JP2005166895A - Method and device for plasma treatment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、処理対象物にプラズマを噴射して表面洗浄、表面改質などの処理を行うプラズマ処理方法及び装置に関するものである。 The present invention relates to a plasma processing method and apparatus for performing processing such as surface cleaning and surface modification by injecting plasma onto a processing object.
従来から、図3に示すように、各種プラスマ発生源(図示せず)で発生したプラズマをプラズマ噴出ノズル21から大気圧近傍下に噴出させ、ステージ22上に設置された処理対象物23にプラズマを噴出し、処理対象物23の表面洗浄や表面改質などのプラズマ処理を行う方法は知られている。このようなプラズマ処理方法においては、例えば図3に示すように酸素ラジカルO* を有する酸素プラズマの場合には、酸素ガスO2 だけでなく、オゾンO3 が発生して排出されることになり、このオゾンO3 が周囲に拡散すると環境に悪影響を与えることになる。
Conventionally, as shown in FIG. 3, plasma generated from various plasma generation sources (not shown) is ejected from a
そこで、従来のプラズマ処理装置においては、図4に示すように、発生したオゾンや反応ガスや希ガスを吸引回収するとともに環境に好ましくないオゾンや反応ガスを分解して排気する排気設備24が設けられている。排気設備24は、図4の例では、プラズマ噴出ノズル21の周囲に吸引筒体25を配設してプラズマ噴出ノズル21の外周を取り囲む筒状の吸引通路26を形成し、この吸引通路26にオゾン分解装置28を配設した吸引ダクト27を接続し、吸引ダクト27の下流側に希ガス回収装置(図示せず)や排気ファン(図示せず)を配設して構成されている。
Therefore, in the conventional plasma processing apparatus, as shown in FIG. 4, there is provided an
また、大気圧近傍下でプラズマを発生して処理対象物を処理するプラズマ処理部を、プラズマ処理室内に設置し、プラズマ処理室を筐体内に収納し、プラズマ処理部とプラズマ処理室と筐体内の圧力差を調整する手段を設けることで、使用ガスの周囲への拡散を防止するとともに外部空気の混入防止を図ったプラズマ処理装置も知られている(例えば、特許文献1参照。)。
ところが、上記従来の何れのプラズマ処理装置においても、オゾンや反応ガスや希ガス等の残留ガスを回収し、分解して排気するために、構成の複雑な排気設備を設置する必要があるため、設備コストが高くなるとともに、設置面積も大きくなってしまい、コンパクトに構成することができないという問題がある。 However, in any of the above conventional plasma processing apparatuses, in order to recover residual gas such as ozone, reaction gas, and rare gas, and to decompose and exhaust it, it is necessary to install a complicated exhaust system. There is a problem that the equipment cost becomes high and the installation area becomes large, so that it cannot be made compact.
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、特別な排気系を必要とせず、低コストでコンパクトな構成にて周囲の環境の安全を確保できるプラズマ処理方法及び装置を提供することを課題とする。 In view of the above-described conventional problems, an object of the present invention is to provide a plasma processing method and apparatus capable of ensuring the safety of the surrounding environment with a low-cost and compact configuration without requiring a special exhaust system. .
本発明のプラズマ処理方法は、プラズマ噴出口の周囲と処理対象物との間にわたって外部の大気空間に対して区画形成され、一部に大気空間へのガス流出口を形成された空間内で、プラズマ噴出口から処理対象物に向けてプラズマを噴出し、前記空間内のガスを有害ガスを無害化する触媒層を通してガス流出口から大気空間に流出させるものである。 In the plasma processing method of the present invention, a partition is formed with respect to the external atmospheric space between the periphery of the plasma ejection port and the object to be processed, and in a space in which a gas outlet to the atmospheric space is partially formed, Plasma is jetted from the plasma jet toward the object to be processed, and the gas in the space flows out from the gas outlet to the atmospheric space through a catalyst layer that renders the harmful gas harmless.
この構成によると、プラズマ噴出口の周囲と処理対象物との間にわたって区画された空間内でプラズマ噴出口から処理対象物に向けてプラズマを噴出することで処理対象物のプラズマ処理を行うことができ、かつプラズマ噴出後に生成した有害な発生ガスや残留ガスは触媒層を通って無害化されてガス流出口から大気空間に流出するので、周囲の環境の安全を確保でき、かつ特別な排気系を必要としないので、低コストでコンパクトな構成とすることができる。 According to this configuration, the plasma processing of the processing object can be performed by ejecting plasma from the plasma outlet toward the processing object in a space partitioned between the periphery of the plasma discharging port and the processing object. In addition, harmful generated gas and residual gas generated after plasma ejection are rendered harmless through the catalyst layer and flow out from the gas outlet to the atmospheric space, ensuring the safety of the surrounding environment and a special exhaust system Therefore, a compact configuration can be achieved at low cost.
また、前記空間の全周にわたって形成したガス流出口から空間内のガスを流出させると、空間内のガスが全周にわたって均一に流れるため、均一なプラズマ処理を行うことがてきて好適である。 In addition, when the gas in the space is caused to flow out from the gas outlet formed over the entire circumference of the space, the gas in the space flows uniformly over the entire circumference, which is preferable because uniform plasma treatment can be performed.
また、本発明のプラズマ処理装置は、処理対象物を配置するステージと、ステージ上の処理対象物配置部に向けてプラズマを噴するプラズマ噴出ノズルと、プラズマ噴出ノズルの先端部と処理対象物を内部に含んだ状態で外部の大気空間に対して区画された空間を形成するカバーと、前記空間内と大気空間を連通するようにカバーに形成されたガス流出口と、前記空間内のガスを有害ガスを無害化してガス流出口から大気空間に流出させるようにカバーに配設した触媒層とを備えたものである。なお、カバー内壁又は触媒層にヒータを組み込むこともできる。 The plasma processing apparatus of the present invention includes a stage on which a processing object is disposed, a plasma ejection nozzle that ejects plasma toward the processing object placement portion on the stage, a tip portion of the plasma ejection nozzle, and the processing object. A cover forming a space partitioned with respect to an external atmospheric space in a state of being included inside, a gas outlet formed in the cover so as to communicate with the atmospheric space, and a gas in the space And a catalyst layer disposed on the cover so as to detoxify the harmful gas and allow it to flow from the gas outlet to the atmospheric space. A heater can be incorporated in the inner wall of the cover or the catalyst layer.
この構成によると、カバーで区画形成された空間内でプラズマ噴出ノズルからステージ上の処理対象物にプラズマを噴出することで処理対象物をプラズマ処理することができ、前記空間内でプラズマ噴出後に生成した有害な発生ガスや残留ガスは触媒層を通って無害化されてガス流出口から大気空間に流出するので、周囲の環境の安全を確保でき、かつカバーと触媒層を設けた簡単な構成であるため、コンパクトで低コストな構成とすることができる。また、カバー内壁又は触媒層にヒータを組み込むと、触媒の分解効果を向上することができる。 According to this configuration, the processing object can be plasma-treated by ejecting plasma from the plasma ejection nozzle to the processing object on the stage in the space defined by the cover, and generated after the plasma ejection in the space. The harmful generated gas and residual gas are detoxified through the catalyst layer and flow out from the gas outlet to the atmospheric space, so that the safety of the surrounding environment can be ensured and the cover and catalyst layer are provided in a simple configuration. Therefore, a compact and low-cost configuration can be obtained. Further, when the heater is incorporated in the inner wall of the cover or the catalyst layer, the decomposition effect of the catalyst can be improved.
また、プラズマ噴出ノズルの外周に一端が連結固定された筒状カバー本体の他端からガスが流通可能な筒状の触媒層を突出させてカバーを構成すると、突出させた筒状の触媒層にて前記空間の全周にわたってガス流出口が形成されるので、空間内のガスが全周にわたって均一に流れて均一なプラズマ処理を行うことができる。特に、筒状カバー本体及び筒状の触媒層が円筒状にすると、全周にわたってより一層均一にガスが流れるので好ましいが、角筒状でもよい。 Further, when the cover is formed by projecting a cylindrical catalyst layer through which gas can flow from the other end of the cylindrical cover body, one end of which is connected and fixed to the outer periphery of the plasma ejection nozzle, the projected cylindrical catalyst layer Since the gas outlet is formed over the entire circumference of the space, the gas in the space can flow uniformly over the entire circumference to perform a uniform plasma treatment. In particular, it is preferable that the cylindrical cover body and the cylindrical catalyst layer have a cylindrical shape because gas flows more uniformly over the entire circumference, but a rectangular cylindrical shape may also be used.
また、カバーの内面に複数種類の触媒から成る触媒層を配設すると、例えばオゾンやNOx やその他の各種ガスを確実に無害化して大気空間に流出させることができる。 Further, if a catalyst layer composed of a plurality of types of catalysts is provided on the inner surface of the cover, for example, ozone, NO x, and other various gases can be reliably rendered harmless and flow out to the atmosphere.
また、カバー内面のほぼ全面にわたって触媒層を配設すると、有害ガスの無害化をより確実に行うことがてきる。 In addition, if the catalyst layer is disposed over almost the entire inner surface of the cover, the harmful gas can be made more harmless.
また、カバーの内面のほぼ全面にわたって触媒層を配設するとともに触媒層を筒状カバー本体の他端よりも突出させ、かつ筒状カバー本体の内面と触媒層との間にスペーサを介装してガス流出通路を形成すると、有害ガスをより効率的に触媒層を通して円滑に大気空間に流出させることができて好適である。 In addition, a catalyst layer is disposed over almost the entire inner surface of the cover, the catalyst layer is protruded from the other end of the cylindrical cover body, and a spacer is interposed between the inner surface of the cylindrical cover body and the catalyst layer. If the gas outflow passage is formed, the harmful gas can be more efficiently discharged through the catalyst layer and smoothly into the atmospheric space.
本発明によれば、プラズマ噴出口の周囲と処理対象物との間に区画された空間内にプラズマ噴出後に生成した有害な発生ガスや残留ガスを、触媒層を通して無害化してガス流出口から大気空間に流出するので、周囲の環境の安全を確保できるとともに特別な排気系を必要としないため低コストでコンパクトな構成とすることができる。 According to the present invention, harmful generated gas and residual gas generated after plasma ejection in the space defined between the periphery of the plasma ejection outlet and the object to be processed are rendered harmless through the catalyst layer and are discharged from the gas outlet to the atmosphere. Since it flows into the space, the safety of the surrounding environment can be ensured and a special exhaust system is not required, so that a low-cost and compact configuration can be achieved.
以下、本発明のプラズマ処理方法及び装置の一実施形態について、図1、図2を参照して説明する。 Hereinafter, an embodiment of the plasma processing method and apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1において、1は各種発生機構によってプラズマを発生するプラズマ発生源で、ガス2を供給することで発生したプラズマをプラズマ噴出ノズル3の先端のプラズマ噴出口4から噴出させる。5はプラズマ処理を行うべき処理対象物で、ステージ6上の所定の処理位置に設置される。なお、ステージ6は処理対象物5を載置した状態で移動可能に構成するとプラズマ処理を処理ライン化できて好適である。
In FIG. 1,
7はプラズマ噴出ノズル3の先端部と処理対象物5を内部に含んだ状態で外部の大気空間に対して区画された空間8を形成するカバーであり、プラズマ噴出ノズル3の先端部の外周に装着固定されている。このカバー7は、プラズマ噴出ノズル3の外周に固定された上端閉鎖の円筒状カバー本体9とその内周面と天井面にそれぞれ装着された円筒状触媒層10と円板状触媒層11にて構成されている。これら触媒層10、11はガスを透過可能に構成されるとともにこの触媒層10、11内に侵入若しくは通過するガスを無害化する触媒を担持している。
円筒状触媒層10は、円筒状カバー本体9の下端から適当長さだけ突出されており、この円筒状触媒層10の下端をステージ6の上面に接触させることで、空間8を区画形成するとともに円筒状カバー本体9とステージ6の間にガス流出口12を形成し、空間8内のガスが円筒状触媒層10を通過してガス流出口12から大気空間に流出するように構成されている。触媒層10の下端には、ステージ6との間の気密性を確保するために、オゾン、ガス等による腐食に強い材料から成るOリング(図示せず)を配設しても良い。
The
触媒層10、11は、例えば一方にオゾン分解用の二酸化マンガンを、他方にNOx 分解用の脱硝触媒を担持させて構成されている。なお、図示例では、2種類の触媒層10、11を設けた例を示しているが、さらに別のガスを無害化する触媒からなる触媒層を設けることができることは言うまでもない。また、これら触媒層10、11若しくは円筒状カバー本体9の内面にヒータ(図示せず)を配設して触媒を加熱してその触媒作用を高めるようにしても良い。また、カバー7内には、有害ガスを無害化する触媒層10、11だけでなく、SFやCF4 などのフロン系ガスなどの有害ガスを吸着する吸着層(図示せず)を設けることもできる。
The
また、プラズマ発生源1はプラズマ噴出ノズル3及びカバー7とともにステージ6に対して相対的に上下移動可能に構成され、処理対象物5を処理位置に搬入する時に上昇し、搬入後下降して空間8を閉じ、その状態でプラズマ処理を行うように成されている。
Further, the
以上の構成によれば、カバー7にて区画形成された空間8内でプラズマ噴出口4からステージ6上の処理対象物5に向けてプラズマを噴出することで処理対象物5をプラズマ処理することができる。また、空間8内でプラズマ噴出後に生成したオゾンやNOx などの有害な発生ガスや残留ガスは触媒層10、11に侵入したり、通過したりして担持されている触媒と接触することで無害化され、円筒状カバー本体9とステージ6との間のガス流出口12から大気空間に流出するので、周囲の環境の安全を確保することができる。
According to the above configuration, the
また、円筒状カバー本体9の下端から円筒状触媒層10を突出させてその下端をステージ6に当接させ、円筒状カバー本体9の下端とステージ6との間に空間8の全周にわたってガス流出口12を形成しているので、空間8内のガスが全周にわたって均一に流れ、その結果均一なプラズマ処理を行うことがてきる。また、カバー7の内面のほぼ全面にわたって触媒層10、11を配設しているので、有害ガスの無害化をより確実に行うことがてきる。
Further, the
また、プラズマ噴出ノズル3に円筒状カバー本体9と触媒層10、11から成るカバー7を装着した簡単な構成であるため、プラズマ処理装置全体をコンパクトに構成できるとともに、低コストな構成とすることができる。
In addition, since the
上記実施形態の説明では、円筒状カバー本体9の内周面及び天井面に触媒層10、11を接触させて装着した例を示したが、図2に示すように、円筒状カバー本体9の内周面と円筒状触媒層10の間、および天井面と円板状触媒層11の間に適宜にスペーサ13を介装し、円筒状カバー本体9の内面と触媒層10、11の間にガス流出通路14を形成しても良い。このように構成すると、触媒層10、11の触媒に対するガスの接触効率が向上して触媒作用の効率が向上し、有害ガスをより効率的に無害化して大気空間に流出させることができて好適である。
In the description of the above-described embodiment, an example in which the
また、以上の実施形態の説明では円筒状カバー本体9と円筒状の触媒層10と円板状触媒層11を組み合わせたカバー構成を示したが、角筒状のカバー本体と角筒状の触媒層と矩形板状触媒層を組み合わせた構成としても良い。
In the above description of the embodiment, the cover configuration in which the cylindrical cover
本発明に係るプラズマ処理方法及び装置は、プラズマ噴出後に生成した有害な発生ガスや残留ガスを触媒層を通して無害化してガス流出口から大気空間に流出するようにしているので、低コストでコンパクトな構成にて周囲の環境の安全を確保でき、そのため処理対象物に向けてプラズマを噴出して処理を行う表面洗浄や表面改質などの各種プラズマ処理に有用である。 The plasma processing method and apparatus according to the present invention renders harmful generated gas and residual gas generated after plasma ejection harmless through the catalyst layer and flows out from the gas outlet to the atmospheric space. The configuration can ensure the safety of the surrounding environment, and is therefore useful for various types of plasma processing such as surface cleaning and surface modification in which processing is performed by ejecting plasma toward the processing object.
1 プラズマ発生源
3 プラズマ噴出ノズル
4 プラズマ噴出口
6 ステージ
7 カバー
8 空間
9 円筒状カバー本体
10 円筒状触媒層
11 円板状触媒層
12 ガス流出口
13 スペーサ
14 ガス流出通路
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