JP2005172670A - ラマン散乱測定方法およびその測定装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 標準試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、装置の正確な状態検査ができるようにしたラマン散乱測定方法の提供など。
【解決手段】この発明は、レーザ光源1から試料aに対して光を照射し、試料aからのラマン散乱光を分光して光検出器6で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定方法である。そして、ラマン散乱測定を行う際に、試料aを回転させ、その試料aの回転数は、光検出器6がラマン散乱光を検出する時間内にN回転(Nは1を含む正の整数)するようにした。
【選択図】 図1
【解決手段】この発明は、レーザ光源1から試料aに対して光を照射し、試料aからのラマン散乱光を分光して光検出器6で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定方法である。そして、ラマン散乱測定を行う際に、試料aを回転させ、その試料aの回転数は、光検出器6がラマン散乱光を検出する時間内にN回転(Nは1を含む正の整数)するようにした。
【選択図】 図1
Description
本発明は、後方散乱配置でのラマン散乱測定方法およびその測定装置に関するものであり、特に測定対象の試料がシリコンのような結晶性固体材料であり、そのラマン散乱強度を再現良く正確に獲得できる場合に好適なものである。
ラマン散乱測定は、測定対象となる気体、液体、固体などの試料に対して可視領域のレーザ光などの光を照射し、その散乱光を分光器で異なる波長を持つ成分に分け、光検出器でその各波長成分の相対的な強さを測定して散乱スペクトルを取得する。そして、この取得した散乱スペクトルにより対象試料の分子振動、格子振動に関する情報を得て、材料の構造を評価する手法として広く知られている。
このようなラマン散乱測定を行う場合の一般的な構成は、例えば非特許文献1などに記載されている。この従来技術によれば、測定中、つまりラマン散乱光を検出(取得)している間は、試料は静止したままである。すなわち、測定中は、図3に示すように、試料aは静止した試料台2上に固定(静止)されたままである。
垣花眞人ほか「分光研究」、第43巻、第5号(1994年)、p.320−336
垣花眞人ほか「分光研究」、第43巻、第5号(1994年)、p.320−336
しかし、従来技術では、特に、測定対象がシリコンのような結晶性固体材料であって、その散乱強度を再現良く正確に獲得する必要がある場合には、以下の不具合がある。
すなわち、ラマン散乱測定では、対象試料の測定を行う前に、ラマン散乱測定装置の安定性などの状態検査(パフォーマンス・チェック)を行う必要がある。この状態検査で最も重要なものは、標準試料に対するラマン散乱強度のチェックである。これは、散乱光の振動数や線幅も合わせてチェックするので、通常はシリコン(Si)単結晶基板を使用する。
すなわち、ラマン散乱測定では、対象試料の測定を行う前に、ラマン散乱測定装置の安定性などの状態検査(パフォーマンス・チェック)を行う必要がある。この状態検査で最も重要なものは、標準試料に対するラマン散乱強度のチェックである。これは、散乱光の振動数や線幅も合わせてチェックするので、通常はシリコン(Si)単結晶基板を使用する。
ところが、従来のように対象試料が測定中に静止したままであると、以下の不具合がある。すなわち、対象試料がシリコン単結晶基板のように結晶方位を有する場合には、対象試料を試料台上に設置する方位が測定するたびに異なると、同じ条件で測定してもその都度、散乱強度が変わってしまう。これは、入射するレーザ光が偏光しているため、散乱強度がその偏光方向とシリコン結晶の特定の結晶方位との間のなす角度の関数になっているからである。
このため、標準試料であるシリコン単結晶の試料台上への置き方によって測定する散乱強度がそのたびに変動するのでは、ラマン散乱測定装置の正確な状態検査ができないという不具合がある。
そこで、本発明の目的は、上記の点に鑑み、標準試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、装置の正確な状態検査ができるようにしたラマン散乱測定方法およびその測定装置を提供することにある。
そこで、本発明の目的は、上記の点に鑑み、標準試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、装置の正確な状態検査ができるようにしたラマン散乱測定方法およびその測定装置を提供することにある。
換言すると、本発明の目的は、装置の状態が安定していれば、同一の試料に対して何度測定しても繰り返し再現良くラマン散乱光の強度を取得できるようにしたラマン散乱測定方法およびその測定装置を提供することにある。
上記の課題を解決し本発明の目的を達成するために、各発明は、以下のように構成した。
すなわち、第1の発明は、光源から試料に対して光を照射し、試料からのラマン散乱光を分光して光検出器で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定方法であって、ラマン散乱測定を行う際に前記試料を回転させ、その試料の回転数は、ラマン散乱光を検出する時間内にN回転(Nは1を含む正の整数)するようにした。
すなわち、第1の発明は、光源から試料に対して光を照射し、試料からのラマン散乱光を分光して光検出器で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定方法であって、ラマン散乱測定を行う際に前記試料を回転させ、その試料の回転数は、ラマン散乱光を検出する時間内にN回転(Nは1を含む正の整数)するようにした。
第2の発明は、光源から試料に対して光を照射し、試料からのラマン散乱光を分光して光検出器で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定方法であって、ラマン散乱測定を行う際に、前記試料を高速回転させるとともに、ラマン散乱光の検出期間中その試料の回転を継続させるようにした。
第3の発明は、第1または第2の発明において、前記試料の回転は、等角速度の回転である。
第3の発明は、第1または第2の発明において、前記試料の回転は、等角速度の回転である。
第4の発明は、光源から試料に対して光を照射し、試料からのラマン散乱光を分光して光検出器で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定装置であって、前記試料を回転させる試料回転手段と、前記光検出器のラマン散乱光の検出中に、前記試料が所定の回転を行うように、前記試料回転手段の回転動作を制御する回転制御手段と、を備えている。
第5の発明は、第4の発明において、前記試料回転手段は、前記試料をセットする試料台と、この試料台を回転させるモータとからなり、前記回転制御手段は、前記光検出器のラマン散乱光の検出中に、前記試料が所定の回転を行うように、前記モータの駆動制御を行うようになっている。
第6の発明は、第4または第5の発明において、前記試料の所定の回転は、前記ラマン散乱光の検出内にN回転(Nは1を含む正の整数)すること、または前記ラマン散乱光の検出中に高速回転すること、である。
第6の発明は、第4または第5の発明において、前記試料の所定の回転は、前記ラマン散乱光の検出内にN回転(Nは1を含む正の整数)すること、または前記ラマン散乱光の検出中に高速回転すること、である。
このような構成からなる本発明によれば、ラマン散乱測定の開始の際に、標準試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、装置の正確な状態検査ができる。
また、本発明によれば、装置の状態が安定していれば、試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、同一の試料に対して何度測定しても繰り返し再現良くラマン散乱光の強度を取得できる。
また、本発明によれば、装置の状態が安定していれば、試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、同一の試料に対して何度測定しても繰り返し再現良くラマン散乱光の強度を取得できる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
本発明のラマン散乱測定装置の実施形態の構成について、図1を参照して説明する。
この実施形態に係るラマン散乱測定装置は、図1に示すように、レーザ光源1と、試料台2と、モータ3と、集光光学系4と、分光器5と、光検出器6と、信号処理回路7と、出力装置8と、入力装置9と、コンピュータ10とを備えている。
本発明のラマン散乱測定装置の実施形態の構成について、図1を参照して説明する。
この実施形態に係るラマン散乱測定装置は、図1に示すように、レーザ光源1と、試料台2と、モータ3と、集光光学系4と、分光器5と、光検出器6と、信号処理回路7と、出力装置8と、入力装置9と、コンピュータ10とを備えている。
レーザ光源1は、レーザ光を発生するものであり、その発生したレーザ光は試料台2上にセットされる試料aに向けて入射(照射)されるようになっている。試料台2は、その上面側に試料aがセットされるようになっている。また、試料台2の下面側がモータ3の回転軸31に接続され、そのモータ3の回転に従って試料台2が回転できるようになっている。ここで、モータ3の回転軸31の軸方向とレーザ光源1からのレーザ光の光軸とは、平行な状態となるように構成される。
試料aは、測定時に、試料台2上に適宜手段で固定や吸着されるようになっている。また、試料aは、レーザ光の照射により散乱光を放出し、この試料固有のラマン散乱光が生じる。この放出されたラマン散乱光は、集光光学系4で集光された上で分光器5に入射されるようになっている。
分光器5は、入射された散乱光を分光するようになっている。分光器5で分光された光は、光検出器6で検出される。光検出器6は、分光器5で分光されたラマン散乱光を各波長別に検出し、この検出強度に応じた検出信号を生成して信号処理回路7に出力するようになっている。
分光器5は、入射された散乱光を分光するようになっている。分光器5で分光された光は、光検出器6で検出される。光検出器6は、分光器5で分光されたラマン散乱光を各波長別に検出し、この検出強度に応じた検出信号を生成して信号処理回路7に出力するようになっている。
信号処理回路7は、光検出器6からの検出信号に基づき、その各波長のラマン散乱強度(ラマン散乱スペクトル)または任意の波長のラマン散乱強度を求めるようになっている。出力装置8はプリンタまた表示装置からなり、信号処理回路7で求められたラマン散乱スペクトルまたは任意の波長のラマン散乱強度を印刷出力また表示出力するようになっている。
入力装置9は、コンピュータ10に対して所定のデータを入力したり、またはコンピュータ10に対して所定の指示を行うようになっている。コンピュータ10は、測定の際に信号処理回路7や出力装置8との間でデータの授受を行うとともに、測定の際に後述のようにモータ3の回転制御を行うようになっている。
次に、このような構成からなる実施形態によるラマン散乱測定の測定例について、図面を参照して説明する。
次に、このような構成からなる実施形態によるラマン散乱測定の測定例について、図面を参照して説明する。
(第1測定例)
この第1測定例では、図1に示すように、試料aを試料台2上のほぼ中心に配置させ、適宜手段で固定させる。試料aとして、(100)シリコン単結晶基板を使用した。
なお、この試料aとしては、ラマン散乱測定装置の状態検査をするための標準試料、または量産されるシリコン基板などの製品の品質の良否を判断したい場合にはその量産される製品などである。
この第1測定例では、図1に示すように、試料aを試料台2上のほぼ中心に配置させ、適宜手段で固定させる。試料aとして、(100)シリコン単結晶基板を使用した。
なお、この試料aとしては、ラマン散乱測定装置の状態検査をするための標準試料、または量産されるシリコン基板などの製品の品質の良否を判断したい場合にはその量産される製品などである。
次に、測定を開始すると、レーザ光源1からのレーザ光が試料aに照射され、そのラマン散乱光が集光光学系4で集光された上で分光器5に入射される。分光器5で分光されたラマン散乱光は、光検出器6で検出される。光検出器6はその分光されたラマン散乱光に応じた検出信号を生成する。このような測定を10秒間にわたって行う。
一方、測定の開始に伴い、コンピュータ10はモータ3の回転を開始させるので、試料台2が回転を開始し、試料台2上の試料aが回転を開始する。そして、その10秒の測定期間に、試料aが1回転するように、コンピュータ10はモータ3の回転制御を行う。ここで、試料aは等角速度で1回転するのが好ましい。
一方、測定の開始に伴い、コンピュータ10はモータ3の回転を開始させるので、試料台2が回転を開始し、試料台2上の試料aが回転を開始する。そして、その10秒の測定期間に、試料aが1回転するように、コンピュータ10はモータ3の回転制御を行う。ここで、試料aは等角速度で1回転するのが好ましい。
このように第1測定例では、試料aの測定時間を10秒、その10秒間に試料aを1回転(360度回転)する条件で測定を行う。そして、その測定条件の下で、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めると、図2に示すような結果が得られた。
図2において、設置角度(回転角度)θは、試料台2の基点と試料a上の任意に付けた印とが一致した状態を基準状態とし、試料aを試料台2に対して回転軸31と同軸の仮想の回転軸の周りに回転させたときに、その基準状態からの試料aの回転量をいう。
図2によれば、散乱光強度は、試料aの試料台2への設置の際の初期状態(設置角度)によらずに同じ値になる。これは、試料aの試料台2への設置角度の差異にかかわらず、測定の際に試料aを必ず1回転させるので、光検出器6の検出出力は任意の波長ごとに1回転分得られ、その各検出出力を平均化させることができるからである。
図2によれば、散乱光強度は、試料aの試料台2への設置の際の初期状態(設置角度)によらずに同じ値になる。これは、試料aの試料台2への設置角度の差異にかかわらず、測定の際に試料aを必ず1回転させるので、光検出器6の検出出力は任意の波長ごとに1回転分得られ、その各検出出力を平均化させることができるからである。
図2の測定結果と比較するために、図4に示すような測定結果を得た。この測定結果は、従来の測定法を基礎にしている。すなわち、図3に示すように静止した試料台2上に試料aを固定し、この固定状態で第1測定例と同様に試料aについて10秒間の測定を行うようにした。ここで、試料aは、第1測定例と同様に(100)シリコン単結晶基板とした。
そして、その測定条件の下で、第1測定例と同様に、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めたものである。図4において、設置角度θの定義は、図2の場合と同様である。図4によれば、試料の試料台上の設置時の角度θによって、散乱強度が周期的に異なることがわかる。
図2と図4を比較すると、従来の測定方法では、試料の試料台への設置の仕方(方位)の差異により散乱強度が異なる。しかし、第1測定例によれば、試料の試料台への設置状態の差異にかかわらず、散乱強度が不変となる。
なお、第1測定例では、試料として(100)シリコン単結晶基板を使用したが、測定期間内に試料が等角速度で1回転すれば、如何なる試料であっても、散乱強度が試料台に対する試料の設置の仕方に依存することなく対象試料に固有の一定値になる。
なお、第1測定例では、試料として(100)シリコン単結晶基板を使用したが、測定期間内に試料が等角速度で1回転すれば、如何なる試料であっても、散乱強度が試料台に対する試料の設置の仕方に依存することなく対象試料に固有の一定値になる。
すなわち、入力レーザの偏光面と試料aの結晶のある特定の結晶面とのなす角度は、0度から360度の連続する全ての点において、等価に散乱強度に寄与することになるからである。
(第2測定例)
この第2測定例では、試料aとして第1測定例と同様のものを用意し、この試料aを試料台2上のほぼ中心に配置させ、適宜手段で固定させるようにした。
(第2測定例)
この第2測定例では、試料aとして第1測定例と同様のものを用意し、この試料aを試料台2上のほぼ中心に配置させ、適宜手段で固定させるようにした。
この第2測定例が、第1測定例と異なるのは以下の点である。すなわち、第2測定例では、測定時間を20秒とし、その20秒の間に試料aを等角速度で2回転させるようにした点である。
このような測定条件の下で、第1測定例の場合と同様に、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めると、図2に示すような結果が得られた。図2によれば、散乱光強度は試料aの試料台2への設置の際の初期状態によらずに同じ値になる。
このような測定条件の下で、第1測定例の場合と同様に、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めると、図2に示すような結果が得られた。図2によれば、散乱光強度は試料aの試料台2への設置の際の初期状態によらずに同じ値になる。
図2の測定結果と比較するために、図4に示すような測定結果を得た。この測定は、従来方法を基礎にしている。すなわち、図3に示すように静止した試料台2上に試料aを固定し、この固定状態で第2測定例と同様に試料aについて20秒間の測定を行うようにした。ここで、試料aは、第2測定例と同様に(100)シリコン単結晶基板とした。
そして、その測定条件の下で、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めたものである。図4によれば、試料の試料台上の設置時の角度θによって、散乱強度が周期的に異なることがわかる。
そして、その測定条件の下で、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めたものである。図4によれば、試料の試料台上の設置時の角度θによって、散乱強度が周期的に異なることがわかる。
図2と図4を比較すると、従来の測定方法では、試料の試料台への設置の仕方(方位)の差異により散乱強度が異なる。しかし、第2測定例によれば、試料の試料台への設置状態の差異にかかわらず、散乱強度が不変となる。
なお、第2測定例では、試料として(100)シリコン単結晶基板を使用したが、測定期間内に試料が2回転すれば、如何なる試料であっても、散乱強度が試料の設置の仕方に依存することなく対象試料に固有の一定値になる。
なお、第2測定例では、試料として(100)シリコン単結晶基板を使用したが、測定期間内に試料が2回転すれば、如何なる試料であっても、散乱強度が試料の設置の仕方に依存することなく対象試料に固有の一定値になる。
ここで、第1測定例を考慮すると、測定時間内に試料が等角速度でN回転(Nは1以上の整数)するようにすれば、試料の設置方位が任意であっても、散乱強度は不変となる上に試料に固有の一定値になることは明らかである。
(第3測定例)
この第3測定例では、試料aとして第1測定例と同様のものを用意し、この試料aを試料台2上のほぼ中心に配置させ、適宜手段で固定させるようにした。
(第3測定例)
この第3測定例では、試料aとして第1測定例と同様のものを用意し、この試料aを試料台2上のほぼ中心に配置させ、適宜手段で固定させるようにした。
この第3測定例が、第1測定例の測定条件と異なるのは以下の点である。すなわち、第3測定例では、測定時間を30秒とし、その30秒の間に試料aを等速角度で毎秒約10回転させるようにした。すなわち、測定時間30秒の間に、試料aを等角速度で約300回転させるようにした点である。
このような測定条件の下で、第1測定例の場合と同様に、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めると、図2に示すような結果が得られた。図2によれば、散乱光強度は試料aの試料台2への設置の際の初期状態によらずに同じ値になる。
このような測定条件の下で、第1測定例の場合と同様に、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めると、図2に示すような結果が得られた。図2によれば、散乱光強度は試料aの試料台2への設置の際の初期状態によらずに同じ値になる。
図2の測定結果と比較するために、図4に示すような測定結果を得た。この測定は、従来方法を基礎にしている。すなわち、図3に示すように静止した試料台2上に試料aを固定し、この固定状態で第3測定例と同様に試料aについて30秒間の測定を行うようにした。ここで、試料aは、第3測定例と同様に(100)シリコン単結晶基板とした。
そして、その測定条件の下で、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めたものである。図4によれば、試料の試料台上の設置時の角度θによって、散乱強度が周期的に異なることがわかる。
そして、その測定条件の下で、試料aを試料台2に設置したときの初期状態を順に変化させ、その初期状態の変化ごとの、シリコンに固有のラマンシフト520〔cm−1〕のエネルギーを持つ散乱光強度を求めたものである。図4によれば、試料の試料台上の設置時の角度θによって、散乱強度が周期的に異なることがわかる。
図2と図4を比較すると、従来の測定方法では、試料の試料台への設置の仕方(方位)の差異により散乱強度が異なる。しかし、第3測定例によれば、試料の試料台への設置状態の差異にかかわらず、散乱強度が不変となる。
この第3測定例では、試料として(100)シリコン単結晶基板を使用したが、測定期間内に試料が十分に高速回転すれば、如何なる試料であっても、散乱強度が試料の設置の仕方に依存することなく対象試料に固有の一定値になる。
この第3測定例では、試料として(100)シリコン単結晶基板を使用したが、測定期間内に試料が十分に高速回転すれば、如何なる試料であっても、散乱強度が試料の設置の仕方に依存することなく対象試料に固有の一定値になる。
また、第3測定例によれば、第1および第2測定例と比較して、試料台の構造や測定作業が簡便になるという利点がある。例えば、適当な積算時間を確保し、散乱光の取得時間内に、試料を数10回またはそれ以上回転させれば、正確に整数回転という制限がなくても、入射レーザの偏光面と試料の結晶のある特定の結晶面とのなす角度は、0度から360度の連続する全ての点においてほぼ等価に散乱強度に寄与すると見なすことができるからである。
以上のように、この実施形態によれば、ラマン散乱測定の開始の際に、標準試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、装置の正確な状態検査ができる。
また、この実施形態によれば、ラマン散乱測定装置の状態が安定していれば、試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、同一の試料に対して何度測定しても繰り返し再現良くラマン散乱光の強度を取得できる。
また、この実施形態によれば、ラマン散乱測定装置の状態が安定していれば、試料の試料台上への置き方の差異にかかわらず、同一の試料に対して何度測定しても繰り返し再現良くラマン散乱光の強度を取得できる。
なお、上記の実施形態では、入射光または散乱光の検出タイミングが連続する場合について説明したが、その検出タイミングがパルス状であっても、回転角度θが0度から360度に間にわたってほぼ均等にそのパルス数が積算されれば、上記の各測定例と同様な効果が得られる。
a・・・試料、1・・・レーザ光源、2・・・試料台、3・・・モータ、4・・・集光光学系、5・・・分光器、6・・・光検出器、7・・・信号処理回路、8・・・出力装置、9・・・入力装置、10・・・コンピュータ、31・・・回転軸。
Claims (6)
- 光源から試料に対して光を照射し、試料からのラマン散乱光を分光して光検出器で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定方法であって、
ラマン散乱測定を行う際に前記試料を回転させ、その試料の回転数は、ラマン散乱光を検出する時間内にN回転(Nは1を含む正の整数)するようにしたことを特徴とするラマン散乱測定方法。 - 光源から試料に対して光を照射し、試料からのラマン散乱光を分光して光検出器で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定方法であって、
ラマン散乱測定を行う際に、前記試料を高速回転させるとともに、ラマン散乱光の検出期間中その試料の回転を継続させるようにしたことを特徴とするラマン散乱測定方法。 - 前記試料の回転は、等角速度の回転であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラマン散乱測定方法。
- 光源から試料に対して光を照射し、試料からのラマン散乱光を分光して光検出器で検出し、この検出出力に基づいてラマン散乱測定を行うようにしたラマン散乱測定装置であって、
前記試料を回転させる試料回転手段と、
前記光検出器のラマン散乱光の検出中に、前記試料が所定の回転を行うように、前記試料回転手段の回転動作を制御する回転制御手段と、
を備えていることを特徴とするラマン散乱測定装置。 - 前記試料回転手段は、前記試料をセットする試料台と、この試料台を回転させるモータとからなり、
前記回転制御手段は、前記光検出器のラマン散乱光の検出中に、前記試料が所定の回転を行うように、前記モータの駆動制御を行うようになっていることを特徴とする請求項4に記載のラマン散乱測定装置。 - 前記試料の所定の回転は、前記ラマン散乱光の検出内にN回転(Nは1を含む正の整数)すること、または前記ラマン散乱光の検出中に高速回転すること、であることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のラマン散乱測定装置。
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JP (1) | JP2005172670A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009047435A (ja) * | 2007-08-13 | 2009-03-05 | Olympus Corp | レーザ顕微鏡 |
JP2014038032A (ja) * | 2012-08-16 | 2014-02-27 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 顕微分光測定シミュレーション法 |
KR101403344B1 (ko) * | 2012-02-15 | 2014-06-11 | 한국수력원자력 주식회사 | 레이저를 이용한 가동 중 원전의 실시간 재료 부식 분석 장치 |
-
2003
- 2003-12-12 JP JP2003414806A patent/JP2005172670A/ja active Pending
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