JP2005156592A - 照明光学装置、露光装置および露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被照射面(M)を照明する照明光学装置。照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸(AX)を含む中心領域に位置する光強度分布と光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段(3,4,7,8)と、複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段(6:6a,6b)とを備えている。
【選択図】 図1
Description
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸を含む中心領域に位置する光強度分布と前記光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、
前記複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを前記中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、第1領域に位置する光強度分布と第2領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、
前記第1領域を通過する光束を非偏光状態に設定すると共に、前記第2領域を通過する光束を偏光状態に設定するための偏光設定手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、第1領域に位置する光強度分布と第2領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、
前記第2領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1領域を通過する光束の偏光状態とは独立に変更するための偏光状態変更手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸をほぼ中心とする輪帯状の領域に位置する光強度分布を形成するための照明瞳形成手段を備え、
前記輪帯状の領域は、前記光軸をほぼ中心とする円の周方向に沿って複数の領域を有し、
前記輪帯状の領域の前記複数の領域をそれぞれ通過する複数の光束の偏光状態を、前記複数の領域の各々のほぼ中心において前記円にほぼ接する方向に沿った偏光面を有する直線偏光状態に設定する偏光設定手段をさらに備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記マスクのパターンを感光性基板上に露光する露光工程とを含むことを特徴とする露光方法を提供する。この場合、前記露光工程は、投影光学系を用いて前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影工程を含み、前記照明光学装置の瞳面は、前記投影光学系の瞳位置とほぼ共役に位置決めされることが好ましい。
図1は、本発明の第1実施形態にかかる照明光学装置を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図1において、感光性基板であるウェハWの法線方向に沿ってZ軸を、ウェハWの面内において図1の紙面に平行な方向にY軸を、ウェハWの面内において図1の紙面に垂直な方向にX軸をそれぞれ設定している。第1実施形態の露光装置は、露光光(照明光)を供給するための光源1を備えている。
3 回折光学素子
4 アフォーカルレンズ
6 プリズム対(アキシコン系)
7 ズームレンズ
8 マイクロレンズアレイ
9 コンデンサー光学系
10 マスクブラインド
11 結像光学系
12 1/4波長板
13 1/2波長板
14 1/2波長板
15 偏光解消素子
15a 水晶偏角プリズム
15b 石英偏角プリズム
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (36)
- 被照射面を照明する照明光学装置において、
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸を含む中心領域に位置する光強度分布と前記光軸から間隔を隔てた複数の周辺領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、
前記複数の周辺領域に位置する光強度分布の位置および大きさを前記中心領域に位置する光強度分布とは独立して変更するための領域変更手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記照明瞳形成手段は、入射する光束を前記中心領域に対応する中心光束と前記複数の周辺領域にそれぞれ対応する複数の周辺光束とに変換して前記領域変更手段に入射させるための光束変換素子を有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。
- 前記領域変更手段は、凹状断面の屈折面を有する第1プリズムと、該第1プリズムの前記凹状断面の屈折面とほぼ相補的に形成された凸状断面の屈折面を有する第2プリズムとを有し、
前記第1プリズムと前記第2プリズムとの間隔は可変に構成され、
前記屈折面は、前記光軸とほぼ直交する平面状の中央部を有することを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学装置。 - 前記屈折面は、前記中央部と、前記光軸を中心とする円錐体の側面に対応する周辺円錐部とを有することを特徴とする請求項3に記載の照明光学装置。
- 前記周辺円錐部は、前記光軸を中心とする1つの円錐体の側面に対応する1つの周辺円錐部を有することを特徴とする請求項4に記載の照明光学装置。
- 前記周辺円錐部は、前記光軸を中心とする第1円錐体の側面に対応する内側周辺円錐部と、前記光軸を中心とし且つ前記第1円錐体よりも小さな頂角を有する第2円錐体の側面に対応する外側周辺円錐部とを有することを特徴とする請求項4に記載の照明光学装置。
- 前記領域変更手段は、交換可能な前記第1プリズムと前記第2プリズムとの組を複数個有し、各組毎に前記中央部の面積が異なることを特徴とする請求項3乃至6のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 被照射面を照明する照明光学装置において、
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、第1領域に位置する光強度分布と第2領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、
前記第1領域を通過する光束を非偏光状態に設定すると共に、前記第2領域を通過する光束を偏光状態に設定するための偏光設定手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記第1領域は、光軸を含む中心領域を有し、
前記第2領域は、前記光軸から間隔を隔てた周辺領域を有することを特徴とする請求項8に記載の照明光学装置。 - 前記第2領域は、第1方向に沿って前記光軸に関してほぼ対称に配置された2つの周辺領域を有し、
前記偏光設定手段は、前記2つの周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1方向とほぼ直交する方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定することを特徴とする請求項9に記載の照明光学装置。 - 前記第2領域は、第1方向に沿った辺と該第1方向とほぼ直交する第2方向に沿った辺とを有する矩形状の四角形の各々の頂点の位置に配置された4つの周辺領域を有し、
前記偏光設定手段は、前記4つの周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1方向または前記第2方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定することを特徴とする請求項9に記載の照明光学装置。 - 前記第2領域は、第1方向に沿った辺と該第1方向とほぼ直交する第2方向に沿った辺とを有する矩形状の四角形の各々の頂点の位置に配置された4つの周辺領域を有し、
前記偏光設定手段は、前記4つの周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1方向または前記第2方向とほぼ45度の角度をなす方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定することを特徴とする請求項9に記載の照明光学装置。 - 前記偏光設定手段は、前記4つの周辺領域のうち、前記光軸を挟んで対向する一方の対の周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1方向とほぼ45度の角度をなす第3方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定すると共に、前記光軸を挟んで対向する他方の対の周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1方向とほぼ45度の角度をなし且つ前記第3方向とほぼ直交する第4方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定することを特徴とする請求項12に記載の照明光学装置。
- 前記第2領域は、第1方向に沿った辺と該第1方向とほぼ直交する第2方向に沿った辺とを有する矩形状の第1四角形の各々の頂点の位置に配置された4つの内側周辺領域と、前記第1方向に沿った辺と前記第2方向に沿った辺とを有し且つ前記第1四角形を包囲する矩形状の第2四角形の各々の頂点の位置に配置された4つの外側周辺領域とを有し、
前記偏光設定手段は、前記4つの内側周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1方向または前記第2方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定すると共に、前記4つの外側周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第2方向または前記第1方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定することを特徴とする請求項9に記載の照明光学装置。 - 前記第2領域は、第1方向に沿った辺と該第1方向とほぼ直交する第2方向に沿った辺とを有する矩形状の第1四角形の各々の頂点の位置に配置された4つの内側周辺領域と、前記第1方向に沿った辺と前記第2方向に沿った辺とを有し且つ前記第1四角形を包囲する矩形状の第2四角形の各々の頂点の位置に配置された4つの外側周辺領域とを有し、
前記偏光設定手段は、前記4つの内側周辺領域および前記4つの外側周辺領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1方向とほぼ45度の角度をなす方向に偏光面を有する直線偏光状態に設定することを特徴とする請求項9に記載の照明光学装置。 - 前記偏光設定手段は、前記第1領域ヘ向かう直線偏光の光束を必要に応じて非偏光化するための偏光解消素子を有することを特徴とする請求項8乃至15のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記偏光設定手段は、前記第2領域ヘ向かう直線偏光の光束の偏光面を必要に応じて変化させるための位相部材を有することを特徴とする請求項8乃至16のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記偏光設定手段は、入射する楕円偏光の光を、所定の方向に偏光面を有する直線偏光の光に変化させるための第2位相部材をさらに有することを特徴とする請求項16または17に記載の照明光学装置。
- 複数の前記周辺領域の位置および大きさを前記中心領域とは独立して変更するための領域変更手段とをさらに備えていることを特徴とする請求項9乃至18のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記照明瞳形成手段は、入射する光束を前記中心領域ヘ向かう中心光束と前記複数の周辺領域ヘそれぞれ向かう複数の周辺光束とに変換して前記領域変更手段へ入射させるための光束変換素子を有することを特徴とする請求項19に記載の照明光学装置。
- 被照射面を照明する照明光学装置において、
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、第1領域に位置する光強度分布と第2領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、
前記第2領域を通過する光束の偏光状態を、前記第1領域を通過する光束の偏光状態とは独立に変更するための偏光状態変更手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記第1領域は、光軸を含む中心領域を有し、
前記第2領域は、前記光軸から間隔を隔てた周辺領域を有することを特徴とする請求項21に記載の照明光学装置。 - 前記偏光状態変更手段は、前記第1領域を通過する光束の状態を非偏光状態と直線偏光状態との間で変更することを特徴とする請求項21または22に記載の照明光学装置。
- 前記偏光状態変更手段は、前記第2領域を通過する光束の状態を互いに異なる方向に偏光面を有する2つの直線偏光状態の間で変更することを特徴とする請求項21乃至23のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記偏光状態変更手段は、前記第1領域ヘ向かう直線偏光の光束を必要に応じて非偏光化するための偏光解消素子を有することを特徴とする請求項21乃至24のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記偏光解消素子は、光路に対して挿脱可能に構成されていることを特徴とする請求項25に記載の照明光学装置。
- 前記偏光状態変更手段は、前記第2領域ヘ向かう直線偏光の光束の偏光面を必要に応じて変化させるための位相部材を有することを特徴とする請求項21乃至26のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記偏光状態変更手段は、入射する楕円偏光の光を、所定の方向に偏光面を有する直線偏光の光に変化させるための第2位相部材をさらに有することを特徴とする請求項25乃至27のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 複数の前記周辺領域の位置および大きさを前記中心領域とは独立して変更するための領域変更手段とをさらに備えていることを特徴とする請求項22乃至28のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記照明瞳形成手段は、入射する光束を前記中心領域ヘ向かう中心光束と前記複数の周辺領域へそれぞれ向かう複数の周辺光束とに変換して前記領域変更手段に入射させるための光束変換素子を有することを特徴とする請求項29に記載の照明光学装置。
- 被照射面を照明する照明光学装置において、
前記照明光学装置の瞳面またはその近傍に、光軸をほぼ中心とする輪帯状の領域に位置する光強度分布を形成するための照明瞳形成手段を備え、
前記輪帯状の領域は、前記光軸をほぼ中心とする円の周方向に沿って複数の領域を有し、
前記輪帯状の領域の前記複数の領域をそれぞれ通過する複数の光束の偏光状態を、前記複数の領域の各々のほぼ中心において前記円にほぼ接する方向に沿った偏光面を有する直線偏光状態に設定する偏光設定手段をさらに備えていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記偏光設定手段は、前記複数の領域に対応するように配置された複数の位相部材を有し、各位相部材は入射する直線偏光の光の偏光面を必要に応じて変化させることを特徴とする請求項31に記載の照明光学装置。
- マスクを照明するための請求項1乃至32のいずれか1項に記載の照明光学装置を備え、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成するための投影光学系をさらに備え、
前記照明光学装置の瞳面は、前記投影光学系の瞳位置とほぼ共役に位置決めされていることを特徴とする請求項33に記載の露光装置。 - 請求項1乃至32のいずれか1項に記載の照明光学装置を用いてマスクを照明する照明工程と、
前記マスクのパターンを感光性基板上に露光する露光工程とを含むことを特徴とする露光方法。 - 前記露光工程は、投影光学系を用いて前記マスクのパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影工程を含み、
前記照明光学装置の瞳面は、前記投影光学系の瞳位置とほぼ共役に位置決めされることを特徴とする請求項35に記載の露光方法。
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Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006332355A (ja) * | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Nec Electronics Corp | 露光装置および露光方法 |
EP1821149A2 (en) * | 2006-02-15 | 2007-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
JP2007531327A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | インテル コーポレイション | フォトリソグラフィ用光源 |
JP2008108851A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Canon Inc | 照明装置及び当該照明装置を有する露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP2008277815A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Carl Zeiss Smt Ag | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム |
JP2010087389A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
JP2014039044A (ja) * | 2013-09-09 | 2014-02-27 | Nikon Corp | 照明光学装置 |
JP2015043418A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-03-05 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系 |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2016095523A (ja) * | 2006-12-28 | 2016-05-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 傾斜偏向ミラーを有する反射屈折投影対物器械、投影露光装置、投影露光方法、及びミラー |
US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6330830B2 (ja) * | 2016-02-15 | 2018-05-30 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
JP6493445B2 (ja) * | 2017-05-11 | 2019-04-03 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
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Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
JP2007531327A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | インテル コーポレイション | フォトリソグラフィ用光源 |
US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
JP4676815B2 (ja) * | 2005-05-26 | 2011-04-27 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 露光装置および露光方法 |
JP2006332355A (ja) * | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Nec Electronics Corp | 露光装置および露光方法 |
EP1821149A3 (en) * | 2006-02-15 | 2009-08-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
EP1821149A2 (en) * | 2006-02-15 | 2007-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
JP2008108851A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Canon Inc | 照明装置及び当該照明装置を有する露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP2016095523A (ja) * | 2006-12-28 | 2016-05-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 傾斜偏向ミラーを有する反射屈折投影対物器械、投影露光装置、投影露光方法、及びミラー |
JP2008277815A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Carl Zeiss Smt Ag | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム |
US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2010087389A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
US9535331B2 (en) | 2013-07-24 | 2017-01-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus |
JP2015043418A (ja) * | 2013-07-24 | 2015-03-05 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系 |
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