JP2005199310A - 射出鋳造装置の原料塊供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 金型1と、該金型の下方にその湯口4に向って前後進自在に配されたスリーブ27と、該スリーブ内に摺動自在に配設されたプランジャ33と、上記スリーブ内壁とプランジャにより形成される原料収容部に供給された原料塊Aを加熱溶解する加熱手段37とを備えた射出鋳造装置に用いる原料塊供給装置50であって、複数の原料塊を収容するための少なくとも1つの竪型筒状の原料収納筒体52と、該原料収納筒体の下部に昇降自在に配された昇降ピン54と、収納装置上方に移送された原料塊を把持し、スリーブ上方に移送するアーム53とを備えており、上記原料収容部に原料塊を上方から供給するように構成されている。
【選択図】 図1
Description
このような射出鋳造法の場合、必然的に、射出成形時に加熱溶解部から射出成形部に至る空間全体を真空状態に保つ必要があるが、射出成形後には一旦上記空間全体の真空状態を解除し、製品の取出しと原料収容部への原料の装填を行なう必要がある。すなわち、1回の射出成形毎に上記空間全体の真空状態の形成と解除を行なう必要があるため、エネルギー効率が悪く、またバッチ製造のため生産効率が低く、これらが製造コストを引き上げる大きな要因となっていた。
さらに本発明の目的は、金属、例えば融点が約1200℃以上の高融点金属、特に活性金属の射出鋳造においても、一回の原料装填で、加熱溶解部の空間の真空状態を解除することなく連続的に原料塊の移送・供給と加熱溶解された原料の射出成形を行なうことができると共に、プランジャのスリーブ内での摺動動作を円滑に行なうことができる装置を提供することにある。
より好適な態様によれば、前記原料塊供給装置は、複数の原料塊を収容するための少なくとも1つの竪型筒状の原料収納筒体と、該原料収納筒体の下部に昇降自在に配され、原料収納筒体内に収容された原料塊を順次上方に移送するための昇降ピンと、原料収納筒体上方に移送された原料塊を把持し、スリーブ上方に移送するアームとを備えている。さらに好適には、原料収納筒体を複数個備え、これらがターンテーブルに配設されて1つのカセットを構成している。
特に、前記原料塊供給装置を、複数の原料塊を収容するための少なくとも1つの竪型筒状の原料収納筒体と、該原料収納筒体の下部に昇降自在に配され、原料収納筒体内に収容された原料塊を順次上方に移送するための昇降ピンと、原料収納筒体上方に移送された原料塊を把持し、スリーブ上方に移送するアームとから構成し、さらに好適には、原料収納筒体を複数個備え、これらがターンテーブルに配設されて1つのカセットを構成することにより、非晶質合金等の活性金属であっても、一回の原料装填で、加熱溶解部の空間の真空状態を解除することなく連続的に活性金属の射出成形を行なうことができ、高品質の射出成形品を安価に多量生産できる。
以下、添付図面に示す実施例を説明しつつ、本発明についてさらに具体的に説明する。
一方、主定盤7の下部には加熱溶解部空間Yを密閉形成するための真空チャンバ24が配設され、フレーム(図示せず)により支持されている。前記射出成形部空間Xと真空チャンバ24内の加熱溶解部空間Yとの間の遮断及び連通は、シャッタシリンダ25(図示の都合上、図9にのみ示す)により主定盤7下面に摺接して前進・後退するように作動される遮蔽シャッタ26による開口部6の閉鎖及び開口により行なわれる。なお、遮蔽シャッタは旋回式とすることもできる。
また、真空チャンバ24には不活性ガス容器も接続でき、用いる原料の種類によってはAr等の不活性ガス雰囲気下で加熱溶解ができるようにすることもできる。
まず、スリーブ27内壁とプランジャ33により形成される原料収容部に原料塊Aが装填された状態で、高周波誘導加熱用コイル37に電流が流され、原料塊Aが加熱溶解される。このとき、可動上型3は固定下型2に型締めされ、真空ハウジング20内の射出成形部空間Xは真空引きされ、射出成形できる態勢になっている。
成形品排出後、再度型締シリンダ12が作動して金型1を閉止し、次の射出サイクルに入る。
また、本発明の装置は、酸化や熱劣化し易い活性金属、例えばAl、Mg、Fe、Ti、Zr、Hf、Y、La、Ce、Nd、Sm及びMm(ミッシュメタル)等の少なくとも1種の活性金属元素を含み、合金内の活性金属元素の和が53原子%以上の合金の射出成形に好適に用いることができるが、これに限定されるものではなく、高融点の種々の金属の射出成形に利用できる。
2 固定下型
3 可動上型
4 湯口
5 キャビティ
11 可動盤
12 型締用シリンダ
15 金型排気孔
16 エジェクタピン
18 エジェクタシリンダ
20 真空ハウジング
24 真空チャンバ
27 スリーブ
29a,29b 冷媒流路
33,33a プランジャ
37 高周波誘導加熱用コイル
38 ヘッド部
38a 上部ヘッド部
38b 下部ヘッド部
43 冷媒供給管
50 原料塊供給装置
51 ターンテーブル
52 原料収納筒体
53 アーム
54 昇降ピン
Claims (4)
- 金型(1)と、該金型の下方にその湯口(4)に向って前後進自在に配されたスリーブ(27)と、該スリーブ内に摺動自在に配設されたプランジャ(33)と、上記スリーブ内壁とプランジャにより形成される原料収容部に供給された原料塊(A)を加熱溶解する加熱手段(37)とを備えた射出鋳造装置に用いる原料塊供給装置(50)であって、上記原料収容部に原料塊を上方から供給するための手段(53,57)を備えてなることを特徴とする原料塊供給装置。
- 前記原料塊供給装置(50)が、複数の原料塊(A)が配された収納装置(52)と、該収納装置内に配された原料塊を上方に移送する手段(54,55)と、収納装置上方に移送された原料塊をスリーブ上方に移送する手段(53,57)とからなることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記原料塊供給装置(50)が、複数の原料塊(A)を収容するための少なくとも1つの竪型筒状の原料収納筒体(52)と、該原料収納筒体の下部に昇降自在に配され、原料収納筒体内に収容された原料塊(A)を順次上方に移送するための昇降ピン(54)と、原料収納筒体上方に移送された原料塊を把持し、スリーブ上方に移送するアーム(53)とを備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
- 前記原料収納筒体(52)を複数個備え、これらがターンテーブル(51)に配設されて1つのカセットを構成していることを特徴とする請求項3に記載の装置。
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