JP2005116090A - 薄膜磁気ヘッド、これを用いた磁気記録装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上部に位置する第2のヨーク部(第3の磁性膜)222は、広い部分223と、細い部分224と、傾斜フレア部225とを含む。広い部分223は、表面が平坦で、媒体対向面を基準にして後方側のバックギャップ部216〜218により、第1の磁性膜211と結合されている。細い部分224は、第2のポール部を構成し、表面が、広い部分223の表面よりは低い位置にある。傾斜フレア部225は、細い部分224の表面から広い部分223の表面に向かって、傾斜して連続し、かつ、幅が次第に拡大されている。
【選択図】 図5
Description
まず、薄膜磁気ヘッドは、コンピュータにおける磁気記録装置の構成要素として用いられるものであるから、高周波特性に優れ、高速データ転送に適合するものであることが要求される。薄膜磁気ヘッドの高周波特性は、書き込み素子を構成するヨーク部、及び、コイルの構造に密接に関連する。この様な観点から、従来より種々の先行技術が提案されている。
前記エッチング工程は、前記レジストマスクの存在下で、前記第3の磁性膜及び前記ギャップ膜をエッチングした後、前記レジストマスクを剥離し、前記レジストマスクを剥離した後、前記第2の磁性膜をエッチングする工程を含むことができる。
図1〜図4を参照すると、本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、スライダ5と、書き込み素子2と、読み取り素子3とを含む。スライダ5は、例えば、Al2O3−TiC等でなる基体15の表面に、Al2O3、SiO2等の絶縁膜16を設けた(図3参照)セラミック構造体である。スライダ5は、媒体対向面に浮上特性制御用の幾何学的形状を有している。そのような幾何学的形状の代表例として、図示では、ABS側の基底面50に、第1の段部51、第2の段部52、第3の段部53、第4の段部54、及び、第5の段部55を備える例を示してある。基底面50は、矢印F1で示す方向に流れる空気に対する負圧発生部となり、第2の段部52及び第3の段部53は、第1の段部51から立ち上がるステップ状の空気軸受けを構成する。第2の段部52及び第3の段部53の表面は、ABSとなる。第4の段部54は、基底面50からステップ状に立ち上がり、第5の段部55は第4の段部54からステップ状に立ちあがっている。電磁変換素子2、3は第5の段部55に設けられている。
第1のヨーク部211は、第1の磁性膜によって構成されている。図示実施例において、第1のヨーク部211は一層の第1の磁性膜によって構成されているので、第1のヨーク部211と第1の磁性膜とは同義である。以下の説明において、その簡単化のため、第1のヨーク部211を第1の磁性膜211と表現することがある。
(1)実施例1
製造方法に係る実施例1は、上述した薄膜磁気ヘッドのうち、第1のコイル231及び第2のコイル232を有する第1の態様に係る薄膜磁気ヘッド(図1〜図6)の製造プロセスである。図11〜図44に図示するプロセスは、ウエハー上で実行されるものであることを予め断っておく。
ポールトリミングは、第1のポール部及び第2のポール部を同じ幅にすることにより、実効書き込みトラック幅の広がりを防止するために不可欠である。図34及び図35を参照すると、レジストマスクFR3は、第3の磁性膜222のうち、細い部分224に対応する部分が開口し、第3の磁性膜222の広い部分23の全体、及び、コイルを覆っている。この状態で、細い部分224の表面をIon Beamによってトリミングする。このとき、レジストマスクFR3の周囲に存在する磁性膜213も、細い部分224のトリミング深さに応じた分だけエッチングされる。
図40は本発明に係るトリミング方法を示す平面図、図42は図40に示したトリミングを経た後の状態を示す図である。図40は、図35及び図36に図示したプロセスを、平面的に示した図である。図40を参照すると、レジストフレームFR3は、ABSよりも、コイル側(後方側)で、かつ、フレアポイントFP1とほぼ一致する位置で立ち上がっている。ただし、レジストフレームFR3の立ち上がり位置は、フレアポイントFP1と一致する必要はなく、その前後に設定されていてもよい。
従来のトリミング方法では、上述した理由から、フレアポイントが後退するほか、別の問題点も生じる。この点について、図44〜図47を参照して説明する。
実施例2は、図7、図8に図示された薄膜磁気ヘッドの製造方法に係る。図47〜図65は、その製造プロセスを示している。図47〜図63に図示するプロセスも、ウエハー上で実行されるものであることを予め断っておく。
図47を参照すると、基体15の上に付着された絶縁膜16の上に、第1のシールド膜31、読み取り素子3、絶縁膜32、第2のシールド膜33、絶縁膜34及び第1の磁性膜211が、周知のプロセスによって形成されている。
第1の磁性膜211は、NiFe(80%:20%)、NiFe(45%:55%)またはCoNiFeのメッキ膜で構成できるほか、FeAlN、FeN、FeCo、CoFeNまたはFeZrNなどのスパッタ膜により、0.5〜0.6μmの膜厚として形成することもできる。
その後、第1の磁性膜211の平坦な表面に、コイル形成に要する面積よりも少し大きい面積で、絶縁膜251を、例えば、0.2μmの膜厚となるように形成し、絶縁膜251の表面にSeed膜260を形成する。Seed膜260は、絶縁膜251の表面及び第1の磁性膜211の表面を覆うように形成する。Seed膜260は、Cuメッキ下地膜として適切な材料を用い、Cu−CVDの適用によって、50nm〜80nmの膜厚となるように形成する。
図47の状態から図48の状態に至るプロセスでは、ポール片及びバックギャップ片を形成するためのフォトリソグラフィ工程を実行し、ポール片及びバックギャップ片のためのレジストフレームを形成する。
図48の状態から図49の状態に至るプロセスでは、第1のコイル231、ポール片221及びバックギャップ片216を覆うフォトレジスト膜RS4を形成する。そして、フォトレジスト膜RS4によるレジストカバーをマスクにして、Ion Beam Etching(以下、IBEと称する)により、第1の磁性膜211を、選択的にエッチングする。
図49の状態から図50の状態に至るプロセスでは、図49に図示されたレジストカバーRS4を除去した後、図50に図示するように、絶縁膜251、第1のコイル231、第2のポール片212及びバックギャップ片216の表面及び側面に、絶縁膜252を付着させる。絶縁膜252は、具体的には、Al2O3−CVDによって形成されるもので、0.05〜0.15μmの膜厚となるように形成する。絶縁膜252は、減圧雰囲気下で、100℃以上の温度で形成する。絶縁膜252をAl2O3膜として形成する場合、H2O、N2、N2OまたはH2O2の減圧雰囲気中に、Al(CH3)3またはAlCl3を交互に断続的に噴射するアルミナCVD膜形成方法を採用することができる。
図50の状態から図51の状態に至るプロセスでは、Seed膜261の上に、第2のコイルとなるメッキ膜232を、フレームメッキ法により、例えば、3〜4μmの膜厚となるように形成する。メッキ膜232は、Cuを主成分とし、選択メッキ法によって形成する。メッキ膜232によって覆われていないSeed膜261を希塩酸、希硫酸もしくは硫酸銅などを用いたウエットエッチング、又は、Ion Millingなどのドライエッチングによって除去する。
図51の状態から図52の状態に至るプロセスでは、絶縁膜253及びメッキ膜232をCMPによって研磨し、平坦化する。これにより、第2のコイル232が、平面状の渦巻きパターンとなるように、パターン化されるとともに、第1のコイル231から、絶縁膜252によって分離される。CMPにおいては、第2のポール片212、バックギャップ片216および絶縁膜253の表面も、第1のコイル231及び第2のコイル232の表面と同一の平面となるように研磨される。
図52の状態から図53の状態に至るプロセスでは、図53に図示するように、第1のコイル231及び第2のコイル232の表面を覆う絶縁膜254を付着させる。絶縁膜254は、Al2O3でなり、例えば、0.2μm〜0.5μmの膜厚となるように形成する。
図53の状態から図54の状態に至るプロセスでは、絶縁膜255、第3のポール片213及びバックギャップ片217の被研磨面に、磁性膜214を、例えば、0.5〜1.0μmの膜厚となるように形成する。磁性膜214は、CoFeN(2.4T)のメッキ膜、又は、FeAlN、FeN、FeCoもしくはFeZrNのスパッタ膜によって構成することができる。この後、第3のポール片213及びバックギャップ片217の上に、NiFeまたはCoNiFeのパターンメッキ膜でなるマスク250が形成される。そして、マスク250を介して、磁性膜214をIBEの適用によってパターニングする。これにより、図55に図示するように、第4のポール片214と、バックギャップ片218が形成される。
磁性膜214は上記とは異なる方法によってもパターニングすることができる。例えば、Cl2またはBCl3+Cl2などのハロゲン系ガス雰囲気中、50℃〜300℃の高温で、RIEを実行し、磁性膜214を、例えば、その膜厚の80%程度までエッチングする。RIEを行うときの温度は、50℃以上、特に、200〜250℃の範囲が好ましい。この温度範囲であれば、高精度のパターンを得ることができる。
さらに、Cl2、BCl3+Cl2またはこれらにO2を混入したガスに、CO2ガスを混合したエッチングガスを用いることにより、RIEのエッチングスピードが速まり、Mask材との選択比が30〜50%も向上する。
図55の状態から図56の状態に至るプロセスでは、Al2O3でなる絶縁膜256を、スパッタなどの手段によって付着させる。この後、図57に図示するように、絶縁膜256、第4のポール片214及びバックギャップ片218の表面を、CMPによって研磨して平坦化する。
図57の状態から図58及び図59の状態に至るプロセスでは、第3の磁性膜222のうち、細い部分224を除き、第3の磁性膜222の広い部分223の全体を、レジストマスクFR4によって覆う。レジストマスクFR4は、第1のコイル231及び第2のコイル232をも覆うように広がっている。また、レジストマスクFR4は、その端面が、細い部分224の表面に対して、直交するように形成する。
図58及び図59の状態から図60及び図61の状態に至るプロセスでは、レジストマスクFR4を除去した後、磁性膜214までエッチングする。この後、保護膜258(図2参照)する等して、製造プロセスが終了する。
図60及び図61の状態から図62及び図63の状態に至るプロセスでは、第3の磁性膜222及び、第2の磁性膜221をマスクにして、IBEを実行し、第1のポール部P1に属する第4のポール片214を、例えば、0.25〜0.35μmの深さでトリミングした後、図64、図65に図示するように、保護膜258を、20〜40μmの膜厚となるように、付着させる。保護膜258はスパッタによって付着させることができる。
実施例3は、図9に図示した薄膜磁気ヘッドの製造プロセスであり、図66〜図71に図示されている。実施例1または実施例2において図示され、説明されたプロセスであって、実施例3においても適用されるプロセスについては、実施例1又は実施例2の説明を参照し、図示は省略することがある。
基体15の上に付着された絶縁膜16の上に、第1のシールド膜31、読み取り素子3、絶縁膜32、第2のシールド膜33、絶縁膜34及び第1の磁性膜211を、周知のプロセスによって形成する。その後、第1の磁性膜211の平坦な表面に、コイル形成に要する面積よりも少し大きい面積で、絶縁膜251を形成する。絶縁膜251は、バックギャップ部及びポール部に相当する部分に開口が生じるように形成する。そして、この開口に、フレームメッキ法の適用によって、第2のポール片212及び第1のバックギャップ片216を形成する。図66は第2のポール片212及び第1のバックギャップ片216を形成した後の状態を示している。
図66の工程の後、絶縁膜251を形成してある一面上で、フォトリソグラフィ工程を実行し、レストフレームメッキ法により、第1のコイル231を形成する。次に、第1のコイル231のコイルターン間のスペースに、フォトレジストでなる絶縁膜252を形成する。
図67の工程から図68及び図69に至るには、図20〜図27の工程が実行される。まず、絶縁膜254を形成してある一面上で、フォトリソグラフィ工程を実行し、第1のコイル231の内端281と接続される接続導体282のためのレジストフレーム、第3のポール片213及びバックギャップ片217(図27参照)のためのレジストフレームを形成し、得られたレジストフレームによって画定されたパターンにしたがって、フレームメッキを実行する。これにより、接続導体282、第3のポール片213及びバックギャップ片217が形成される。接続導体282、第3のポール片213及びバックギャップ片217は、CoFe又はCoNiFeのメッキ膜であり、例えば、1〜2μmの範囲の膜厚を有する(図20参照)。
本発明は、更に、磁気ヘッド装置及び磁気記録再生装置についても開示する。図72及び図73を参照すると、本発明に係る磁気ヘッド装置は、図1〜図10に示した薄膜磁気ヘッド400と、ヘッド支持装置6とを含む。ヘッド支持装置6は、金属薄板でなる支持体61の長手方向の一端にある自由端に、同じく金属薄板でなる可撓体62を取付け、この可撓体62の下面に薄膜磁気ヘッド400を取付けた構造となっている。
211 第1の磁性膜
221 第2の磁性膜
222 第3の磁性膜
P1、P2 第1、第2のポール部
212〜215、223 ポール片
216〜219、224 バックギャップ片
231〜234 第1のコイル〜第4のコイル
24 ギャップ膜
260〜262 Seed膜
3 読み取り素子
16、32、34、251〜257、271〜273 絶縁膜
400 薄膜磁気ヘッド
Claims (18)
- 書き込み素子を含む薄膜磁気ヘッドであって、
前記書き込み素子は、第1のヨーク部と、第1のポール部と、第2のポール部と、第2のヨーク部と、ギャップ膜と、コイルとを含んでおり、
前記第1のヨーク部は、第1の磁性膜によって構成され、一面が平面であり、
前記第1のポール部は、媒体対向面側において、前記第1の磁性膜の前記一面上に突設され、上端が縮小された幅を有しており、
前記第2のポール部は、前記第1のポール部の前記上端と、前記ギャップ膜を介して、同一幅で対向しており、
前記第2のヨーク部は、広い部分と、細い部分と、傾斜フレア部とを含み、
前記広い部分は、表面が平坦で、前記媒体対向面を基準にして後方側のバックギャップ部により、前記第1の磁性膜と結合されており、
前記細い部分は、前記第2のポール部を構成し、表面が、前記広い部分の表面よりは低い位置にあり、
前記傾斜フレア部は、前記細い部分の前記表面から前記広い部分の表面に向かって、傾斜して連続し、かつ、幅が次第に拡大されており、
前記コイルは、前記第1の磁性膜の前記一面上に形成された第1の絶縁膜の面上で、前記バックギャップ部の周りを、渦巻き状に周回している
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項1に記載された薄膜磁気ヘッドであって、前記第1のポール部は、前記ギャップ膜と隣接するポール片が、幅方向の両側において、前記第2のポール部の幅に合わせてトリミングされ、トリミングによって生じた凹部の底部の厚みが、前記ポール片に向かうにつれて増大している
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項1又は2の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、前記ギャップ膜と隣接するポール片を構成する磁性膜は、CoFe、CoFeN、FeAlN、FeN、FeCo又はFeZrNのいずれかで構成されている
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項1乃至3の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、
前記第2のヨーク部は、第2の磁性膜と第3の磁性膜とを含み、前記第3の磁性膜は前記第2の磁性膜の上に付着されており、
前記広い部分は、前記第2の磁性膜及び前記第3の磁性膜の膜厚の均一な部分によって構成されており、
前記細い部分の表面及び傾斜フレア部の表面は、前記第3の磁性膜の表面を、部分的にエッチングして得られたものである
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項4に記載された薄膜磁気ヘッドであって、前記第2の磁性膜は、Co及びFeを含む磁性材料でなる薄膜磁気ヘッド。
- 請求項4又は5の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、前記第2の磁性膜はCoFe又はCoFeNの何れかでなる薄膜磁気ヘッド。
- 請求項4乃至6の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、前記第2の磁性膜は、スパッタ膜である薄膜磁気ヘッド。
- 請求項1乃至7の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、
前記コイルは、第1のコイルと、第2のコイルとを含み、
前記第1のコイル及び前記第2のコイルは、前記第1の磁性膜の前記一面上に形成された第1の絶縁膜の面上で、前記バックギャップ部の周りを、渦巻き状に周回し、一方が、他方のコイルターン間のスペースに、第2の絶縁膜を介して嵌め込まれ、同一方向の磁束を生じるように接続されており、
前記第1のコイル及び前記第2のコイルは、上面が平坦化された平面を構成する
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項8に記載された薄膜磁気ヘッドであって、
前記第1のコイルは、メッキ膜であり、前記第1の磁性膜の前記一面に付着された前記第1の絶縁膜の上に形成されており、
前記第2のコイルは、メッキ膜であり、前記スペース内において、前記第2の絶縁膜の上に形成されており、前記第2の絶縁膜は、前記スペースの底面及び両側面に形成されている薄膜磁気ヘッド。 - 請求項1乃至9の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、
前記第1のポール部は、第1のポール片と、第2のポール片と、第3のポール片と、第4のポール片とを含み、
前記第1のポール片は、前記第1の磁性膜の端によって構成されており、
前記第2のポール片は、一面が前記第1のポール片に隣接しており、
前記第3のポール片は、一面が前記第2のポール片の他面に隣接しており、
前記第4のポール片は、一面が前記第3のポール片の他面に隣接し、他面が前記ギャップ膜に隣接しており、
前記第2のポール片は、前記他面が、前記第1のコイル及び前記第2のコイルの平坦化された平面と、同一位置になるように平坦化されており、
前記第3のポール片は、前記他面が、前記平坦化された平面の上に設けられた第3の絶縁膜の表面と同一位置になるように平坦化されており、
前記第4のポール片は、前記他面が、前記第3の絶縁膜の上に設けられた第4の絶縁膜の表面と同一位置になるように平坦化されており、
前記ギャップ膜は、前記第4のポール片及び前記第4の絶縁膜の平坦化された表面上に存在する薄膜磁気ヘッド。 - 請求項10に記載された薄膜磁気ヘッドであって、
前記第4のポール片は、第2の磁性膜、第3の磁性膜の前記広い部分の表面と、第2のポール部の表面との間の段差よりも厚い膜厚を有する
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項1乃至11の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、
前記コイルは、コイルターン間のスペースが、有機絶縁樹脂によって埋められており、
前記コイル及び前記有機樹脂は、無機絶縁材料でなる第5の絶縁膜によって覆われており、
前記第5の絶縁膜は、表面が平坦化されており、
前記第1のポール部は、第1のポール片と、第2のポール片と、第3のポール片とを含み、
前記第1のポール片は、前記第1の磁性膜の端によって構成されており、
前記第2のポール片は、一面が前記第1のポール片に隣接しており、
前記第3のポール片は、一面が前記第2のポール片の他面に隣接しており、
前記第2のポール片は、前記他面が、前記第5の絶縁膜の平坦化された平面と、同一位置になるように平坦化されており、
前記第3のポール片は、前記他面が、前記第5の絶縁膜の平坦化された平面に設けられた第6の絶縁膜の表面と同一位置になるように平坦化されており、
前記ギャップ膜は、前記第3のポール片及び前記第6の絶縁膜の平坦化された表面上に存在する
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項1乃至12の何れかに記載された薄膜磁気ヘッドであって、更に、読み取り素子を含んでおり、前記読み取り素子は、巨大磁気抵抗効果素子を含む
薄膜磁気ヘッド。 - 請求項13に記載された薄膜磁気ヘッドであって、前記巨大磁気抵抗効果素子は、スピンバルブ膜または強磁性トンネル接合の何れかを含む
薄膜磁気ヘッド。 - 薄膜磁気ヘッドと、磁気記録媒体とを含む磁気記録再生装置であって、
前記薄膜磁気ヘッドは、請求項1乃至14に記載されたものでなり、
前記磁気記録媒体は、前記薄膜磁気ヘッドと協働して磁気記録再生を行う
磁気記録再生装置。 - 書き込み素子を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
前記薄膜磁気ヘッドは、請求項1乃至14に記載されたものでなり、
前記書き込み素子の製造にあたり、
前記第3の磁性層を、均一な膜厚となるように形成した後、前記第3の磁性膜のうち、細い部分を除き、前記第3の磁性膜の広い部分の全体を、レジストマスクによって覆い、
次に、前記第3の磁性膜のうち、少なくとも、前記第2のポール部となる部分、および、前記傾斜フレア部となる部分であって、前記レジストマスクによって覆われていない部分をエッチングし、狭幅化されたトラック幅を得る工程を含む
薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 請求項16に記載された薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
前記エッチング工程は、前記レジストマスクの存在下で、前記第3の磁性膜及び前記ギャップ膜をエッチングした後、前記レジストマスクを剥離し、
前記レジストマスクを剥離した後、前記第2の磁性膜をエッチングする工程を含む
薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 請求項17に記載された薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
前記エッチング工程は、前記レジストマスクの存在下で、前記ギャップ膜の表面までエッチングした後、前記レジストマスクを剥離し、
前記レジストマスクを剥離した後、前記ギャップ膜及び第2のポール部をエッチングする工程を含む
薄膜磁気ヘッドの製造方法。
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