【0009】
<手順3:金属パターンの形成>
手順2により得られた前記感光性樹脂パターンを有した金属膜を、その金属膜に適したエッチング液により腐食処理(エッチング)することによって、前記感光性樹脂パターンと同形状に形成された金属パターンが得られる。
【0010】
<手順4:感光性樹脂の剥離>
手順1〜3により得られた金属パターン上の感光性樹脂パターンをアルカリ系の剥離材によって剥離除去する。
【0011】
以上の手順1〜4によって、透明板52上に所定の光反射用金属パターンを形成することができる。この金属パターンが形成された基板形成部位53をカットして得られた金属パターン付き基板45は、図9(a)、(b)、図10(a)、(b)で示した液晶表示装置に使用される。
【0012】
しかしながら、前記金属パターン付き基板45上に金属パターン42を形成する際には、上記1〜4のような多数の工程が必要であり、これがコスト増大の原因となっている。また、手順4に示した前記感光性樹脂パターンの剥離を行う際には、金属パターン42が劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、前記感光性樹脂が完全に剥離されず感光性樹脂残渣が発生し反射性能が低下するという不具合が生じることがあった。さらに、図9(b)および図10(b)のように金属パターン42上に着色層43(R)、43(G)および43(B)やブラックマトリックス(図示せず)が形成される場合、この形成過程において、金属パターン42にキズ等が付いて反射性能が低下するという不具合が生じることがあった。
【0013】
上記のような不具合は、液晶表示装置用基板の製造時に限られず、例えば半導体部品の製造のように、基板上に金属パターンを形成する際等にも生ずる問題であった。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の主たる目的は、例えば半導体部品に用いられる金属パターンを製造する際に、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがない金属パターン付き基板の製造方法およびこの製造方法により得られる金属パターン付き基板を提供することである。
【0015】
本発明の他の目的は、透明板上に金属パターンを形成する際に、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が発生したりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがない液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、この製造方法により得られる金属パターン付き基板およびこの基板を備えた液晶表示装置を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、半導体部品等に利用される金属パターンを形成する際に、前記金属パターン形成に使用する感光性樹脂を、金属パターン形成後に剥離除去せず、この感光性樹脂を前記金属パターンの保護膜として残すことによって、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがないため、コストを削減でき、信頼性の高い金属パターン付き基板を製造することができるという新たな知見を見出し、本発明を完成するに至った。
【0017】
すなわち、本発明の金属パターン付き基板の製造方法は、基板上に形成された金属膜上に感光性樹脂膜を形成し、この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成し、この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に金属パターンを形成した後、前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の金属パターン付き基板を得ることを特徴とする。
【0018】
本発明の金属パターン付き基板の製造方法は、前記現像と前記腐食処理とを同時に実施することを特徴とする。このように金属パターンと保護膜とが同時に形成されるので、さらなる工程削減によるコスト削減が可能となるだけでなく、金属パターンと保護膜(感光性樹脂パターン)にずれが生じないため、より信頼性の高い金属パターン付き基板を製造することができる。
【0019】
上記の本発明方法は、液晶表示装置用の金属パターン付き基板を製造する際にも適用することができ、具体的には、全反射型および半透過型に適用するのが好適である。
【0020】
本発明の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法は、透明板の表面に金属膜を形成する工程と、この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光反射用の金属パターンを形成する工程と、前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の全反射型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする。
【0021】
これにより、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が発生したりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがないため、コストを削減でき、反射性能の高い全反射型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得ることができる。
【0022】
また、本発明の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法は、透明板の表面に金属膜を形成する工程と、この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、この感光性樹脂膜を露光し、現像して、複数の基板形成部位の間隙にある金属膜と、各基板形成部位の光透過部にある金属膜とを露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光透過部を含む光反射用の金属パターンを形成する工程と、前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の半透過型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする。
【0023】
これにより、前記と同様に、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがないため、コストを削減でき、反射性能の高い半透過型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得ることができる。
【0024】
本発明の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法は、前記現像と前記腐食処理とを同時に実施することを特徴とする。このように金属パターンと保護膜とが同時に形成されるので、さらなる工程削減によるコスト削減が可能となるだけでなく、金属パターンと保護膜(感光性樹脂パターン)にずれが生じないため、より反射性能の高い液晶表示装置用金属パターン付き基板を製造することができる。
本発明では、前記金属がアルミニウムを含む合金を用いるのが好ましい。
さらに、本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置用金属パターン付き基板を備えることを特徴とする。これにより、低コストで反射性能の高い液晶表示装置が得られる。
【0025】
【発明の実施の形態】
<全反射型液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法>
本発明の一実施形態である全反射型用金属パターン付き基板の製造方法を説明する。図1は、前記金属パターン付き基板が本発明の製造方法により、透明板1上に形成される部位(基板形成部位2)を示した平面図である。
【0026】
例えば携帯電話機等に利用される小型の液晶表示装置の場合、前記したように、図1に示すような1枚の透明板1から、複数枚の液晶表示装置用金属パターン付き基板が形成される。図2は、図1のA−A線断面を示した断面図である。図2に示すように、透明板1上の基板形成部位2には金属膜からなる金属パターン3bが形成され、この金属パターン3b上には感光性樹脂からなる保護膜4bが形成されている。
【0027】
前記透明板1としては、透明性の高いものであれば特に限定されないが、例えば透明ガラスやポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂等の板状部材が使用できる。前記金属パターン3bの形成に使用される金属としては、例えばAl、Cr、Ag、Niまたはこれらを含む合金等が挙げられる。前記保護膜4bの形成に使用される感光性樹脂としては、高い光透過率(光透過率としては80%以上、より好ましくは90%以上、更に好ましくは95%以上の高透過率を有するものがよい)を有するものであれば特に限定されないが、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ノボラック樹脂等を主成分とするものを使用することができる。また、視認性向上のために、これらの感光性樹脂に光散乱性の微粒子等を混練して光散乱機能を付与してもよい。
【0028】
図3(a)〜(f)には、全反射型に用いられる金属パターン付き基板11を製造する手順を示す。
【0029】
図3(a)に示す透明板1上の全面に、スパッタリング、蒸着等によって、金属膜3aが形成される(図3(b))。なお、視認性向上の目的で、金属膜3aの形成前に適度な凹凸を有した散乱層(図示せず)を透明板1上に形成してもよい。
【0030】
次に、図3(c)に示すように、前記金属膜3a上に、スピンコート法等により前記感光性樹脂が塗布されて感光性樹脂膜4aが形成される。前記感光性樹脂の膜厚は、0.5μm以上10μm以下、好ましくは5μm以下、更に好ましくは3μm以下が良い。ついで、所定のパターンに形成されたフォトマスクで前記感光性樹脂膜4aを覆った状態で光を照射(露光)し、現像することによって、図3(d)に示すように、感光性樹脂からなる保護膜4bが形成される。
【0031】
次に、前記金属膜3aにおいて、保護膜4bが形成されていない露出した箇所を腐食処理(エッチング)することによって、図3(e)に示すように、保護膜4bと同形状に形成された金属パターン3bが得られる。なお、前記現像用および腐食処理用の薬液によっては、前記感光性樹脂膜4aの現像と前記金属膜3aの腐食処理とを同時に行うことができる。例えば、前記金属がアルミニウムの場合は、水酸化カリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いることで、前記同時処理が可能である。
【0032】
さらに、前記金属パターン3bおよび保護膜4bを有した透明板1を、所定の温度に加熱して、保護膜4bを形成している感光性樹脂を硬化させる。前記硬化処理温度は、使用する感光性樹脂の物性に応じて設定すればよく、特に限定されない。
【0033】
最後に、上記のようにして製造された金属パターン3bおよび保護膜4bを有した基板形成部位2は、図3(f)に示すように、液晶表示装置に装備される形状にカットされ、全反射型用の金属パターン付き基板11として使用される。
【0034】
図4(a)には、上記の金属パターン3bおよび保護膜4bを有した金属パターン付き基板11を用いた液晶表示装置12の部分拡大図を示す。この液晶表示装置12は、ブラックマトリックス(図示せず)および着色層6(R)、6(G)および6(B)が形成された前面基板5と、前記金属パターン付き基板11とが対向して配置されている。着色層6(R)、6(G)および6(B)上には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等からなるオーバーコート層19が形成されている。このオーバーコート層19は必要に応じて省略することもできる。
【0035】
また、液晶7を挟み込むようにして、透明導電膜33、34が形成されている。これらの透明導電膜33、34は、可視光に対して透過率が高くかつ高い電気伝導性を有する機能性薄膜であり、通常、酸化インジウム−酸化スズ固溶体であるITO膜が使用される。透明導電膜33、34は、通常、蒸着、スパッタリング等の成膜方法によって形成される。
【0036】
さらに、前面基板5の前面側(すなわち、図4(a)の前面基板5の上面側)には、偏光板17が貼着されている。
【0037】
液晶7を挟んで配置された前記透明導電膜33、34により液晶7に電場を加えることで、液晶7の配向状態に変化が生じ、光学的性質も変化し、前記偏光板17との関係により、透過光量が制御される。このような制御を着色層のRGBに対応した各画素毎にすることでカラー表現が実現される。
【0038】
また、図4(b)に示す液晶表示装置13のように、ブラックマトリックスおよび着色層6(R)、6(G)、6(B)は、金属パターン付き基板11に形成された保護膜4b上に形成することもできる。
【0039】
<半透過型液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法>
半透過型に用いられる金属パターン付き基板を製造する際にも、前記全反射型と同様の製造方法が用いられる。図5(a)〜(c)に示した金属膜3aおよび感光性樹脂膜4aの形成は、半透過型の場合も全反射型と同様に行う。
【0040】
半透過型は、図1に示した基板形成部位2内に、光透過用の光透過部を含む光反射用の金属パターンが形成されている。この金属パターンを形成するには、前記したフォトマスクとして、光透過部を含む金属パターンの形状に対応するように形成されたものを用いればよい。その他の製造手順は、全反射型と同様である。
【0041】
図6には、上記のようなフォトマスクを使用して得られた半透過型用の金属パターン付き基板14の部分拡大図を示す。この金属パターン付き基板14には、金属パターン3b、保護膜4bおよび光透過部8が形成されている。
【0042】
図7(a)には、前記金属パターン付き基板14を用いた液晶表示装置15の部分拡大図を示す。この液晶表示装置15は、ブラックマトリックス(図示せず)および着色層6(R)、6(G)、6(B)が形成された前面基板5と前記金属パターン付き基板14とが対向して配置されている。半透過型の場合、基板14の背面側(すなわち、図7(a)の基板14の下側)にも偏光板18が配置されている。
【0043】
また、図7(b)に示す液晶表示装置16のように、ブラックマトリックスおよび着色層6(R)、6(G)、6(B)は、金属パターン付き基板14に形成された保護層4b上に形成することもできる。
【0044】
なお、図4(a)、(b)で示した液晶7、オーバーコート層19、透明導電膜33、34および偏光板17、18については、図7(a)、(b)にも同様の符号を付して説明を省略する。
【0045】
全反射型および半透過型に形成される前記ブラックマトリックスは、着色層6(R)、6(G)および6(B)において、隣接する赤色、緑色および青色の混色を防止し、色純度の低下を防ぐために設けられるのであるが、必要に応じて設ければよい。ブラックマトリックスとしては、カーボンブラックを含んだ黒色の感光性樹脂や金属クロムと酸化クロムの複層構造からなる膜等を使用することができる。
【0046】
また、前記着色層6(R)、6(G)および6(B)は、顔料または染料を含んだ感光性樹脂をスピンコート法等により塗布した後、フォトマスクを介して露光し、現像を行うことで得られる。この工程は、少なくとも赤、緑、青の各透明着色パターン毎に3回繰り返して行われる。
【0047】
上記のように、本発明の製造方法によって製造された、液晶表示装置12、13、15、16用の前記金属パターン付き基板11、14は、従来行われていた感光性樹脂の剥離工程(前記手順4)が削減されている。これにより、工程削減によるコスト低減が達成できる。また、前記感光性樹脂パターンを剥離しないので金属パターン3bが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがない。これにより、高い反射性能を有した金属パターン付き基板11、14を製造することができる。
【0048】
さらに、図4(b)、図7(b)に示す液晶表示装置において、ブラックマトリクスおよび着色層6(R)、6(G)、6(B)を形成する際にも、金属パターン3bが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがない。これにより、高い反射性能を有した金属パターン付き基板11、14を製造することができる。
【0049】
なお、本発明の液晶表示装置用基板の製造方法は、上記した実施形態に適用されるだけでなく、例えば半導体部品の製造等における感光性樹脂を用いた金属パターンの形成等にも使用可能であり、これにより低コストで信頼性の高い金属パターン付き基板が得られる。
【0050】
【実施例】
以下、実施例を挙げて、本発明の製造方法により得られる金属パターン付き基板の反射特性について説明する。
【0051】
実施例
本発明の製造方法により得られる液晶表示装置用金属パターン付き基板の反射性能を確認するために、以下の実験を行った。
【0052】
図3(a)〜(f)に示した手順で、金属パターン3bおよび保護膜4bを有した金属パターン付き基板11を作製した。透明板1には透明ガラスを用いた。また、前記金属パターン3bを形成する金属にはアルミニウムを用い、スパッタリングにより成膜した。保護膜4bを形成する感光性樹脂にはアクリル樹脂が主成分の感光性樹脂を用いた。また、現像と腐食処理はアルカリ水溶液を用いて同時に行った。
【0053】
上記のようにして作製した金属パターン付き基板11は、前記保護膜4bを剥離する工程を削減しているので、金属パターン3bの表面には劣化・腐食やキズ・汚れや感光性樹脂残渣は見られなかった。また、高輝度ランプによる目視検査でも鏡面を維持していることが確認された。
また、金属パターンと感光性樹脂パターンには、ずれが生じていないことを確認した。
【0054】
図8には、前記金属パターン付き基板11の反射性能を測定した結果を示す。グラフの横軸は光の波長を示し、縦軸はスパッタリングにより成膜したアルミニウム膜の反射率を100としたときの本実施例で作製した金属パターン付き基板11の反射性能を表したものである。図8に示すように、本実施例の金属パターン付き基板11は、可視光領域において、前記アルミニウム膜の反射性能と同等の性能を有しており、金属パターン3b上に保護膜4bが存在していても良好な反射性能が得られることが確認できた。
【0055】
【発明の効果】
本発明によれば、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがないため、コストを削減でき、信頼性の高い金属パターン付き基板を製造することができるという効果がある。
【0056】
また、本発明によれば、工程数を削減でき、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付いたり、感光性樹脂残渣が生じたりすることがなく、さらに、金属パターン上に着色層やブラックマトリックスを形成する際に、金属パターンが劣化・腐食したり、キズ・汚れ等が付くことがないため、コストを削減でき、反射性能の高い液晶表示装置用金属パターン付き基板およびこれを備えた液晶表示装置を得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法によって、金属パターン付き基板が透明板上に形成される部位(基板形成部位)を示した平面図である。
【図2】図1のA−A線断面を示した断面図である。
【図3】本発明の製造方法によって、全反射型液晶表示装置用金属パターン付き基板を製造する手順を示す概略図である。
【図4】(a)および(b)は、それぞれ本発明の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた全反射型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図5】本発明の製造方法によって、半透過型液晶表示装置用金属パターン付き基板を製造する手順を示す概略図である。
【図6】本発明の製造方法により製造された金属パターン付き基板を示す部分拡大図である。
【図7】(a)および(b)は、それぞれ本発明の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた半透過型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図8】本発明の実施例で測定した金属パターン付き基板の反射特性を示すグラフである。
【図9】(a)および(b)は、それぞれ従来の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた全反射型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図10】(a)および(b)は、それぞれ従来の製造方法により製造された金属パターン付き基板を用いた半透過型の液晶表示装置の一例を示す部分拡大図である。
【図11】従来の製造方法によって、金属パターン付き基板が透明板上に形成される部位(基板形成部位)を示した平面図である。
【符号の説明】
1 透明板
2 基板形成部位
3a 金属膜
3b 金属パターン
4a 感光性樹脂膜
4b 保護膜
5 前面基板
6(R) 着色層(赤色)
6(G) 着色層(緑色)
6(B) 着色層(青色)
7 液晶
8 光透過部
11 金属パターン付き基板
12 全反射型液晶表示装置
13 全反射型液晶表示装置
14 金属パターン付き基板
15 半透過型液晶表示装置
16 半透過型液晶表示装置
17、18 偏光板
19 オーバーコート層
33、34 透明導電膜
Claims (12)
- 基板上に形成された金属膜上に感光性樹脂膜を形成し、
この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成し、
この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に金属パターンを形成した後、
前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の金属パターン付き基板を得ることを特徴とする金属パターン付き基板の製造方法。 - 前記現像と前記腐食処理とを同時に実施する請求項1記載の金属パターン付き基板の製造方法。
- 前記感光性樹脂が80%以上の光透過率を有する請求項1または2記載の金属パターン付き基板の製造方法。
- 前記金属がアルミニウムを含む合金からなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の金属パターン付き基板の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法により製造される金属パターン付き基板であって、金属パターン上に感光性樹脂パターンからなる保護膜を有することを特徴とする金属パターン付き基板。
- 透明板の表面に金属膜を形成する工程と、
この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、
この感光性樹脂膜を露光し、現像して複数の基板形成部位の間隙にある金属膜を露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、
この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光反射用の金属パターンを形成する工程と、
前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の全反射型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。 - 透明板の表面に金属膜を形成する工程と、
この金属膜の表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、
この感光性樹脂膜を露光し、現像して、複数の基板形成部位の間隙にある金属膜と、各基板形成部位の光透過部にある金属膜とを露出させる感光性樹脂パターンを形成する工程と、
この感光性樹脂パターンから露出した前記金属膜を腐食処理して除去し、各基板形成部位上に光透過部を含む光反射用の金属パターンを形成する工程と、
前記各基板形成部位において、前記感光性樹脂パターンを前記金属パターン上に保護膜として残したまま各基板形成部位をカットして複数枚の半透過型の液晶表示装置用金属パターン付き基板を得る工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。 - 前記現像と前記腐食処理とを同時に実施する請求項6または7記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
- 前記感光性樹脂が80%以上の光透過率を有する請求項6〜8のいずれか一項に記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
- 前記金属がアルミニウムを含む合金からなる請求項6〜9のいずれか一項に記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法。
- 請求項6〜10のいずれか一項に記載の製造方法により製造される液晶表示装置用金属パターン付き基板であって、金属パターン上に感光性樹脂パターンからなる保護膜を有することを特徴とする液晶表示装置用金属パターン付き基板。
- 請求項11記載の液晶表示装置用金属パターン付き基板を備えた液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001223847A JP4206209B2 (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | 金属パターン付き基板の製造方法、金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、液晶表示装置用金属パターン付き基板および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001223847A JP4206209B2 (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | 金属パターン付き基板の製造方法、金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、液晶表示装置用金属パターン付き基板および液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003034884A JP2003034884A (ja) | 2003-02-07 |
JP4206209B2 true JP4206209B2 (ja) | 2009-01-07 |
Family
ID=19057109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001223847A Expired - Fee Related JP4206209B2 (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | 金属パターン付き基板の製造方法、金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、液晶表示装置用金属パターン付き基板および液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4206209B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012230224A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法およびそれによって得られるカラーフィルタ基板 |
JP5754231B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-07-29 | 凸版印刷株式会社 | 反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法およびそれによって得られるカラーフィルタ基板 |
-
2001
- 2001-07-25 JP JP2001223847A patent/JP4206209B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003034884A (ja) | 2003-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3824889B2 (ja) | カラーフィルタ基板及び液晶装置、並びにこれらの製造方法 | |
US20140125931A1 (en) | Half-transmitting and half-reflecting color film substrate, manufacture method thereof and liquid crystal display device | |
EP1197787A2 (en) | Reflective liquid crystal display device including organic film prevented from being degraded due to moisture absorption | |
US6995898B2 (en) | Mask, substrate with light reflecting film, method for forming light reflecting film, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP2003075987A (ja) | マスク、光反射膜付基板、光反射膜の形成方法、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器 | |
JP3779103B2 (ja) | 反射型カラー液晶表示装置 | |
JP2004004602A (ja) | カラー液晶表示装置およびカラー液晶表示装置の製造方法 | |
JP4206209B2 (ja) | 金属パターン付き基板の製造方法、金属パターン付き基板、液晶表示装置用金属パターン付き基板の製造方法、液晶表示装置用金属パターン付き基板および液晶表示装置 | |
JP4342342B2 (ja) | カラーフィルター、それを用いた表示装置およびそれらの製造方法 | |
JP3748760B2 (ja) | 反射型lcdおよびその製造方法 | |
JP4608882B2 (ja) | 露光用マスク及びその製造方法、並びに液晶装置の製造方法 | |
JP2004151685A (ja) | 反射基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 | |
JP3678881B2 (ja) | 反射体及びそれを用いた反射型液晶表示装置 | |
KR100664342B1 (ko) | 전기 광학 장치용 기판의 제조 방법, 전기 광학 장치의제조 방법, 전기 광학 장치용 기판, 전기 광학 장치 및전자기기 | |
JP4311925B2 (ja) | 拡散反射板 | |
JP4232950B2 (ja) | 半透過型カラー液晶表示素子の基板製造方法 | |
JP3800189B2 (ja) | 半透過反射基板、その製造方法、電気光学装置および電子機器 | |
JPH10240171A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2005283684A (ja) | カラーフィルタ基板及び半透過型液晶表示装置 | |
JP2004233891A (ja) | 液晶表示パネル用基板の製造方法および液晶表示パネル | |
JP2005352073A (ja) | 半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法及び半透過型カラー液晶表示素子 | |
JP3415024B2 (ja) | 液晶用カラーフィルターおよび該カラーフィルターを使用した液晶表示素子 | |
JP2001004984A (ja) | 液晶装置用基板、ならびにこれを用いた液晶装置、電子機器 | |
JP4880839B2 (ja) | 半透過型液晶表示素子の製造方法 | |
JP2003043465A (ja) | 半透過型液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040715 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041129 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070419 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080812 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080918 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081014 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081020 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |