JP2005116528A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】製造工程を単純化して製造コストを低減することのできるプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する
【解決手段】本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、互いに対向した前面基板と後面基板とを備え、前記前面基板の対向面上に形成された一対の透明電極と、前記透明電極のそれぞれに形成された金属電極と、前記透明電極および金属電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に塗布された保護膜と、前記後面基板の対向面上に形成されたアドレス電極と、前記アドレス電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に形成された隔壁と、前記隔壁で区切られた放電セルと、前記放電セル内に塗布された蛍光体層と、を含むプラズマディスプレイパネルにおいて、前記金属電極は、下層に形成されるブラック電極と上層に形成される銀電極とを含むグリーンテープからなり、前記グリーンテープに互いに異なる波長の紫外線を連続露光して形成されることを特徴とする。
【選択図】図４

Description

本発明はプラズマディスプレイパネルに係り、より詳細には、製造工程を単純化させたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。

近年、平板ディスプレイ装置として大型パネルを製作するのに容易なプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：以下、「ＰＤＰ」という）が注目を浴びている。ＰＤＰは通常、デジタルビデオデータによって各画素のそれぞれの放電期間を調節することにより、画像を表示する。かかるＰＤＰの代表的なものとしては、図１に示したような３電極を備えて交流電圧によって駆動される交流型ＰＤＰが知られている。

図１は、通常の交流型ＰＤＰにマトリックス状に配列されたセル構造を示す斜視図である。図２は、交流型ＰＤＰの上部基板の電極配列の構造を概略的に示す図である。
図１および図２を参照すると、ＰＤＰセルは、上部基板１０上に順次形成された維持電極対１４、１６、上部誘電体層１８、および保護膜２０を有する上板と、下部基板１２上に順次形成されたアドレス電極２２、下部誘電体層２４、隔壁２６、および蛍光体層２８を有する下板を備える。このとき、上部基板１０と下部基板１２とは、隔壁２６によって平行に離隔される。

維持電極対１４、１６のそれぞれは、相対的に広い幅を有して可視光の透過のための透明電極物質ＩＴＯからなる透明電極１４Ａ、１６Ａと、相対的に狭い幅を有して透明電極１４Ａ、１６Ａの抵抗成分を補償するための金属電極１４Ｂ、１６Ｂとからなる。このとき、前記金属電極はバス電極として動作する。かかる維持電極対は、印可されるパルスによって走査（scan）電極１４と維持（sustain）電極１６とで構成される。走査電極１４にはパネル走査のための走査パルスと放電維持のための維持パルスとが主に供給され、維持電極１６には維持パルスが主に供給される。

上部誘電体層１８と下部誘電体層２４とには放電時に電荷が蓄積される。
保護膜２０は、スパータリングによる上部誘電体層１８の損傷を防止してＰＤＰの寿命を伸ばすだけでなく、２次電子の放出效率を高める。このような保護膜２０としては通常、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が用いられる。
アドレス電極２２は、前記維持電極対１４、１６と交差するように形成される。かかるアドレス電極２２には、ディスプレイされる各セルを選択するためのデータパルスが供給される。

隔壁２６はアドレス電極２２と並んで形成され、放電によって生成した紫外線が、隣接したセルに漏洩することを防止する。
蛍光体層２８は、下部誘電体層２４と隔壁２６との表面に塗布され、赤色、緑色、または青色のうちのいずれか一つの可視光線を発生するようになる。
そして、ガス放電のための不活性ガスが、内部の放電空間に注入される。

以上のように構成されたプラズマディスプレイパネルの上部基板の製造方法を説明する。
図３は、従来のプラズマディスプレイパネルの上部基板の製造方法を説明するための図である。
まず、透明電極３２、すなわちＩＴＯ電極の形成された上部基板３１上に、ブラック電極ペースト３３をスクリーン技術を用いて印刷した後、乾燥させる｛図３（ａ）｝。

次いで、第１のフォトマスク３４をマスクとして前記ブラック電極ペースト３３を対象に第１の紫外線を露光させる｛図３（ｂ）｝。このとき、前記フォトマスク３４は、放電セルの間に位置する前記ブラック電極ペースト３３にのみ前記第１の紫外線が露光され得るようにパターニングされることが好ましい。したがって、前記第１の紫外線は前記放電セルの間に位置するブラック電極ペース３３にのみ露光され、この部分のみ硬化される。この部分は、以降、一つの放電セルから生成された光が隣接する放電セルに伝達されることを遮断させるためのブラックマトリックスが形成される。

一方、露光されたブラック電極ペースト３３上に、銀電極ペースト３５をスクリーン印刷した後｛図３（ｃ）｝、第２のフォトマスク３６をマスクとして前記銀電極ペースト３５を対象に第２の紫外線を露光させる｛図３（ｄ）｝。このとき、前記第２の紫外線は、第２のフォトマスク３６を通過して前記銀電極ペースト３５のみならず、その下部に印刷されたブラック電極ペースト３３までも硬化させ得る波長を有する光源が使用されることが好ましい。前記第２のフォトマスク３６は、前記透明電極３２上に位置する銀電極ペースト３５が硬化されるようにパターニングされることが好ましい。

このように、前記第２の紫外線を用いて該当の電極ペースト３３、３５が硬化されれば、上部基板３１を現像して所定のバス電極３７およびブラックマトリックス３８を形成し、次いで、乾燥および所定の過程に進む｛図３（ｅ）｝。このとき、前記バス電極３７は、銀電極３７ｂとブラック電極３７ａとからなる。
次に、前記バス電極３７の形成された上部基板３１上に誘電体ペーストを印刷した後、乾燥させて所定の誘電体層３９を形成することにより、プラズマディスプレイパネルの上部基板が完成される｛図３（ｆ）｝。

このように、従来のプラズマディスプレイパネルの上部基板の製造方法においては、バス電極を形成するとき、ブラック電極ペーストと銀電極ペーストとを印刷および乾燥させる工程と露光工程とがそれぞれ２回ずつ要され、全体としての工程が非常に複雑になる問題点がある。また、これにより、製造工程上の追加的な費用が発生するという問題点もある。

本発明は、かかる従来の問題点を解決するためのもので、その目的は、製造工程を単純化して製造コストを低減することのできるプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することにある。

本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、互いに対向した前面基板と後面基板とを備え、前記前面基板の対向面上に形成された一対の透明電極と、前記透明電極のそれぞれに形成された金属電極と、前記透明電極および金属電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に塗布された保護膜と、前記後面基板の対向面上に形成されたアドレス電極と、前記アドレス電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に形成された隔壁と、前記隔壁で区画された放電セルと、前記放電セル内に塗布された蛍光体層と、を含むプラズマディスプレイパネルにおいて、前記金属電極は、下層に形成されるブラック電極と上層に形成される銀電極とを含むグリーンテープからなり、前記グリーンテープに互いに異なる波長の紫外線を連続露光して形成されることを特徴とする。

また、前記グリーンテープの厚さは、１０μｍ以上、かつ、１００μｍ以下であることを特徴とする。
また、前記互いに異なる波長の紫外線は、短波長帯域の第１の紫外線と長波長帯域の第２の紫外線とからなることを特徴とする。
また、前記短波長帯域は２００ｎｍ以下の波長であり、前記長波長帯域は３６０ｎｍ以上、かつ、４３０ｎｍ以下の波長であることを特徴とする。

また、前記短波長帯域の第１の紫外線は、第１のマスクによって露光される前記銀電極を硬化させることを特徴とする。
また、前記長波長帯域の第２の紫外線は、第２のマスクによって露光される前記ブラック電極を硬化させることを特徴とする。
また、前記露光されたグリーンテープが現像されるとき、前記互いに異なる紫外線によって露光されない銀電極およびブラック電極が除去されることを特徴とする。

本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法は、互いに対向した前面基板と後面基板とを備え、前記前面基板の対向面上に形成された一対の透明電極と、前記透明電極のそれぞれに形成された金属電極と、前記透明電極および金属電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に塗布された保護膜と、前記後面基板の対向面上に形成されたアドレス電極と、前記アドレス電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に形成された隔壁と、前記隔壁で区画された放電セルと、前記放電セル内に塗布された蛍光体層と、を含むプラズマディスプレイパネルを製造する方法において、前記製造方法は、前記透明電極が形成されている上部基板上に予め製造されたグリーンテープをラミネートする段階と、前記グリーンテープに互いに異なる波長の紫外線を連続露光する段階と、前記露光されたグリーンテープを現象、乾燥、および塑性して前記金属電極を形成する段階と、を含むことを特徴とする。

また、前記グリーンテープは、下層に形成されるブラック電極と上層に形成される銀電極とからなることを特徴とする。
また、前記グリーンテープの厚さは、１０μｍ以上、かつ、１００μｍ以下であることを特徴とする。
また、前記互いに異なる波長の紫外線は、短波長帯域の第１の紫外線と長波長帯域の第２の紫外線とからなることを特徴とする。

また、前記短波長帯域は２００ｎｍ以下の波長であり、前記長波長帯域は３６０ｎｍ以上、かつ、４３０ｎｍ以下の波長であることを特徴とする。
また、前記短波長帯域の第１の紫外線は、第１のマスクによって露光される前記銀電極を硬化させることを特徴とする。
また、前記長波長帯域の第２の紫外線は、第２のマスクによって露光される前記ブラック電極を硬化させることを特徴とする。

また、前記露光されたグリーンテープが現像されるとき、前記互いに異なる紫外線によって露光されない銀電極およびブラック電極が除去されることを特徴とする。
また、前記連続露光段階は、前記グリーンテープの所定の領域の銀電極を硬化させた後、所定の領域のブラック電極を硬化させることを特徴とする。
また、前記連続露光段階は、前記グリーンテープの所定の領域のブラック電極を硬化させた後、所定の領域の銀電極を硬化させることを特徴とする。

本発明によれば、プラズマディスプレイパネルの製造工程を単純化でき、製造コストを低減することができる。

以下、添付図を参照して本発明の実施形態を具体的に説明する。
本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、上部基板上に形成される第１の透明電極と第１の金属電極とからなる複数の第１の維持電極対と、前記第１の維持電極と一定の距離を置いて平行に形成される第２の透明電極と第２の金属電極とからなる複数の第２の維持電極対と、前記第１および第２の維持電極に直角に交差するように下部基板上に形成される複数のアドレス電極と、前記上部基板と下部基板との間を離隔させるために前記アドレス電極と並んで前記下部基板上に形成される複数の隔壁と、からなる。

本実施形態では、隔壁がアドレス電極と並んで形成される構造（ストライプ構造）を例に挙げて説明するが、隔壁の構造はこれに限らず格子状等その他の構造でも良い。
このとき、前記第１および第２の金属電極は、下層に形成されるブラック電極と上層に形成される銀電極とを含むグリーンテープからなり、前記グリーンテープに互いに異なる波長の紫外線を連続露光することで、前記第１および第２の金属電極が形成される。

前記グリーンテープの厚さは、１０μｍ以上、かつ、１００μｍ以下であることが好ましい。前記互いに異なる波長の紫外線としては、２００ｎｍ以下の短波長帯域に該当する波長を有する第１の紫外線と、３６０ｎｍないし４３０ｎｍの長波長帯域に該当する波長を有する第２の紫外線とを使用することができる。したがって、前記短波長帯域の波長を有する第１の紫外線を用いて露光される銀電極を硬化させ、前記長波長帯域の波長を有する第２の紫外線を用いて露光されるブラック電極を硬化させることができる。そして、このように、硬化された銀電極およびブラック電極以外の残りの領域は、除去され、所定のバス電極が形成され得る。

次いで、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明する。
図４は、 本発明のプラズマディスプレイパネルの上部基板の製造方法を説明するための図である。
まず、下層に形成されるブラック電極５３ａと上層に形成される銀電極５３ｂとからなるグリーンテープ５３が製造される。これは、プラズマディスプレイパネルの上部基板を製造する前に予め別途製造され得る。このとき、前記グリーンテープ５３の厚さが１０μｍないし１００μｍの範囲で製造されることが好ましい。

このように製造されたグリーンテープ５３を、透明電極５２またはＩＴＯ電極の形成されている上部基板５１上にラミネートする｛図４（ａ）｝。
ラミネートされた上部基板５１上に第１のフォトマスク５４を整列させ、第１の紫外線を用いて前記グリーンテープ５３を１次露光する｛図４（ｂ）｝。より正確には、前記第１の紫外線から生成された光は前記第１のフォトマスク５４のパターニングされた透過膜を通過し、前記グリーンテープ５３の下層に形成されているブラック電極５３ａを硬化させる。よって、前記第１のフォトマスク５４は、前記上部基板５１上に位置するブラック電極５３ａが硬化されるようにパターニングされることが好ましい。

このとき、前記第１の紫外線として、３６０ｎｍないし４３０ｎｍの範囲に該当する長波長帯域の光源を使用しても良い。このような長波長帯域の第１の紫外線は、前記グリーンテープ５３の上層に形成されている銀電極５３ｂを通過し、下層に形成されているブラック電極５３ａの所定の領域を硬化させる。この際の所定領域は、一つの放電セルから生成された光が隣接する放電セルに伝達されることを遮断させるためのブラックマトリックスとして形成されていても良い。

次いで、露光された上部基板５１上に第２のフォトマスク５５を整列させ、第２の紫外線を用いて前記グリーンテープ５３の上層に形成されている銀電極５３ｂを２次露光し硬化させる｛図４（ｃ）｝。このとき、前記第２の紫外線として、２００ｎｍ以下の短波長帯域の光源を使用しても良い。このような短波長帯域の第２の紫外線は、前記グリーンテープ５３の上層に形成されている銀電極５３ｂの所定の領域を硬化させる。この際の所定の領域が以降、ブラック電極５３ａと銀電極５３ｂとからなるバス電極５３に形成される。前記第２のフォトマスク５５は、前記透明電極５２上に位置する銀電極ペースト５３ｂが硬化されるようにパターニングされることが好ましい。

一方、連続露光工程はその手順を変えて進行しても構わない。すなわち、上述したように第１の紫外線を用いて所定の領域のブラック電極５３ａを硬化させた後、第２の紫外線を用いて所定の領域の銀電極５３ｂを硬化させることができる。または、まず第２の紫外線を用いて所定の領域の銀電極５３ｂを硬化させた後、第１の紫外線を用いて所定の領域のブラック電極５３ａを硬化させることもできる。

露光工程がすべて終了すれば、前記上部基板５１を現像して１次および２次露光された領域を除いた残りの領域に該当するグリーンテープ５３を取り除いた後、乾燥および所定の工程を進行することにより、所定のバス電極５６およびブラックマトリックス５７が形成される｛図４（ｄ）｝。
次に、前記バス電極５６と前記ブラックマトリックス５７とが形成された上部基板５１上に誘電体ペーストを印刷した後、乾燥させ、所定の誘電体層５８を形成することで、プラズマディスプレイパネルの上部基板が完成される｛図４（ｅ）｝。

したがって、本発明は、銀電極とブラック電極とを含むグリーンテープをラミネートし、連続工程を通じて所定のバス電極を形成することができるので、従来に比べて工程数を減らし、工程費用を低減させることができる。

通常の交流型ＰＤＰにマトリックス状に配列されたセル構造を示す斜視図である。 交流型ＰＤＰの上部基板の電極配列の構造を概略的に示す図である。 従来のプラズマディスプレイパネルの上部基板の製造方法を説明するための図である。 本発明 のプラズマディスプレイパネルの上部基板の製造方法を説明するための図である。

Claims (17)

1. 互いに対向した前面基板と後面基板とを備え、前記前面基板の対向面上に形成された一対の透明電極と、前記透明電極のそれぞれに形成された金属電極と、前記透明電極および金属電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に塗布された保護膜と、前記後面基板の対向面上に形成されたアドレス電極と、前記アドレス電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に形成された隔壁と、前記隔壁で区画された放電セルと、前記放電セル内に塗布された蛍光体層と、を含むプラズマディスプレイパネルにおいて、
   前記金属電極は、下層に形成されるブラック電極と上層に形成される銀電極とを含むグリーンテープからなり、前記グリーンテープに互いに異なる波長の紫外線を連続露光して形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 前記グリーンテープの厚さは１０μｍ以上、かつ、１００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
3. 前記互いに異なる波長の紫外線は、短波長帯域の第１の紫外線と長波長帯域の第２の紫外線とからなることを特徴とする、請求項１又は２記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 前記短波長帯域は２００ｎｍ以下の波長であり、前記長波長帯域は３６０ｎｍ以上、かつ、４３０ｎｍ以下の波長であることを特徴とする、請求項３記載のプラズマディスプレイパネル。
5. 前記短波長帯域の第１の紫外線は、第１のマスクによって露光される前記銀電極を硬化させることを特徴とする、請求項３記載のプラズマディスプレイパネル
6. 前記長波長帯域の第２の紫外線は、第２のマスクによって露光される前記ブラック電極を硬化させることを特徴とする、請求項３記載のプラズマディスプレイパネル。
7. 前記露光されたグリーンテープが現像されるとき、前記互いに異なる紫外線の何れも露光されない領域の銀電極およびブラック電極が除去されることを特徴とする、請求項１乃至６何れか記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 互いに対向した前面基板と後面基板とを備え、前記前面基板の対向面上に形成された一対の透明電極と、前記透明電極のそれぞれに形成された金属電極と、前記透明電極および金属電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に塗布された保護膜と、前記後面基板の対向面上に形成されたアドレス電極と、前記アドレス電極を覆う誘電層と、前記誘電層上に形成された隔壁と、前記隔壁で区画された放電セルと、前記放電セル内に塗布された蛍光体層と、を含むプラズマディスプレイパネルを製造する方法において、
   前記製造方法は、
   前記透明電極が形成されている上部基板上に予め製造されたグリーンテープをラミネートする段階と、
   前記グリーンテープに互いに異なる波長の紫外線を連続露光する段階と、
   前記露光されたグリーンテープを、現象、乾燥および塑性し、前記金属電極を形成する段階と、を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル製造方法。
9. 前記グリーンテープは、下層に形成されるブラック電極と上層に形成される銀電極とからなることを特徴とする、請求項８記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
10. 前記グリーンテープの厚さは、１０μｍ以上、かつ、１００μｍ以下であることを特徴とする、請求項８又は９記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
11. 前記互いに異なる波長の紫外線は、短波長帯域の第１の紫外線と長波長帯域の第２の紫外線となることを特徴とする、請求項８乃至１０の何れか記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
12. 前記短波長帯域は２００ｎｍ以下の波長であり、前記長波長帯域は３６０ｎｍ以上、かつ、４３０ｎｍ以下の波長であることを特徴とする、請求項１１記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
13. 前記短波長帯域の第１の紫外線は、第１のマスクによって露光される前記銀電極を硬化させることを特徴とする、請求項１１記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
14. 前記長波長帯域の第２の紫外線は、第２のマスクによって露光される前記ブラック電極を硬化させることを特徴とする、請求項１１記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
15. 前記露光されたグリーンテープが現像されるとき、前記互いに異なる紫外線の何れも露光されない領域の銀電極およびブラック電極が除去されることを特徴とする、請求項８乃至１４何れか記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
16. 前記連続露光段階は、前記グリーンテープの所定の領域の銀電極を硬化させた後、所定の領域のブラック電極を硬化させることを特徴とする、請求項８記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。
17. 前記連続露光段階は、前記グリーンテープの所定の領域のブラック電極を硬化させた後、所定の領域の銀電極を硬化させることを特徴とする、請求項８記載のプラズマディスプレイパネル製造方法。

Images